JP2012099580A - フォトダイオードアレイ - Google Patents

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Abstract

【課題】著しく時間分解能を向上可能なフォトダイオードアレイを提供することを目的とする。
【解決手段】 このフォトダイオードアレイ10は、それぞれのアバランシェフォトダイオードAPDに対して直列に接続されたクエンチング抵抗7と、複数のアバランシェフォトダイオードAPDが形成された領域を囲む外周配線WLと、外周配線WLに電気的に接続され、外周配線WLの少なくとも2箇所間をそれぞれが接続する複数の中継配線8とを備えている。個々のアバランシェフォトダイオードAPDのアノード及びカソードの一方は、クエンチング抵抗7を介して、中継配線8のいずれかに電気的に接続され、個々のアバランシェフォトダイオードAPDのアノード及びカソードの他方は、半導体基板に設けられた別の電極6に電気的に接続されている。
【選択図】図1

Description

本発明は、フォトダイオードアレイに関する。
Multi-PixelPhoton Counter(MPPC:登録商標)は、ガイガーモードで動作する複数のアバランシェ・フォトダイオード(APD)からなるフォトダイオードアレイとして知られている。複数のAPDは並列に接続されており、これらには降伏電圧以上の逆バイアス電圧が印加され、ガイガーモードで動作する。MPPCは、アバランシェフォトダイオードに直列に接続されたクエンチング抵抗を備えている。このクエンチング抵抗にアバランシェフォトダイオードからの電流が流れることで、アバランシェフォトダイオードへのバイアス電圧は降伏電圧まで降下し、しかる後、再充電によって、逆バイアス電圧が、ガイガーモード時の電圧にまで戻る。
MPPCは、他の検出器に比べて時間特性がよいため、Time-Of-Flight(TOF)計測方式のPET(Positron Emission Tomography)装置等の検出器として用いることが有望視されている。PET装置における光子の計測においては、更に高い時間分解能が要求されている。時間分解能を向上させるには、MPPCから出力波形の形状を鋭くする必要がある。下記非特許文献1には、クエンチング抵抗に対して、並列な容量(Cq)を付加することで、出力パルスが鋭くなり、時間分解能が向上することが示されている。
H.Otono, etal.,「On the basic mechanism of Pixelized PhotonDetectors」Nucl. Instr. and Meth. A610(2009)397.
しかしながら、実際のデバイスにおいて、如何に並列容量を付加するかは重要な問題であり、単純に容量を追加した場合には、キャパシタと抵抗による時定数が増加し、時間分解能が低下する可能性もある。本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、従来よりも、著しく時間分解能を向上可能なフォトダイオードアレイを提供することを目的とする。
上述の課題を解決するため、本発明に係る第1のフォトダイオードアレイは、フォトダイオードアレイにおいて、半導体基板内に形成された複数のアバランシェフォトダイオードと、それぞれのアバランシェフォトダイオードに対して直列に接続されたクエンチング抵抗と、複数の前記アバランシェフォトダイオードが形成された領域を囲む外周配線と、前記外周配線に電気的に接続され、前記外周配線の少なくとも2箇所間をそれぞれが接続する複数の中継配線と、を備え、前記外周配線の単位長さ当たりの抵抗値は、前記中継配線の単位長さ当たりの抵抗値よりも小さく、個々の前記アバランシェフォトダイオードのアノード及びカソードの一方は、前記クエンチング抵抗を介して、前記中継配線のいずれかに電気的に接続され、個々の前記アバランシェフォトダイオードのアノード及びカソードの他方は、前記半導体基板に設けられた別の電極に電気的に接続されていることを特徴とする。
この場合、中継配線からの電流は、抵抗値の低い外周配線の少なくとも2箇所のうちの何れか近い方(信号伝達経路での抵抗の低い方)を多く流れて外部に取り出されることになるため、信号読出し経路における抵抗値を低減することができるので、時定数が小さくなり、したがって、時間分解能が向上する。
本発明に係る第2のフォトダイオードアレイは、前記外周配線に電気的に接続され、前記外周配線の少なくとも2箇所間を接続し、前記中継配線の単位長さ当たりの抵抗値よりも、自身の単位長さ当たりの抵抗値が小さい横断配線を更に備え、それぞれの前記中継配線の一端は、前記外周配線に代えて、前記横断配線に電気的に接続されていることを特徴とする。
この場合、中継配線からの電流は抵抗値の低い外周配線との接続箇所か、横断配線との接続箇所のうちの何れか近い方(信号伝達経路での抵抗の低い方)を多く流れて外部に取り出されることになるため、信号読出し経路における抵抗値を更に低減することができるので、時定数が小さくなり、したがって、時間分解能が向上する。
本発明に係る第3のフォトダイオードアレイは、それぞれの前記クエンチング抵抗にそれぞれ並列に接続されたキャパシタを更に備えていることを特徴とする。
この場合、時間分解能が更に向上する。
本発明に係る第4のフォトダイオードアレイでは、それぞれの前記アバランシェフォトダイオードのアノード及びカソードの一方は、リング状電極に電気的に接続されており、前記中継配線は、前記リング状電極から離間し、前記リング状電極を囲むように延びた導電性の外周領域を備えており、前記キャパシタは、前記中継配線から延びた前記外周領域と、前記リング状電極と、を有していることを特徴とする。
この場合、キャパシタを平面的に構成することができ、時間分解能が向上する。
本発明に係る第5のフォトダイオードアレイは、第4のフォトダイオードアレイにおいて、前記中継配線間に平行に延びた中間配線を更に備え、前記中間配線は、前記外周配線の少なくとも2箇所間をそれぞれが接続しており、前記外周領域は、前記中間配線に連続していることを特徴とする。
この場合、キャパシタを平面的に構成することができ、時間分解能が向上することが確認された。
本発明に係る第6のフォトダイオードアレイでは、第4のフォトダイオードアレイにおいて、それぞれの前記中継配線には、その両側に前記外周領域が接続されており、互いに隣接する前記中継配線に関して、互いに隣接する前記外周領域は離間していることを特徴とする。
この場合、キャパシタを平面的に構成することができ、時間分解能が向上することが確認された。
本発明に係る第7のフォトダイオードアレイでは、それぞれの前記中継配線は、その中心線に沿った領域が開口していることを特徴とする。
