JP2012102088A - ヘテロ芳香環化合物およびその有害生物防除用途 - Google Patents

Abstract

【課題】本発明は、有害生物に対して防除活性を有する新規な化合物を提供する。
【解決手段】式（１）

〔式中、Ｈｅｔは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群より選ばれる１個以上の原子を含む５または６員へテロ芳香環を表し、Ｊはｔｅｒｔ−ブチル基等を表し、Ｌは単結合、Ｃ１−Ｃ３アルキレン基等を表し、Ａは単結合等を表し、Ｑはメチレン基等を表し、Ｇは、水素原子、ハロゲン原子等を表し、Ｄは−Ｎ＝または−ＣＨ＝を表し、ｍは０または１を表す。〕で示されるヘテロ芳香環化合物、その製造方法、並びに該ヘテロ芳香環化合物を含有する有害生物防除剤に関する。
【選択図】なし

Description

本発明はヘテロ芳香環化合物およびその有害生物防除用途に関する。

有害生物に対して防除活性を有する化合物が有害生物防除剤の有効成分として見出され、開発されている。

非特許文献１には、分子内にチオフェン環とピリジン環とを有する化合物が記載されている。

Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（１９７２），９(３)，７２５−７２８

本発明は、有害生物に対して防除活性を有する新規な化合物を提供することを課題とする。

本発明者等は、有害生物に対して防除活性を有する化合物を見出すべく検討した結果、下記式（１）で示される化合物が有害生物に対して防除効力を有することを見出し、更に検討を重ねた結果本発明を完成するに至った。

即ち、本発明は以下のものである。
［項１］ 式（１）

〔式中、
Ｈｅｔは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群より選ばれる１個以上のヘテロ原子を含む５または６員へテロ芳香環を表し（ここで、ＡおよびＱはそれぞれ、該５または６員へテロ芳香環を構成する炭素原子または窒素原子に結合し、Ａが結合した原子とＱが結合した原子とが該５または６員へテロ芳香環上で互いに隣接することはない。該５または６員へテロ芳香環は、Ａ及びＱが結合した原子と共に、−ＣＥ^１＝、−Ｎ＝、−Ｏ−、−Ｓ−および−ＮＥ^２−からなる群より選ばれる３もしくは４個の原子または基から構成され、Ｅ^１は１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ２アルキル基、水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｅ^２は１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ２アルキル基を表す。）、
Ｊは、下式Ｊ１またはＪ２：

（式中、
Ｒ¹およびＲ²は、同一または相異なり、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、
Ｒ³は、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基、ハロゲン原子または水素原子を表し、
Ｒ⁴およびＲ⁵は、同一または相異なり、Ｃ１−Ｃ３アルキル基を表し、
Ｒ⁶は、水素原子またはＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基を表す。）で示される基を表し、
Ｌは、単結合または１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ３アルキレン基を表し、
Ａは、ＡがＨｅｔで表される該５または６員へテロ芳香環を構成する炭素原子に結合する場合には、単結合、−Ｏ−、または−Ｓ（Ｏ）_x−を表し（ここで、ｘは、０、１または２を表す。）、ＡがＨｅｔで表される該５または６員へテロ芳香環を構成する窒素原子に結合する場合には、単結合を表し、
Ｑは、ＱがＨｅｔで表される該５または６員へテロ芳香環を構成する炭素原子に結合する場合には、下式Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３またはＱ４：

（式中、
Ｒ^xおよびＲ^yは、同一または相異なり、＜群α＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基、シアノ基、ハロゲン原子、水素原子またはシクロプロピル基を表し、
ｙは０、１または２を表し、
Ｒ^zは、＜群α＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基、−Ｃ（Ｏ）−Ｔ¹、−Ｓ（Ｏ）₂−Ｔ²、水素原子またはシクロプロピル基を表し、
Ｔ¹は、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ６アルキルアミノ基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ２−Ｃ１２ジアルキルアミノ基、水酸基、アミノ基、水素原子またはシクロプロピル基を表し、
Ｔ²は、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基を表す。）で示される基を表し、
ＱがＨｅｔで表される該５または６員へテロ芳香環を構成する窒素原子に結合する場合には、Ｑは式Ｑ１で示される基を表し、
Ｇは、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、メルカプト基もしくはアミノ基を表すか、または、下式Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３もしくはＧ４：

｛式中、
Ｒ^aは、＜群β＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基、シクロプロピル基または−Ｃ（Ｏ）−Ｔ¹を表し、
Ｒ^bは、＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基、−Ｃ（Ｏ）−Ｔ¹、−Ｓ（Ｏ）₂−Ｔ²、Ｃ３−Ｃ９トリアルキルシリル基またはシクロプロピル基を表し、
Ｒ^cは、＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基、−Ｃ（Ｏ）−Ｔ¹またはシクロプロピル基を表し、
ｚは０、１または２を表し、
Ｒ^dは、＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基、−Ｃ（Ｏ）−Ｔ¹、−Ｓ（Ｏ）₂−Ｔ²またはシクロプロピル基を表し、
Ｒ^eは、＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基、水素原子またはシクロプロピル基を表す。
（ここで、Ｔ¹およびＴ²は前述と同義であるが、Ｇが式Ｇ２、Ｇ３またはＧ４で示される基の場合には、Ｔ¹は、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ６アルキルアミノ基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ２−Ｃ１２ジアルキルアミノ基、アミノ基、水素原子またはシクロプロピル基を表す。）｝で示される基を表し、
Ｄは−Ｎ＝または−ＣＨ＝を表し、
ｍは０または１を表す。
＜群α＞：ハロゲン原子、シアノ基およびシクロプロピル基からなる群、
＜群β＞：１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ４アルコキシ基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキルチオ基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキルスルフィニル基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキルスルホニル基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキルアミノ基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ２−Ｃ８ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ３−Ｃ９トリアルキルシリル基およびシクロプロピル基からなる群、
＜群γ＞：１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ４アルコキシ基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキルチオ基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキルスルフィニル基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキルスルホニル基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキルアミノ基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ２−Ｃ８ジアルキルアミノ基、フェニル基（該フェニル基は、メチル基、メトキシ基、塩素原子およびニトロ基からなる群より選ばれる１個以上の基を有していてもよい。）、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ３−Ｃ９トリアルキルシリル基およびシクロプロピル基からなる群。〕
で示されるヘテロ芳香環化合物。（以下、本発明化合物と記す。）。
［項２］ Ｈｅｔが下式Ｈ１またはＨ２：

（式中、
Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３およびＸ^４は、同一または相異なり、−ＣＥ^１＝または−Ｎ＝を表す。

但し、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３およびＸ^４のうちの少なくとも１つは−Ｎ＝を表す。）
で示される基である［項１］に記載のヘテロ芳香環化合物。
［項３］ Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３およびＸ^４のうちの１つが−Ｎ＝であり、それ以外が、同一または相異なり、−ＣＥ^１＝である［項２］に記載のヘテロ芳香環化合物。
［項４］ Ｈｅｔが式Ｈ１で示される基である［項３］に記載のヘテロ芳香環化合物。
［項５］ Ｈｅｔが下式Ｈ３、Ｈ４またはＨ５：

（式中、
Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３のうちの１つは、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＥ^２−を表し、残りの２つは、同一または相異なり、−ＣＥ^１＝または−Ｎ＝を表し、
Ｚ^１、Ｚ^２およびＺ^３は、同一または相異なり、−ＣＥ^１＝または−Ｎ＝を表す。）
で示される基である［項１］に記載のヘテロ芳香環化合物。
［項６］ Ｈｅｔが式Ｈ３で示される基である［項５］に記載のヘテロ芳香環化合物。
［項７］ Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３のうちの１つが−Ｓ−である［項６］に記載のヘテロ芳香環化合物。
［項８］ Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３のうちの１つが−Ｓ−であり、それ以外が、同一または相異なり、−ＣＥ^１＝である［項７］に記載のヘテロ芳香環化合物。
［項９］ Ｙ^１が−Ｓ−である［項７］に記載のヘテロ芳香環化合物。
［項１０］ Ｙ^１が−Ｓ−であり、Ｙ^２およびＹ^３が、同一または相異なり、−ＣＥ^１＝である［項９］に記載のヘテロ芳香環化合物。
［項１１］ Ｈｅｔが式Ｈ４で示される基である［項５］に記載のヘテロ芳香環化合物。
［項１２］ Ｚ^１が−Ｎ＝であり、Ｚ^２が−ＣＥ^１＝であり、かつ、Ｚ^３が−ＣＥ^１＝または−Ｎ＝であるか、あるいは、Ｚ^１が−ＣＥ^１＝であり、Ｚ^２が−Ｎ＝であり、かつ、Ｚ^３が−ＣＥ^１＝である［項１１］に記載のヘテロ芳香環化合物。
［項１３］ Ｚ^１が−Ｎ＝であり、Ｚ^２およびＺ^３が同一または相異なり−ＣＥ^１＝であるか、あるいは、Ｚ^２が−Ｎ＝であり、Ｚ^１およびＺ^３が同一または相異なり−ＣＥ^１＝である［項１２］に記載のヘテロ芳香環化合物。
［項１４］ Ｈｅｔが式Ｈ５で示される基である［項５］に記載のヘテロ芳香環化合物。
［項１５］ Ｚ^１が−Ｎ＝であり、Ｚ^２が−ＣＥ^１＝であり、かつ、Ｚ^３が−ＣＥ^１＝または−Ｎ＝であるか、あるいは、Ｚ^１が−ＣＥ^１＝であり、Ｚ^２が−Ｎ＝であり、かつ、Ｚ^３が−ＣＥ^１＝である［項１４］に記載のヘテロ芳香環化合物。
［項１６］ Ｚ^１が−Ｎ＝であり、Ｚ^２およびＺ^３が同一または相異なり−ＣＥ^１＝であるか、あるいは、Ｚ^２が−Ｎ＝であり、Ｚ^１およびＺ^３が同一または相異なり−ＣＥ^１＝である［項１５］に記載のヘテロ芳香環化合物。
［項１７］ Ｈｅｔが、窒素原子、および硫黄原子からなる群より選ばれる１個以上のヘテロ原子を含む５または６員へテロ芳香環であり（ここで、ＡおよびＱはそれぞれ、該５または６員へテロ芳香環を構成する炭素原子または窒素原子に結合し、Ａが結合した原子とＱが結合した原子とが該５または６員へテロ芳香環上で互いに隣接することはない。該５または６員へテロ芳香環は、Ａ及びＱが結合した原子と共に、−ＣＥ^１＝、−Ｎ＝および−Ｓ−からなる群より選ばれる３もしくは４個の原子または基から構成され、Ｅ^１は１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ２アルキル基、水素原子またはハロゲン原子である。）、
Ｊが、式Ｊ１またはＪ２（Ｒ¹およびＲ²が、同一または相異なり、Ｃ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ³が、Ｃ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であり、Ｒ⁴およびＲ⁵が、同一または相異なり、Ｃ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ⁶が、Ｃ１−Ｃ６鎖式炭化水素基である。）で示される基であり、
Ｌが、単結合またはＣ１−Ｃ３アルキレン基であり、
Ａが単結合であり、
Ｑが式Ｑ１（Ｒ^xおよびＲ^yが、水素原子である。）で示される基であり、
Ｇが、水素原子、ハロゲン原子、または、式Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３もしくはＧ４｛Ｒ^aは、Ｃ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であり、Ｒ^bは、Ｃ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であり、Ｒ^cは、Ｃ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であり、ｚが０、１または２であり、Ｒ^dが、Ｃ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であり、Ｒ^eが、Ｃ１−Ｃ６鎖式炭化水素基である。｝で示される基であり、
Ｄが−ＣＨ＝であり、
ｍが０である［項１］記載のヘテロ芳香環化合物。
［項１８］ Ｈｅｔが、窒素原子、および硫黄原子からなる群より選ばれる１個以上のヘテロ原子を含む５員へテロ芳香環であり（ここで、ＡおよびＱはそれぞれ、該５員へテロ芳香環を構成する炭素原子または窒素原子に結合し、Ａが結合した原子とＱが結合した原子とが該５員へテロ芳香環上で互いに隣接することはない。該５員へテロ芳香環は、Ａ及びＱが結合した原子と共に、−ＣＥ^１＝、−Ｎ＝および−Ｓ−からなる群より選ばれる３個の原子または基から構成され、Ｅ^１は１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ２アルキル基、水素原子またはハロゲン原子である。）、
Ｊが、式Ｊ１（Ｒ¹およびＲ²が、同一または相異なり、Ｃ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ³が、Ｃ１−Ｃ６鎖式炭化水素基である。）で示される基であり、
Ｌが、単結合またはＣ１−Ｃ３アルキレン基であり、
Ａが単結合であり、
Ｑが式Ｑ１（Ｒ^xおよびＲ^yが、水素原子である。）で示される基であり、
Ｇが、水素原子、ハロゲン原子、または、式Ｇ２もしくはＧ３｛Ｒ^bは、Ｃ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であり、Ｒ^cは、Ｃ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であり、ｚが０である。｝で示される基であり、
Ｄが−ＣＨ＝であり、
ｍが０である［項１］記載のヘテロ芳香環化合物。
［項１９］ ［項１］〜［項１８］のいずれか一項に記載のヘテロ芳香環化合物と不活性担体とを含有する有害生物防除剤。
［項２０］ 有害生物を防除するための［項１］〜［項１８］のいずれか一項に記載のヘテロ芳香環化合物の使用。
［項２１］ ［項１］〜［項１８］のいずれか一項に記載のヘテロ芳香環化合物の有効量を有害生物又は有害生物の生息場所に施用する工程を含む有害生物の防除方法。

本発明化合物は、有害生物の防除に有用である。

本明細書において用いられる用語について、以下に例を挙げて説明する。

本発明化合物において「ハロゲン原子」とはフッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子を意味する。

本発明化合物において、Ｅ^１で表される「１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ２アルキル基」としては、例えばメチル基、エチル基、トリフルオロメチル基、およびジフルオロメチル基等が挙げられる。

本発明化合物において、Ｅ^２で表される「１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ２アルキル基」としては、例えばメチル基、エチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、および２，２−ジフルオロエチル基等が挙げられる。

本発明化合物において「Ｃ１−Ｃ３アルキル基」としては、メチル基、エチル基、プロピル基およびイソプロピル基が挙げられる。

本発明化合物において「１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ３アルキル基」としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基およびトリフルオロメチル基が挙げられる。

本発明化合物において「１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基」としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基およびトリフルオロメチル基が挙げられる。

本発明化合物において「Ｃ１−Ｃ６鎖式炭化水素基」としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、２，２−ジメチルプロピル基、３−メチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基およびヘキシル基等のＣ１−Ｃ６アルキル基；
ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、イソプロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−ペンテニル基および１−ヘキセニル基等のＣ２−Ｃ６アルケニル基；並びに
エチニル基、プロパルギル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、３，３−ジメチル−１−ブチニル基、１−ペンチニル基および１−ヘキシニル基等のＣ２−Ｃ６アルキニル基が挙げられる。

本発明化合物において「１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基」としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、２，２−ジメチルプロピル基、３−メチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基ヘキシル基およびトリフルオロメチル基等の１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基；
ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、イソプロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−ペンテニル基および１−ヘキセニル基等のＣ２−Ｃ６アルケニル基および２，２−ジフルオロビニル基等の１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ２−Ｃ６アルケニル基；並びに
エチニル基、プロパルギル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、３，３−ジメチル−１−ブチニル基、１−ペンチニル基、１−ヘキシニル基および２−クロロエチニル基等の１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ２−Ｃ６アルキニル基が挙げられる。

本発明化合物において「＜群α＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基」としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、シアノメチル基およびシクロプロピルメチル基等の＜群α＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基；
２−プロペニル基等の＜群α＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ２−Ｃ６アルケニル基；並びに
プロパルギル基および２−ブチニル基等の＜群α＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ２−Ｃ６アルキニル基が挙げられる。

本発明化合物において「＜群β＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基」としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等のＣ１−Ｃ６アルキル基；
トリフルオロメチル基、シアノメチル基、シクロプロピルメチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、１−メトキシエチル基およびメチルチオメチル基等の＜群β＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有するＣ１−Ｃ６アルキル基；
ビニル基、イソプロペニル基、１−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、２，２−ジクロロビニル基および２，２−ジフルオロビニル基等の＜群β＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ２−Ｃ６アルケニル基；並びに
エチニル基、１−プロピニル基、２−クロロエチニル基、２−フルオロエチニル基および２−（トリメチルシリル）エチニル基等の＜群β＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ２−Ｃ６アルキニル基が挙げられる。

本発明化合物において「＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基」としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基およびｔｅｒｔ−ブチル基等のＣ１−Ｃ６アルキル基；
ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、１，１，１−トリフルオロ−２−プロピル基、シアノメチル基、１−シアノエチル基、シクロプロピルメチル基、１−（シクロプロピル）エチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、１−メトキシエチル基、２−メトキシエチル基、メチルチオメチル基、メチルスルフィニルメチル基、メチルスルホニルメチル基、２−（メチルチオ）エチル基、２−（メチルスルフィニル）エチル基、２−（メチルスルホニル）エチル基、２−（メチルアミノ）エチル基、２−（ジメチルアミノ）エチル基、ベンジル基、４−メトキシベンジル基、３，４−ジメトキシベンジル基および４−ニトロベンジル基等の＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有するＣ１−Ｃ６アルキル基；
２−プロペニル基、２−ブテニル基および３−メチル−２−ブテニル基等の＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ３−Ｃ６アルケニル基；並びに
プロパルギル基、２−ブチニル基および３−ブチニル基等の＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ２−Ｃ６アルキニル基が挙げられる。

本発明化合物において「１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ３アルキレン基」としては、例えば−ＣＨ₂−、−ＣＨＣｌ−、−ＣＨＦ−、−ＣＦ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−および−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−が挙げられる。

本発明化合物において「Ｃ３−Ｃ９トリアルキルシリル基」は、アルキル部分の炭素の総数が３〜９のトリアルキルシリル基を意味し、各アルキル基は同一または異なっていてもよく、例えばトリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、イソプロピルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基が挙げられる。

本発明化合物において「１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基」としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、２，２，２−トリクロロエトキシ基および２，２，２−トリフルオロエトキシが挙げられる。

本発明化合物において「１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ６アルキルアミノ基」としては、例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基、ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基および２，２，２−トリフルオロエチルアミノ基が挙げられる。

本発明化合物において「１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ２−Ｃ１２ジアルキルアミノ基」は、アルキル部分の炭素の総数が２〜１２である１個以上のハロゲン原子を有していてもよいジアルキルアミノ基を意味し、各アルキル基は同一または異なっていてもよく、例えばＮ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−Ｎ−メチルアミノ基およびＮ−メチル−Ｎ−（２，２，２−トリフルオロエチル）アミノ基が挙げられる。

本発明化合物において「１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ４アルコキシ基」としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基および２，２，２−トリフルオロエトキシ基が挙げられる。

本発明化合物において「１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキルチオ基」としては、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基および２，２，２−トリフルオロエチルチオ基が挙げられる。

本発明化合物において「１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキルスルフィニル基」としては、例えばメチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、イソブチルスルフィニル基、ｓｅｃ−ブチルスルフィニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルフィニル基および２，２，２−トリフルオロエチルスルフィニル基が挙げられる。

本発明化合物において「１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキルスルホニル基」としては、例えばメチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、ｓｅｃ−ブチルスルホニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル基および２，２，２−トリフルオロエチルスルホニル基が挙げられる。

本発明化合物において「１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキルアミノ基」としては、例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基、ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基および２，２，２−トリフルオロエチルアミノ基が挙げられる。

本発明化合物において「１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ２−Ｃ８ジアルキルアミノ基」は、アルキル部分の炭素の総数が２〜８である１個以上のハロゲン原子を有していてもよいジアルキルアミノ基を意味し、各アルキル基は同一または異なっていてもよく、例えばＮ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−Ｎ−メチルアミノ基およびＮ−メチル−Ｎ−（２，２，２−トリフルオロエチル）アミノ基が挙げられる。

本発明化合物において「フェニル基（該フェニル基は、メチル基、メトキシ基、塩素原子およびニトロ基からなる群より選ばれる１個以上の基を有してもよい。）」は、メチル基、メトキシ基、塩素原子およびニトロ基からなる群から独立して選択される１以上の置換基で置換されていてもよいフェニル基を表し、例えばフェニル基、４−メトキシフェニル基、３，４−ジメトキシフェニル基、４−ニトロフェニル基、２−ニトロフェニル基、４−クロロフェニル基、２−クロロフェニル基、２，６−ジクロロフェニル基および４−メチルフェニル基が挙げられる。

本発明化合物において、Ｈｅｔは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群より選ばれる１個以上（特に１〜４個）のヘテロ原子を含む５または６員へテロ芳香環を表す。ここで、ＡおよびＱはそれぞれ、該５または６員へテロ芳香環を構成する炭素原子または窒素原子に結合し、Ａが結合した原子とＱが結合した原子とが該５または６員へテロ芳香環上で互いに隣接することはない。

具体的には、下図で示すように、Ｈｅｔが該６員へテロ芳香環の場合には、ＡおよびＱが１，３位または１，４位の関係にあって１，２位の関係にはなく、また、Ｈｅｔが該５員へテロ芳香環の場合にＡおよびＱが１，３位の関係にあって１，２位の関係にはないことを意味する。

（式中、ＡおよびＱはは前記と同じ意味を表す。）
Ｈｅｔで表される５または６員へテロ芳香環は、ＡおよびＱが結合した原子と共に、−ＣＥ^１＝、−Ｎ＝、−Ｏ−、−Ｓ−および−ＮＥ^２−からなる群より選ばれる３もしくは４個の原子または基から構成され、Ｅ^１は１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ２アルキル基、水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｅ^２は１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ２アルキル基を表す。）、
本発明化合物において、Ｈｅｔで表される前記５または６員へテロ芳香環が−ＣＥ^１＝を２個以上含む場合に、各Ｅ^１基は同一でも相異なっていてもよい。

本発明化合物において、Ｈｅｔで表される前記６員へテロ芳香環としては、式Ｈ１およびＨ２で示される環が挙げられる。以下、構造式の左側の「・」印がＡと結合する位置を表し、構造式の右側の「・」印がＱと結合する位置を表す。

（式中、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３およびＸ^４は前記と同じ意味を表す。）
本発明化合物における６員へテロ芳香環の具体例を以下に示す。

（式中、Ｅ^１は前記と同じ意味を表す。）
本発明化合物において、Ｈｅｔで表される５員へテロ芳香環としては、式Ｈ３、Ｈ４およびＨ５で示される環が挙げられる。

（式中、Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３、Ｚ^１、Ｚ^２およびＺ^３は前記と同じ意味を表す。）
式Ｈ３における環の内側の“○”の表記は、５員へテロ芳香環を構成する２つの二重結合と２つの一重結合の配置として、下記に示す３つの配置を全て含んでいることを示している。