この場合、キャパシタを平面的に構成することができ、時間分解能が向上することが確認された。また、中継配線の配線容量が低減される。
本発明に係る第8のフォトダイオードアレイでは、上述のいずれかのフォトダイオードアレイにおいて、前記キャパシタは、前記クエンチング抵抗上に、絶縁層を介して、形成された被覆配線を有しており、この被覆配線の一端は、前記クエンチング抵抗の一端に電気的に接続されていることを特徴とする。
この場合、キャパシタを積層により立体的に構成することができるため、素子密度を向上させることができ、また、時間分解能が向上することが確認された。
本発明に係る第8のフォトダイオードアレイでは、それぞれの前記アバランシェフォトダイオードのアノード及びカソードの一方は、リング状電極に電気的に接続されており、前記リング状電極のアスペクト比は、2以上であることを特徴とする。
この場合、中継配線と、離間して並走するリング状電極との間でキャパシタが構成されているが、アスペクト比が大きいために、キャパシタの容量を大きくすることができる。したがって、リング状電極の開口率に対するキャパシタの比率が大きくなり、キャパシタの素子密度が高くなる。したがって、リング状電極を小さくして空間分解能を高めることも可能であり、また、時間分解能が向上することが確認された。
本発明のフォトダイオードアレイによれば、著しく時間分解能を向上させることが可能である。
フォトダイオードアレイの平面図である。 フォトダイオードアレイの拡大平面図である。 図2に示したフォトダイオードアレイのIII−III矢印線断面図である。 図2に示したフォトダイオードアレイのIV−IV矢印線断面図である。 フォトダイオードアレイの拡大平面図である。 図5に示したフォトダイオードアレイのVI−VI矢印線断面図である。 図5に示したフォトダイオードアレイのVII−VII矢印線断面図である。 配線の平面図である。 フォトダイオードアレイの拡大平面図である。 図9に示したフォトダイオードアレイのX−X矢印線断面図である。 図9に示したフォトダイオードアレイのXI−XI矢印線断面図である。 フォトダイオードアレイの拡大平面図である。 図12に示したフォトダイオードアレイのXIII−XIII矢印線断面図である。 図12に示したフォトダイオードアレイのXIV−XIV矢印線断面図である。 フォトダイオードアレイの拡大平面図である。 図15に示したフォトダイオードアレイのXVI−XVI矢印線断面図である。 図15に示したフォトダイオードアレイのXVII−XVII矢印線断面図である。 フォトダイオードアレイの拡大平面図である。 図18に示したフォトダイオードアレイのXIX−XIX矢印線断面図である。 図18に示したフォトダイオードアレイのXX−XX矢印線断面図である。 フォトダイオードアレイの拡大平面図である。 図21に示したフォトダイオードアレイのXXII−XXII矢印線断面図である。 図21に示したフォトダイオードアレイのXXIII−XXIII矢印線断面図である。 フォトダイオードアレイの平面図である。 図2に示したフォトダイオードアレイの顕微鏡写真を示す図である。 図5に示したフォトダイオードアレイの顕微鏡写真を示す図である。 図9に示したフォトダイオードアレイの顕微鏡写真を示す図である。 図12に示したフォトダイオードアレイの顕微鏡写真を示す図である。 図15に示したフォトダイオードアレイの顕微鏡写真を示す図である。 図18に示したフォトダイオードアレイの顕微鏡写真を示す図である。 図21に示したフォトダイオードアレイの顕微鏡写真を示す図である。 図24に示したフォトダイオードアレイの顕微鏡写真を示す図である。 フォトダイオードアレイの回路図である。 アバランシェフォトダイオードとクエンチング抵抗を含む検出部の等価回路を示す図である。 フォトダイオードアレイを備えた放射線検出器を示す図である。
以下、実施の形態に係るフォトダイオードアレイについて説明する。なお、同一要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。
図1は、フォトダイオードアレイ10の平面図である。
図示の如く、XYZ直交座標系を設定すると、フォトダイオードアレイ10の厚み方向はZ軸に一致し、フォトダイオードアレイ10の光入射面はXY平面に一致する。フォトダイオードアレイ10は、半導体基板20を備えているが、半導体基板20の形状は長方形であり、各辺はX軸又はY軸に平行である。
フォトダイオードアレイ10は、半導体基板20内に形成された複数のアバランシェフォトダイオードAPDを備えている。それぞれのアバランシェフォトダイオードAPDに対しては、クエンチング抵抗7が直列に接続されている。複数のアバランシェフォトダイオードAPDが形成された領域は、外周配線WLによって囲まれている。外周配線WLの外側には金属等からなる遮光層SL等を設けることができる。外周配線WLの外形は、矩形環状であって、各辺がX軸又はY軸に沿って延びており、X軸に沿って延びた電極パッドPに接続されている。外周配線WLには、複数の中継配線8が電気的に接続されている。複数の中継配線8は、それぞれがY軸に沿って延びており、外周配線WLの少なくとも2箇所(Y軸に沿った両端に位置する部位)間をそれぞれが接続している。
外周配線WLの単位長さ当たりの抵抗値は、中継配線8の単位長さ当たりの抵抗値よりも小さい。すなわち、外周配線WL及び中継配線8が同一の導電材料(例:アルミニウム)からなり、外周配線WLがY軸に沿って延びている場合、そのXZ断面の面積は、中継配線8のXZ断面の面積よりも大きい。また、外周配線WLがX軸に沿って延びている場合、そのYZ断面の面積は、中継配線8のXZ断面の面積よりも大きい。なお、図8は、配線の平面図である。外周配線WLと中継配線8の厚みが同じ場合には、外周配線WLの幅W1は、中継配線8の幅W2よりも広くなる。
個々のアバランシェフォトダイオードAPDのアノード及びカソードの一方は、クエンチング抵抗7を介して、中継配線8のいずれかに電気的に接続され、個々のアバランシェフォトダイオードAPDのアノード及びカソードの他方は、半導体基板20に設けられた別の電極6(図3参照:本例では裏面電極)に電気的に接続されている。なお、別の電極6は、アノード及びカソードの他方に電気的に接続できる構成であれば、半導体基板20の表面側に設けることとしてもよい。
上述のように、フォトダイオードアレイ10が外周配線WLを備える場合、アバランシェフォトダイオードAPDからの電流は、中継配線8、及び、中継配線8と外周配線WLとの接続箇所(本例では2箇所)のうちの何れか近い方(電極パッドPまでの信号伝達経路での抵抗の低い方)を多く流れるように、外周配線WL内を通って、電極パッドPに流れ、外部に取り出されることになる。このように、外周配線WLを備える場合、信号読出し経路における抵抗値を低減することができるので、時定数が小さくなり、したがって、フォトダイオードアレイの時間分解能を向上させることができる。