（式中、Ｙ^１、Ｙ^２及びＹ^３は前記と同じ意味を表す。

本発明化合物において、式Ｈ３で表される５員へテロ芳香環の具体例を以下に示す。

（式中、Ｅ^１及びＥ^２は前記と同じ意味を表す。）
本発明化合物において、式Ｈ４で表される５員へテロ芳香環の具体例を以下に示す。

（式中、Ｅ^１は前記と同じ意味を表す。）
本発明化合物において、式Ｈ５で表される５員へテロ芳香環の具体例を以下に示す。

（式中、Ｅ^１は前記と同じ意味を表す。）
本発明化合物としては、例えば以下のヘテロ芳香環化合物が挙げられる。
［態様Ａ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ１またはＨ２で表される６員へテロ芳香環である化合物。
［態様Ｂ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ１またはＨ２で示される環であり、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３およびＸ^４のうちの１つまたは２つが−Ｎ＝であり、それ以外が−ＣＥ^１＝である化合物。
［態様Ｃ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ１またはＨ２で示される環であり、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３およびＸ^４のうちの１つが−Ｎ＝であり、それ以外が−ＣＥ^１＝である化合物。
［態様Ｄ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ１で示される環であり、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３およびＸ^４のうちの１つまたは２つが−Ｎ＝であり、それ以外が−ＣＥ^１＝である化合物。
［態様Ｅ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ１で示される環であり、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３およびＸ^４のうちの１つが−Ｎ＝であり、それ以外が−ＣＥ^１＝である化合物。
［態様Ｆ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ１で示される環であり、Ｘ^１またはＸ^２のいずれか一方が−Ｎ＝であり、他方が−ＣＥ^１＝または−Ｎ＝であり、Ｘ^３およびＸ^４が−ＣＥ^１＝である化合物。
［態様Ｇ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ１で示される環であり、Ｘ^１が−Ｎ＝であり、Ｘ^２、Ｘ^３およびＸ^４が−ＣＥ^１＝である化合物。
［態様Ｈ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ１で示される環であり、Ｘ^２が−Ｎ＝であり、Ｘ^１、Ｘ^３およびＸ^４が−ＣＥ^１＝である化合物。
［態様Ｉ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ３、Ｈ４またはＨ５で表される５員へテロ芳香環である化合物。
［態様Ｊ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ３で示される環である化合物。
［態様Ｋ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ３で示される環であり、Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３のうちの１つが−Ｏ−または−Ｓ−である化合物。
［態様Ｌ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ３で示される環であり、Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３のうちの１つが−Ｓ−である化合物。
［態様Ｍ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ３で示される環であり、Ｙ^１が−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＥ^２−である化合物。
［態様Ｎ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ３で示される環であり、Ｙ^１が−Ｏ−または−Ｓ−である化合物。
［態様Ｏ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ３で示される環であり、Ｙ^１が−Ｓ−である化合物。
［態様Ｐ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ３で示される環であり、Ｙ^１が−Ｓ−であり、Ｙ^２およびＹ^３のいずれか一方が−ＣＥ^１＝であり、他方がＣＥ^１＝または−Ｎ＝である化合物。
［態様Ｑ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ３で示される環であり、Ｙ^１が−Ｓ−であり、Ｙ^２およびＹ^３が−ＣＥ^１＝である化合物。
［態様Ｒ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ４で示される環である化合物。
［態様Ｓ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ４で示される環であり、Ｚ^１、Ｚ^２およびＺ^３のうちの１つまたは２つが−Ｎ＝であり、それ以外が−ＣＥ^１＝である化合物。
［態様Ｔ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ４で示される環であり、Ｚ^１、Ｚ^２およびＺ^３のうちの１つが−Ｎ＝であり、それ以外が−ＣＥ^１＝である化合物。
［態様Ｕ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ４で示される環であり、Ｚ^１が−Ｎ＝であり、Ｚ^２が−ＣＥ^１＝であり、かつ、Ｚ^３が−ＣＥ^１＝または−Ｎ＝であるか、あるいは、Ｚ^１が−ＣＥ^１＝であり、Ｚ^２が−Ｎ＝であり、かつ、Ｚ^３が−ＣＥ^１＝である化合物。
［態様Ｖ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ４で示される環であり、Ｚ^１が−Ｎ＝であり、Ｚ^２が−ＣＥ^１＝であり、Ｚ^３が−ＣＥ^１＝または−Ｎ＝である化合物。
［態様Ｗ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ４で示される環であり、Ｚ^１およびＺ^２のいずれか一方が−Ｎ＝であり、他方が−ＣＥ^１＝であり、Ｚ^３が−ＣＥ^１＝である化合物。
［態様Ｘ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ４で示される環であり、Ｚ^１が−Ｎ＝であり、Ｚ^２およびＺ^３がＣＥ^１＝である化合物。
［態様Ｙ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ４で示される環であり、Ｚ^２が−Ｎ＝であり、Ｚ^１およびＺ^３がＣＥ^１＝である化合物。
［態様Ｚ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ５で示される環である化合物。
［態様ＡＡ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ５で示される環であり、Ｚ^１、Ｚ^２およびＺ^３のうちの１つまたは２つが−Ｎ＝であり、それ以外が−ＣＥ^１＝であ化合物。
［態様ＡＢ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ５で示される環であり、Ｚ^１、Ｚ^２およびＺ^３のうちの１つが−Ｎ＝であり、それ以外が−ＣＥ^１＝である化合物。
［態様ＡＣ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ５で示される環であり、Ｚ^１が−Ｎ＝であり、Ｚ^２が−ＣＥ^１＝であり、かつ、Ｚ^３が−ＣＥ^１＝または−Ｎ＝であるか、あるいは、Ｚ^１が−ＣＥ^１＝であり、Ｚ^２が−Ｎ＝であり、かつ、Ｚ^３が−ＣＥ^１＝である化合物。
［態様ＡＤ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ５で示される環であり、Ｚ^１が−Ｎ＝であり、Ｚ^２が−ＣＥ^１＝であり、Ｚ^３が−ＣＥ^１＝または−Ｎ＝である化合物。
［態様ＡＥ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ５で示される環であり、Ｚ^１およびＺ^２のいずれか一方が−Ｎ＝であり、他方が−ＣＥ^１＝であり、Ｚ^３が−ＣＥ^１＝である化合物。
［態様ＡＦ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ５で示される環であり、Ｚ^１が−Ｎ＝であり、Ｚ^２およびＺ^３がＣＥ^１＝である化合物。
［態様ＡＧ］
式（１）において、Ｈｅｔが式Ｈ５で示される環であり、Ｚ^２が−Ｎ＝であり、Ｚ^１およびＺ^３がＣＥ^１＝である化合物。
［態様ＡＨ］
下式で示される［項１］記載のヘテロ芳香環化合物。

（式中、各記号は前記と同じ意味を表す。）
［態様ＡＩ］
下式で示される［項１］記載のヘテロ芳香環化合物。

（式中、各記号は前記と同じ意味を表す。）
また、本発明化合物としては、例えば以下のヘテロ芳香環化合物も挙げられる。
［態様１］
式（１）において、Ｑが式Ｑ１で示される基である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］および［態様ＡＡ］〜［態様ＡＩ］のいずれかに記載のヘテロ芳香環化合物。
［態様２］
式（１）において、Ｑが式Ｑ２、Ｑ３またはＱ４で示される基である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｙ］および［態様ＡＨ］〜［態様ＡＩ］のいずれかに記載のヘテロ芳香環化合物。
［態様３］
式（１）において、Ｑが式Ｑ２で示される基である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｙ］および［態様ＡＨ］〜［態様ＡＩ］のいずれかに記載のヘテロ芳香環化合物。
［態様４］
式（１）において、Ｑが式Ｑ３で示される基である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｙ］および［態様ＡＨ］〜［態様ＡＩ］のいずれかに記載のヘテロ芳香環化合物。
［態様５］
式（１）において、Ｑが式Ｑ４で示される基である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｙ］および［態様ＡＨ］〜［態様ＡＩ］のいずれかに記載のヘテロ芳香環化合物。
［態様６］〜［態様１４３］
式（１）において、ＱとＧとが〔表１〕〜〔表６〕の組み合わせである［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｙ］および［態様ＡＨ］〜［態様ＡＩ］のいずれかに記載のヘテロ芳香環化合物；あるいは、式（１）において、ＱとＧとが〔表１〕または〔表２〕の組み合わせである［態様Ｚ］および［態様ＡＡ］〜［態様ＡＧ］のいずれかに記載のヘテロ芳香環化合物。

なお、例えば、［態様６］は、「式（１）において、Ｑが式Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３またはＱ４で示される基であり、Ｇが水素原子、ハロゲン原子、式Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、またはＧ４で示される基である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］および［態様ＡＡ］〜［態様ＡＩ］のいずれかに記載のヘテロ芳香環化合物。」を表し、また、例えば、［態様５２］は、「式（１）において、Ｑが式Ｑ２、Ｑ３またはＱ４で示される基であり、Ｇが水素原子、ハロゲン原子、式Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、またはＧ４で示される基である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｙ］および［態様ＡＨ］〜［態様ＡＩ］のいずれかに記載のヘテロ芳香環化合物。」を表す。

また、本発明化合物として、例えば、以下のヘテロ芳香環化合物も挙げられる。

式（１）において、Ｄが−ＣＨ＝である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］、［態様ＡＡ］〜［態様ＡＩ］および［態様１］〜［態様１４３］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｄが−Ｎ＝である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］、［態様ＡＡ］〜［態様ＡＩ］および［態様１］〜［態様１４３］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｌが単結合または−ＣＨ₂−であり、Ａが単結合または−Ｏ−であり、Ｊが式Ｊ１またはＪ２で示される基である、［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］、［態様ＡＡ］〜［態様ＡＩ］および［態様１］〜［態様１４３］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｌが単結合または−ＣＨ₂−であり、Ａが単結合または−Ｏ−であり、Ｊが式Ｊ１で示される基（Ｊが式Ｊ１で示される基の場合に、Ｒ¹およびＲ²はいずれもメチル基であり、Ｒ³は水素原子、メチル基、またはエチル基である。）または式Ｊ２で示される基（Ｊが式Ｊ２で示される基の場合に、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶はいずれもメチル基である。）である、［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］、［態様ＡＡ］〜［態様ＡＩ］および［態様１］〜［態様１４３］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｌが単結合であり、Ａが単結合であり、Ｊが式Ｊ１で示される基（Ｊが式Ｊ１で示される基の場合に、Ｒ¹およびＲ²はいずれもメチル基であり、Ｒ³は水素原子、メチル基、またはエチル基である。）または式Ｊ２で示される基（Ｊが式Ｊ２で示される基の場合に、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶はいずれもメチル基である。）である、［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］、［態様ＡＡ］〜［態様ＡＩ］および［態様１］〜［態様１４３］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｊ−Ｌ−Ａがｔｅｒｔ−ブチル基である、［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］、［態様ＡＡ］〜［態様ＡＩ］および［態様１］〜［態様１４３］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｑが式Ｑ１で示される基であり、かつ、Ｒ^xおよびＲ^yが同一または相異なり＜群α＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基または水素原子であるか、
Ｑが式Ｑ２で示される基であるか、
Ｑが式Ｑ３で示される基であるか、あるいは、
Ｑが式Ｑ４で示される基であり、かつ、Ｒ^zが＜群α＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基または水素原子である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］、［態様ＡＡ］〜［態様ＡＩ］および［態様６］〜［態様２８］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｑが式Ｑ１で示される基であり、かつ、Ｒ^xおよびＲ^yが同一または相異なりメチル基または水素原子であるか、
Ｑが式Ｑ２で示される基であるか、
Ｑが式Ｑ３で示される基であり、かつ、ｙが０であるか、あるいは、
Ｑが式Ｑ４で示される基であり、かつ、Ｒ^zがメチル基または水素原子である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］、［態様ＡＡ］〜［態様ＡＩ］および［態様６］〜［態様２８］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｑが式Ｑ１で示される基であり、かつ、Ｒ^xおよびＲ^yが同一または相異なり＜群α＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基または水素原子である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］、［態様ＡＡ］〜［態様ＡＩ］、［態様１］および［態様２９］〜［態様５１］のいずれかに記載のヘテロ環化合物；
式（１）において、Ｑが式Ｑ１で示される基であり、かつ、Ｒ^xおよびＲ^yが同一または相異なりメチル基または水素原子である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］、［態様ＡＡ］〜［態様ＡＩ］、［態様１］および［態様２９］〜［態様５１］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｑが式Ｑ２で示される基であるか、
Ｑが式Ｑ３で示される基であるか、あるいは、
Ｑが式Ｑ４で示される基であり、かつ、Ｒ^zが＜群α＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基または水素原子である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｙ］、［態様ＡＨ］〜［態様ＡＩ］、［態様２］および［態様５２］〜［態様７４］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｑが式Ｑ２で示される基であるか、
Ｑが式Ｑ３で示される基であり、かつ、ｙが０であるか、あるいは、
Ｑが式Ｑ４で示される基であり、かつ、Ｒ^zがメチル基または水素原子である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｙ］、［態様ＡＨ］〜［態様ＡＩ］、［態様２］および［態様５２］〜［態様７４］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｑが式Ｑ３で示される基であり、かつ、ｙが０である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｙ］、［態様ＡＨ］〜［態様ＡＩ］、［態様４］および［態様９８］〜［態様１２０］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｑが式Ｑ４で示される基であり、かつ、Ｒ^zが＜群α＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基または水素原子である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｙ］、［態様ＡＨ］〜［態様ＡＩ］、［態様５］および［態様１２１］〜［態様１４３］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｑが式Ｑ４で示される基であり、かつ、Ｒ^zがメチル基または水素原子である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｙ］、［態様ＡＨ］〜［態様ＡＩ］、［態様５］および［態様１２１］〜［態様１４３］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｇが水素原子またはハロゲン原子であるか、
Ｇが式Ｇ１で示される基であり、かつ、Ｒ^aが＜群β＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であるか、
Ｇが式Ｇ２で示される基であり、かつ、Ｒ^bが＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であるか、
Ｇが式Ｇ３で示される基であり、かつ、Ｒ^cが＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であるか、あるいは、
Ｇが式Ｇ４で示される基であり、Ｒ^dが＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であり、かつ、Ｒ^eが、＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基または水素原子である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］、［態様ＡＡ］〜［態様ＡＩ］および［態様１］〜［態様５］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｇがハロゲン原子であるか、
Ｇが式Ｇ１で示される基であり、かつ、Ｒ^aが＜群β＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であるか、
Ｇが式Ｇ２で示される基であり、かつ、Ｒ^bが＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であるか、
Ｇが式Ｇ３で示される基であり、かつ、Ｒ^cが＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であるか、あるいは、
Ｇが式Ｇ４で示される基であり、Ｒ^dが＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であり、かつ、Ｒ^eが、＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基または水素原子である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］、［態様ＡＡ］〜［態様ＡＩ］および［態様１］〜［態様５］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｇが式Ｇ１で示される基であり、かつ、Ｒ^aが＜群β＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であるか、
Ｇが式Ｇ２で示される基であり、かつ、Ｒ^bが＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であるか、
Ｇが式Ｇ３で示される基であり、かつ、Ｒ^cが＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であるか、あるいは、
Ｇが式Ｇ４で示される基であり、Ｒ^dが＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であり、かつ、Ｒ^eが、＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基または水素原子である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］、［態様ＡＡ］〜［態様ＡＩ］および［態様１］〜［態様５］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｇが、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、２，２，２−トリフルオロエチルチオ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−（２，２，２−トリフルオロエチル）アミノ基、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピルアミノ基またはＮ−（２，２，２−トリフルオロエチル）アミノ基である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］、［態様ＡＡ］〜［態様ＡＩ］および［態様１］〜［態様５］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｇが、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、２，２，２−トリフルオロエチルチオ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−（２，２，２−トリフルオロエチル）アミノ基、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピルアミノ基またはＮ−（２，２，２−トリフルオロエチル）アミノ基である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］、［態様ＡＡ］〜［態様ＡＩ］および［態様１］〜［態様５］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｇが、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、２，２，２−トリフルオロエチルチオ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−（２，２，２−トリフルオロエチル）アミノ基、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピルアミノ基またはＮ−（２，２，２−トリフルオロエチル）アミノ基である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］、［態様ＡＡ］〜［態様ＡＩ］および［態様１］〜［態様５］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｇが式Ｇ２で示される基であり、かつ、Ｒ^bが＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であるか、あるいは
Ｇが式Ｇ３で示される基であり、かつ、Ｒ^cが＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］、［態様ＡＡ］〜［態様ＡＨ］および［態様１］〜［態様５］のいずれかに記載のヘテロ環化合物；
式（１）において、Ｇが、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基または２，２，２−トリフルオロエチルチオ基である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］、［態様ＡＡ］〜［態様ＡＩ］および［態様１］〜［態様５］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｇが式Ｇ１で示される基であり、かつ、Ｒ^aが＜群β＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であるか、あるいは、
Ｇが式Ｇ４で示される基であり、Ｒ^dが＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であり、かつ、Ｒ^eが、＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基または水素原子である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］、［態様ＡＡ］〜［態様ＡＩ］および［態様１］〜［態様５］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｇが、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−（２，２，２−トリフルオロエチル）アミノ基、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピルアミノ基またはＮ−（２，２，２−トリフルオロエチル）アミノ基である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］、［態様ＡＡ］〜［態様ＡＩ］および［態様１］〜［態様５］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｇが式Ｇ１で示される基であり、かつ、Ｒ^aが＜群β＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］、［態様ＡＡ］〜［態様ＡＩ］および［態様１］〜［態様５］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｇが、メチル基、エチル基、プロピル基またはイソプロピル基である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］、［態様ＡＡ］〜［態様ＡＩ］および［態様１］〜［態様５］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｇが式Ｇ２で示される基であり、かつ、Ｒ^bが＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］、［態様ＡＡ］〜［態様ＡＩ］および［態様１］〜［態様５］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｇが、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基または２，２，２−トリフルオロエトキシ基である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］、［態様ＡＡ］〜［態様ＡＩ］および［態様１］〜［態様５］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｇが式Ｇ３で示される基であり、かつ、Ｒ^cが＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］、［態様ＡＡ］〜［態様ＡＩ］および［態様１］〜［態様５］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｇが、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基または２，２，２−トリフルオロエチルチオ基である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］、［態様ＡＡ］〜［態様ＡＩ］および［態様１］〜［態様５］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｇが式Ｇ４で示される基であり、Ｒ^dが＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であり、かつ、Ｒ^eが、＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基または水素原子である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］、［態様ＡＡ］〜［態様ＡＩ］および［態様１］〜［態様５］のいずれかに記載の化合物；
式（１）において、Ｇが、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−（２，２，２−トリフルオロエチル）アミノ基、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピルアミノ基またはＮ−（２，２，２−トリフルオロエチル）アミノ基である［項１］、［態様Ａ］〜［態様Ｚ］、［態様ＡＡ］〜［態様ＡＩ］および［態様１］〜［態様５］のいずれかに記載の化合物。

また、本発明化合物として、例えば、以下のヘテロ芳香環化合物も挙げられる。

式（１ｘ）

〔式中、
Ｇ^zは、水素原子、Ｃ１−Ｃ３アルキル基（メチル基、エチル基等）、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基等）、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基（メチルチオ基、エチルチオ基等）、Ｃ２〜Ｃ８ジアルキルアミノ基（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基等）、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）を表し、
Ｄは−Ｎ＝または−ＣＨ＝（好ましくは、−ＣＨ＝）を表し、
ｍは０または１（好ましくは０）を表す。〕
で示される［項１]記載のヘテロ芳香環化合物；
式（１ｘ）において、Ｄが−ＣＨ＝であり、ｍが０である［項１]記載のヘテロ芳香環化合物；
式（１ｙ）

〔式中、
Ｇ^zは、水素原子、Ｃ１−Ｃ３アルキル基（メチル基、エチル基等）、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基等）、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基（メチルチオ基、エチルチオ基等）、Ｃ２〜Ｃ８ジアルキルアミノ基（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基等）、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）を表し、
Ｄは−Ｎ＝または−ＣＨ＝（好ましくは、−ＣＨ＝）を表し、
ｍは０または１（好ましくは０）を表す。〕
で示される［項１]記載のヘテロ芳香環化合物；
式（１ｙ）において、Ｄが−ＣＨ＝であり、ｍが０である［項１]記載のヘテロ芳香環化合物；
式（１ｚ）

〔式中、
Ｇ^zは、水素原子、Ｃ１−Ｃ３アルキル基（メチル基、エチル基等）、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基等）、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基（メチルチオ基、エチルチオ基等）、Ｃ２〜Ｃ８ジアルキルアミノ基（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基等）、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）を表し、
Ｄは−Ｎ＝または−ＣＨ＝（好ましくは、−ＣＨ＝）を表し、
ｍは０または１（好ましくは０）を表す。〕
で示される［項１]記載のヘテロ芳香環化合物；
式（１ｚ）において、Ｄが−ＣＨ＝であり、ｍが０である［項１]記載のヘテロ芳香環化合物。

次に本発明化合物の製造法について説明する。

本発明化合物は、例えば、以下の（製造法１）〜（製造法１０）にしたがって製造することができる。
（製造法１）
本発明化合物のうち、Ｈｅｔが式Ｈ１、Ｈ２、Ｈ３またはＨ４で示される環であり、Ｑが式Ｑ１で示される基である化合物は、例えば、下記のスキームにしたがって製造することができる。

〔式中、Ｊ、Ｌ、Ａ、Ｄ、Ｇ、Ｒ^xおよびｍは前記と同じ意味を表し、Ｈｅｔ１は式Ｈ１、Ｈ２、Ｈ３またはＨ４で示される環を表し、Ｒ^y1は、＜群α＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基またはシクロプロピル基を表し、Ｌｇ^１は、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｌｇ^２は、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、パラトルエンスルホニルオキシ基、または、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。〕
・（５ａ）→（３）
化合物（５ａ）と金属マグネシウムとを反応させることによって生成するグリニャール反応剤を、式（２）で示されるアミド化合物と反応させることにより化合物（３）を製造することができる。

該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類が挙げられる。

化合物（５ａ）１モルに対して、金属マグネシウムは通常１モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。また、必要に応じて触媒量の活性化剤を加えて、金属マグネシウムを活性化させることができる。該活性化剤としては、例えば、ヨウ素、１，２−ジブロモエタンが挙げられる。

化合物（５ａ）と金属マグネシウムとの反応における反応温度は、通常室温から用いる溶媒の沸点の範囲であり、反応時間は、通常瞬時から１時間の範囲である。

化合物（５ａ）１モルに対して化合物（２）は通常１モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。

生成したグリニャール反応剤と化合物（２）との反応における反応温度は、通常−７８℃から溶媒の沸点の範囲であり、反応時間は、通常０．１時間から２４時間の範囲である。

反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、化合物（３）を単離することができる。
・（３）→（７）
化合物（３）を還元することにより、化合物（７）を製造することができる。

還元方法としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウムを用いる還元反応が挙げらる。化合物（３）１モルに対して、水素化ホウ素ナトリウムは通常０．２５モル〜１モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。

該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類が挙げられる。

該反応における反応温度は、通常０℃から溶媒の沸点の範囲である。

該反応における反応時間は、通常瞬時から２４時間の範囲である。

反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、化合物（７）を単離することができる。
・（５ａ）→（７）
化合物（５ａ）をアルキルリチウム化合物と反応させた後に、生成する反応中間体と式（６）で示されるカルボニル化合物と反応させることにより、化合物（７）を製造することができる。

該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。

該反応に用いられるアルキルリチウム化合物としては、例えば、ブチルリチウムが挙げられる。化合物（５ａ）１モルに対して、アルキルリチウム化合物は通常１モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。

化合物（５ａ）とアルキルリチウム化合物との反応における反応温度は、通常−７８℃から−５０℃の範囲であり、反応時間は、通常瞬時から１時間の範囲である。

化合物（５ａ）１モルに対して化合物（６）は通常１モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。

該反応中間体と化合物（６）との反応における反応温度は、通常−７８℃から３０℃の範囲であり、反応時間は、通常０．１時間から２４時間の範囲である。

反応終了後は、反応混合物に水または塩化アンモニウム水溶液等を注加した後、有機溶媒で抽出し、通常の後処理操作を行うことにより、化合物（７）を単離することができる。
・（４）→（７）
化合物（４）をリチオ化した後に、生成する反応中間体と式（１６）で示されるカルボニル化合物と反応させることにより、化合物（７）を製造することができる。

リチオ化に用いられるリチウム化合物としては、例えば、ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム等のアルキルリチウム化合物、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムテトラメチルピペリジド等のリチウムジアルキルアミド化合物が挙げられる。

中でも、化合物（４）のうち、Ｇが−ＮＨＣ（Ｏ）ｔ−Ｂｕである化合物のリチオ化は、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）の存在下、ブチルリチウムを用いて行うことができる。

該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサンなどのエーテル類が挙げられる。

化合物（４）１モルに対して、ブチルリチウムおよびＴＭＥＤＡはそれぞれ通常１モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。

化合物（４）とブチルリチウムとの反応における反応温度は、通常−７８℃から３０℃の範囲であり、反応時間は、通常０．１時間から２４時間の範囲である。

該反応中間体と化合物（１６）との反応における反応温度は、通常−７８℃から３０℃の範囲であり、反応時間は、通常０．１時間から２４時間の範囲である。

反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、化合物（７）を単離することができる。
・（７）→（１ａ）
本発明化合物（１ａ）は、化合物（７）を脱ヒドロキシ化することにより製造することができる。脱ヒドロキシ化の方法としては、例えば、接触水素還元反応などが挙げられる。