例えば、図1における左下に位置するアバランシェフォトダイオードAPDからの電流は、中継配線8においては、Y軸の負方向に流れた後、バイパス経路としての外周配線WLとの接続点Q1に流れ込み、その後、外周配線WL内をX軸の負方向に進行した後、Y軸の正方向に沿って進行し、更に、X軸の正方向に沿って進行して、電極パッドPに至る経路に多く流れることになる。
また、図1における左上に位置するアバランシェフォトダイオードAPDからの電流は、中継配線8においては、Y軸の正方向に流れた後、バイパス経路としての外周配線WLとの接続点Q2に流れ込み、その後、外周配線WL内をX軸の正方向に沿って進行して、電極パッドPに至る経路に多く流れることになる。なお、中継配線8は、外周配線WLの2箇所において接続されているが、これは3箇所以上の接続点を有していてもよい。例えば、中継配線8の形状が十字架形状である場合には、外周配線WLと4箇所で接続することが可能であり、放射状に延びたり、屈曲したり、或いは、分岐していれば、接続箇所を3以上とすることができる。
上述のフォトダイオードアレイ10では、1つの中継配線8に対して、その両側に複数のアバランシェフォトダイオードAPDが配置され、アバランシェフォトダイオードAPDのそれぞれは、クエンチング抵抗7を介して、中継配線8に接続されている。以下、アバランシェフォトダイオードAPDの周辺構造について詳説する。
図2は、第1のタイプのフォトダイオードアレイの拡大平面図、図3は、図2に示したフォトダイオードアレイのIII−III矢印線断面図、図4は、図2に示したフォトダイオードアレイのIV−IV矢印線断面図である。
このフォトダイオードアレイでは、半導体基板20は、第1半導体層1と、第1半導体層1上に形成された第2半導体層2と、第2半導体層2内に形成された第3半導体層3とを備えている。第1半導体層1、第2半導体層2、及び第3半導体層3の導電型は、それぞれ、第1導電型(N型)、第2導電型(P型)、第2導電型(P型)である。この場合、第1半導体層1と第2半導体層2との間にPN接合が形成され、各リング状電極5の直下のPN接合から広がる空乏層内で発生したキャリアが、第3半導体層3を介して、各リング状電極5において収集される。このPN接合からなるアバランシェフォトダイオードAPDには、逆バイアスが印加される。なお、空乏層内では、光Lの入射に応じてキャリアが発生する。第2半導体層2は、良好な結晶性のものを得るという観点から、第1半導体層(基板)1の表面へのエピタキシャル成長によって形成することが好ましい。第3半導体層3は、第2半導体層2への不純物のイオン注入又は拡散により形成することができる。
なお、第3半導体層3の不純物濃度は、第2半導体層2の不純物濃度よりも高い。半導体基板20は、好適にはSiから構成されており、N型の不純物としては5価のアンチモンやリン、P型の不純物としては3価のボロンを用いることができる。
また、リング状電極5の寸法(好適範囲)は、以下の通りである。
線幅:3μm(2〜5μm)
X軸方向寸法:50μm(10〜100μm)
Y軸方向寸法:50μm(10〜100μm)
開口面積:2500μm(100μm〜10000μm
また、詳細な説明における各タイプのフォトダイオードアレイにおいて、第1半導体層1、第2半導体層2、及び第3半導体層3の導電型は、それぞれ、第1導電型(N型)、第1導電型(N型)、第2導電型(P型)とすることも可能である。この場合には、第2半導体層2と第3半導体層3との間にPN接合が形成され、各リング状電極5の直下のPN接合から広がる空乏層内で発生したキャリアが、第3半導体層3を介して、各リング状電極5において収集される。このPN接合からなるアバランシェフォトダイオードAPDには、逆バイアスが印加される。
もちろん、説明において、上記とは逆に、第1導電型をP型とし、第2導電型をN型とすることも可能であり、この場合には、バイアスの印加方向が、上記とは逆になる。
第3半導体層3上には、SiOからなる絶縁層4が形成されており、絶縁層4にはリング状電極5が形成されている。リング状電極5は、絶縁層4に設けられた開口を介して、第3半導体層3に接続されている。リング状電極5の平面形状は、矩形環状であり、リング状電極5の一端は、必要に応じて適当な導電層を介して、クエンチング抵抗(層)7の一端に接続されている。X軸に沿って延びたクエンチング抵抗7は、ポリシリコンから形成され、リング状電極5、中継配線8及び外周配線はアルミニウムから形成される。ポリシリコンの体積抵抗率は、アルミニウムの体積抵抗率よりも高い。クエンチング抵抗7は、絶縁層4上に形成されており、クエンチング抵抗7の他端は、Y軸に沿って延びる中継配線8に電気的に接続されている。
半導体基板20の裏面には、別の電極6が設けられているが、第1半導体層1がN型である場合には、この電極6はカソード電極となり、リング状電極5はアノード電極となり、これらの電極に挟まれた領域が、それぞれアバランシェフォトダイオードAPDを構成している。これらのカソード電極とアノード電極との間には逆バイアス電圧Vopが印加される。
図33は、フォトダイオードアレイの回路図である。フォトダイオードアレイを構成する各アバランシェフォトダイオードAPDは、それぞれクエンチング抵抗7と直列に接続された形で、全て並列に接続されており、電源から逆バイアス電圧Vopが印加される。アバランシェフォトダイオードからの出力電流は、アンプなどを含む検出器Aによって検出される。
図34は、アバランシェフォトダイオードとクエンチング抵抗を含む検出部の等価回路を示す図である。アバランシェフォトダイオードAPDは、電流源Iとダイオード容量を提供するキャパシタCdを並列に接続したものとして示され、クエンチング抵抗は抵抗値Rqの抵抗として示され、これに並列にキャパシタCqが接続され、全体としては、電源に並列に配線容量を示すキャパシタCgが接続されているものとする。ここで、キャパシタCqが存在することにより、フォトダイオオードアレイの時間分解能が向上する。以下では、キャパシタCqを様々な形態で具備したフォトダイオードアレイを説明する。すなわち、以下の形態のフォトダイオードアレイは、それぞれのアバランシェフォトダイオードAPDに直列に接続するクエンチング抵抗Rq、クエンチング抵抗Rqにそれぞれ並列に接続されたキャパシタCqを更に備えている。
抵抗値Rq(好適範囲)とキャパシタCgの容量(好適範囲)は、以下の通りである。
抵抗値Rq:150kΩ(50〜300kΩ)
キャパシタCgの容量:5pF(配線容量であり0が好ましく、小さい程よい)
上記の場合、時間分解能が更に向上する。
図25は、図2に示したフォトダイオードアレイを作製した場合の顕微鏡写真を示す図である。
図5は、キャパシタCqを備えたフォトダイオードアレイの拡大平面図、図6は、図5に示したフォトダイオードアレイのVI−VI矢印線断面図、図7は、図5に示したフォトダイオードアレイのVII−VII矢印線断面図である。
本例のフォトダイオードアレイと、図2〜図4に示したフォトダイオードアレイの相違点は、中継配線8の周囲に、リング状電極5を囲むように延びた外周領域9を備え、外周領域9の一部が、中間配線11に連続し、中継配線8の幅W2を太くした点であり、その他の構造は、同一である。すなわち、このフォトダイオードアレイでは、それぞれのアバランシェフォトダイオードAPDのアノード及びカソードの一方は、リング状電極5に電気的に接続されているが、中継配線8は、リング状電極5から離間し、リング状電極5を囲むように延びた導電性の外周領域9を備えている。外周領域9もアルミニウムからなる。この場合、上述のキャパシタCqは、中継配線8から延びた外周領域9と、リング状電極5とを有していることになり、これらの間に容量が形成されている。この構造のキャパシタの場合、キャパシタを平面的に構成することができ、時間分解能が向上する。なお、中継配線8の幅W2は、9μmであり、好適には、2〜10μmであり、この場合には、十分に抵抗値を減少させ、画素間の出力差を抑制することが可能である。
なお、隣接する中継配線8間には、これらに平行に延びた中間配線11が設けられている。中間配線11の両端は、外周配線WLの2箇所に接続されている。もちろん、中間配線11は、外周配線WLの3箇所以上に接続する構成としてもよい。なお、後述の横断配線を用いる場合には、中継配線8及び中間配線11の一端は、横断配線に接続される。リング状電極5の開口内よりも外側の領域では、中継配線8、中間配線11及び外周配線WLによって、入射光が遮られるが、アルミニウムは反射率が高いため、後述のシンチレータに対して、光を戻すことができる。なお、中継配線8から延びた外周領域9の一部分は、中間配線11に連続しており、外周領域9の他の部分はクエンチング抵抗7とリング状電極5との間に位置するように延びている。
図26は、図5に示したフォトダイオードアレイの顕微鏡写真を示す図である。この場合、キャパシタを平面的に構成することができ、時間分解能が向上することが確認された。
図9は、キャパシタCqを備えた別のフォトダイオードアレイの拡大平面図、図10は、図9に示したフォトダイオードアレイのX−X矢印線断面図、図11は、図9に示したフォトダイオードアレイのXI−XI矢印線断面図である。
本例のフォトダイオードアレイと、図5〜図7に示したフォトダイオードアレイの相違点は、それぞれの中継配線8には、その両側に外周領域9が接続されているが、中間配線11はなく、互いに隣接する中継配線8に関しては、互いに隣接する外周領域9は離間している点であり、その他の構造は、同一である。すなわち外周領域9は、リング状電極5の周囲を囲んでいるが、中間配線11はなく、外周領域9の先端部は隣接する外周領域9からは離間している。これにより、図5〜図7に示したフォトダイオードアレイよりも、配線容量を低下させることが可能である。キャパシタCqは、外周領域9とリング状電極5との間に形成されている。
図27は、図9に示したフォトダイオードアレイの顕微鏡写真を示す図である。この場合においても、キャパシタを平面的に構成することができ、時間分解能が向上することが確認された。
図12は、キャパシタCqを備えた更に別のフォトダイオードアレイの拡大平面図であり、図13は、図12に示したフォトダイオードアレイのXIII−XIII矢印線断面図、図14は、図12に示したフォトダイオードアレイのXIV−XIV矢印線断面図である。
本例のフォトダイオードアレイと、図9〜図11に示したフォトダイオードアレイの相違点は、それぞれの中継配線8は、その中心線(Y軸)に沿った領域が開口OPしている点であり、その他の構造は同一である。この場合、上記効果に加えて、中継配線8による配線容量を低減させて、時間分解能を更に向上させることができる。開口OPのX軸方向の幅は、5μmであり、時間分解能を更に向上させる観点からは、好適には、2〜5μmである。この開口構造は、他の中継配線8を備える構造に適用することができる。
図28は、図12に示したフォトダイオードアレイの顕微鏡写真を示す図である。この場合においても、キャパシタを平面的に構成することができ、時間分解能が向上することが確認された。
図15は、キャパシタCqを備えた更に別のフォトダイオードアレイの拡大平面図であり、図16は、図15に示したフォトダイオードアレイのXVI−XVI矢印線断面図、図17は、図15に示したフォトダイオードアレイのXVII−XVII矢印線断面図である。
本例のフォトダイオードアレイと、図2〜図5に示したフォトダイオードアレイの相違点は、キャパシタCqが、クエンチング抵抗7上に、SiNやSiOなどの絶縁層Kを介して、形成された被覆配線K1を有しており、この被覆配線K1の一端は、クエンチング抵抗7の一端に電気的に接続されている点であり、その他の構造は同一である。本例では、被覆配線K1は、中継配線8から延びており、絶縁層Kを被覆している。被覆配線K1とクエンチング抵抗7との間に容量が形成されている。
図29は、図15に示したフォトダイオードアレイの顕微鏡写真を示す図である。この場合においても、キャパシタを積層により立体的に構成することができるため、素子密度を向上させることができ、また、時間分解能が向上することが確認された。
図18は、キャパシタCqを備えた更に別のフォトダイオードアレイの拡大平面図であり、図19は、図18に示したフォトダイオードアレイのXIX−XIX矢印線断面図であり、図20は、図18に示したフォトダイオードアレイのXX−XX矢印線断面図である。
本例のフォトダイオードアレイと、図15〜図17に示したフォトダイオードアレイの相違点は、被覆配線K1は、リング状電極5から延びており、絶縁層Kを被覆している点であり、その他の構成は同一である。この場合も、被覆配線K1とクエンチング抵抗7との間に容量が形成され、キャパシタCqを構成している。
図30は、図18に示したフォトダイオードアレイの顕微鏡写真を示す図である。この場合においても、キャパシタを積層により立体的に構成することができるため、素子密度を向上させることができ、また、時間分解能が向上することが確認された。
図21は、キャパシタCqを備えた更に別のフォトダイオードアレイの拡大平面図であり、図22は、図21に示したフォトダイオードアレイのXXII−XXII矢印線断面図であり、図23は、図21に示したフォトダイオードアレイのXXIII−XXIII矢印線断面図である。