接触水素還元反応は、溶媒および触媒の存在下、水素と反応させて行う。

該反応に用いられる溶媒としては、例えば酢酸が挙げられる。また必要に応じて硫酸等の鉱酸を加えることができ、その場合のモル比は化合物（７）１モルに対して、通常０．０１モル〜１０モルである。

該反応に用いられる触媒としては、例えば、パラジウム炭素等が挙げられる。

該反応における、水素圧は通常１気圧から５気圧である。

該反応における反応時間は、通常０．１時間から２４時間の範囲である。

反応終了後は、ろ過によって触媒を除去した後、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物（１ａ）を単離することができる。
・（１ａ）→（１ｂ）
さらに、本発明化合物（１ａ）とリチウムジイソプロピルアミド（以下、ＬＤＡと記す。）等の塩基とを反応させた後、Ｒ^y1−Ｌｇ^２で示される化合物と反応させることにより、本発明化合物（１ｂ）を製造することもできる。
（製造法２）
本発明化合物のうち、Ｈｅｔが式Ｈ１、Ｈ２、Ｈ３またはＨ４で示される環であり、Ｑが式Ｑ２で示される基である化合物は、例えば、下記のスキームにしたがって製造することができる。

〔式中、Ｊ、Ｌ、Ａ、Ｈｅｔ１、Ｄ、Ｇおよびｍは前記と同じ意味を表し、Ｌｇ^３は、ハロゲン原子を表す。〕
本発明化合物（１ｃ）は、化合物（８）と、化合物（９）とを、塩基、および、必要に応じて銅化合物の存在下反応させることにより製造することができる。
（１）銅化合物を用いない場合：
Ｌｇ^３としては塩素原子またはフッ素原子が好ましい。

該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。

該反応において用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、カリウムtert−ブトキシド等が挙げる。化合物（８）１モルに対して、塩基は通常１モル〜１０モルの割合で用いられる。

化合物（８）１モルに対して化合物（９）は通常１モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。

該反応における反応温度は、通常２０℃から２００℃あるいは溶媒の沸点の範囲である。

該反応における反応時間は、通常０．１時間から２４時間の範囲である。

反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物（１ｃ）を単離することができる。
（２）銅化合物を用いる場合：
Ｌｇ^３としては臭素原子またはヨウ素原子が好ましい。

該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。

該反応において用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、カリウムtert−ブトキシド等が挙げる。化合物（８）１モルに対して、塩基は通常１モル〜１０モルの割合で用いられる。

銅化合物としては、銅粉末、酸化銅（Ｉ）、塩化銅（Ｉ）、臭化銅（Ｉ）、ヨウ化銅（Ｉ）等が挙げられる。化合物（８）１モルに対して、銅化合物は通常０．０１モル〜１０モルの割合で用いられる。

化合物（８）１モルに対して化合物（９）は通常１モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。

該反応における反応温度は、通常５０℃から２００℃あるいは溶媒の沸点の範囲である。

該反応における反応時間は、通常０．１時間から２４時間の範囲である。
反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物（１ｃ）を単離することができる。
（製造法３）
本発明化合物のうち、Ｈｅｔが式Ｈ１、Ｈ２、Ｈ３またはＨ４で示される環であり、Ｑが式Ｑ３で示される基である化合物は、例えば、下記のスキームにしたがって製造することができる。

〔式中、Ｊ、Ｌ、Ａ、Ｈｅｔ１、Ｄ、Ｇおよびｍは前記と同じ意味を表し、Ｌｇ^３は、ハロゲン原子を表し、ｙ１は１または２を表す。〕
本発明化合物（１ｄ）は、化合物（１０）と、化合物（９）とを、塩基、および、必要に応じて銅化合物の存在下反応させるか、あるいは、化合物（５ｂ）と、化合物（１１）とを、塩基、および、必要に応じて銅化合物の存在下反応させることにより製造することができる。
・（１ｄ）の製造
（１）銅化合物を用いない場合：
Ｌｇ^３としては塩素原子またはフッ素原子が好ましい。

該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。

該反応において用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、カリウムtert−ブトキシド等が挙げる。化合物（１０）または化合物（１１）１モルに対して、塩基は通常１モル〜１０モルの割合で用いられる。

化合物（１０）または化合物（１１）１モルに対して化合物（９）または化合物（５ｂ）は通常１モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。

該反応における反応温度は、通常２０℃から２００℃あるいは溶媒の沸点の範囲である。

該反応における反応時間は、通常０．１時間から２４時間の範囲である。

反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物（１ｄ）を単離することができる。
（２）銅化合物を用いる場合：
Ｌｇ^３としては臭素原子またはヨウ素原子が好ましい。

該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。

該反応において用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、カリウムtert−ブトキシド等が挙げられる。化合物（１０）または化合物（１１）１モルに対して、塩基は通常１モル〜１０モルの割合で用いられる。

銅化合物としては、銅粉末、酸化銅（Ｉ）、塩化銅（Ｉ）、臭化銅（Ｉ）、ヨウ化銅（Ｉ）等が挙げられる。化合物（１０）または化合物（１１）１モルに対して、銅化合物は通常０．０１モル〜１０モルの割合で用いられる。

化合物（１０）または化合物（１１）１モルに対して、化合物（９）または化合物（５ｂ）は通常１モル用いられるが、適宜変更することができる。

該反応における反応温度は、通常５０℃から２００℃あるいは溶媒の沸点の範囲である。

該反応における反応時間は、通常０．１時間から２４時間の範囲である。

反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物（１ｄ）を単離することができる。
・（１ｄ）→（１ｅ）
さらに、本発明化合物（１ｄ）を、過酸化水素、メタクロロ過安息香酸（以下、ｍＣＰＢＡと記す。）、過ヨウ素酸ナトリウム等の酸化剤と反応させることにより、本発明化合物（１ｅ）を製造することもできる。
（製造法４）
本発明化合物のうち、Ｈｅｔが式Ｈ１、Ｈ２、Ｈ３またはＨ４で示される環であり、Ｑが式Ｑ４で示される基である化合物は、例えば、下記のスキームにしたがって製造することができる。

〔式中、Ｊ、Ｌ、Ａ、Ｈｅｔ１、Ｄ、Ｇ、Ｒ^zおよびｍは前記と同じ意味を表し、Ｌｇ^３は、ハロゲン原子を表し、Ｌｇ^４は、ハロゲン原子またはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表す。〕
本発明化合物（１ｆ）は、化合物（１２）と、化合物（９）とを、塩基、および、必要に応じてパラジウム触媒の存在下反応させるか、あるいは、化合物（５ｃ）と、化合物（１３）とを、塩基、および、必要に応じてパラジウム触媒の存在下反応させることにより製造することができる。
（１）パラジウム触媒を用いない場合：
Ｌｇ^３およびＬｇ^４としては塩素原子またはフッ素原子が好ましい。

該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。

該反応において用いられる塩基としては、例えば、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム等が挙げられる。化合物（１２）または化合物（１３）１モルに対して、塩基は通常１モル〜１０モルの割合で用いられる。

化合物（１２）または化合物（１３）１モルに対して化合物（９）または化合物（５ｃ）は通常１モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。

該反応における反応温度は、通常２０℃から、２００℃または溶媒の沸点の範囲である。

該反応における反応時間は、通常０．１時間から２４時間の範囲である。

反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物（１ｆ）を単離することができる。
（２）パラジウム触媒を用いる場合：
Ｌｇ^３およびＬｇ^４としては臭素原子、ヨウ素原子またはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基が好ましい。

該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。

該反応において用いられる塩基としては、例えば、ナトリウムtert-ブトキシド、炭酸セシウム等が挙げられる。化合物（１２）または化合物（１３）１モルに対して、塩基は通常１モル〜１０モルの割合で用いられる。

該反応において用いられるパラジウム触媒としては、たとえば、｛１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン｝ジクロロパラジウム、およびトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（以下、Ｐｄ₂(ｄｂａ)₃と記す。）と４，５−ビス(ジフェニルホスフィノ)−９，９−ジメチルキサンテン（以下、キサントホスと記す。）との組み合わせ、等が挙げられる。化合物（１２）または化合物（１３）１モルに対して、パラジウム触媒は通常０．０１〜０．２モルの割合で用いられる。

化合物（１２）または化合物（１３）１モルに対して化合物（９）または化合物（５ｃ）は通常１モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。

該反応における反応温度は、通常２０℃から１００℃の範囲である。

該反応における反応時間は、通常０．１時間から２４時間の範囲である。

反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物（１ｆ）を単離することができる。
（製造法５）
本発明化合物のうち、Ｄが−Ｎ＝であり、Ｈｅｔが式Ｈ１、Ｈ２、Ｈ３またはＨ４で示される環であり、Ｑが式Ｑ２、Ｑ３またはＱ４で示される基である化合物は、例えば、下記のスキームにしたがって製造することができる。

〔式中、Ｊ、Ｌ、Ａ、Ｈｅｔ１、Ｇおよびｍは前記と同じ意味を表し、Ｑ^aは、式Ｑ２、Ｑ３またはＱ４で示される基を表し、Ｌｇ^３は、ハロゲン原子を表す。〕
・（１５）の製造
化合物（１５）は、化合物（１４）とジハロピリミジン化合物（１６）とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。

化合物（１６）の２つのＬｇ^３は相異なっていてもよいが、２つのＬｇ^３がともに塩素原子である化合物が好ましい。

該反応は、前記の製造法２（１）、製造法３（１）または製造法４（１）に準じて行うことができる。
・（１５）→（１ｇ）
本発明化合物（１ｇ）は、化合物（１５）を脱ハロゲン化することにより製造することができる。脱ハロゲン化の方法としては、例えば、接触水素還元反応などが挙げられる。
接触水素還元反応は、溶媒および触媒の存在下、水素と反応させて行う。

該反応に用いられる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール等のアルコール類、酢酸エチル等のエステル類、酢酸等のカルボン酸類および水が挙げられる。

また必要に応じて塩基または酸を加えることができる。その場合のモル比は化合物（１５）１モルに対して、通常０．０１モル〜１０モルである。

該反応に用いられる塩基としては、例えば、酸化マグネシウム、水酸化ナトリウム、酢酸ナトリウム、トリエチルアミンが挙げられる。酸としては、例えば、硫酸、塩酸が挙げられる。

該反応に用いられる触媒としては、例えば、パラジウム炭素が挙げられる。

該反応における、水素圧は通常１気圧から５気圧である。

該反応における反応時間は、通常０．１時間から２４時間の範囲である。

反応終了後は、ろ過によって触媒を除去した後、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物（１ｇ）を単離することができる。
（製造法６）
本発明化合物のうち、Ｈｅｔが式Ｈ５で示される環である化合物は、例えば、下記のスキームにしたがって製造することができる。

〔式中、Ｊ、Ｌ、Ａ、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、Ｒ^ｘ、Ｒ^ｙ、Ｄ、Ｇおよびｍは前記と同じ意味を表し、Ｌｇ^２は、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、パラトルエンスルホニルオキシ基、または、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下行われ、該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。

該反応において用いられる塩基としては、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、カリウムtert−ブトキシド等が挙げられる。化合物（１７）１モルに対して、塩基は通常１モル〜１０モルの割合で用いられる。

化合物（１７）１モルに対して化合物（１８）は通常１モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。

該反応における反応温度は、通常２０℃から２００℃あるいは溶媒の沸点の範囲である。

該反応における反応時間は、通常０．１時間から２４時間の範囲である。

反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物（１ｈ）を単離することができる。
（製造法７）
本発明化合物のうち、Ｇが式Ｇ２で示される基である化合物は、例えば、下記のスキームにしたがって製造することができる。

〔式中、Ｊ、Ｌ、Ａ、Ｈｅｔ、Ｑ、Ｄ、Ｒ^ｂおよびｍは前記と同じ意味を表し、Ｒ^b1は、＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基を表し、Ｒ^b２は、ＯＨ基の保護基（例えば、メチル基、メトキシメチル基、ベンジル基等）を表し、Ｌｇ^２は、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、パラトルエンスルホニルオキシ基、または、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。〕
・（１ｉ）→（１ｊ’）
本発明化合物（１ｊ’）は、本発明化合物（１ｉ）とＲ^b1ＯＨとを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。

該反応は、通常溶媒の存在下で行われるが、Ｒ^b1ＯＨを溶媒量用いてもよい。

該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。

該反応において用いられる塩基としては、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、カリウムtert−ブトキシド等が挙げられる。

本発明化合物（１ｉ）１モルに対して、Ｒ^b1ＯＨが通常１〜１０モルの割合、塩基が通常１〜１０モルの割合で用いられる。

該反応の反応温度は、通常０℃〜溶媒の沸点の範囲であり、反応時間は通常０．１時間から２４時間の範囲である。

反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物（１ｊ’）を単離することができる。
・（１ｌ）→（１ｋ）
本発明化合物（１ｋ）は、化合物（１ｌ）を脱保護することにより製造することができる。

保護基であるＲ^b２としては、例えば、メチル基、メトキシメチル基およびベンジル基が挙げられ、当業者に公知の方法で脱保護することができる。
・（１ｋ）→（１ｊ）
本発明化合物（１ｊ）は、本発明化合物（１ｋ）とＲ^bＬｇ^２とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。

該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。

該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類、炭酸カリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム等の炭酸塩類等、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の金属水酸化物、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム等が挙げられる。本発明化合物（１ｋ）１モルに対して、塩基は通常１モル〜１０モルの割合で用いられる。

本発明化合物（１ｋ）１モルに対して、Ｒ^bＬｇ^２は通常１モルの割合で用いられるが、適宜変更することができる。

該反応の反応温度は、通常０℃〜溶媒の沸点の範囲であり、反応時間は通常０．１時間から２４時間である。

反応終了後は、反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物（１ｊ）を単離することができる。

なお、本発明化合物（１ｊ）は本発明化合物（１ｊ’）を包含する。
（製造法８）
本発明化合物のうち、Ｇが式Ｇ３で示される基である化合物の一部は、例えば、下記のスキームにしたがって製造することができる。

〔式中、Ｊ、Ｌ、Ａ、Ｈｅｔ、Ｑ、Ｄおよびｍは前記と同じ意味を表し、Ｒ^c1は、＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基を表す。〕
本発明化合物（１ｍ）は、本発明化合物（１ｉ）とＲ^c1ＳＨとを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。

該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。

該反応において用いられる塩基としては、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、カリウムtert−ブトキシド等が挙げられる。

本発明化合物（１ｉ）１モルに対して、Ｒ^c1ＳＨが通常１〜１０モルの割合、塩基が通常１〜１０モルの割合で用いられる。

該反応の反応温度は通常０℃〜溶媒の沸点の範囲であり、反応時間は通常０．１時間から２４時間である。

反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物（１ｍ）を単離することができる。

この反応終了後、本発明化合物（１ｍ）に対して、更に当業者に公知の酸化反応を行うことにより、本発明化合物（１ｍ）における−ＳＲ^c1を−Ｓ(Ｏ)_z１Ｒ^c1（この場合、ｚ１は１または２を表す）に変換することもできる。
（製造法９）
本発明化合物のうち、Ｇが式Ｇ４で示される基である化合物は、例えば、下記のスキームにしたがって製造することができる。

〔式中、Ｊ、Ｌ、Ａ、Ｈｅｔ、Ｑ、Ｄ、Ｒ^ｄ、Ｒ^ｅおよびｍは前記と同じ意味を表し、Ｌｇ^２は、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、パラトルエンスルホニルオキシ基、または、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。〕
・（１ｎ）→（１ｏ）
本発明化合物（１ｏ）は、本発明化合物（１ｎ）とＲ^ｄＬｇ^２とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。

該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリジノン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。

該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類、炭酸カリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム等の炭酸塩類等、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の金属水酸化物、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム等が挙げられる。本発明化合物（１ｎ）１モルに対して、塩基は通常１モル〜２モルの割合で用いられる。

本発明化合物（１ｎ）１モルに対して、Ｒ^dＬｇ^２が通常１モルの割合で用いられるが適宜変更することができる。

該反応の反応温度は通常０℃〜溶媒の沸点の範囲であり、反応時間は通常０．１時間から２４時間の範囲である。

反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物（１ｏ）を単離することができる。
・（１ｏ）→（１ｐ）
さらに、本発明化合物（１ｏ）に対して、上記に準じる方法でＲ^ｅＬｇ^２を反応させることにより、本発明化合物（１ｐ）を製造することができる。

また、Ｒ^ｄまたはＲ^ｅが１級または２級アルキル基である場合には、上記の方法に代えて、本発明化合物（１ｎ）または本発明化合物（１ｏ）と、アルデヒドまたはケトン化合物とを還元剤の存在下反応させることにより、本発明化合物（１ｏ）または本発明化合物（１ｐ）を製造することもできる。

該反応に用いられる還元剤としては、例えば、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウムが挙げられる。本発明化合物（１ｎ）または本発明化合物（１ｏ）１モルに対して、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウムは１〜５モルの割合で用いられる。

該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類及びこれらの混合物が挙げられる。また、必要に応じて酢酸等のカルボン酸類を加えて反応を行う。

本発明化合物（１ｎ）または本発明化合物（１ｏ）１モルに対して、アルデヒドまたはケトン化合物は通常１モルの割合で用いられるが適宜変更することができる。

該反応の反応温度は通常０℃〜溶媒の沸点の範囲であり、反応時間は通常０．１時間から２４時間の範囲である。

反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物（１ｏ）または本発明化合物（１ｐ）を単離することができる。
（製造法１０）
本発明化合物のうち、ｍが１である化合物は、例えば、下記のスキームにしたがって製造することができる。

〔式中、Ｊ、Ｌ、Ａ、Ｈｅｔ、Ｑ、ＤおよびＧは前記と同じ意味を表す。〕
本発明化合物（１ｒ）は、本発明化合物（１ｑ）を酸化剤と反応させることにより製造することができる。

該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。

該反応に用いられる溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、酢酸、水及びこれらの混合物が挙げられる。

該反応に用いられる酸化剤としては、例えば３−クロロ過安息香酸等のカルボン酸の過酸化物、過酸化水素水等が挙げられる。

本発明化合物（１ｑ）１モルに対して、酸化剤が通常１〜３モルの割合で用いられる。

該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１時間から２４時間の範囲である。

反応終了後は、通常の後処理操作を行うことにより、本発明化合物（１ｒ）を単離することができる。

本発明化合物中には、例えば塩酸塩、硝酸塩、硫酸塩、臭化水素酸塩、リン酸塩、炭酸塩、酢酸塩、乳酸塩、クエン酸塩などの酸付加塩を形成させ得る化合物も存在する。それらの酸付加塩の製造も常法に従うことができ、本発明はこれらの酸付加塩をも包含する。

本発明化合物が効力を有する有害生物としては、例えば、有害昆虫類や有害ダニ類等の有害節足動物、線形動物及び軟体動物が挙げられる。かかる有害生物としては、具体的には、例えば、以下のものが挙げられる。

半翅目害虫：ヒメトビウンカ（Ｌａｏｄｅｌｐｈａｘ ｓｔｒｉａｔｅｌｌｕｓ）、トビイロウンカ（Ｎｉｌａｐａｒｖａｔａ ｌｕｇｅｎｓ）、セジロウンカ（Ｓｏｇａｔｅｌｌａ ｆｕｒｃｉｆｅｒａ）等のウンカ類、ツマグロヨコバイ（Ｎｅｐｈｏｔｅｔｔｉｘ ｃｉｎｃｔｉｃｅｐｓ）、タイワンツマグロヨコバイ（Ｎｅｐｈｏｔｅｔｔｉｘ ｖｉｒｅｓｃｅｎｓ）、チャノミドリヒメヨコバイ（Ｅｍｐｏａｓｃａ ｏｎｕｋｉｉ）等のヨコバイ類、ワタアブラムシ（Ａｐｈｉｓ ｇｏｓｓｙｐｉｉ）、モモアカアブラムシ（Ｍｙｚｕｓ ｐｅｒｓｉｃａｅ）、ダイコンアブラムシ（Ｂｒｅｖｉｃｏｒｙｎｅ ｂｒａｓｓｉｃａｅ）、ユキヤナギアブラムシ（Ａｐｈｉｓ ｓｐｉｒａｅｃｏｌａ）、チューリップヒゲナガアブラムシ（Ｍａｃｒｏｓｉｐｈｕｍ ｅｕｐｈｏｒｂｉａｅ）、ジャガイモヒゲナガアブラムシ（Ａｕｌａｃｏｒｔｈｕｍ ｓｏｌａｎｉ）、ムギクビレアブラムシ（Ｒｈｏｐａｌｏｓｉｐｈｕｍ ｐａｄｉ）、ミカンクロアブラムシ（Ｔｏｘｏｐｔｅｒａ ｃｉｔｒｉｃｉｄｕｓ）、モモコフキアブラムシ（Ｈｙａｌｏｐｔｅｒｕｓ ｐｒｕｎｉ）等のアブラムシ類、アオクサカメムシ（Ｎｅｚａｒａ ａｎｔｅｎｎａｔａ）、ホソヘリカメムシ（Ｒｉｐｔｏｒｔｕｓ ｃｌａｖｅｔｕｓ）、クモヘリカメムシ（Ｌｅｐｔｏｃｏｒｉｓａ ｃｈｉｎｅｎｓｉｓ）、トゲシラホシカメムシ（Ｅｙｓａｒｃｏｒｉｓ ｐａｒｖｕｓ）、クサギカメムシ（Ｈａｌｙｏｍｏｒｐｈａ ｍｉｓｔａ）等のカメムシ類、オンシツコナジラミ（Ｔｒｉａｌｅｕｒｏｄｅｓ ｖａｐｏｒａｒｉｏｒｕｍ）、タバココナジラミ（Ｂｅｍｉｓｉａ ｔａｂａｃｉ）、ミカンコナジラミ（Ｄｉａｌｅｕｒｏｄｅｓ ｃｉｔｒｉ）、ミカントゲコナジラミ（Ａｌｅｕｒｏｃａｎｔｈｕｓ ｓｐｉｎｉｆｅｒｕｓ）等のコナジラミ類、アカマルカイガラムシ（Ａｏｎｉｄｉｅｌｌａ ａｕｒａｎｔｉｉ）、サンホーゼカイガラムシ（Ｃｏｍｓｔｏｃｋａｓｐｉｓ ｐｅｒｎｉｃｉｏｓａ）、シトラススノースケール（Ｕｎａｓｐｉｓ ｃｉｔｒｉ）、ルビーロウムシ（Ｃｅｒｏｐｌａｓｔｅｓ ｒｕｂｅｎｓ）、イセリヤカイガラムシ（Ｉｃｅｒｙａ ｐｕｒｃｈａｓｉ）、フジコナカイガラムシ（Ｐｌａｎｏｃｏｃｃｕｓ ｋｒａｕｎｈｉａｅ）、クワコナカイガラムシ（Ｐｓｅｕｄｏｃｏｃｃｕｓ ｌｏｎｇｉｓｐｉｎｉｓ）、クワシロカイガラムシ（Ｐｓｅｕｄａｕｌａｃａｓｐｉｓ ｐｅｎｔａｇｏｎａ）等のカイガラムシ類、グンバイムシ類、トコジラミ（Ｃｉｍｅｘ ｌｅｃｔｕｌａｒｉｕｓ）等のトコジラミ類、及びキジラミ類等。