本例のフォトダイオードアレイと、図2〜図5に示したフォトダイオードアレイの相違点は、それぞれのアバランシェフォトダイオードAPDのアノード及びカソードの一方は、リング状電極5に電気的に接続されているが、リング状電極5のアスペクト比(=Y軸方向の寸法/X軸方向の寸法)は、2以上である点である。この場合、中継配線8と、離間して並走するリンク状電極5との間でキャパシタCqが構成されているが、アスペクト比が大きいために、キャパシタCqの容量を大きくすることができる。したがって、リング状電極5の開口率に対するキャパシタの比率が大きくなり、キャパシタの素子密度が高くなる。したがって、リング状電極5を小さくして空間分解能を高めることも可能であり、また、時間分解能が向上することが確認された。図31は、図21に示したフォトダイオードアレイの顕微鏡写真を示す図である。
なお、本例のアスペクト比を向上させる構造は、他のタイプの構造にも適用することができる。
図24は、フォトダイオードアレイの平面図である。
このフォトダイオードアレイ10は、図1に示したものに横断配線WL2を追加し、横断配線WL2よりも図面の上側に位置するアバランシェフォトダイオード群の天地を反転させたものであり、その他の構造は、図1に示したものと同一である。横断配線WL2は、外周配線WLに電気的に接続されており、外周配線WLの少なくとも2箇所間を接続するものである。本例では、横断配線WL2は、X軸に沿って延びており、その幅は、中継配線8の幅よりも大きい。横断配線WL2の単位長さ当たりの抵抗値は、中継配線8の単位長さ当たりの抵抗値よりも小さい。この構造の場合、図1に示したそれぞれの中継配線8の一端は、外周配線WLに代えて、横断配線WL2に電気的に接続されている。横断配線WL2の幅は、20μmであり、時間分解能を向上させる観点からは、好適には10〜30μmである。
この場合、中継配線8からの電流は、外周配線WLとの接続箇所か、横断配線WL2との接続箇所のうちの何れか近い方(信号伝達経路での抵抗の低い方)を多く流れて、外部に取り出されるようになるため、信号読出し経路における抵抗値を更に低減することができる。したがって、時定数が小さくなり、時間分解能が向上する。図32は、図24に示したフォトダイオードアレイの顕微鏡写真を示す図である。
なお、図1に示した外周配線WLを備える構造は、図3〜図23に示した構造に適用できるが、図24に示した横断配線WL2を備える構造も、図3〜図23に示した構造に適用できる。
上記構造において出力波形の10mVにおけるジッタを計測した。図1に示した中継配線8よりも太い外周配線を備えるフォトダイオードアレイにおいて、図2から図4に示す構造を採用した場合、ジッタが146psとなった(タイプ1とする)。一方、外周配線WLを中継配線8と同程度の太さとした場合(比較例とする)には、ジッタは160psであり、外周配線を太くして抵抗値を低減することにより、ジッタが低減し、時間分解能が著しく向上することが判明した。
図24に示した外周配線を備えるフォトダイオードアレイにおいて、図2から図4に示す構造を採用した場合、ジッタが148psとなった(タイプ2とする)。比較例よりもジッタが低減し、時間分解能が著しく向上することが判明した。
図1に示した外周配線を備えるフォトダイオードアレイにおいて、図5から図7に示す構造を採用した場合、ジッタが142psとなった(タイプ3とする)。
図1に示した外周配線を備えるフォトダイオードアレイにおいて、図9から図11に示す構造を採用した場合、ジッタが138psとなった(タイプ4とする)。
図1に示した外周配線を備えるフォトダイオードアレイにおいて、図12から図14に示す構造を採用した場合、ジッタが130psとなった(タイプ5とする)。
図1に示した外周配線を備えるフォトダイオードアレイにおいて、図15から図17に示す構造を採用した場合、ジッタが125psとなった(タイプ6とする)。
図1に示した外周配線を備えるフォトダイオードアレイにおいて、図18から図20に示す構造を採用した場合、ジッタが127psとなった(タイプ7とする)。
図1に示した外周配線を備えるフォトダイオードアレイにおいて、図21から図23に示す構造を採用した場合、ジッタが146psとなった(タイプ8とする)。
もちろん、タイプ3〜タイプ8の構造において、タイプ2の横断配線を採用することはできる。また、タイプ3〜5のいずれかの構造と、タイプ6〜8のいずれかの構造を組み合わせることも可能である、また、タイプ8の構造は、いずれのタイプの構造とも組み合わせることができる。特に、タイプ6又は7の構造(積層構造)に、タイプ5(開口構造)又はタイプ8(縦長構造)を組み合わせた場合、上述の効果が相乗され、さらに、ジッタを低減することが可能と考えられる。
図35は、フォトダイオードアレイを備えた放射線検出器を示す図である。
フォトダイオードアレイ10の光入射面上には、シンチレータパネルが固定されている。シンチレータパネルは、CsIなどのシンチレータ11と、これを被覆するポリパラキシリレンなどの被覆層12からなり、必要に応じて、シンチレータパネルとフォトダイオードアレイ10の光入射面との間に、マッチングオイル13が介在させられる。放射線が、シンチレータパネルに入射すると、シンチレータ11が発光し、この光がフォトダイオードアレイ10に入射する。フォトダイオードアレイ10には、電極Pと電極6との間に、降伏電圧を超える逆バイアス電圧が印加されており、その出力は、検出器Aを介して検出することができる。時間分解能に優れた放射線検出器は、X線CTやPET装置などに適用することができ、これまで計測できなかった分解能の画像を測定することができるようになる。
10・・・フォトダイオードアレイ、1・・・第1半導体層、2・・・第2半導体層、3・・・第3半導体層、4・・・絶縁層、5・・・リング状電極、6・・・別の電極、7・・・クエンチング抵抗、8・・・中継配線、PD・・・フォトダイオード、WL・・・外周配線、9・・・外周領域、11・・・中間配線、WL2・・・横断配線。

Claims (9)

  1. フォトダイオードアレイにおいて、
    半導体基板内に形成された複数のアバランシェフォトダイオードと、
    それぞれのアバランシェフォトダイオードに対して直列に接続されたクエンチング抵抗と、
    複数の前記アバランシェフォトダイオードが形成された領域を囲む外周配線と、
    前記外周配線に電気的に接続され、前記外周配線の少なくとも2箇所間をそれぞれが接続する複数の中継配線と、
    を備え、
    前記外周配線の単位長さ当たりの抵抗値は、前記中継配線の単位長さ当たりの抵抗値よりも小さく、
    個々の前記アバランシェフォトダイオードのアノード及びカソードの一方は、前記クエンチング抵抗を介して、前記中継配線のいずれかに電気的に接続され、
    個々の前記アバランシェフォトダイオードのアノード及びカソードの他方は、前記半導体基板に設けられた別の電極に電気的に接続されている、
    ことを特徴とするフォトダイオードアレイ。
  2. 前記外周配線に電気的に接続され、前記外周配線の少なくとも2箇所間を接続し、前記中継配線の単位長さ当たりの抵抗値よりも、自身の単位長さ当たりの抵抗値が小さい横断配線を更に備え、
    それぞれの前記中継配線の一端は、前記外周配線に代えて、前記横断配線に電気的に接続されていることを特徴とする請求項1に記載のフォトダイオードアレイ。
  3. それぞれの前記クエンチング抵抗にそれぞれ並列に接続されたキャパシタを更に備えていることを特徴とする請求項1又は2に記載のフォトダイオードアレイ。
  4. それぞれの前記アバランシェフォトダイオードのアノード及びカソードの一方は、リング状電極に電気的に接続されており、
    前記中継配線は、前記リング状電極から離間し、前記リング状電極を囲むように延びた導電性の外周領域を備えており、
    前記キャパシタは、
    前記中継配線から延びた前記外周領域と、
    前記リング状電極と、
    を有していることを特徴とする請求項3に記載のフォトダイオードアレイ。
  5. 前記中継配線間に平行に延びた中間配線を更に備え、
    前記中間配線は、前記外周配線の少なくとも2箇所間をそれぞれが接続しており、
    前記外周領域は、前記中間配線に連続していることを特徴とする請求項4に記載のフォトダイオードアレイ。
  6. それぞれの前記中継配線には、その両側に前記外周領域が接続されており、
    互いに隣接する前記中継配線に関して、互いに隣接する前記外周領域は離間していることを特徴とする請求項4に記載のフォトダイオードアレイ。
  7. それぞれの前記中継配線は、その中心線に沿った領域が開口していることを特徴とする請求項3に記載のフォトダイオードアレイ。
  8. 前記キャパシタは、前記クエンチング抵抗上に、絶縁層を介して、形成された被覆配線を有しており、この被覆配線の一端は、前記クエンチング抵抗の一端に電気的に接続されていることを特徴とする請求項3乃至7のいずれか1項に記載のフォトダイオードアレイ。
  9. それぞれの前記アバランシェフォトダイオードのアノード及びカソードの一方は、リング状電極に電気的に接続されており、
    前記リング状電極のアスペクト比は、2以上であることを特徴とする請求項3に記載のフォトダイオードアレイ。

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Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014002145A (ja) * 2012-06-18 2014-01-09 General Electric Co <Ge> ガンマ線検出器における信号伝達のための方法およびシステム
WO2014061610A1 (ja) * 2012-10-18 2014-04-24 浜松ホトニクス株式会社 フォトダイオードアレイ
JP2014090034A (ja) * 2012-10-29 2014-05-15 Hamamatsu Photonics Kk フォトダイオードアレイ
WO2015152297A1 (ja) * 2014-03-31 2015-10-08 株式会社ニコン 検出素子、ロックイン検出装置、基板、および検出素子の製造方法
JP2016519435A (ja) * 2013-04-19 2016-06-30 ライトスピン テクノロジーズ、インク. 集積アバランシェ・フォトダイオード・アレイ
WO2016104581A1 (ja) * 2014-12-24 2016-06-30 株式会社 東芝 光検出装置およびこの光検出装置を備えたct装置
WO2017110559A1 (ja) * 2015-12-21 2017-06-29 浜松ホトニクス株式会社 光電変換素子及び光電変換モジュール
JP2017117834A (ja) * 2015-12-21 2017-06-29 浜松ホトニクス株式会社 光電変換素子
JP2017117835A (ja) * 2015-12-21 2017-06-29 浜松ホトニクス株式会社 光電変換素子
JP2017117836A (ja) * 2015-12-21 2017-06-29 浜松ホトニクス株式会社 光電変換素子及び光電変換モジュール
CN107275433A (zh) * 2017-03-29 2017-10-20 湖北京邦科技有限公司 一种新型半导体光电倍增器件
WO2018168597A1 (ja) * 2017-03-17 2018-09-20 国立研究開発法人情報通信研究機構 高速フォトディテクターアレー
JP2020074451A (ja) * 2014-06-09 2020-05-14 株式会社半導体エネルギー研究所 撮像装置
WO2023149284A1 (ja) * 2022-02-01 2023-08-10 浜松ホトニクス株式会社 光検出器

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5731344B2 (ja) * 2011-09-28 2015-06-10 浜松ホトニクス株式会社 放射線検出器
JP5832852B2 (ja) 2011-10-21 2015-12-16 浜松ホトニクス株式会社 光検出装置
JP5791461B2 (ja) * 2011-10-21 2015-10-07 浜松ホトニクス株式会社 光検出装置
JP5926921B2 (ja) * 2011-10-21 2016-05-25 浜松ホトニクス株式会社 光検出装置
JP5995508B2 (ja) * 2012-04-27 2016-09-21 キヤノン株式会社 半導体装置および半導体装置の製造方法
JP5925711B2 (ja) 2013-02-20 2016-05-25 浜松ホトニクス株式会社 検出器、pet装置及びx線ct装置
JP6239758B2 (ja) * 2013-08-13 2017-11-29 ゼコテック フォトニクス インコーポレイテッドZecotek Photonics Inc. マルチピクセル型アバランシェ光ダイオード
JP6162595B2 (ja) * 2013-12-19 2017-07-12 浜松ホトニクス株式会社 光検出器