鱗翅目害虫：ニカメイガ（Ｃｈｉｌｏ ｓｕｐｐｒｅｓｓａｌｉｓ）、サンカメイガ（Ｔｒｙｐｏｒｙｚａ ｉｎｃｅｒｔｕｌａｓ）、コブノメイガ（Ｃｎａｐｈａｌｏｃｒｏｃｉｓ ｍｅｄｉｎａｌｉｓ）、ワタノメイガ（Ｎｏｔａｒｃｈａ ｄｅｒｏｇａｔａ）、ノシメマダラメイガ（Ｐｌｏｄｉａ ｉｎｔｅｒｐｕｎｃｔｅｌｌａ）、アワノメイガ（Ｏｓｔｒｉｎｉａ ｆｕｒｎａｃａｌｉｓ）、ハイマダラノメイガ（Ｈｅｌｌｕｌａ ｕｎｄａｌｉｓ）、シバツトガ（Ｐｅｄｉａｓｉａ ｔｅｔｅｒｒｅｌｌｕｓ）等のメイガ類、ハスモンヨトウ（Ｓｐｏｄｏｐｔｅｒａ ｌｉｔｕｒａ）、シロイチモジヨトウ（Ｓｐｏｄｏｐｔｅｒａ ｅｘｉｇｕａ）、アワヨトウ（Ｐｓｅｕｄａｌｅｔｉａ ｓｅｐａｒａｔａ）、ヨトウガ（Ｍａｍｅｓｔｒａ ｂｒａｓｓｉｃａｅ）、タマナヤガ（Ａｇｒｏｔｉｓ ｉｐｓｉｌｏｎ），タマナギンウワバ（Ｐｌｕｓｉａ ｎｉｇｒｉｓｉｇｎａ），トリコプルシア属、ヘリオティス属、ヘリコベルパ属等のヤガ類、モンシロチョウ（Ｐｉｅｒｉｓ ｒａｐａｅ）等のシロチョウ類、アドキソフィエス属、ナシヒメシンクイ（Ｇｒａｐｈｏｌｉｔａ ｍｏｌｅｓｔａ）、マメシンクイガ（Ｌｅｇｕｍｉｎｉｖｏｒａ ｇｌｙｃｉｎｉｖｏｒｅｌｌａ），アズキサヤムシガ（Ｍａｔｓｕｍｕｒａｅｓｅｓ ａｚｕｋｉｖｏｒａ）、リンゴコカクモンハマキ（Ａｄｏｘｏｐｈｙｅｓ ｏｒａｎａ ｆａｓｃｉａｔａ）、チャノコカクモンハマキ（Ａｄｏｘｏｐｈｙｅｓ ｈｏｎｍａｉ．）、チャハマキ（Ｈｏｍｏｎａ ｍａｇｎａｎｉｍａ）、ミダレカクモンハマキ（Ａｒｃｈｉｐｓ ｆｕｓｃｏｃｕｐｒｅａｎｕｓ）、コドリンガ（Ｃｙｄｉａ ｐｏｍｏｎｅｌｌａ）等のハマキガ類、チャノホソガ（Ｃａｌｏｐｔｉｌｉａ ｔｈｅｉｖｏｒａ）、キンモンホソガ（Ｐｈｙｌｌｏｎｏｒｙｃｔｅｒ ｒｉｎｇｏｎｅｅｌｌａ）のホソガ類、モモシンクイガ（Ｃａｒｐｏｓｉｎａ ｎｉｐｏｎｅｎｓｉｓ）等のシンクイガ類、リオネティア属等のハモグリガ類、リマントリア属、ユープロクティス属等のドクガ類、コナガ（Ｐｌｕｔｅｌｌａ ｘｙｌｏｓｔｅｌｌａ）等のスガ類、ワタアカミムシ（Ｐｅｃｔｉｎｏｐｈｏｒａ ｇｏｓｓｙｐｉｅｌｌａ）ジャガイモガ（Ｐｈｔｈｏｒｉｍａｅａ ｏｐｅｒｃｕｌｅｌｌａ）等のキバガ類、アメリカシロヒトリ（Ｈｙｐｈａｎｔｒｉａ ｃｕｎｅａ）等のヒトリガ類、及びイガ（Ｔｉｎｅａ ｔｒａｎｓｌｕｃｅｎｓ）、コイガ（Ｔｉｎｅｏｌａ ｂｉｓｓｅｌｌｉｅｌｌａ）等のヒロズコガ類等。

アザミウマ目害虫：ミカンキイロアザミウマ（Ｆｒａｎｋｌｉｎｉｅｌｌａ ｏｃｃｉｄｅｎｔａｌｉｓ）、ミナミキイロアザミウマ（Ｔｈｒｉｐｓ ｐａｒｍｉ）、チャノキイロアザミウマ（Ｓｃｉｒｔｏｔｈｒｉｐｓ ｄｏｒｓａｌｉｓ）、ネギアザミウマ（Ｔｈｒｉｐｓ ｔａｂａｃｉ）、ヒラズハナアザミウマ（Ｆｒａｎｋｌｉｎｉｅｌｌａ ｉｎｔｏｎｓａ）などのアザミウマ類等。

双翅目害虫：アカイエカ（Ｃｕｌｅｘ ｐｉｐｉｅｎｓ ｐａｌｌｅｎｓ）、コガタアカイエカ（Ｃｕｌｅｘ ｔｒｉｔａｅｎｉｏｒｈｙｎｃｈｕｓ）、ネッタイイエカ（Ｃｕｌｅｘ ｑｕｉｎｑｕｅｆａｓｃｉａｔｕｓ）等のイエカ類、ネッタイシマカ（Ａｅｄｅｓ ａｅｇｙｐｔｉ）、ヒトスジシマカ（Ａｅｄｅｓ ａｌｂｏｐｉｃｔｕｓ）等のエーデス属、シナハマダラカ（Ａｎｏｐｈｅｌｅｓ ｓｉｎｅｎｓｉｓ）等のアノフェレス属、ユスリカ類、イエバエ（Ｍｕｓｃａ ｄｏｍｅｓｔｉｃａ）、オオイエバエ（Ｍｕｓｃｉｎａ ｓｔａｂｕｌａｎｓ）等のイエバエ類、クロバエ類、ニクバエ類、ヒメイエバエ類、タネバエ（Ｄｅｌｉａ ｐｌａｔｕｒａ）、タマネギバエ（Ｄｅｌｉａ ａｎｔｉｑｕａ）等のハナバエ類、イネハモグリバエ（Ａｇｒｏｍｙｚａ ｏｒｙｚａｅ）、イネヒメハモグリバエ（Ｈｙｄｒｅｌｌｉａ ｇｒｉｓｅｏｌａ）、トマトハモグリバエ、（Ｌｉｒｉｏｍｙｚａ ｓａｔｉｖａｅ）、マメハモグリバエ（Ｌｉｒｉｏｍｙｚａ ｔｒｉｆｏｌｉｉ）、ナモグリバエ（Ｃｈｒｏｍａｔｏｍｙｉａ ｈｏｒｔｉｃｏｌａ）等のハモグリバエ類、イネキモグリバエ（Ｃｈｌｏｒｏｐｓ ｏｒｙｚａｅ）等のキモグリバエ類、ウリミバエ（Ｄａｃｕｓ ｃｕｃｕｒｂｉｔａｅ）、チチュウカイミバエ（Ｃｅｒａｔｉｔｉｓ ｃａｐｉｔａｔａ）等のミバエ類、ショウジョウバエ類、オオキモンノミバエ（Ｍｅｇａｓｅｌｉａ ｓｐｉｒａｃｕｌａｒｉｓ）等のノミバエ類、オオチョウバエ（Ｃｌｏｇｍｉａ ａｌｂｉｐｕｎｃｔａｔａ）等のチョウバエ類、ブユ類、ウシアブ（Ｔａｂａｎｕｓ ｔｒｉｇｏｎｕｓ）等のアブ類、及びサシバエ類等。

鞘翅目害虫：ウエスタンコーンルートワーム（Ｄｉａｂｒｏｔｉｃａ ｖｉｒｇｉｆｅｒａ ｖｉｒｇｉｆｅｒａ）、サザンコーンルートワーム（Ｄｉａｂｒｏｔｉｃａ ｕｎｄｅｃｉｍｐｕｎｃｔａｔａ ｈｏｗａｒｄｉ）等のコーンルートワーム類、ドウガネブイブイ（Ａｎｏｍａｌａ ｃｕｐｒｅａ）、ヒメコガネ（Ａｎｏｍａｌａ ｒｕｆｏｃｕｐｒｅａ）、マメコガネ（Ｐｏｐｉｌｌｉａ ｊａｐｏｎｉｃａ）等のコガネムシ類、メイズウィービル（Ｓｉｔｏｐｈｉｌｕｓ ｚｅａｍａｉｓ）、イネミズゾウムシ（Ｌｉｓｓｏｒｈｏｐｔｒｕｓ ｏｒｙｚｏｐｈｉｌｕｓ）、アズキゾウムシ（Ｃａｌｌｏｓｏｂｒｕｃｈｕｙｓ ｃｈｉｅｎｅｎｓｉｓ）、イネゾウムシ（Ｅｃｈｉｎｏｃｎｅｍｕｓ ｓｑｕａｍｅｕｓ）、ワタミゾウムシ（Ａｎｔｈｏｎｏｍｕｓ ｇｒａｎｄｉｓ）、シバオサゾウムシ（Ｓｐｈｅｎｏｐｈｏｒｕｓ ｖｅｎａｔｕｓ）等のゾウムシ類、チャイロコメノゴミムシダマシ（Ｔｅｎｅｂｒｉｏ ｍｏｌｉｔｏｒ）、コクヌストモドキ（Ｔｒｉｂｏｌｉｕｍ ｃａｓｔａｎｅｕｍ）等のゴミムシダマシ類、イネドロオイムシ（Ｏｕｌｅｍａ ｏｒｙｚａｅ）、ウリハムシ（Ａｕｌａｃｏｐｈｏｒａ ｆｅｍｏｒａｌｉｓ）、キスジノミハムシ（Ｐｈｙｌｌｏｔｒｅｔａ ｓｔｒｉｏｌａｔａ）、コロラドハムシ（Ｌｅｐｔｉｎｏｔａｒｓａ ｄｅｃｅｍｌｉｎｅａｔａ）等のハムシ類、ヒメマルカツオブシムシ（Ａｎｔｈｒｅｎｕｓ ｖｅｒｂａｓｃｉ）、ハラジロカツオブシムシ（Ｄｅｒｍｅｓｔｅｓ ｍａｃｕｌａｔｅｓ）等のカツオブシムシ類、タバコシバンムシ（Ｌａｓｉｏｄｅｒｍａ ｓｅｒｒｉｃｏｒｎｅ）等のシバンムシ類、ニジュウヤホシテントウ（Ｅｐｉｌａｃｈｎａ ｖｉｇｉｎｔｉｏｃｔｏｐｕｎｃｔａｔａ）等のエピラクナ類、ヒラタキクイムシ（Ｌｙｃｔｕｓ ｂｒｕｎｎｅｕｓ）、マツノキクイムシ（Ｔｏｍｉｃｕｓ ｐｉｎｉｐｅｒｄａ）等のキクイムシ類、ナガシンクイムシ類、ヒョウホンムシ類、ゴマダラカミキリ（Ａｎｏｐｌｏｐｈｏｒａ ｍａｌａｓｉａｃａ）等のカミキリムシ類、コメツキムシ類（Ａｇｒｉｏｔｅｓ ｓｐｐ．）、及びアオバアリガタハネカクシ（Ｐａｅｄｅｒｕｓ ｆｕｓｃｉｐｅｓ）等。

直翅目害虫：トノサマバッタ（Ｌｏｃｕｓｔａ ｍｉｇｒａｔｏｒｉａ）、ケラ（Ｇｒｙｌｌｏｔａｌｐａ ａｆｒｉｃａｎａ）、コバネイナゴ（Ｏｘｙａ ｙｅｚｏｅｎｓｉｓ）、ハネナガイナゴ（Ｏｘｙａ ｊａｐｏｎｉｃａ）、及びコオロギ類等。

隠翅目害虫：ネコノミ（Ｃｔｅｎｏｃｅｐｈａｌｉｄｅｓ ｆｅｌｉｓ）、イヌノミ（Ｃｔｅｎｏｃｅｐｈａｌｉｄｅｓ ｃａｎｉｓ）、ヒトノミ（Ｐｕｌｅｘ ｉｒｒｉｔａｎｓ）、ケオプスネズミノミ（Ｘｅｎｏｐｓｙｌｌａ ｃｈｅｏｐｉｓ）等。

シラミ目害虫：コロモジラミ（Ｐｅｄｉｃｕｌｕｓ ｈｕｍａｎｕｓ ｃｏｒｐｏｒｉｓ）、ケジラミ （Ｐｈｔｈｉｒｕｓ ｐｕｂｉｓ）、ウシジラミ（Ｈａｅｍａｔｏｐｉｎｕｓ ｅｕｒｙｓｔｅｒｎｕｓ）、ヒツジジラミ（Ｄａｌｍａｌｉｎｉａ ｏｖｉｓ）、ブタジラミ（Ｈａｅｍａｔｏｐｉｎｕｓ ｓｕｉｓ）等。

膜翅目害虫： イエヒメアリ（Ｍｏｎｏｍｏｒｉｕｍ ｐｈａｒａｏｓｉｓ）、クロヤマアリ（Ｆｏｒｍｉｃａ ｆｕｓｃａ ｊａｐｏｎｉｃａ）、ルリアリ（Ｏｃｈｅｔｅｌｌｕｓ ｇｌａｂｅｒ）、アミメアリ（Ｐｒｉｓｔｏｍｙｒｍｅｘ ｐｕｎｇｅｎｓ）、オオズアリ（Ｐｈｅｉｄｏｌｅ ｎｏｄａ）、ハキリアリ（Ａｃｒｏｍｙｒｍｅｘ ｓｐｐ．）、ファイヤーアント（Ｓｏｌｅｎｏｐｓｉｓ ｓｐｐ．）等のアリ類、スズメバチ類、アリガタバチ類、カブラハバチ（Ａｔｈａｌｉａ ｒｏｓａｅ）、ニホンカブラバチ（Ａｔｈａｌｉａ ｊａｐｏｎｉｃａ）等のハバチ類等。

ゴキブリ目害虫：チャバネゴキブリ（Ｂｌａｔｔｅｌｌａ ｇｅｒｍａｎｉｃａ）、クロゴキブリ（Ｐｅｒｉｐｌａｎｅｔａ ｆｕｌｉｇｉｎｏｓａ）、ワモンゴキブリ（Ｐｅｒｉｐｌａｎｅｔａ ａｍｅｒｉｃａｎａ）、トビイロゴキブリ（Ｐｅｒｉｐｌａｎｅｔａ ｂｒｕｎｎｅａ）、トウヨウゴキブリ（Ｂｌａｔｔａ ｏｒｉｅｎｔａｌｉｓ）等。

シロアリ目害虫：ヤマトシロアリ（Ｒｅｔｉｃｕｌｉｔｅｒｍｅｓ ｓｐｅｒａｔｕｓ）、イエシロアリ（Ｃｏｐｔｏｔｅｒｍｅｓ ｆｏｒｍｏｓａｎｕｓ）、アメリカカンザイシロアリ（Ｉｎｃｉｓｉｔｅｒｍｅｓ ｍｉｎｏｒ）、ダイコクシロアリ（Ｃｒｙｐｔｏｔｅｒｍｅｓ ｄｏｍｅｓｔｉｃｕｓ）、タイワンシロアリ（Ｏｄｏｎｔｏｔｅｒｍｅｓ ｆｏｒｍｏｓａｎｕｓ）、コウシュンシロアリ（Ｎｅｏｔｅｒｍｅｓ ｋｏｓｈｕｎｅｎｓｉｓ）、サツマシロアリ（Ｇｌｙｐｔｏｔｅｒｍｅｓ ｓａｔｓｕｍｅｎｓｉｓ）、ナカジマシロアリ（Ｇｌｙｐｔｏｔｅｒｍｅｓ ｎａｋａｊｉｍａｉ）、カタンシロアリ（Ｇｌｙｐｔｏｔｅｒｍｅｓ ｆｕｓｃｕｓ）、コダマシロアリ（Ｇｌｙｐｔｏｔｅｒｍｅｓ ｋｏｄａｍａｉ）、クシモトシロアリ（Ｇｌｙｐｔｏｔｅｒｍｅｓ ｋｕｓｈｉｍｅｎｓｉｓ）、オオシロアリ（Ｈｏｄｏｔｅｒｍｏｐｓｉｓ ｊａｐｏｎｉｃａ）、コウシュウイエシロアリ（Ｃｏｐｔｏｔｅｒｍｅｓ ｇｕａｎｇｚｈｏｅｎｓｉｓ）、アマミシロアリ（Ｒｅｔｉｃｕｌｉｔｅｒｍｅｓ ｍｉｙａｔａｋｅｉ）、キアシシロアリ（Ｒｅｔｉｃｕｌｉｔｅｒｍｅｓ ｆｌａｖｉｃｅｐｓ ａｍａｍｉａｎｕｓ）、カンモンシロアリ（Ｒｅｔｉｃｕｌｉｔｅｒｍｅｓ ｓｐ．）、タカサゴシロアリ（Ｎａｓｕｔｉｔｅｒｍｅｓ ｔａｋａｓａｇｏｅｎｓｉｓ）、ニトベシロアリ（Ｐｅｒｉｃａｐｒｉｔｅｒｍｅｓ ｎｉｔｏｂｅｉ）、ムシャシロアリ（Ｓｉｎｏｃａｐｒｉｔｅｒｍｅｓ ｍｕｓｈａｅ）、Ｒｅｔｉｃｕｌｉｔｅｒｕｍｅｓ ｆｌａｖｉｐｅｓ、Ｒｅｔｉｃｕｌｉｔｅｒｍｅｓ ｈｅｓｐｅｒｕｓ、Ｒｅｔｉｃｕｌｉｔｅｒｍｅｓ ｖｉｒｇｉｎｉｃｕｓ、Ｒｅｔｉｃｕｌｉｔｅｒｍｅｓ ｔｉｂｉａｌｉｓ、Ｈｅｔｅｒｏｔｅｒｍｅｓ ａｕｒｅｕｓ、Ｚｏｏｔｅｒｍｏｐｓｉｓ ｎｅｖａｄｅｎｓｉｓ等。

ダニ目害虫：ナミハダニ（Ｔｅｔｒａｎｙｃｈｕｓ ｕｒｔｉｃａｅ）、カンザワハダニ（Ｔｅｔｒａｎｙｃｈｕｓ ｋａｎｚａｗａｉ）、ミカンハダニ（Ｐａｎｏｎｙｃｈｕｓ ｃｉｔｒｉ）リンゴハダニ（Ｐａｎｏｎｙｃｈｕｓ ｕｌｍｉ）、オリゴニカス属等のハダニ類、ミカンサビダニ（Ａｃｕｌｏｐｓ ｐｅｌｅｋａｓｓｉ）、リュウキュウミカンサビダニ（Ｐｈｙｌｌｏｃｏｐｔｒｕｔａ ｃｉｔｒｉ）、トマトサビダニ（Ａｃｕｌｏｐｓ ｌｙｃｏｐｅｒｓｉｃｉ）、チャノサビダニ（Ｃａｌａｃａｒｕｓ ｃａｒｉｎａｔｕｓ）、チャノナガサビダニ（Ａｃａｐｈｙｌｌａ ｔｈｅａｖａｇｒａｎｓ）、ニセナシサビダニ（Ｅｒｉｏｐｈｙｅｓ ｃｈｉｂａｅｎｓｉｓ）、リンゴサビダニ（Ａｃｕｌｕｓ ｓｃｈｌｅｃｈｔｅｎｄａｌｉ）等のフシダニ類、チャノホコリダニ（Ｐｏｌｙｐｈａｇｏｔａｒｓｏｎｅｍｕｓ ｌａｔｕｓ）等のホコリダニ類、ミナミヒメハダニ（Ｂｒｅｖｉｐａｌｐｕｓ ｐｈｏｅｎｉｃｉｓ）等のヒメハダニ類、ケナガハダニ類、フタトゲチマダニ（Ｈａｅｍａｐｈｙｓａｌｉｓ ｌｏｎｇｉｃｏｒｎｉｓ）、ヤマトチマダニ（Ｈａｅｍａｐｈｙｓａｌｉｓ ｆｌａｖａ）、タイワンカクマダニ（Ｄｅｒｍａｃｅｎｔｏｒ ｔａｉｗａｎｉｃｕｓ）、ヤマトマダニ（Ｉｘｏｄｅｓ ｏｖａｔｕｓ）、シュルツマダニ（Ｉｘｏｄｅｓ ｐｅｒｓｕｌｃａｔｕｓ）、ブラックレッグドチック（Ｉｘｏｄｅｓ ｓｃａｐｕｌａｒｉｓ）、オウシマダニ（Ｂｏｏｐｈｉｌｕｓ ｍｉｃｒｏｐｌｕｓ）、クリイロコイタマダニ（Ｒｈｉｐｉｃｅｐｈａｌｕｓ ｓａｎｇｕｉｎｅｕｓ）等のマダニ類、ケナガコナダニ（Ｔｙｒｏｐｈａｇｕｓ ｐｕｔｒｅｓｃｅｎｔｉａｅ）、ホウレンソウケナガコナダニ（Ｔｙｒｏｐｈａｇｕｓ ｓｉｍｉｌｉｓ）等のコナダニ類、コナヒョウヒダニ（Ｄｅｒｍａｔｏｐｈａｇｏｉｄｅｓ ｆａｒｉｎａｅ）、ヤケヒョウヒダニ（Ｄｅｒｍａｔｏｐｈａｇｏｉｄｅｓ ｐｔｒｅｎｙｓｓｎｕｓ）等のヒョウヒダニ類、ホソツメダニ（Ｃｈｅｙｌｅｔｕｓ ｅｒｕｄｉｔｕｓ）、クワガタツメダニ（Ｃｈｅｙｌｅｔｕｓ ｍａｌａｃｃｅｎｓｉｓ）、ミナミツメダニ（Ｃｈｅｙｌｅｔｕｓ ｍｏｏｒｅｉ）等のツメダニ類、イエダニ（Ｏｒｎｉｔｈｏｎｙｓｓｕｓ ｂａｃｏｔｉ）、トリサシダニ（Ｏｒｎｉｔｈｏｎｙｓｓｕｓ ｓｙｌｖａｉｒｕｍ）、ワクモ（Ｄｅｒｍａｎｙｓｓｕｓ ｇａｌｌｉｎａｅ）等のワクモ類、アオツツガムシ（Ｌｅｐｔｏｔｒｏｍｂｉｄｉｕｍ ａｋａｍｕｓｈｉ）等のツツガムシ類、及びカバキコマチグモ（Ｃｈｉｒａｃａｎｔｈｉｕｍ ｊａｐｏｎｉｃｕｍ）、セアカゴケグモ（Ｌａｔｒｏｄｅｃｔｕｓ ｈａｓｓｅｌｔｉｉ）等のクモ類等。

唇脚綱類：ゲジ（Ｔｈｅｒｅｕｏｎｅｍａ ｈｉｌｇｅｎｄｏｒｆｉ）、トビズムカデ（Ｓｃｏｌｏｐｅｎｄｒａ ｓｕｂｓｐｉｎｉｐｅｓ）等。

倍脚綱類：ヤケヤスデ（Ｏｘｉｄｕｓ ｇｒａｃｉｌｉｓ）、アカヤスデ（Ｎｅｄｙｏｐｕｓ ｔａｍｂａｎｕｓ）等。

等脚目類：オカダンゴムシ（Ａｒｍａｄｉｌｌｉｄｉｕｍ ｖｕｌｇａｒｅ）等。

腹足綱類：チャコウラナメクジ（Ｌｉｍａｘ ｍａｒｇｉｎａｔｕｓ）、キイロコウラナメクジ（Ｌｉｍａｘ ｆｌａｖｕｓ）等。

線虫類：イネシンガレセンチュウ（Ａｐｈｅｌｅｎｃｈｏｉｄｅｓ ｂｅｓｓｅｙｉ）、イチゴメセンチュウ（Ｎｏｔｈｏｔｙｌｅｎｃｈｕｓ ａｃｒｉｓ）、サツマイモネコブセンチュウ（Ｍｅｌｏｉｄｏｇｙｎｅ ｉｎｃｏｇｎｉｔａ）、キタネコブセンチュウ（Ｍｅｌｏｉｄｏｇｙｎｅ ｈａｐｌａ）、ジャワネコブセンチュウ（Ｍｅｌｏｉｄｏｇｙｎｅ ｊａｖａｎｉｃａ）、ダイズシストセンチュウ（Ｈｅｔｅｒｏｄｅｒａ ｇｌｙｃｉｎｅｓ）、ジャガイモシストセンチュウ（Ｇｌｏｂｏｄｅｒａ ｒｏｓｔｏｃｈｉｅｎｓｉｓ）、ミナミネグサレセンチュウ（Ｐｒａｔｙｌｅｎｃｈｕｓ ｃｏｆｆｅａｅ）、ムギネグサレセンチュウ（Ｐｒａｔｙｌｅｎｃｈｕｓ ｎｅｇｌｅｃｔｕｓ）等。