JP6190915B2 (ja) * 2016-04-20 2017-08-30 浜松ホトニクス株式会社 検出器、pet装置及びx線ct装置
EP3258228B1 (de) * 2016-06-17 2018-05-09 Sick Ag Lichtempfänger mit lawinenphotodioden im geiger-modus und verfahren zum auslesen
CN106298816A (zh) * 2016-10-11 2017-01-04 天津大学 集成淬灭电阻的单光子雪崩二极管及其制造方法
KR101777657B1 (ko) 2017-03-22 2017-09-14 홍익대학교 산학협력단 ??칭 회로
JPWO2019146725A1 (ja) * 2018-01-26 2021-03-04 浜松ホトニクス株式会社 光検出装置
JP7366558B2 (ja) * 2019-03-13 2023-10-23 株式会社東芝 センサ及び距離計測装置
TWI819073B (zh) * 2019-08-22 2023-10-21 晶元光電股份有限公司 發光裝置、其製造方法及顯示模組
DE102020120788B3 (de) * 2020-08-06 2021-12-09 Helmholtz-Zentrum Dresden - Rossendorf E. V. Multipixel-photodetektor mit avalanche-photodioden, strahlungsdetektor und positronen-emissions-tomograph
KR102610700B1 (ko) * 2021-05-25 2023-12-06 주식회사 우리로 광자를 검출할 수 있는 최적의 위치로 아발란치 포토 다이오드를 정렬시키는 방법

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002033965A (ja) * 2000-07-13 2002-01-31 Fuji Film Microdevices Co Ltd 固体撮像素子用駆動回路およびそれを備えた固体撮像素子
JP2005045125A (ja) * 2003-07-24 2005-02-17 Hamamatsu Photonics Kk 光検出素子の製造方法
WO2006068184A1 (ja) * 2004-12-24 2006-06-29 Hamamatsu Photonics K.K. ホトダイオードアレイ
WO2008004547A1 (fr) * 2006-07-03 2008-01-10 Hamamatsu Photonics K.K. Ensemble photodiode
JP2008103614A (ja) * 2006-10-20 2008-05-01 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd 光電変換デバイス
WO2010098224A1 (ja) * 2009-02-24 2010-09-02 浜松ホトニクス株式会社 半導体光検出素子

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007071823A (ja) 2005-09-09 2007-03-22 Sharp Corp 受光素子ならびにそれを備えたセンサおよび電子機器
US7652257B2 (en) * 2007-06-15 2010-01-26 General Electric Company Structure of a solid state photomultiplier
US8110806B2 (en) 2008-10-31 2012-02-07 General Electric Company Solid-state photomultiplier having improved timing resolution
IT1392366B1 (it) 2008-12-17 2012-02-28 St Microelectronics Rousset Fotodiodo operante in modalita' geiger con resistore di soppressione integrato e controllabile, schiera di fotodiodi e relativo procedimento di fabbricazione
JP2010278045A (ja) * 2009-05-26 2010-12-09 Panasonic Corp 光半導体装置
CN101789040B (zh) 2010-01-27 2011-09-14 中国科学院上海技术物理研究所 盖革模式apd被动淬火与恢复集成电路的设计方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002033965A (ja) * 2000-07-13 2002-01-31 Fuji Film Microdevices Co Ltd 固体撮像素子用駆動回路およびそれを備えた固体撮像素子
JP2005045125A (ja) * 2003-07-24 2005-02-17 Hamamatsu Photonics Kk 光検出素子の製造方法
WO2006068184A1 (ja) * 2004-12-24 2006-06-29 Hamamatsu Photonics K.K. ホトダイオードアレイ
WO2008004547A1 (fr) * 2006-07-03 2008-01-10 Hamamatsu Photonics K.K. Ensemble photodiode
JP2008103614A (ja) * 2006-10-20 2008-05-01 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd 光電変換デバイス
WO2010098224A1 (ja) * 2009-02-24 2010-09-02 浜松ホトニクス株式会社 半導体光検出素子

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
CLAUDIO PIEMONTE: ""Prototypes of Silicon Photomultiplier Fabricated at ITC-irst"", IEEE TRANSACTIONS ON NUCLEAR SCIENCE, vol. Vol.54 No.1 (2007), JPN6014019651, pages 236 - 244, ISSN: 0002812241 *