本発明の有害生物防除剤は、本発明化合物と不活性担体とを含有する。本発明の有害生物防除剤は、通常、本発明化合物と固体担体、液体担体、ガス状担体等の不活性担体とを混合し、必要に応じて界面活性剤、その他の製剤用補助剤を添加して、乳剤、油剤、粉剤、粒剤、水和剤、フロアブル剤、マイクロカプセル剤、エアゾール剤、燻煙剤、毒餌剤、樹脂製剤等に製剤化されている。

本発明の有害生物防除剤は、本発明化合物を通常０．０１〜９５重量％含有する。

製剤化の際に用いられる固体担体としては、例えば粘土類（カオリンクレー、珪藻土、ベントナイト、フバサミクレー、酸性白土等）、合成含水酸化珪素、タルク、セラミック、その他の無機鉱物（セリサイト、石英、硫黄、活性炭、炭酸カルシウム、水和シリカ等）、化学肥料（硫安、燐安、硝安、尿素、塩安等）等の微粉末及び粒状物等があげられる。

液体担体としては、例えば水、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ヘキサノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、フェノキシエタノール等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ドデシルベンゼン、フェニルキシリルエタン、メチルナフタレン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン、シクロヘキサン、灯油、軽油等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル、ミリスチン酸イソプロピル、オレイン酸エチル、アジピン酸ジイソプロピル、アジピン酸ジイソブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等）、ニトリル類（アセトニトリル、イソブチロニトリル等）、エーテル類（ジイソプロピルエーテル、１，４−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール等）、酸アミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等）、ハロゲン化炭化水素類（ジクロロメタン、トリクロロエタン、四塩化炭素等）、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、炭酸プロピレン及び植物油（大豆油、綿実油等）が挙げられる。

ガス状担体としては、例えばフルオロカーボン、ブタンガス、ＬＰＧ（液化石油ガス）、ジメチルエーテル及び炭酸ガスが挙げられる。

界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、等の非イオン界面活性剤、及びアルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキル硫酸塩等の陰イオン界面活性剤が挙げられる。

その他の製剤用補助剤としては、固着剤、分散剤、着色剤及び安定剤等、具体的には例えばカゼイン、ゼラチン、糖類（でんぷん、アラビアガム、セルロース誘導体、アルギン酸等）、リグニン誘導体、ベントナイト、合成水溶性高分子（ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類等）、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプロピル）、ＢＨＴ（２，６−ジ−tert−ブチル−４−メチルフェノール）、ＢＨＡ（２−tert−ブチル−４−メトキシフェノールと３−tert−ブチル−４−メトキシフェノールとの混合物）が挙げられる。

本発明の有害生物防除方法は、本発明化合物の有効量を有害生物に直接、及び／又は、有害生物の生息場所（植物体、土壌、家屋内、動物体等）に施用することにより行われる。本発明の有害生物防除方法には、本発明化合物が通常本発明の有害生物防除剤の形態で用いられる。

本発明の有害生物防除剤を農業分野の有害生物防除に用いる場合、その施用量は１００００ｍ²あたりの本発明化合物量で１〜１００００ｇである。本発明の有害生物防除剤が乳剤、水和剤、フロアブル剤等に製剤化されている場合は、通常、本発明化合物の濃度が０．０１〜１００００ｐｐｍとなるように水で希釈して施用し、粒剤、粉剤等は、通常、そのまま施用する。

これらの製剤や製剤の水希釈液は、有害生物または有害生物から保護すべき作物等の植物に直接散布処理してもよく、また耕作地の土壌に生息する有害生物を防除するために、該土壌に処理してもよい。

また、シート状やひも状に加工した樹脂製剤を作物に巻き付ける、作物近傍に張り渡す、株元土壌に敷く等の方法により処理することもできる。

本発明の有害生物防除剤を家屋内に生息する有害生物の防除に用いる場合、その施用量は、面上に処理する場合は処理面積１ｍ²あたりの本発明化合物量で、通常、０．０１〜１０００ｍｇであり、空間に処理する場合は処理空間１ｍ³あたりの本発明化合物量で、通常、０．０１〜５００ｍｇである。本発明の有害生物防除剤が乳剤、水和剤、フロアブル剤等に製剤化されている場合は、通常本発明化合物の濃度が０．１〜１０００ｐｐｍとなるように水で希釈して施用し、油剤、エアゾール剤、燻煙剤、毒餌剤等はそのまま施用する。

本発明の有害生物防除剤は、下記「作物」が栽培されている農地で使用することができる。

農作物：トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、エンバク、ソルガム、ワタ、ダイズ、ピーナッツ、ソバ、テンサイ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ、タバコ等。

野菜；ナス科野菜（ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ジャガイモ等）、ウリ科野菜（キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン等）、アブラナ科野菜（ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等）、キク科野菜（ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等）、ユリ科野菜（ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス）、セリ科野菜（ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等）、アカザ科野菜（ホウレンソウ、フダンソウ等）、シソ科野菜（シソ、ミント、バジル等）、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ、サトイモ等。

果樹：仁果類（リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等）、核果類（モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等）、カンキツ類（ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等）、堅果類（クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等）、液果類（ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等）、ブドウ、カキ、オリーブ、ビワ、バナナ、コーヒー、ナツメヤシ、ココヤシ、アブラヤシ等。

果樹以外の樹木：チャ、クワ、花木類（サツキ、ツバキ、アジサイ、サザンカ、シキミ、サクラ、ユリノキ、サルスベリ、キンモクセイ等）、街路樹（トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユーカリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ、ニレ、トチノキ等）、サンゴジュ、イヌマキ、スギ、ヒノキ、クロトン、マサキ、カナメモチ、等。

芝生：シバ類（ノシバ、コウライシバ等）、バミューダグラス類（ギョウギシバ等）、ベントグラス類（コヌカグサ、ハイコヌカグサ、イトコヌカグサ等）、ブルーグラス類（ナガハグサ、オオスズメノカタビラ等）、フェスク類（オニウシノケグサ、イトウシノケグサ、ハイウシノケグサ等）、ライグラス類（ネズミムギ、 ホソムギ等）、カモガヤ、オオアワガエリ等。

その他：花卉類（バラ、カーネーション、キク、トルコギキョウ、カスミソウ、ガーベラ、マリーゴールド、サルビア、ペチュニア、バーベナ、チューリップ、アスター、リンドウ、ユリ、パンジー、シクラメン、ラン、スズラン、ラベンダー、ストック、ハボタン、プリムラ、ポインセチア、グラジオラス、カトレア、デージー、シンビジューム、ベゴニア等）、バイオ燃料植物（ヤトロファ、クルカス、ベニバナ、アマナズナ類、スイッチグラス、ミスカンサス、クサヨシ、ダンチク、ケナフ、キャッサバ、ヤナギ、藻類等）、観葉植物等。

「作物」には、遺伝子組換え作物も含まれる。

本発明の有害生物防除剤は、他の殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、植物成長調節剤、除草剤及び共力剤と混用又は併用することができる。かかる殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、除草剤及び共力剤の有効成分の例を以下に示す。

殺虫剤の有効成分
（１）カーバメート系化合物
アラニカルブ（Ａｌａｎｙｃａｒｂ）、アルジカルブ（Ａｌｄｉｃａｒｂ）、ベンダイオカルブ（Ｂｅｎｄｉｏｃａｒｂ）、ベンフラカルブ（Ｂｅｎｆｕｒａｃａｒｂ）、ブトカルボキシム（Ｂｕｔｏｃａｒｂｏｘｉｍ）、ブトキシカルボキシム（Ｂｕｔｏｘｙｃａｒｂｏｘｉｍ）、カルバリル（Ｃａｒｂａｒｙｌ＝ＮＡＣ）、カルボフラン（Ｃａｒｂｏｆｕｒａｎ）、カルボスルファン（Ｃａｒｂｏｓｕｌｆａｎ）、クロエトカルブ（Ｃｌｏｅｔｈｏｃａｒｂ）、エチオフェンカルブ（Ｅｔｈｉｏｆｅｎｃａｒｂ）、フェノブカルブ（Ｆｅｎｏｂｕｃａｒｂ＝ＢＰＭＣ）、フェノチオカルブ（Ｆｅｎｏｔｈｉｏｃａｒｂ）、フォルメタネート（Ｆｏｒｍｅｔａｎａｔｅ）、フラチオカルブ（Ｆｕｒａｔｈｉｏｃａｒｂ）、イソプロカルブ（Ｉｓｏｐｒｏｃａｒｂ＝ＭＩＰＣ）、メチオカルブ（Ｍｅｔｈｉｏｃａｒｂ）、メソミル（Ｍｅｔｈｏｍｙｌ）、メトルカルブ（Ｍｅｔｏｌｃａｒｂ）、オキサミル（Ｏｘａｍｙｌ）、ピリミカーブ（Ｐｉｒｉｍｉｃａｒｂ）、プロポキスル（Ｐｒｏｐｏｘｕｒ：ＰＨＣ）、チオジカルブ（Ｔｈｉｏｄｉｃａｒｂ）、チオファノクス（Ｔｈｉｏｆａｎｏｘ）、トリアザメート（Ｔｒｉａｚａｍａｔｅ）、トリメサカルブ（Ｔｒｉｍｅｔｈａｃａｒｂ）、ＸＭＣ、及びキシリルカルブ（Ｘｙｌｙｌｃａｒｂ）。
（２）有機リン系化合物
アセフェート（Ａｃｅｐｈａｔｅ）、アザメチホス（Ａｚａｍｅｔｈｉｐｈｏｓ）、アジンホスエチル（Ａｚｉｎｐｈｏｓ−ｅｔｈｙｌ）、アジンホスメチル（Ａｚｉｎｐｈｏｓ−ｍｅｔｈｙｌ）、カズサホス（Ｃａｄｕｓａｆｏｓ）、クロルエトキシホス（Ｃｈｌｏｒｅｔｈｏｘｙｆｏｓ）、クロルフェンビンホス（Ｃｈ１ｏｒｆｅｎｖｉｎｐｈｏｓ）、クロルメフォス（Ｃｈｌｏｒｍｅｐｈｏｓ）、クロルピリホス（Ｃｈｌｏｒｐｙｒｉｆｏｓ）、クロルピリホスメチル（Ｃｈｌｏｒｐｙｒｉｆｏｓ−ｍｅｔｈｙｌ）、クマフォス（Ｃｏｕｍａｐｈｏｓ）、シアノホス（Ｃｙａｎｏｐｈｏｓ＝ＣＹＡＰ）、デメトン−Ｓ−メチル（Ｄｅｍｅｔｏｎ−Ｓ−ｍｅｔｈｙｌ）、ダイアジノン（Ｄｉａｚｉｎｏｎ）、ジクロルボス（Ｄｉｃｈｌｏｒｖｏｓ＝ＤＤＶＰ）、ジクロトホス（Ｄｉｃｒｏｔｏｐｈｏｓ）、ジメトエート（Ｄｉｍｅｔｈｏａｔｅ）、ジメチルビンホス（Ｄｉｍｅｔｈｙｌｖｉｎｐｈｏｓ）、ジスルホトン（Ｄｉｓｕｌｆｏｔｏｎ）、ＥＰＮ、エチオン（Ｅｔｈｉｏｎ）、エトプロホス（Ｅｔｈｏｐｒｏｐｈｏｓ）、エトリムホス（Ｅｔｒｉｍｆｏｓ）、ファムファー（Ｆａｍｐｈｕｒ）、フェナミホス（Ｆｅｎａｍｉｐｈｏｓ）、フエニトロチオン（Ｆｅｎｉｔｒｏｔｈｉｏｎ＝ＭＥＰ）、フェンチオン（Ｆｅｎｔｈｉｏｎ＝ＭＰＰ）、ホスチアゼート（Ｆｏｓｔｈｉａｚａｔｅ）、ヘプテノホス（Ｈｅｐｔｅｎｏｐｈｏｓ）、イミサイホス（Ｉｍｉｃｙｆｏｓ）、イソフェンホス（Ｉｓｏｆｅｎｐｈｏｓ）、Ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ Ｏ−（ｍｅｔｈｏｘｙａｍｉｎｏｔｈｉｏ−ｐｈｏｓｐｈｏｒｙｌ）ｓａｌｉｃｙｌａｔｅ、イソキサチオン（Ｉｓｏｘａｔｈｉｏｎ）、マラチオン（Ｍａｌａｔｈｉｏｎ）、メカルバム（Ｍｅｃａｒｂａｍ）、メスルフェンホス（Ｍｅｓｕｌｆｅｎｆｏｓ）、メタミドホス（Ｍｅｔｈａｍｉｄｏｐｈｏｓ）、メチダチオン（Ｍｅｔｈｉｄａｔｈｉｏｎ＝ＤＭＴＰ）、メビンホス（Ｍｅｖｉｎｐｈｏｓ）、モノクロトホス（Ｍｏｎｏｃｒｏｔｏｐｈｏｓ）、ナレッド（Ｎａｌｅｄ：ＢＲＰ）、オメトエート（Ｏｍｅｔｈｏａｔｅ）、オキシデメトンメチル（Ｏｘｙｄｅｍｅｔｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、パラチオン（Ｐａｒａｔｈｉｏｎ）、メチルパラチオン（Ｐａｒａｔｈｉｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、フェントエート（Ｐｈｅｎｔｈｏａｔｅ＝ＰＡＰ）、フォレート（Ｐｈｏｒａｔｅ）、ホサロン（Ｐｈｏｓａｌｏｎｅ）、ホスメット（Ｐｈｏｓｍｅｔ＝ＰＭＰ）、フォスファミドン（Ｐｈｏｓｐｈａｍｉｄｏｎ）、ホキシム（Ｐｈｏｘｉｍ）、ピリミホスメチル（Ｐｉｒｉｍｉｐｈｏｓ−ｍｅｔｈｙ１）、プロフェノホス（Ｐｒｏｆｅｎｏｆｏｓ）、プロペタムホス（Ｐｒｏｐｅｔａｍｐｈｏｓ）、プロチオホス（Ｐｒｏｔｈｉｏｆｏｓ）、ピラクロホス（Ｐｙｒａｃｌｏｒｆｏｓ）、ピリダフェンチオン（Ｐｙｒｉｄａｆｅｎｔｈｉｏｎ）、キナルホス（Ｑｕｉｎａｌｐｈｏｓ）、スルフォテップ（Ｓｕｌｆｏｔｅｐ）、テブピリムホス（Ｔｅｂｕｐｉｒｉｍｆｏｓ）、テメホス（Ｔｅｍｅｐｈｏｓ）、テルブホス（Ｔｅｒｂｕｆｏｓ）、テトラクロルビンホス（Ｔｅｔｒａｃｈ１ｏｒｖｉｎｐｈｏｓ）、チオメトン（Ｔｈｉｏｍｅｔｏｎ）、トリアゾホス（Ｔｒｉａｚｏｐｈｏｓ）、トリクロルホン（Ｔｒｉｃｈｌｏｒｐｈｏｎ＝ＤＥＰ）、バミドチオン（Ｖａｍｉｄｏｔｈｉｏｎ）、リン化アルミニウム（Ａｌｕｍｉｎｉｕｍ ｐｈｏｓｐｈｉｄｅ）、ブタチオホス（Ｂｕｔａｔｈｉｏｆｏｓ）、ＤＣＩＰ（Ｄｉｃｈｌｏｒｏｄｉｉｓｏｐｒｏｐｙｌ ｅｔｈｅｒ）、ジクロフェンチオン（Ｄｉｃｈｌｏｆｅｎｔｈｉｏｎ＝ＥＣＰ）、ホルモチオン（Ｆｏｒｍｏｔｈｉｏｎ）、リン化水素（Ｈｙｄｒｏｇｅｎ ｐｈｏｓｐｈｉｄｅ）、オキシデプロホス（Ｏｘｙｄｅｐｒｏｆｏｓ＝ＥＳＰ）、プロパホス（Ｐｒｏｐａｐｈｏｓ）、サリチオン（Ｓａｌｉｔｈｉｏｎ）、及びスルプロホス（Ｓｕｌｐｒｏｆｏｓ）。
（３）ピレスロイド化合物
アクリナトリン（Ａｃｒｉｎａｔｈｒｉｎ）、アレスリン（Ａｌｌｅｔｈｒｉｎ）、ベンフルスリン（Ｂｅｎｆｌｕｔｈｒｉｎ）、ベータ−シフルトリン（Ｂｅｔａ−Ｃｙｆｌｕｔｈｒｉｎ）、ビフェントリン（Ｂｉｆｅｎｔｈｒｉｎ）、シクロプロトリン（Ｃｙｃｌｏｐｒｏｔｈｒｉｎ）、シフルトリン（Ｃｙｆｌｕｔｈｒｉｎ）、シハロトリン（Ｃｙｈａｌｏｔｈｒｉｎ）、シペルメトリン（Ｃｙｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、デルタメトリン（Ｄｅｌｔａｍｅｔｈｒｉｎ）、エスフェンバレレート（Ｅｓｆｅｎｖａｌｅｒａｔｅ）、エトフェンプロックス（Ｅｔｈｏｆｅｎｐｒｏｘ）、フェンプロパトリン（Ｆｅｎｐｒｏｐａｔｈｒｉｎ）、フェンバレレート（Ｆｅｎｖａｌｅｒａｔｅ）、フルシトリネート（Ｆｌｕｃｙｔｈｒｉｎａｔｅ）、フルフェンプロックス（Ｆｌｕｆｅｎｏｐｒｏｘ）、フルメスリン（Ｆｌｕｍｅｔｈｒｉｎ）、フルバリネート（Ｆｌｕｖａｌｉｎａｔｅ）、ハルフェンプロックス（Ｈａｌｆｅｎｐｒｏｘ）、イミプロトリン（Ｉｍｉｐｒｏｔｈｒｉｎ）、ペルメトリン（Ｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、プラレトリン（Ｐｒａｌｌｅｔｈｒｉｎ）、ピレトリン（Ｐｙｒｅｔｈｒｉｎｓ）、レスメトリン（Ｒｅｓｍｅｔｈｒｉｎ）、シグマ−サイパーメスリン（ｓｉｇｍａ−Ｃｙｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、シラフルオフェン（Ｓｉｌａｆｌｕｏｆｅｎ）、テフルトリン（Ｔｅｆｌｕｔｈｒｉｎ）、トラロメトリン（Ｔｒａｌｏｍｅｔｈｒｉｎ）、トランスフルトリン（Ｔｒａｎｓｆｌｕｔｈｒｉｎ）、テトラメトリン（Ｔｅｔｒａｍｅｔｈｒｉｎ）、フェノトリン（Ｐｈｅｎｏｔｈｒｉｎ）、シフェノトリン（Ｃｙｐｈｅｎｏｔｈｒｉｎ）、アルファシペルメトリン（ａｌｐｈａ−Ｃｙｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、ゼータシペルメトリン（ｚｅｔａ−Ｃｙｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、ラムダシハロトリン（ｌａｍｂｄａ−Ｃｙｈａｌｏｔｈｒｉｎ）、ガンマシハロトリン（ｇａｍｍａ−Ｃｙｈａｌｏｔｈｒｉｎ）、フラメトリン（Ｆｕｒａｍｅｔｈｒｉｎ）、タウフルバリネート（ｔａｕ−Ｆｌｕｖａｌｉｎａｔｅ）、メトフルトリン（Ｍｅｔｏｆｌｕｔｈｒｉｎ）、プロフルトリン（Ｐｒｏｆｌｕｔｈｒｉｎ）、ジメフルトリン（Ｄｉｍｅｆｌｕｔｈｒｉｎ）、プロトリフェンビュート（Ｐｒｏｔｒｉｆｅｎｂｕｔｅ）、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−（メトキシメチル）ベンジル （ＥＺ）−（１ＲＳ，３ＲＳ；１ＲＳ，３ＳＲ）−２，２−ジメチル−３−プロプ−１−エニルシクロプロパンカルボキシレート、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−メチルベンジル （ＥＺ）−（１ＲＳ，３ＲＳ；１ＲＳ，３ＳＲ）−２，２−ジメチル−３−プロプ−１−エニルシクロプロパンカルボキシレート、及び２，３，５，６−テトラフルオロ−４−（メトキシメチル）ベンジル （１ＲＳ，３ＲＳ；１ＲＳ，３ＳＲ）−２，２−ジメチル−３−（２−メチル−１−プロペニル）シクロプロパンカルボキシレート等。
（４）ネライストキシン化合物
カルタップ（Ｃａｒｔａｐ）、ベンスルタップ（Ｂｅｎｓｕ１ｔａｐ）、チオシクラム（Ｔｈｉｏｃｙｃｌａｍ）、チオスルタップ（Ｔｈｉｓｕｌｔａｐ）、モノスルタップ（Ｍｏｎｏｓｕｌｔａｐ）、及びビスルタップ（Ｂｉｓｕｌｔａｐ）。
（５）ネオニコチノイド化合物
イミダクロプリド（Ｉｍｉｄａｃ１ｏｐｒｉｄ）、ニテンピラム（Ｎｉｔｅｎｐｙｒａｍ）、アセタミプリド（Ａｃｅｔａｍｉｐｒｉｄ）、チアメトキサム（Ｔｈｉａｍｅｔｈｏｘａｍ）、チアクロプリド（Ｔｈｉａｃｌｏｐｒｉｄ）、ジノテフラン（Ｄｉｎｏｔｅｆｕｒａｎ）、及びクロチアニジン（Ｃｌｏｔｈｉａｎｉｄｉｎ）。
（６）ベンゾイル尿素化合物
ビストリフルロン（Ｂｉｓｔｒｉｆｌｕｒｏｎ）、クロルフルアズロン（Ｃｈｌｏｒｆｌｕａｚｕｒｏｎ）、ジフルベンズロン（Ｄｉｆｌｕｂｅｎｚｕｒｏｎ）、フルシクロクスロン（Ｆｌｕｃｙｃｌｏｘｕｒｏｎ）、フルフェノクスロン（Ｆｌｕｆｅｎｏｘｕｒｏｎ）、ヘキサフルムロン（Ｈｅｘａｆｌｕｍｕｒｏｎ）、ルフェヌロン（Ｌｕｆｅｎｕｒｏｎ）、ノバルロン（Ｎｏｖａｌｕｒｏｎ）、ノビフルムロン（Ｎｏｖｉｆｌｕｍｕｒｏｎ）、テフルベンズロン（Ｔｅｆｌｕｂｅｎｚｕｒｏｎ）、トリフルムロン（Ｔｒｉｆｌｕｍｕｒｏｎ）、及びフルアズロン（ｆｌｕａｚｕｒｏｎ）。
（７）フェニルピラゾール化合物
アセトプロール（Ａｃｅｔｏｐｒｏｌｅ）、エチプロール（Ｅｔｈｉｐｒｏｌｅ）、フィプロニル（Ｆｉｐｒｏｎｉ１）、バニリプロール（Ｖａｎｉｌｉｐｒｏｌｅ）、ピリプロール（Ｐｙｒｉｐｒｏｌｅ）、及びピラフルプロール（Ｐｙｒａｆｌｕｐｒｏｌｅ）。
（８）Ｂｔトキシン殺虫剤
バチルス・チューリンゲンシス菌由来の生芽胞および産生結晶毒素、並びにそれらの混合物。
（９）ヒドラジン化合物
クロマフェノジド（Ｃｈｒｏｍａｆｅｎｏｚｉｄｅ）、ハロフェノジド（Ｈａｌｏｆｅｎｏｚｉｄｅ）、メトキシフェノジド（Ｍｅｔｈｏｘｙｆｅｎｏｚｉｄｅ）、及びテブフェノジド（Ｔｅｂｕｆｅｎｏｚｉｄｅ）。
（１０）有機塩素化合物
アルドリン（Ａｌｄｒｉｎ）、ディルドリン（Ｄｉｅｌｄｒｉｎ）、ジエノクロル（Ｄｉｅｎｏｃｈｌｏｒ）、エンドスルファン（Ｅｎｄｏｓｕｌｆａｎ）、メトキシクロル（Ｍｅｔｈｏｘｙｃｈｌｏｒ）、クロルデン（Ｃｈｌｏｒｄａｎｅ）、及びＤＤＴ。
（１１）その他の殺虫剤有効成分
マシン油（Ｍａｃｈｉｎｅ ｏｉｌ）、硫酸ニコチン（Ｎｉｃｏｔｉｎｅ−ｓｕｌｆａｔｅ）、ニコチン（Ｎｉｃｏｔｉｎｅ）、アバメクチン（Ａｂａｍｅｃｔｉｎ）、エマメクチン安息香酸塩（Ｅｍａｍｅｃｔｉｎ−ｂｅｎｚｏａｔｅ）、ミルベメクチン（Ｍｉｌｂｅｍｅｃｔｉｎ）、レピメクチン（Ｌｅｐｉｍｅｃｔｉｎ）、スピノサッド（Ｓｐｉｎｏｓａｄ）、スピネトラム（Ｓｐｉｎｅｔｏｒａｍ）、インドキサカルブ（Ｉｎｄｏｘａｃａｒｂ）、メタフルミゾン（Ｍｅｔａｆｌｕｍｉｚｏｎｅ）、ブプロフェジン（Ｂｕｐｒｏｆｅｚｉｎ）、シロマジン（Ｃｙｒｏｍａｚｉｎｅ）、ハイドロプレン（Ｈｙｄｒｏｐｒｅｎｅ）、メトプレン（Ｍｅｔｈｏｐｒｅｎｅ）、キノプレン（Ｋｉｎｏｐｒｅｎｅ）、ピリプロキシフェン（Ｐｙｒｉｐｒｏｘｙｆｅｎ）、フェノキシカルブ（Ｆｅｎｏｘｙｃａｒｂ）、クロルフェナピル（Ｃｈｌｏｒｐｈｅｎａｐｙｒ）、ＤＮＯＣ、ジアフェンチウロン（Ｄｉａｆｅｎｔｈｉｕｒｏｎ）、ピメトロジン（Ｐｙｍｅｔｒｏｚｉｎｅ）、フロニカミド（Ｆｌｏｎｉｃａｍｉｄ）、ピリフルキナゾン（Ｐｙｒｉｆｌｕｑｕｉｎａｚｏｎｅ）、ピリダリル（Ｐｙｒｉｄａｌｙｌ）、トルフェンピラド（Ｔｏｌｆｅｎｐｙｒａｄ）、フルリムフェン（Ｆｌｕｒｉｍｆｅｎ）、フルフェネリム（Ｆｌｕｆｅｎｅｒｉｍ）、スピロテトラマット（Ｓｐｉｒｏｔｅｔｒａｍａｔ）、スピロメシフェン（Ｓｐｉｒｏｍｅｓｉｆｅｎ）、スルフォキサフロール（ｓｕｌｆｏｘａｆｌｏｒ）、クロラントラニリプロール（Ｃｈｌｏｒａｎｔｒａｎｉｌｉｐｒｏｌｅ）、シアントラニリプロール（Ｃｙａｎｔｒａｎｉｌｉｐｒｏｌｅ）、フルベンジアミド（Ｆｌｕｂｅｎｄｉａｍｉｄｅ）、
下記式（Ｋ）：

〔式中、
Ｒ¹⁰⁰は塩素原子、臭素原子またはトリフルオロメチル基を表し、
Ｒ²⁰⁰は塩素原子、臭素原子またはメチル基を表し、
Ｒ³⁰⁰は塩素原子、臭素原子またはシアノ基を表す。〕
で示される化合物、
下記式（Ｌ）：

〔式中、
Ｒ¹⁰⁰⁰は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。〕
で示される化合物、メトキサジアゾン（Ｍｅｔｏｘａｄｉａｚｏｎｅ）、スルフラミド（Ｓｕｌｆｌｕｒａｍｉｄ）、亜ヒ酸（Ａｒｓｅｎｉｃ ａｃｉｄ）、ベンクロチアズ（Ｂｅｎｃｌｏｔｈｉａｚ）、石灰窒素（Ｃａｌｃｉｕｍ ｃｙａｎａｍｉｄｅ）、石灰硫黄合剤（Ｃａｌｃｉｕｍ ｐｏｌｙｓｕｌｆｉｄｅ）、メタム・アンモニウム（Ｍｅｔａｍ−ａｍｍｏｎｉｕｍ）、メタム・ナトリウム（Ｍｅｔａｍ−ｓｏｄｉｕｍ）、オレイン酸カリウム（Ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｏｌｅａｔｅ）、硫黄（Ｓｕｌｆｕｒ）、及びトラロピリル（Ｔｒａｌｏｐｙｒｉｌ）。

殺ダニ剤の有効成分
アセキノシル（Ａｃｅｑｕｉｎｏｃｙｌ）、アミトラズ（Ａｍｉｔｒａｚ）、ベンゾキシメート（Ｂｅｎｚｏｘｉｍａｔｅ）、ビフェナゼート（Ｂｉｆｅｎａａｔｅ）、ブロモプロピレート（Ｂｒｏｍｏｐｒｏｐｙｌａｔｅ）、キノメチオネート（Ｃｈｉｎｏｍｅｔｈｉｏｎａｔ）、クロルベンジレート（Ｃｈｌｏｒｏｂｅｎｚｉｌａｔｅ）、ＣＰＣＢＳ（Ｃｈｌｏｒｆｅｎｓｏｎ）、クロフェンテジン（Ｃｌｏｆｅｎｔｅｚｉｎｅ）、シフルメトフェン（Ｃｙｆｌｕｍｅｔｏｆｅｎ）、ジコホル（Ｄｉｃｏｆｏｌ）、エトキサゾール（Ｅｔｏｘａｚｏｌｅ）、フェナザキン（Ｆｅｎａｚａｑｕｉｎ）、酸化フェンブタスズ（Ｆｅｎｂｕｔａｔｉｎ ｏｘｉｄｅ）、フェノチオカルブ（Ｆｅｎｏｔｈｉｏｃａｒｂ）、フェンピロキシメート（Ｆｅｎｐｙｒｏｘｉｍａｔｅ）、フルアクリピリム（Ｆｌｕａｃｒｙｐｙｒｉｍ）、ヘキシチアゾクス（Ｈｅｘｙｔｈｉａｚｏｘ）、プロパルギット（Ｐｒｏｐａｒｇｉｔｅ＝ＢＰＰＳ）、ポリナクチン複合体（Ｐｏｌｙｎａｃｔｉｎｓ）、ピリダベン（Ｐｙｒｉｄａｂｅｎ）、ピリミジフェン（Ｐｙｒｉｍｉｄｉｆｅｎ）、テブフェンピラド（Ｔｅｂｕｆｅｎｐｙｒａｄ）、テトラジホン（Ｔｅｔｒａｄｉｆｏｎ）、スピロジクロフェン（Ｓｐｉｒｏｄｉｃｌｏｆｅｎ）、アミドフルメット（Ａｍｉｄｏｆｌｕｍｅｔ）、及びシエノピラフェン（ｃｙｅｎｏｐｙｒａｆｅｎ）。

殺線虫剤の有効成分
臭化メチル（Ｍｅｔｈｙｌ ｂｒｏｍｉｄｅ）、Ｄ−Ｄ（１，３−Ｄｉｃｈｌｏｒｏｐｒｏｐｅｎｅ）、ＤＣＩＰ、フォスチアゼート（Ｆｏｓｔｈｉａｚａｔｅ）、塩酸レバミゾール（Ｌｅｖａｍｉｓｏｌ）、メチルイソチオシアネート（Ｍｅｔｈｙｉｓｏｔｈｉｏｃｙａｎａｔｅ）、酒石酸モランテル（Ｍｏｒａｎｔｅｌ ｔａｒｔａｒａｔｅ）、及びイミシアホス（Ｉｍｉｃｙａｆｏｓ）。

殺菌剤の有効成分
アザコナゾール（Ａｚａｃｏｎａｚｏｌｅ）、ビテルタノール（Ｂｉｔｅｒｔａｎｏｌ）、ブロムコナゾール（Ｂｒｏｍｕｃｏｎａｚｏｌｅ）、シプロコナゾール（Ｃｙｐｒｏｃｏｎａｚｏｌｅ）、ジフェノコナゾール（Ｄｉｆｅｎｏｃｏｎａｚｏｌｅ）、ジニコナゾールＭ（Ｄｉｎｉｃｏｎａｚｏｌｅ−Ｍ）、エポキシコナゾール（Ｅｐｏｘｉｃｏｎａｚｏｌｅ）、フェナリモル（Ｆｅｎａｒｉｍｏｌ）フェンブコナゾール（Ｆｅｎｂｕｃｏｎａｚｏｌｅ）、フルシラゾール（Ｆｌｕｓｉｌａｚｏｌｅ）、フルキンコナゾール（Ｆｌｕｑｕｉｎｃｏｎａｚｏｌｅ）、フルトリアホール（Ｆｌｕｔｒｉａｆｏｌ）、ヘキサコナゾール（Ｈｅｘａｃｏｎａｚｏｌｅ）、イマザリル（Ｉｍａｚａｌｉｌ）、イミベンコナゾール（Ｉｍｉｂｅｎｃｏｎａｚｏｌｅ）、イプコナゾール（Ｉｐｃｏｎａｚｏｌｅ）、メトコナゾール（Ｍｅｔｃｏｎａｚｏｌｅ）、ミクロブタニル（Ｍｙｃｌｏｂｕｔａｎｉｌ）、ヌアリモル（Ｎｕａｒｉｍｏｌ）、オキスポコナゾール（Ｏｘｐｏｃｏｎａｚｏｌｅ）、ペフラゾエート（Ｐｅｆｕｒａｚｏａｔｅ）、ペンコナゾール（Ｐｅｎｃｏｎａｚｏｌｅ）、プロクロラズ（Ｐｒｏｃｈｌｏｒａｚ）、プロピコナゾール（Ｐｒｏｐｉｃｏｎａｚｏｌｅ）、プロチオコナゾール（Ｐｒｏｔｈｉｏｃｏｎａｚｏｌｅ）、ピリフェノクス（Ｐｙｒｉｆｅｎｏｘ）、シメコナゾール（Ｓｉｍｅｃｏｎａｚｏｌｅ）、テブコナゾール（Ｔｅｂｕｃｏｎａｚｏｌｅ）、テトラコナゾール（Ｔｅｔｒａｃｏｎａｚｏｌｅ）、トリアジメホン（Ｔｒｉａｄｉｍｅｆｏｎ）、トリアジメノール（Ｔｒｉａｄｉｍｅｎｏｌ）、トリフルミゾール（Ｔｒｉｆｌｕｍｉｚｏｌｅ）、トリホリン（Ｔｒｉｆｏｌｉｎ）、トリティコナゾール（Ｔｒｉｔｉｃｏｎａｚｏｌｅ）、アルジモルフ（Ａｌｄｉｍｏｒｐｈ）、ドデモルフ（Ｄｏｄｅｍｏｒｐｈ）、フェンプロピモルフ（Ｆｅｎｐｒｏｐｉｍｏｒｐｈ）、トリデモルフ（Ｔｒｉｄｅｍｏｒｐｈ）、フェンプロピジン（Ｆｅｎｐｒｏｐｉｄｉｎ）、ピペラリン（Ｐｉｐｅｒａｌｉｎ）、スピロキサミン（Ｓｐｉｒｏｘａｍｉｎｅ）、フェンヘキサミド（Ｆｅｎｈｅｘａｍｉｄｅ）、ピリブチカルブ（Ｐｙｒｉｂｕｔｉｃａｒｂ）、ナフチフィン（Ｎａｐｈｔｉｆｉｎｅ）、テルビナフィン（Ｔｅｒｂｉｎａｆｉｎｅ）等のステロール生合成阻害化合物；
ベノミル（Ｂｅｎｏｍｙｌ）、カルベンダジム（Ｃａｒｂｅｎｄｅｚｉｍ）、フベリダゾール（Ｆｕｂｅｒｉｄａｚｏｌｅ）、チアベンダゾール（Ｔｈｉａｂｅｎｄａｚｏｌｅ）、チオファネート（Ｔｈｉｐｈａｎａｔｅ）、チオファネートメチル（ｔｈｉｏｐｈａｎａｔｅ−ｍｅｔｈｙｌ）、ジエトフェンカルブ（Ｄｉｅｔｈｏｆｅｎｃａｒｂ）、ゾキサミド（Ｚｏｘａｍｉｄｅ）ペンシクロン（Ｐｅｎｃｙｃｕｒｏｎ）、フルオピコリド（Ｆｌｕｏｐｉｃｏｌｉｄｅ）等の細胞分裂阻害殺菌化合物；
クロゾリネート（Ｃｈｌｏｚｏｌｉｎａｔｅ）、イプロジオン（Ｉｐｒｏｄｉｏｎｅ）、プロシミドン（Ｐｒｏｃｙｍｉｄｏｎｅ）、ビンクロゾリン（Ｖｉｎｃｌｏｚｏｌｉｎ）、キノキシフェン（Ｑｕｉｎｏｘｙｆｅｎ）、プロキナジド（Ｐｒｏｑｕｉｎａｚｉｄ）、フェンピクロニル（Ｆｅｎｐｉｃｌｏｎｉｌ）、フルジオキソニル（Ｆｌｕｄｉｏｘｏｎｉｌ）等のシグナル伝達系阻害殺菌化合物；
シプロジニル（ｃｙｐｒｏｄｉｎｉｌ）、ピリメタニル（ｐｙｒｉｍｅｔｈａｎｉｌ）、メパニピリム（Ｍｅｐａｎｉｐｙｒｉｍ）等のアミノ酸生合成阻害殺菌化合物；
メタラキシル（Ｍｅｔａｌａｘｙｌ）、ベナラキシル（Ｂｅｎａｌａｘｙｌ）、オキソリニック酸（Ｏｘｏｌｉｎｉｃ ａｃｉｄ）等の核酸生合成阻害殺菌化合物；
イソプロチオラン（Ｉｓｏｐｒｏｔｈｉｏｌａｎｅ）、イプロベンホス（Ｉｐｒｏｂｅｎｆｏｓ）、トルクロホスメチル（Ｔｏｌｃｌｏｆｏｓ−ｍｅｔｈｙｌ）、プロチオカルブ（Ｐｒｏｔｈｉｏｃａｒｂ）、ジメトモルフ（Ｄｉｍｅｔｈｏｍｏｒｐｈ）、ベンチアバリカルブイソプロピル（Ｂｅｎｔｈｉａｖａｌｉｃａｒｂ−ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ）、イプロバリカルブ（Ｉｐｒｏｖａｌｉｃａｒｂ）、マンジプロパミド（Ｍａｎｄｉｐｒｏｐａｍｉｄ）等の脂質・膜合成阻害殺菌化合物；
ジクロシメット（Ｄｉｃｌｏｃｙｍｅｔ）、カルプロパミド（Ｃａｒｐｒｏｐａｍｉｄ）、フェノキサニル（Ｆｅｎｏｘａｎｉｌ）、フサライド（Ｆｔｈａｌｉｄｅ）、トリシクラゾール（Ｔｒｉｃｙｃｌａｚｏｌｅ）、ピロキロン（Ｐｙｒｏｑｕｉｌｏｎ）等のメラニン生合成阻害殺菌化合物；
アゾキシストロビン（Ａｚｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、ジモキシストロビン（Ｄｉｍｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、エネストロビン（Ｅｎｅｓｔｒｏｂｉｎ）、フルオキサストロビン（Ｆｌｕｏｘａｓｔｒｏｂｉｎ）、クレソキシムメチル（Ｋｒｅｓｏｘｉｍ−ｍｅｔｈｙｌ）、メトミノストロビン（Ｍｅｔｏｍｉｎｏｓｔｒｏｂｉｎ）、オリサストロビン（Ｏｒｙｓａｓｔｒｏｂｉｎ）、ピコキシストロビン（Ｐｉｃｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、ピラクロストロビン（Ｐｙｒａｃｌｏｓｔｒｏｂｉｎ）、ピリベンカルブ（Ｐｙｒｉｂｅｎｃａｒｂ）トリフロキシストロビン（Ｔｒｉｆｌｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）等のストロビルリン殺菌化合物；
カルボキシン（Ｃａｒｂｏｘｉｎ）、オキシカルボキシン（Ｏｘｙｃａｒｂｏｘｉｎ）、メプロニル（Ｍｅｐｒｏｎｉｌ）、フルトラニル（Ｆｌｕｔｏｒａｎｉｌ）、フラメトピル（Ｆｕｒａｍｅｔｏｐｙｒ）、チフルザミド（Ｔｈｉｆｌｕｚａｍｉｄｅ）、ボスカリド（Ｂｏｓｃａｌｉｄ）、ペンチオピラド（Ｐｅｎｔｈｉｏｐｙｒａｄ）、フルオピラム（Ｆｌｕｏｐｙｒａｍ）、ビキサフェン（Ｂｉｘａｆｅｎ）、イソピラザム（Ｉｓｏｐｙｒａｚａｍ）、ペンフルフェン（Ｐｅｎｆｌｕｆｅｎ）、セダキサン（Ｓｅｄａｘａｎ）、フルキサピロキサド（Ｆｌｕｘａｐｙｒｏｘａｄ）等のアニリド系殺菌化合物；
アシベンゾラールＳメチル（Ａｃｉｂｅｎｚｏｌａｒ−Ｓ−ｍｅｔｈｙｌ）、プロベナゾール（Ｐｒｏｂｅｎａｚｏｌｅ）、チアジニル（Ｔｉａｄｉｎｉｌ）、イソチアニル（Ｉｓｏｔｉａｎｉｌ）等の抵抗性誘導化合物；
バリダマイシンＡ（Ｖａｌｉｄａｍｙｃｉｎ Ａ）、ポリオキシンＢ（Ｐｏｌｙｏｘｉｎ Ｂ）等のグルカン合成阻害殺菌化合物；
ブラストサイジンＳ（Ｂｌａｓｔｃｉｄｉｎ−Ｓ）、カスガマイシン（Ｋａｓｕｇａｍｙｃｉｎ）、ストレプトマイシン（Ｓｔｒｅｐｔｏｍｙｃｉｎ）等のタンパク質生合成阻害殺菌化合物；
チウラム（Ｔｈｉｕｒａｍ）、マンコゼブ（Ｍａｎｃｏｚｅｂ）、クロロタロニル（Ｃｈｌｏｒｏｔｈａｌｏｎｉｌ）、キャプタン（Ｃａｐｔａｎ）、ジクロフルアニド（Ｄｉｃｈｌｏｆｌｕａｎｉｄ）、フォルペット（Ｆｏｌｐｅｔ）、イミノクタジン（Ｉｍｉｎｏｃｔａｄｉｎｅ）、ジラム（Ｚｉｒａｍ）等のマルチサイト接触活性の殺菌化合物；
アミスルブロム（Ａｍｉｓｕｌｂｒｏｍ）；シアゾファミド（Ｃｙａｚｏｆａｍｉｄ）；フェリムゾン（Ｆｅｒｉｍｚｏｎｅ）；フルアジナム（Ｆｌｕａｚｉｎａｍ）；ビナパクリル（Ｂｉｎａｐａｃｒｙｌ）；ジノカップ（Ｄｉｎｏｃａｐ）；ファモキサドン（Ｆａｍｏｘａｄｏｎｅ）；フェナミドン（Ｆｅｎａｍｉｄｏｎｅ）；エタボキサム（Ｅｔｈａｂｏｘａｍ）；メトラフェノン（Ｍｅｔｒａｆｅｎｏｎｅ）；シフルフェナミド（Ｃｙｆｌｕｆｅｎａｍｉｄ）等。