H.OTONO: ""On the basic mechanism of Pixelized Photon Detectors"", PROCEEDINGS OF 5TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON NEW DEVELOPMENTS IN PHOTODETECTION: INSTRUMENTATION A, JPN6014019652, ISSN: 0002812242 *
浜松ホトニクス株式会社 技術資料 MPPC(MULTI-PIXEL PHOTON COUNTER), JPN6014019654, ISSN: 0002812243 *

Cited By (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014002145A (ja) * 2012-06-18 2014-01-09 General Electric Co <Ge> ガンマ線検出器における信号伝達のための方法およびシステム
US9385155B2 (en) 2012-10-18 2016-07-05 Hamamatsu Photonics K.K. Photodiode array
WO2014061610A1 (ja) * 2012-10-18 2014-04-24 浜松ホトニクス株式会社 フォトダイオードアレイ
JP2014082420A (ja) * 2012-10-18 2014-05-08 Hamamatsu Photonics Kk フォトダイオードアレイ
US8791538B2 (en) 2012-10-18 2014-07-29 Hamamatsu Photonics K.K. Photodiode array
CN104737304A (zh) * 2012-10-18 2015-06-24 浜松光子学株式会社 光电二极管阵列
US10224361B2 (en) 2012-10-18 2019-03-05 Hamamatsu Photonics K.K. Photodiode array
US10192923B2 (en) 2012-10-18 2019-01-29 Hamamatsu Photonics K.K. Photodiode array
JP2014090034A (ja) * 2012-10-29 2014-05-15 Hamamatsu Photonics Kk フォトダイオードアレイ
JP2016519435A (ja) * 2013-04-19 2016-06-30 ライトスピン テクノロジーズ、インク. 集積アバランシェ・フォトダイオード・アレイ
CN106134182A (zh) * 2014-03-31 2016-11-16 株式会社尼康 检测元件、锁定检测装置、基板及检测元件的制造方法
JPWO2015152297A1 (ja) * 2014-03-31 2017-04-13 株式会社ニコン 検出装置、電子機器および製造方法
CN106134182B (zh) * 2014-03-31 2019-05-17 株式会社尼康 检测元件、锁定检测装置、基板及检测元件的制造方法
WO2015152297A1 (ja) * 2014-03-31 2015-10-08 株式会社ニコン 検出素子、ロックイン検出装置、基板、および検出素子の製造方法
US10026768B2 (en) 2014-03-31 2018-07-17 Nikon Corporation Detector, detector with lock-in amplifier, substrate, and method for manufacturing a detector
JP2020074451A (ja) * 2014-06-09 2020-05-14 株式会社半導体エネルギー研究所 撮像装置
US11205669B2 (en) 2014-06-09 2021-12-21 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device including photoelectric conversion element
US11908876B2 (en) 2014-06-09 2024-02-20 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device including photoelectric conversion element
JP2016122716A (ja) * 2014-12-24 2016-07-07 株式会社東芝 光検出装置およびこの光検出装置を備えたct装置
WO2016104581A1 (ja) * 2014-12-24 2016-06-30 株式会社 東芝 光検出装置およびこの光検出装置を備えたct装置
JP2017117836A (ja) * 2015-12-21 2017-06-29 浜松ホトニクス株式会社 光電変換素子及び光電変換モジュール
US11289614B2 (en) 2015-12-21 2022-03-29 Hamamatsu Photonics K.K. Photoelectric conversion element and photoelectric conversion module
JP2017117835A (ja) * 2015-12-21 2017-06-29 浜松ホトニクス株式会社 光電変換素子
JP2017117834A (ja) * 2015-12-21 2017-06-29 浜松ホトニクス株式会社 光電変換素子
WO2017110559A1 (ja) * 2015-12-21 2017-06-29 浜松ホトニクス株式会社 光電変換素子及び光電変換モジュール
JP2018157117A (ja) * 2017-03-17 2018-10-04 国立研究開発法人情報通信研究機構 高速フォトディテクターアレー
US10911153B2 (en) 2017-03-17 2021-02-02 National Institute Of Information And Communications Technology High-speed photodetector array
WO2018168597A1 (ja) * 2017-03-17 2018-09-20 国立研究開発法人情報通信研究機構 高速フォトディテクターアレー
CN107275433A (zh) * 2017-03-29 2017-10-20 湖北京邦科技有限公司 一种新型半导体光电倍增器件
WO2023149284A1 (ja) * 2022-02-01 2023-08-10 浜松ホトニクス株式会社 光検出器

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