除草剤の有効成分
（１）フェノキシ脂肪酸除草性化合物
２，４−ＰＡ、ＭＣＰ、ＭＣＰＢ、フェノチオール（Ｐｈｅｎｏｔｈｉｏ１）、メコプロップ（Ｍｅｃｏｐｒｏｐ）、フルロキシピル（Ｆｌｕｒｏｘｙｐｙｒ）、トリクロピル（Ｔｒｉｃｌｏｐｙｒ）、クロメプロップ（Ｃｌｏｍｅｐｒｏｐ）、及びナプロアニリド（Ｎａｐｒｏａｎｉｌｉｄｅ）。
（２）安息香酸除草性化合物
２，３，６−ＴＢＡ、ジカンバ（Ｄｉｃａｍｂａ）、クロピラリド（Ｃｌｏｐｙｒａｌｉｄ）、ピクロラム（Ｐｉｃｌｏｒａｍ）、アミノピラリド（Ａｍｉｎｏｐｙｒａｌｉｄ）、キンクロラック（Ｑｕｉｎｃｌｏｒａｃ）、及びキンメラック（Ｑｕｉｎｍｅｒａｃ）。
（３）尿素除草性化合物
ジウロン（Ｄｉｕｒｏｎ）、リニュロン（Ｌｉｎｕｒｏｎ）、クロルトルロン（Ｃｈｌｏｒｔｏｌｕｒｏｎ）、イソプロツロン（Ｉｓｏｐｒｏｔｕｒｏｎ）、フルオメツロン（Ｆｌｕｏｍｅｔｕｒｏｎ）、イソウロン（Ｉｓｏｕｒｏｎ）、テブチウロン（Ｔｅｂｕｔｈｉｕｒｏｎ）、メタベンズチアズロン（Ｍｅｔｈａｂｅｎｚｔｈｉａｚｕｒｏｎ）、クミルロン（Ｃｕｍｙ１ｕｒｏｎ）、ダイムロン（Ｄａｉｍｕｒｏｎ）、及びメチルダイムロン（Ｍｅｔｈｙｌ−ｄａｉｍｕｒｏｎ）。
（４）トリアジン除草性化合物
アトラジン（Ａｔｒａｚｉｎｅ）、アメトリン（Ａｍｅｔｏｒｙｎ）、シアナジン（Ｃｙａｎａｚｉｎｅ）、シマジン（Ｓｉｍａｚｉｎｅ）、プロパジン（Ｐｒｏｐａｚｉｎｅ）、シメトリン（Ｓｉｍｅｔｒｙｎ）、ジメタメトリン（Ｄｉｍｅｔｈａｍｅｔｒｙｎ）、プロメトリン（Ｐｒｏｍｅｔｒｙｎ）、メトリブジン（Ｍｅｔｒｉｂｕｚｉｎ）、トリアジフラム（Ｔｒｉａｚｉｆｌａｍ）、及びインダジフラム（Ｉｎｄａｚｉｆｌａｍ）。
（５）ビピリジニウム除草性化合物
パラコート（Ｐａｒａｑｕａｔ）、及びジクワット（Ｄｉｑｕａｔ）。
（６）ヒドロキシベンゾニトリル除草性化合物
ブロモキシニル（Ｂｒｏｍｏｘｙｎｉｌ）、及びアイオキシニル（Ｉｏｘｙｎｉｌ）。
（７）ジニトロアニリン除草性化合物
ペンディメタリン（Ｐｅｎｄｉｍｅｔｈａｌｉｎ）、プロジアミン（Ｐｒｏｄｉａｍｉｎｅ）、及びトリフルラリン（Ｔｒｉｆｌｕｒａｌｉｎ）。
（８）有機リン除草性化合物
アミプロホスメチル（Ａｍｉｐｒｏｆｏｓ−ｍｅｔｈｙｌ）、ブタミホス（Ｂｕｔａｍｉｆｏｓ）、ベンスリド（Ｂｅｎｓｕ１ｉｄｅ）、ピペロホス（Ｐｉｐｅｒｏｐｈｏｓ）、アニロホス（Ａｎｉｌｏｆｏｓ）、グリホサート（Ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ）、グルホシネート（Ｇｌｕｆｏｓｉｎａｔｅ）、グルホシネート−Ｐ（Ｇｌｕｆｏｓｉｎａｔｅ−Ｐ）、及びビアラホス（Ｂｉａｌａｐｈｏｓ）。
（９）カーバメート除草性化合物
ジアレート（Ｄｉ−ａｌｌａｔｅ）、トリアレート（Ｔｒｉ−ａｌｌａｔｅ）、ＥＰＴＣ、ブチレート（Ｂｕｔｙｌａｔｅ）、ベンチオカーブ（Ｂｅｎｔｈｉｏｃａｒｂ）、エスプロカルブ（Ｅｓｐｒｏｃａｒｂ）、モリネート（Ｍｏｌｉｎａｔｅ）、ジメピペレート（Ｄｉｍｅｐｉｐｅｒａｔｅ）、スエップ（Ｓｗｅｐ）、クロルプロファム（Ｃｈｌｏｒｐｒｏｐｈａｍ）、フェンメディファム（Ｐｈｅｎｍｅｄｉｐｈａｍ）、フェニソファム（Ｐｈｅｎｉｓｏｐｈａｍ）、ピリブチカルブ（Ｐｙｒｉｂｕｔｉｃａｒｂ）、及びアシュラム（Ａｓｕｌａｍ）。
（１０）酸アミド除草性化合物
プロパニル（Ｐｒｏｐａｎｉｌ）、プロピザミド（Ｐｒｏｐｙｚａｍｉｄｅ）、ブロモブチド（Ｂｒｏｍｏｂｕｔｉｄｅ）、及びエトベンザニド（Ｅｔｏｂｅｎｚａｎｉｄ）。
（１１）クロロアセトアニリド除草性化合物
アセトクロール（Ａｃｅｔｏｃｈｌｏｒ）、アラクロール（Ａｌａｃｈｌｏｒ）、ブタクロール（Ｂｕｔａｃｈｌｏｒ）、ジメテナミド（Ｄｉｍｅｔｈｅｎａｍｉｄ）、プロパクロール（Ｐｒｏｐａｃｈｌｏｒ）、メタザクロール（Ｍｅｔａｚａｃｈｌｏｒ）、メトラクロール（Ｍｅｔｏｌａｃｈｌｏｒ）、プレチラクロール（Ｐｒｅｔｉｌａｃｈｌｏｒ）、テニルクロール（Ｔｈｅｎｙ１ｃｈ１ｏｒ）、及びペトキサミド（Ｐｅｔｈｏｘａｍｉｄ）。
（１２）ジフェニルエーテル除草性化合物
アシフルオルフェン（Ａｃｉｆｌｕｏｒｆｅｎ−ｓｏｄｉｕｍ）、ビフェノックス（Ｂｉｆｅｎｏｘ）、オキシフルオルフェン（Ｏｘｙｆｌｕｏｒｆｅｎ）、ラクトフェン（Ｌａｃｔｏｆｅｎ）、フォメサフェン（Ｆｏｍｅｓａｆｅｎ）、クロメトキシニル（Ｃｈｌｏｍｅｔｈｏｘｙｎｉ１）、及びアクロニフェン（Ａｃｌｏｎｉｆｅｎ）。
（１３）環状イミド除草性化合物
オキサジアゾン（Ｏｘａｄｉａｚｏｎ）、シニドンエチル（Ｃｉｎｉｄｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、カルフェントラゾンエチル（Ｃａｒｆｅｎｔｒａｚｏｎｅ−ｅｔｈｙｌ）、スルフェントラゾン（Ｓｕｒｆｅｎｔｒａｚｏｎｅ）、フルミクロラックペンチル（Ｆｌｕｍｉｃｌｏｒａｃ−ｐｅｎｔｙｌ）、フルミオキサジン（Ｆｌｕｍｉｏｘａｚｉｎ）、ピラフルフェンエチル（Ｐｙｒａｆｌｕｆｅｎ−ｅｔｈｙｌ）、オキサジアルギル（Ｏｘａｄｉａｒｇｙ１）、ペントキサゾン（Ｐｅｎｔｏｘａｚｏｎｅ）、フルチアセットメチル（Ｆｌｕｔｈｉａｃｅｔ−ｍｅｔｈｙｌ）、ブタフェナシル（Ｂｕｔａｆｅｎａｃｉｌ）、ベンズフェンジゾン（Ｂｅｎｚｆｅｎｄｉｚｏｎｅ）、ベンカルバゾン（Ｂｅｎｃａｒｂａｚｏｎｅ）、及びサフルフェナシル（Ｓａｆｌｕｆｅｎａｃｉｌ）。
（１４）ピラゾール除草性化合物
ベンゾフェナップ（Ｂｅｎｚｏｆｅｎａｐ）、ピラゾレート（Ｐｙｒａｚｏ１ａｔｅ）、ピラゾキシフェン（Ｐｙｒａｚｏｘｙｆｅｎ）、トプラメゾン（Ｔｏｐｒａｍｅｚｏｎｅ）、及びピラスルホトール（Ｐｙｒａｓｕｌｆｏｔｏｌｅ）。
（１５）トリケトン除草性化合物
イソキサフルトール（Ｉｓｏｘａｆｌｕｔｏｌｅ）、ベンゾビシクロン（Ｂｅｎｚｏｂｉｃｙｃｌｏｎ）、スルコトリオン（Ｓｕｌｃｏｔｒｉｏｎｅ）、メソトリオン（Ｍｅｓｏｔｒｉｏｎｅ）、テンボトリオン（Ｔｅｍｂｏｔｒｉｏｎｅ）、及びテフリルトリオン（Ｔｅｆｕｒｙｌｔｒｉｏｎｅ）。
（１６）アリールオキシフェノキシプロピオン酸除草性化合物
クロジナホッププロパルギル（Ｃｌｏｄｉｎａｆｏｐ−ｐｒｏｐａｒｇｙｌ）、シハロホップブチル（Ｃｙｈａｌｏｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ）、ジクロホップメチル（Ｄｉｃｌｏｆｏｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、フェノキサプロップエチル（Ｆｅｎｏｘａｐｒｏｐ−ｅｔｈｙｌ）、フルアジホップブチル（Ｆｌｕａｚｉｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ）、ハロキシホップメチル（Ｈａｌｏｘｙｆｏｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、キザロホップエチル（Ｑｕｉｚａｌｏｆｏｐ−ｅｔｈｙｌ）、及びメタミホップ（Ｍｅｔａｍｉｆｏｐ）。
（１７）トリオンオキシム除草性化合物
アロキシジム（Ａｌｌｏｘｙｄｉｍ−ｓｏｄｉｕｍ）、セトキシジム（Ｓｅｔｈｏｘｙｄｉｍ）、ブトロキシジム（Ｂｕｔｒｏｘｙｄｉｍ）、クレソジム（Ｃｌｅｔｈｏｄｉｍ）、クロプロキシジム（Ｃｌｏｐｒｏｘｙｄｉｍ）、シクロキシジム（Ｃｙｃｌｏｘｙｄｉｍ）、テプラロキシジム（Ｔｅｐｒａｌｏｘｙｄｉｍ）、トラルコキシジム（Ｔｒａｌｋｏｘｙｄｉｍ）、及びプロフォキシジム（Ｐｒｏｆｏｘｙｄｉｍ）。
（１８）スルホニル尿素除草性化合物
クロルスルフロン（Ｃｈｌｏｒｓｕｌｆｕｒｏｎ）、スルホメツロンメチル（Ｓｕｌｆｏｍｅｔｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、メトスルフロンメチル（Ｍｅｔｓｕ１ｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙ１）、クロリムロンエチル（Ｃｈｌｏｒｉｍｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、トリベニュロンメチル（Ｔｒｉｂｅｎｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、トリアスルフロン（Ｔｒｉａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ベンスルフロンメチル（Ｂｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙ１）、チフェンスルフロンメチル（Ｔｈｉｆｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、ピラゾスルフロンエチル（Ｐｙｒａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｅｔｈｙ１）、プリミスルフロンメチル（Ｐｒｉｍｉｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、ニコスルフロン（Ｎｉｃｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、アミドスルフロン（Ａｍｉｄｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、シノスルフロン（Ｃｉｎｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、イマゾスルフロン（Ｉｍａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、リムスルフロン（Ｒｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ハロスルフロンメチル（Ｈａ１ｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙ１）、プロスルフロン（Ｐｒｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、エタメトスルフロンメチル（Ｅｔｈａｍｅｔｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、トリフルスルフロンメチル（Ｔｒｉｆｌｕｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、フラザスルフロン（Ｆｌａｚａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、シクロスルファムロン（Ｃｙｃ１ｏｓｕｌｆａｍｕｒｏｎ）、フルピルスルフロン（Ｆｌｕｐｙｒｓｕｌｆｕｒｏｎ）、スルホスルフロン（Ｓｕｌｆｏｓｕ１ｆｕｒｏｎ）、アジムスルフロン（Ａｚｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、エトキシスルフロン（Ｅｔｈｏｘｙｓｕｌｆｕｒｏｎ）、オキサスルフロン（Ｏｘａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ヨードスルフロンメチルナトリウム（Ｉｏｄｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ−ｓｏｄｉｕｍ）、フォラムスルフロン（Ｆｏｒａｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、メソスルフロンメチル（Ｍｅｓｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、トリフロキシスルフロン（Ｔｒｉｆｌｏｘｙｓｕｌｆｕｒｏｎ）、トリトスルフロン（Ｔｒｉｔｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、オルソスルファムロン（ｏｒｔｈｏｓｕｌｆａｍｕｒｏｎ），フルセトスルフロン（Ｆｌｕｃｅｔｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、及びプロピリスルフロン（Ｐｒｏｐｙｒｉｓｕｌｆｕｒｏｎ）。
（１９）イミダゾリノン除草性化合物
イマザメタベンズメチル（Ｉｍａｚａｍｅｔｈａｂｅｎｚ−ｍｅｔｈｙｌ）、イマザメタピル（Ｉｍａｚａｍｅｔｈａｐｙｒ）、イマザモックス（Ｉｍａｚａｍｏｘ）、イマザピル（Ｉｍａｚａｐｙｒ）、イマザキン（Ｉｍａｚａｑｕｉｎ）、イマゼタピル（Ｉｍａｚｅｔｈａｐｙｒ）等。
（２０）スルホンアミド除草性化合物
フルメトスラム（Ｆｌｕｍｅｔｓｕｌａｍ）、メトスラム（Ｍｅｔｏｓｕｌａｍ）、ジクロスラム（Ｄｉｃｌｏｓｕｌａｍ）、フロラスラム（Ｆｌｏｒａｓｕｌａｍ）、クロランスラムメチル（Ｃｌｏｒａｎｓｕｌａｍ−ｍｅｔｈｙｌ）、ペノキススラム（Ｐｅｎｏｘｓｕｌａｍ）、及びピロキススラム（Ｐｙｒｏｘｓｕｌａｍ）。
（２１）ピリミジニルオキシ安息香酸除草性化合物
ピリチオバックナトリウム（Ｐｙｒｉｔｈｉｏｂａｃ−ｓｏｄｉｕｍ）、ビスピリバックナトリウム（Ｂｉｓｐｙｒｉｂａｃ−ｓｏｄｉｕｍ）、ピリミノバックメチル（Ｐｙｒｉｍｉｎｏｂａｃ−ｍｅｔｈｙ１）、ピリベンゾキシム（Ｐｙｒｉｂｅｎｚｏｘｉｍ）、ピリフタリド（Ｐｙｒｉｆｔａｌｉｄ）、及びピリミスルファン（Ｐｙｒｉｍｉｓｕｌｆａｎ）。
（２２）その他の除草性化合物
ベンタゾン（Ｂｅｎｔａｚｏｎ）、ブロマシル（Ｂｒｏｍａｃｉｌ）、ターバシル（Ｔｅｒｂａｃｉｌ）、クロルチアミド（Ｃｈｌｏｒｔｈｉａｍｉｄ）、イソキサベン（Ｉｓｏｘａｂｅｎ）、ジノセブ（Ｄｉｎｏｓｅｂ）、アミトロール（Ａｍｉｔｒｏｌｅ）、シンメチリン（Ｃｉｎｍｅｔｈｙｌｉｎ）、トリジファン（Ｔｒｉｄｉｐｈａｎｅ）、ダラポン（Ｄａ１ａｐｏｎ）、ジフルフェンゾピルナトリウム（Ｄｉｆｌｕｆｅｎｚｏｐｙｒ−ｓｏｄｉｕｍ）、ジチオピル（Ｄｉｔｈｉｏｐｙｒ）、チアゾピル（Ｔｈｉａｚｏｐｙｒ）、フルカルバゾンナトリウム（Ｆｌｕｃａｒｂａｚｏｎｅ−ｓｏｄｉｕｍ）、プロポキシカルバゾンナトリウム（Ｐｒｏｐｏｘｙｃａｒｂａｚｏｎｅ−ｓｏｄｉｕｍ）、メフェナセット（Ｍｅｆｅｎａｃｅｔ）、フルフェナセット（Ｆｌｕｆｅｎａｃｅｔ）、フェントラザミド（Ｆｅｎｔｒａｚａｍｉｄｅ）、カフェンストロール（Ｃａｆｅｎｓｔｒｏｌｅ）、インダノファン（Ｉｎｄａｎｏｆａｎ）、オキサジクロメホン（Ｏｘａｚｉｃｌｏｍｅｆｏｎｅ）、ベンフレセート（Ｂｅｎｆｕｒｅｓａｔｅ）、ＡＣＮ、ピリデート（Ｐｙｒｉｄａｔｅ）、クロリダゾン（Ｃｈｌｏｒｉｄａｚｏｎ）、ノルフルラゾン（Ｎｏｒｆｌｕｒａｚｏｎ）、フルルタモン（Ｆｌｕｒｔａｍｏｎｅ）、ジフルフェニカン（Ｄｉｆｌｕｆｅｎｉｃａｎ）、ピコリナフェン（Ｐｉｃｏｌｉｎａｆｅｎ）、ベフルブタミド（Ｂｅｆｌｕｂｕｔａｍｉｄ）、クロマゾン（Ｃｌｏｍａｚｏｎｅ）、アミカルバゾン（Ａｍｉｃａｒｂａｚｏｎｅ）、ピノキサデン（Ｐｉｎｏｘａｄｅｎ）、ピラクロニル（Ｐｙｒａｃｌｏｎｉｌ）、ピロキサスルホン（Ｐｙｒｏｘａｓｕｌｆｏｎｅ）、チエンカルバゾンメチル（Ｔｈｉｅｎｃａｒｂａｚｏｎｅ−ｍｅｔｈｙｌ）、アミノシクロピラクロール（Ａｍｉｎｏｃｙｃｌｏｐｙｒａｃｈｌｏｒ）、イプフェンカルバゾン（Ｉｐｆｅｎｃａｒｂａｚｏｎｅ）、及びメチオゾリン（Ｍｅｔｈｉｏｚｏｌｉｎ）。
共力剤の有効成分
ピペロニル ブトキサイド（Ｐｉｐｅｒｏｎｙｌ ｂｕｔｏｘｉｄｅ）、 セサメックス（Ｓｅｓａｍｅｘ）、スルホキシド（Ｓｕｌｆｏｘｉｄｅ）、Ｎ−（２−エチルへキシル）−８，９，１０−トリノルボルン−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド（ＭＧＫ ２６４）、Ｎ−デクリイミダゾール（Ｎ−Ｄｅｃｌｙｉｍｉｄａｚｏｌｅ）、ＷＡＲＦ−アンチレジスタント（ＷＡＲＦ−ａｎｔｉｒｅｓｉｓｔａｎｔ）、ＴＢＰＴ、ＴＰＰ、ＩＢＰ、ＰＳＣＰ、ヨウ化メチル（ＣＨ₃Ｉ）、ｔ−フェニルブテノン（ｔ−Ｐｈｅｎｙｌｂｕｔｅｎｏｎｅ）、ジエチルマレエート（Ｄｉｅｔｈｙｌｍａｌｅａｔｅ）、ＤＭＣ、ＦＤＭＣ、ＥＴＰ、及びＥＴＮ。
上記の混用または併用できる有効成分のうち、特に好ましい例として、カルタップ塩酸塩、フィプロニル、メトキシフェノジド、テブフェノジド、クロチアニジン、スピノサド、スピネトラム、クロラントラニリプロール、シアントラニリプロールなどの殺虫剤の有効成分、ジクロシメット、フサライド、トリシクラゾール、ピロキロン、アゾキシストロビン、メトミノストロビン、オリサストロビン、フルトラニル、フラメトピル、チフルザミド、プロベナゾール、チアジニル、イソチアニル、バリダマイシン，カスガマイシン、フェリムゾンなどの殺菌剤の有効成分が挙げられる。

以下、製造例、製剤例、試験例等により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。

まず、本発明化合物の製造例を以下に示す。

製造例１
４−（５−ｔｅｒｔ−ブチルチオフェン−２−イルメチル）ピリジン（化合物２−１）の製造

２−ブロモ−５−ｔｅｒｔ−ブチルチオフェン１．００ｇとテトラヒドロフラン５０ｍｌとの混合物に、−７８℃で、ｎ−ブチルリチウム（１．６Ｍのヘキサン溶液）３．１３ｍｌを滴下し、−７８℃で１時間攪拌した。次に、−７８℃で、イソニコチンアルデヒド０．５２ｍｌを滴下した。−７８℃で１０分間攪拌した後、０℃まで昇温し、飽和炭酸水素ナトリウムを注加した。反応混合物を酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、（５−ｔｅｒｔ−ブチルチオフェン−２−イル）（ピリジン−４−イル）メタノール０．７１ｇを得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.34 (9H, s), 5.97 (1H, s), 6.66 (1H, d), 6.73-6.74 (1H, m), 7.38-7.39 (2H, m), 8.58 (2H, dd).
（５−ｔｅｒｔ−ブチルチオフェン−２−イル）（ピリジン−４−イル）メタノール０．７１ｇ、硫酸０．３ｍｌ、酢酸９．０ｍｌおよびＰｄ炭素（触媒量）を混合し、約１気圧の水素雰囲気下、室温で２．５時間攪拌した。反応混合物を濾過した後、濾液に水酸化ナトリウム水溶液を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、４−（５−ｔｅｒｔ−ブチルチオフェン−２−イルメチル）ピリジン０．３２ｇを得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.34 (9H, s), 4.07 (2H, s), 6.60 (1H, d), 6.64 (1H, d), 7.18 (2H, dd), 8.52 (2H, dd).
製造例２
４−（５−ｔｅｒｔ−ブチルチオフェン−２−イルメチル）−３−フルオロピリジン（化合物２−２）の製造

２−ブロモ−５−ｔｅｒｔ−ブチルチオフェン１．９５ｇとテトラヒドロフラン７０ｍｌとの混合物に、−７８℃で、ｎ−ブチルリチウム（１．６Ｍのヘキサン溶液）６．１２ｍｌを滴下し、−７８℃で１時間攪拌した。次に、−７８℃で、３−フルオロイソニコチンアルデヒド０．９８ｍｌを滴下した。−７８℃で１０分間攪拌した後、０℃まで昇温し、飽和炭酸水素ナトリウムを注加した。反応混合物を酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、（５−ｔｅｒｔ−ブチルチオフェン−２−イル）（３−フルオロピリジン−４−イル）メタノール２．０６ｇを得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.34 (9H, s), 6.28 (1H, s), 6.66 (1H, d), 6.76 (1H, d), 7.65 (1H, t), 8.40 (1H, s), 8.46 (1H, d).
（５−ｔｅｒｔ−ブチルチオフェン−２−イル）（３−フルオロピリジン−４−イル）メタノール０．７８ｇ、硫酸１．０ｍｌ、酢酸２０ｍｌおよびＰｄ炭素（触媒量）を混合し、約１気圧の水素雰囲気下、室温で３時間攪拌した。反応混合物を濾過した後、濾液に水酸化ナトリウム水溶液を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、４−（５−ｔｅｒｔ−ブチルチオフェン−２−イルメチル）−３−フルオロピリジン０．６６ｇを得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.35 (9H, s), 4.13 (2H, s), 6.64 (2H, s), 7.17 (1H, t), 8.33 (1H, d), 8.41 (1H, d).
製造例３
４−（５−ｔｅｒｔ−ブチルチオフェン−２−イルメチル）−３−メトキシピリジン（化合物２−７）の製造

４−（５−ｔｅｒｔ−ブチルチオフェン−２−イルメチル）−３−フルオロピリジン０．２１ｇ、ナトリウムメトキシド（２８％のメタノール溶液）１．６３ｇ、およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２．０ｍｌの混合物を、１２０℃で、３時間攪拌した。反応混合物に水を注加した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、４−（５−ｔｅｒｔ−ブチルチオフェン−２−イルメチル）−３−メトキシピリジン０．１４ｇを得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.34 (9H, s), 3.95 (3H, s), 4.07 (2H, s), 6.60 (1H, d), 6.63 (1H, d), 7.07 (1H, d), 8.17 (1H, d), 8.23 (1H, s).
製造例４
４−（５−ｔｅｒｔ−ブチルチオフェン−２−イルメチル）−３−（メチルチオ）ピリジン（化合物２−１０）の製造

４−（５−ｔｅｒｔ−ブチルチオフェン−２−イルメチル）−３−フルオロピリジン０．２１ｇ、ナトリウムチオメトキシド０．１２ｇ、およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２．０ｍｌの混合物を、室温で３時間攪拌した。反応混合物に水を注加した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、４−（５−ｔｅｒｔ−ブチルチオフェン−２−イルメチル）−３−（メチルチオ）ピリジン０．１３ｇを得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.34 (9H, s), 2.52 (3H, s), 4.16 (2H, s), 6.61 (1H, d), 6.64 (1H, d), 7.08 (1H, d), 8.34 (1H, d), 8.46 (1H, s).
製造例５
４−（１−ｔｅｒｔ−ブチルピラゾール−４−イルメチル）ピリジン（化合物３−３５）の製造

４−ブロモ−１−ｔｅｒｔ−ブチルピラゾール０．４０ｇとジエチルエーテル２０ｍｌとの混合物に、−７０℃で、ｎ−ブチルリチウム（１．６Ｍのヘキサン溶液）１．４８ｍｌを滴下した。次に、−７０℃で、イソニコチンアルデヒド０．２５ｇを滴下した。−７０℃で４５分間攪拌した後、室温まで昇温し、水を反応液に注加した。反応混合物を酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、（１−ｔｅｒｔ−ブチルピラゾール−４−イル）（ピリジン−４−イル）メタノール８３ｍｇを得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.55 (9H, s), 5.83 (1H, s), 7.33-7.43 (3H, m), 7.43 (1H, s), 8.55 (2H, dd).
（１−ｔｅｒｔ−ブチルピラゾール−４−イル）（ピリジン−４−イル）メタノール８２ｍｇ、硫酸０．５ｍｌ、酢酸７．０ｍｌおよびＰｄ炭素（触媒量）を混合し、約１気圧の水素雰囲気下、室温で２時間攪拌した。反応混合物を濾過した後、濾液ろ液に水酸化ナトリウム水溶液を注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮し、４−（１−ｔｅｒｔ−ブチルピラゾール−４−イルメチル）ピリジン７５ｍｇを得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.57 (9H, s), 3.82 (2H, s), 7.13 (2H, dd), 7.28 (1H, s), 7.37 (1H, s), 8.50 (2H, dd).
製造例６
４−（３−ｔｅｒｔ−ブチルピラゾール−１−イルメチル）ピリジン（化合物５−１）の製造

水素化ナトリウム０．３２ｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１．５ｍｌの混合物に３−ｔｅｒｔ−ブチルピラゾール０．４０ｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３．５ｍｌの混合物を０℃で滴下し、室温で５分間攪拌した。次に４−クロロメチルピリジン塩酸塩０．５３ｇを０℃で加え、５０℃で４０分間攪拌した。放冷した反応混合物に水を注加した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、４−（３−ｔｅｒｔ−ブチルピラゾール−１−イルメチル）ピリジン０．５６ｇを得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.33 (9H, s), 5.30 (2H, s), 6.18 (1H, d), 6.97 (2H, d), 7.29 (1H, d), 8.55 (2H, d).
製造例７
４−［３−（２，２−ジメチルプロピル）−１，２，４−トリアゾール−１−イルメチル］ピリジン（化合物６−１８）の製造

水素化ナトリウム０．２２ｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４．０ｍｌの混合物に３−（２，２−ジメチルプロピル）−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール０．３０ｇを０℃で加え、室温で５分間攪拌した。次に４−クロロメチルピリジン塩酸塩０．３５ｇを０℃で加え、５０℃で１０分間攪拌した。放冷した反応混合物に水を注加した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、４−［３−（２，２−ジメチルプロピル）−１，２，４−トリアゾール−１−イルメチル］ピリジン０．２９ｇを得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.00 (9H, s), 2.65 (2H, s), 5.33 (2H, s), 7.07 (2H, dd), 8.05 (1H, s), 8.60 (2H, dd).
以下、前述の実施製造例に記載の方法に準じた製造方法により製造される化合物を例示する。

表中、Ｍｅはメチル基（ＣＨ₃−）、Ｅｔはエチル基（ＣＨ₃ＣＨ₂−）、Ｐｒはプロピル基（ＣＨ₃ＣＨ₂ＣＨ₂−）、ｉ−Ｐｒはイソプロピル基（（ＣＨ₃）₂ＣＨ−）、ｔ−Ｂｕはｔｅｒｔ−ブチル基（（ＣＨ₃）₃Ｃ−）を表し、ｓｅｃ−Ｂｕはｓｅｃ−ブチル基（ＣＨ₃ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）−）を表す。

表中、「（Ｅ^１）_n」の列において、ｎが１である場合は、例えば「３−Ｍｅ」のように示し、これは、Ｅ^１がＨｅｔで表されるヘテロ芳香環の３位に置換したメチル基であることを意味し、ｎが０である場合は、「−」のように示し、無置換であることを意味する。

式（Ａ−１）で表される化合物。

式中のＪ−Ｌ−Ａ基、（Ｅ^１）_n、Ｑ、Ｄ、Ｇ及びｍは、下記の〔表７〕〜〔表１０〕に記載の組み合わせを表す。

式（Ａ−２）で表される化合物。

式中のＪ−Ｌ−Ａ基、（Ｅ^１）_n、Ｑ、Ｄ、Ｇ及びｍは、下記の〔表１１〕〜〔表１２〕に記載の組み合わせを表す。

式（Ａ−３）で表される化合物。

式中のＪ−Ｌ基、（Ｅ^１）_n、Ｑ、Ｄ、Ｇ及びｍは、下記の〔表１３〕〜〔表１６〕に記載の組み合わせを表す。

式（Ａ−４）で表される化合物。

式中のＪ−Ｌ基、Ｅ^１、Ｑ、Ｄ、Ｇ及びｍは、下記の〔表１７〕〜〔表１８〕に記載の組み合わせを表す。

式（Ａ−５）で表される化合物。

式中のＪ−Ｌ−Ａ基、（Ｅ^１）_n、Ｒ^ｘ、Ｒ^ｙ、Ｄ、Ｇ及びｍは、下記の〔表１９〕〜〔表２２〕に記載の組み合わせを表す。

式（Ａ−６）で表される化合物。

式中のＪ−Ｌ−Ａ基、Ｅ^１、Ｒ^ｘ、Ｒ^ｙ、Ｄ、Ｇ及びｍは、下記の〔表２３〕〜〔表２４〕に記載の組み合わせを表す。

〔表７〕〜〔表２４〕に記載した本発明化合物の物性値を下記の〔表２５〕に示す。

次に本発明化合物の製剤例を示す。なお、部は重量部を表す。

製剤例１
上述の化合物１−１から１−６８、化合物２−１から２−３４、化合物３−１から３−６８、化合物４−１から４−３４、化合物５−１から５−１０２および化合物６−１から６−３４のいずれか１種 １０部を、キシレン３５部とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３５部との混合物に溶解し、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル１４部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部を加え、混合して各々の乳剤を得る。

製剤例２
ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部および珪藻土５４部を混合し、更に上述の化合物１−１から１−６８、化合物２−１から２−３４、化合物３−１から３−６８、化合物４−１から４−３４、化合物５−１から５−１０２および化合物６−１から６−３４のいずれか１種 ２０部を加え、混合して各々の水和剤を得る。

製剤例３
上述の化合物１−１から１−６８、化合物２−１から２−３４、化合物３−１から３−６８、化合物４−１から４−３４、化合物５−１から５−１０２および化合物６−１から６−３４のいずれか１種 ２部に、合成含水酸化珪素微粉末１部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイト３０部およびカオリンクレー６５部を加え混合する。ついで、この混合物に適当量の水を加え、さらに攪拌し、造粒機で製粒し、通風乾燥して各々の粒剤を得る。

製剤例４
上述の化合物１−１から１−６８、化合物２−１から２−３４、化合物３−１から３−６８、化合物４−１から４−３４、化合物５−１から５−１０２および化合物６−１から６−３４のいずれか１種 １部を適当量のアセトンに溶解し、これに合成含水酸化珪素微粉末５部、ＰＡＰ０．３部およびフバサミクレー９３．７部を加え、充分攪拌混合し、アセトンを蒸発除去して各々の粉剤を得る。

製剤例５
ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩およびホワイトカーボンの混合物（重量比１：１）３５部と、上述の化合物１−１から１−６８、化合物２−１から２−３４、化合物３−１から３−６８、化合物４−１から４−３４、化合物５−１から５−１０２および化合物６−１から６−３４のいずれか１種 １０部と、水５５部とを混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、各々の製剤を得る。

製剤例６
上述の化合物１−１から１−６８、化合物２−１から２−３４、化合物３−１から３−６８、化合物４−１から４−３４、化合物５−１から５−１０２および化合物６−１から６−３４のいずれか１種 ０．１部をキシレン５部およびトリクロロエタン５部に溶解し、これを脱臭灯油８９．９部に混合して各々の油剤を得る。

製剤例７
上述の化合物１−１から１−６８、化合物２−１から２−３４、化合物３−１から３−６８、化合物４−１から４−３４、化合物５−１から５−１０２および化合物６−１から６−３４のいずれか１種 １０ｍｇをアセトン０．５ｍｌに溶解し、この溶液を、動物用固形飼料粉末（飼育繁殖用固形飼料粉末ＣＥ−２、日本クレア株式会社商品）５ｇに処理し、均一に混合する。ついでアセトンを蒸発乾燥させて各々の毒餌を得る。

製剤例８
上述の化合物１−１から１−６８、化合物２−１から２−３４、化合物３−１から３−６８、化合物４−１から４−３４、化合物５−１から５−１０２および化合物６−１から６−３４のいずれか１種 ０．１部、ネオチオゾール（中央化成株式会社）４９．９部をエアゾール缶に入れ、エアゾールバルブを装着した後、ジメチルエーテル２５部、ＬＰＧ２５部を充填し振とうを加え、アクチュエータを装着することで油剤エアゾールを得る。

製剤例９
上述の化合物１−１から１−６８、化合物２−１から２−３４、化合物３−１から３−６８、化合物４−１から４−３４、化合物５−１から５−１０２および化合物６−１から６−３４のいずれか１種 ０．６部、ＢＨＴ（２，６−ジ−tert−ブチル−４−メチルフェノール）０．０１部、キシレン５部、脱臭灯油３．３９部および乳化剤｛アトモス３００（アトモスケミカル社登録商標名）｝１部を混合溶解したものと、蒸留水５０部とをエアゾール容器に充填し、バルブを装着した後、該バルブを通じて噴射剤（ＬＰＧ）４０部を加圧充填して水性エアゾールを得る。
製剤例１０
上述の化合物１−１から１−６８、化合物２−１から２−３４、化合物３−１から３−６８、化合物４−１から４−３４、化合物５−１から５−１０２および化合物６−１から６−３４のいずれか１種を５部及びフェリムゾン５部を、ラウリル硫酸ナトリウム４部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、合成含水酸化珪素微粉末２０部及び珪藻土残部を混合した中に加え、よく攪拌混合して水和剤１００部を得る。
製剤例１１〜２５
フェリムゾン５部に代えて、［表２６］記載のそれぞれの化合物及び使用量で適用した以外は製剤例１０と同様の操作を行い、それぞれの水和剤１００部を得る。

次に、本発明化合物の有害生物防除効力を試験例により示す。

試験例１
製剤例５により得られた本発明化合物の製剤を本発明化合物の濃度が５００ｐｐｍとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。

ポリエチレンカップに植えた第２葉展開期のイネ幼苗に、上記試験用薬液１０ｍｌを散布した。風乾後、トビイロウンカの３〜４齢幼虫を２０頭放して、２５℃の温室内に保管した。６日後イネに寄生したトビイロウンカの数を調査し、下式により防除価を求めた。

防除価（％）＝｛１−（Ｃｂ×Ｔａｉ）／（Ｃａｉ×Ｔｂ）｝×１００
なお、式中の文字は以下の意味を表す。

Ｃｂ：無処理区の処理前の虫数
Ｃａｉ：無処理区の観察時の虫数
Ｔｂ：処理区の処理前の虫数
Ｔａｉ：処理区の観察時の虫数
その結果、下記の本発明化合物の試験用散布液の処理区が、防除価９０％以上を示した。
化合物２−１、２−７、２−８、２−１０、５−１、５−１８。

試験例２
製剤例５により得られた本発明化合物の製剤を本発明化合物の濃度が５００ｐｐｍとなるように水で希釈し、試験用散布液を調製した。

一方、プラスチックカップに植えたキュウリ幼苗（第１本葉展開期）にワタアブラムシ約３０頭を接種し、１日間放置した。この幼苗に、前記希釈液２０ｍｌを各々散布した。

散布６日後に該キュウリの葉上に寄生したワタアブラムシ生存虫数を調査し、以下の式により防除価を求めた。

防除価（％）＝｛１−（Ｃｂ×Ｔａｉ）／（Ｃａｉ×Ｔｂ）｝×１００
なお、式中の文字は以下の意味を表す。

Ｃｂ：無処理区の処理前の虫数
Ｃａｉ：無処理区の観察時の虫数
Ｔｂ：処理区の処理前の虫数
Ｔａｉ：処理区の観察時の虫数
その結果、下記の本発明化合物の試験用散布液の処理区が、防除価９０％以上を示した。
化合物２−１、２−２、２−７、２−１０、５−１。

試験例３
製剤例５により得られた本発明化合物の製剤を本発明化合物の濃度が２００ｐｐｍとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。

ポリエチレンカップに植えた第２葉展開期のイネ幼苗に、上記試験用薬液１０ｍｌを散布した。風乾後、トビイロウンカの３〜４齢幼虫を２０頭放して、２５℃の温室内に保管した。６日後イネに寄生したトビイロウンカの数を調査し、下式により防除価を求めた。

防除価（％）＝｛１−（Ｃｂ×Ｔａｉ）／（Ｃａｉ×Ｔｂ）｝×１００
なお、式中の文字は以下の意味を表す。

Ｃｂ：無処理区の処理前の虫数
Ｃａｉ：無処理区の観察時の虫数
Ｔｂ：処理区の処理前の虫数
Ｔａｉ：処理区の観察時の虫数
その結果、下記の本発明化合物の試験用散布液の処理区が、防除価９０％以上を示した。

化合物３−３５。

試験例４
製剤例５により得られた本発明化合物の製剤を本発明化合物の濃度が２００ｐｐｍとなるように水で希釈し、試験用散布液を調製した。

一方、プラスチックカップに植えたキュウリ幼苗（第１本葉展開期）にワタアブラムシ約３０頭を接種し、１日間放置した。この幼苗に、前記希釈液２０ｍｌを各々散布した。

散布６日後に該キュウリの葉上に寄生したワタアブラムシ生存虫数を調査し、以下の式により防除価を求めた。

防除価（％）＝｛１−（Ｃｂ×Ｔａｉ）／（Ｃａｉ×Ｔｂ）｝×１００
なお、式中の文字は以下の意味を表す。

Ｃｂ：無処理区の処理前の虫数
Ｃａｉ：無処理区の観察時の虫数
Ｔｂ：処理区の処理前の虫数
Ｔａｉ：処理区の観察時の虫数
その結果、下記の本発明化合物の試験用散布液の処理区が、防除価９０％以上を示した。

化合物３−３５。

本発明化合物は、有害生物の防除に有用である。

Claims (21)

1. 式（１）
   

   

   〔式中、
   Ｈｅｔは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群より選ばれる１個以上のヘテロ原子を含む５または６員へテロ芳香環を表し（ここで、ＡおよびＱはそれぞれ、該５または６員へテロ芳香環を構成する炭素原子または窒素原子に結合し、Ａが結合した原子とＱが結合した原子とが該５または６員へテロ芳香環上で互いに隣接することはない。該５または６員へテロ芳香環は、Ａ及びＱが結合した原子と共に、−ＣＥ^１＝、−Ｎ＝、−Ｏ−、−Ｓ−および−ＮＥ^２−からなる群より選ばれる３もしくは４個の原子または基から構成され、Ｅ^１は１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ２アルキル基、水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｅ^２は１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ２アルキル基を表す。）、
   Ｊは、下式Ｊ１またはＪ２：
   

   

   （式中、
   Ｒ¹およびＲ²は、同一または相異なり、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、
   Ｒ³は、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基、ハロゲン原子または水素原子を表し、
   Ｒ⁴およびＲ⁵は、同一または相異なり、Ｃ１−Ｃ３アルキル基を表し、
   Ｒ⁶は、水素原子またはＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基を表す。）で示される基を表し、
   Ｌは、単結合または１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ３アルキレン基を表し、
   Ａは、ＡがＨｅｔで表される該５または６員へテロ芳香環を構成する炭素原子に結合する場合には、単結合、−Ｏ−、または−Ｓ（Ｏ）_x−を表し（ここで、ｘは、０、１または２を表す。）、ＡがＨｅｔで表される該５または６員へテロ芳香環を構成する窒素原子に結合する場合には、単結合を表し、
   Ｑは、ＱがＨｅｔで表される該５または６員へテロ芳香環を構成する炭素原子に結合する場合には、下式Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３またはＱ４：
   

   

   （式中、
   Ｒ^xおよびＲ^yは、同一または相異なり、＜群α＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基、シアノ基、ハロゲン原子、水素原子またはシクロプロピル基を表し、
   ｙは０、１または２を表し、
   Ｒ^zは、＜群α＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基、−Ｃ（Ｏ）−Ｔ¹、−Ｓ（Ｏ）₂−Ｔ²、水素原子またはシクロプロピル基を表し、
   Ｔ¹は、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ６アルキルアミノ基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ２−Ｃ１２ジアルキルアミノ基、水酸基、アミノ基、水素原子またはシクロプロピル基を表し、
   Ｔ²は、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基を表す。）で示される基を表し、
   ＱがＨｅｔで表される該５または６員へテロ芳香環を構成する窒素原子に結合する場合には、Ｑは式Ｑ１で示される基を表し、
   Ｇは、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、メルカプト基もしくはアミノ基を表すか、または、下式Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３もしくはＧ４：
   

   

   ｛式中、
   Ｒ^aは、＜群β＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基、シクロプロピル基または−Ｃ（Ｏ）−Ｔ¹を表し、
   Ｒ^bは、＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基、−Ｃ（Ｏ）−Ｔ¹、−Ｓ（Ｏ）₂−Ｔ²、Ｃ３−Ｃ９トリアルキルシリル基またはシクロプロピル基を表し、
   Ｒ^cは、＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基、−Ｃ（Ｏ）−Ｔ¹またはシクロプロピル基を表し、
   ｚは０、１または２を表し、
   Ｒ^dは、＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基、−Ｃ（Ｏ）−Ｔ¹、−Ｓ（Ｏ）₂−Ｔ²またはシクロプロピル基を表し、
   Ｒ^eは、＜群γ＞より選ばれる１個以上の原子もしくは基を有していてもよいＣ１−Ｃ６鎖式炭化水素基、水素原子またはシクロプロピル基を表す。
   （ここで、Ｔ¹およびＴ²は前述と同義であるが、Ｇが式Ｇ２、Ｇ３またはＧ４で示される基の場合には、Ｔ¹は、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ６アルキルアミノ基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ２−Ｃ１２ジアルキルアミノ基、アミノ基、水素原子またはシクロプロピル基を表す。）｝で示される基を表し、
   Ｄは−Ｎ＝または−ＣＨ＝を表し、
   ｍは０または１を表す。
   ＜群α＞：ハロゲン原子、シアノ基およびシクロプロピル基からなる群、
   ＜群β＞：１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ４アルコキシ基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキルチオ基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキルスルフィニル基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキルスルホニル基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキルアミノ基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ２−Ｃ８ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ３−Ｃ９トリアルキルシリル基およびシクロプロピル基からなる群、
   ＜群γ＞：１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ４アルコキシ基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキルチオ基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキルスルフィニル基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキルスルホニル基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ４アルキルアミノ基、１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ２−Ｃ８ジアルキルアミノ基、フェニル基（該フェニル基は、メチル基、メトキシ基、塩素原子およびニトロ基からなる群より選ばれる１個以上の基を有していてもよい。）、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ３−Ｃ９トリアルキルシリル基およびシクロプロピル基からなる群。〕
   で示されるヘテロ芳香環化合物。
2. Ｈｅｔが下式Ｈ１またはＨ２：
   

   

   （式中、
   Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３およびＸ^４は、同一または相異なり、−ＣＥ^１＝または−Ｎ＝を表す。
   但し、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３およびＸ^４のうちの少なくとも１つは−Ｎ＝を表す。）
   で示される環である請求項１に記載のヘテロ芳香環化合物。
3. Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３およびＸ^４のうちの１つが−Ｎ＝であり、それ以外が、同一または相異なり、−ＣＥ^１＝である請求項２に記載のヘテロ芳香環化合物。
4. Ｈｅｔが式Ｈ１で示される環である請求項３に記載のヘテロ芳香環化合物。
5. Ｈｅｔが下式Ｈ３、Ｈ４またはＨ５：
   

   

   （式中、
   Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３のうちの１つは、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＥ^２−を表し、残りの２つは、同一または相異なり、−ＣＥ^１＝または−Ｎ＝を表し、
   Ｚ^１、Ｚ^２およびＺ^３は、同一または相異なり、−ＣＥ^１＝または−Ｎ＝を表す。）
   で示される環である請求項１に記載のヘテロ芳香環化合物。
6. Ｈｅｔが式Ｈ３で示される環である請求項５に記載のヘテロ芳香環化合物。
7. Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３のうちの１つが−Ｓ−である請求項６に記載のヘテロ芳香環化合物。
8. Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３のうちの１つが−Ｓ−であり、それ以外が、同一または相異なり、−ＣＥ^１＝である請求項７に記載のヘテロ芳香環化合物。
9. Ｙ^１が−Ｓ−である請求項７に記載のヘテロ芳香環化合物。
10. Ｙ^１が−Ｓ−であり、Ｙ^２およびＹ^３が、同一または相異なり、−ＣＥ^１＝である請求項９に記載のヘテロ芳香環化合物。
11. Ｈｅｔが式Ｈ４で示される環である請求項５に記載のヘテロ芳香環化合物。
12. Ｚ^１が−Ｎ＝であり、Ｚ^２が−ＣＥ^１＝であり、かつ、Ｚ^３が−ＣＥ^１＝または−Ｎ＝であるか、あるいは、Ｚ^１が−ＣＥ^１＝であり、Ｚ^２が−Ｎ＝であり、かつ、Ｚ^３が−ＣＥ^１＝である請求項１１に記載のヘテロ芳香環化合物。
13. Ｚ^１が−Ｎ＝であり、Ｚ^２およびＺ^３が同一または相異なり−ＣＥ^１＝であるか、あるいは、Ｚ^２が−Ｎ＝であり、Ｚ^１およびＺ^３が同一または相異なり−ＣＥ^１＝である請求項１２に記載のヘテロ芳香環化合物。
14. Ｈｅｔが式Ｈ５で示される環である請求項５に記載のヘテロ芳香環化合物。
15. Ｚ^１が−Ｎ＝であり、Ｚ^２が−ＣＥ^１＝であり、かつ、Ｚ^３が−ＣＥ^１＝または−Ｎ＝であるか、あるいは、Ｚ^１が−ＣＥ^１＝であり、Ｚ^２が−Ｎ＝であり、かつ、Ｚ^３が−ＣＥ^１＝である請求項１４に記載のヘテロ芳香環化合物。
16. Ｚ^１が−Ｎ＝であり、Ｚ^２およびＺ^３が同一または相異なり−ＣＥ^１＝であるか、あるいは、Ｚ^２が−Ｎ＝であり、Ｚ^１およびＺ^３が同一または相異なり−ＣＥ^１＝である請求項１５に記載のヘテロ芳香環化合物。
17. Ｈｅｔが、窒素原子、および硫黄原子からなる群より選ばれる１個以上のヘテロ原子を含む５または６員へテロ芳香環であり（ここで、ＡおよびＱはそれぞれ、該５または６員へテロ芳香環を構成する炭素原子または窒素原子に結合し、Ａが結合した原子とＱが結合した原子とが該５または６員へテロ芳香環上で互いに隣接することはない。該５または６員へテロ芳香環は、Ａ及びＱが結合した原子と共に、−ＣＥ^１＝、−Ｎ＝および−Ｓ−からなる群より選ばれる３もしくは４個の原子または基から構成され、Ｅ^１は１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ２アルキル基、水素原子またはハロゲン原子である。）、
    Ｊが、式Ｊ１またはＪ２（Ｒ¹およびＲ²が、同一または相異なり、Ｃ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ³が、Ｃ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であり、Ｒ⁴およびＲ⁵が、同一または相異なり、Ｃ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ⁶が、Ｃ１−Ｃ６鎖式炭化水素基である。）で示される基であり、
    Ｌが、単結合またはＣ１−Ｃ３アルキレン基であり、
    Ａが単結合であり、
    Ｑが式Ｑ１（Ｒ^xおよびＲ^yが、水素原子である。）で示される基であり、
    Ｇが、水素原子、ハロゲン原子、または、式Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３もしくはＧ４｛Ｒ^aは、Ｃ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であり、Ｒ^bは、Ｃ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であり、Ｒ^cは、Ｃ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であり、ｚが０、１または２であり、Ｒ^dが、Ｃ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であり、Ｒ^eが、Ｃ１−Ｃ６鎖式炭化水素基である。｝で示される基であり、
    Ｄが−ＣＨ＝であり、
    ｍが０である請求項１記載のヘテロ芳香環化合物。
18. Ｈｅｔが、窒素原子、および硫黄原子からなる群より選ばれる１個以上のヘテロ原子を含む５員へテロ芳香環であり（ここで、ＡおよびＱはそれぞれ、該５員へテロ芳香環を構成する炭素原子または窒素原子に結合し、Ａが結合した原子とＱが結合した原子とが該５員へテロ芳香環上で互いに隣接することはない。該５員へテロ芳香環は、Ａ及びＱが結合した原子と共に、−ＣＥ^１＝、−Ｎ＝および−Ｓ−からなる群より選ばれる３個の原子または基から構成され、Ｅ^１は１個以上のハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ２アルキル基、水素原子またはハロゲン原子である。）、
    Ｊが、式Ｊ１（Ｒ¹およびＲ²が、同一または相異なり、Ｃ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ³が、Ｃ１−Ｃ６鎖式炭化水素基である。）で示される基であり、
    Ｌが、単結合またはＣ１−Ｃ３アルキレン基であり、
    Ａが単結合であり、
    Ｑが式Ｑ１（Ｒ^xおよびＲ^yが、水素原子である。）で示される基であり、
    Ｇが、水素原子、ハロゲン原子、または、式Ｇ２もしくはＧ３｛Ｒ^bは、Ｃ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であり、Ｒ^cは、Ｃ１−Ｃ６鎖式炭化水素基であり、ｚが０である。｝で示される基であり、
    Ｄが−ＣＨ＝であり、
    ｍが０である請求項１記載のヘテロ芳香環化合物。
19. 請求項１〜１８のいずれか一項に記載のヘテロ芳香環化合物と不活性担体とを含有する有害生物防除剤。
20. 有害生物を防除するための請求項１〜１８のいずれか一項に記載のヘテロ芳香環化合物の使用。
21. 請求項１〜１８のいずれか一項に記載のヘテロ芳香環化合物の有効量を有害生物又は有害生物の生息場所に施用する工程を含む有害生物の防除方法。