JP2012082153A - ブタジエンの製造プロセス - Google Patents
ブタジエンの製造プロセス Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012082153A JP2012082153A JP2010228314A JP2010228314A JP2012082153A JP 2012082153 A JP2012082153 A JP 2012082153A JP 2010228314 A JP2010228314 A JP 2010228314A JP 2010228314 A JP2010228314 A JP 2010228314A JP 2012082153 A JP2012082153 A JP 2012082153A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- butadiene
- gas
- butene
- catalyst
- tower
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 210
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 31
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims abstract description 12
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 74
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 47
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 42
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 33
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 33
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 33
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 33
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 20
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims abstract description 17
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 238000005839 oxidative dehydrogenation reaction Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000010791 quenching Methods 0.000 claims description 16
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 claims description 16
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical compound CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 11
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000001273 butane Substances 0.000 claims description 6
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 abstract description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 35
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical group O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 14
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N butene Natural products CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 14
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 13
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N ethylcyclohexane Chemical compound CCC1CCCCC1 IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 8
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 8
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 6
- HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N furfural Chemical compound O=CC1=CC=CO1 HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N isobutane Chemical compound CC(C)C NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 6
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 5
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 5
- XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N dimethylacetylene Natural products CC#CC XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 5
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 5
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 1-nonene Chemical compound CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 4
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 4
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 4
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 4
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 4
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 4
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 3
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical group [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 3
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 3
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 3
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 3
- 239000001282 iso-butane Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011591 potassium Chemical group 0.000 description 3
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 3
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 238000010405 reoxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000010517 secondary reaction Methods 0.000 description 3
- -1 steam Substances 0.000 description 3
- FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1C FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SDRZFSPCVYEJTP-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylcyclohexene Chemical compound C=CC1=CCCCC1 SDRZFSPCVYEJTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 239000003570 air Substances 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 2
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052792 caesium Chemical group 0.000 description 2
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical group [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 2
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HSJPMRKMPBAUAU-UHFFFAOYSA-N cerium(3+);trinitrate Chemical compound [Ce+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O HSJPMRKMPBAUAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 2
- 125000002534 ethynyl group Chemical class [H]C#C* 0.000 description 2
- 238000000895 extractive distillation Methods 0.000 description 2
- 238000004231 fluid catalytic cracking Methods 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N magnesium nitrate Chemical compound [Mg+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 2
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229940078552 o-xylene Drugs 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 2
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical group [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 2
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011269 tar Substances 0.000 description 2
- 229910003208 (NH4)6Mo7O24·4H2O Inorganic materials 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000002028 Biomass Chemical class 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002492 Ce(NO3)3·6H2O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002554 Fe(NO3)3·9H2O Inorganic materials 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STNJBCKSHOAVAJ-UHFFFAOYSA-N Methacrolein Chemical compound CC(=C)C=O STNJBCKSHOAVAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010037660 Pyrexia Diseases 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000027455 binding Effects 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- SBUXRMKDJWEXRL-ROUUACIJSA-N cis-body Chemical compound O=C([C@H]1N(C2=O)[C@H](C3=C(C4=CC=CC=C4N3)C1)CC)N2C1=CC=C(F)C=C1 SBUXRMKDJWEXRL-ROUUACIJSA-N 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000571 coke Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000006471 dimerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000000295 fuel oil Substances 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000003840 hydrochlorides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- RXPAJWPEYBDXOG-UHFFFAOYSA-N hydron;methyl 4-methoxypyridine-2-carboxylate;chloride Chemical compound Cl.COC(=O)C1=CC(OC)=CC=N1 RXPAJWPEYBDXOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- MVFCKEFYUDZOCX-UHFFFAOYSA-N iron(2+);dinitrate Chemical compound [Fe+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O MVFCKEFYUDZOCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000005673 monoalkenes Chemical class 0.000 description 1
- 238000002663 nebulization Methods 0.000 description 1
- KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N nickel(ii) nitrate Chemical compound [Ni+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- RTHYXYOJKHGZJT-UHFFFAOYSA-N rubidium nitrate Inorganic materials [Rb+].[O-][N+]([O-])=O RTHYXYOJKHGZJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- NUMQCACRALPSHD-UHFFFAOYSA-N tert-butyl ethyl ether Chemical compound CCOC(C)(C)C NUMQCACRALPSHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBUXRMKDJWEXRL-ZWKOTPCHSA-N trans-body Chemical compound O=C([C@@H]1N(C2=O)[C@H](C3=C(C4=CC=CC=C4N3)C1)CC)N2C1=CC=C(F)C=C1 SBUXRMKDJWEXRL-ZWKOTPCHSA-N 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- KHAUBYTYGDOYRU-IRXASZMISA-N trospectomycin Chemical compound CN[C@H]([C@H]1O2)[C@@H](O)[C@@H](NC)[C@H](O)[C@H]1O[C@H]1[C@]2(O)C(=O)C[C@@H](CCCC)O1 KHAUBYTYGDOYRU-IRXASZMISA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
【解決手段】以下の工程(1)から(5)の工程を有するブタジエンの製造方法。
工程(1):n−ブテンを含む原料ガスと酸素含有ガスを流動層反応器に供給し、触媒と 接触させて酸化脱水素反応によりブタジエンを含むガスを生成させる工程
工程(2):ブタジエンを含むガスを急冷塔で冷却する工程
工程(3):ブタジエンを含むガスを沸点が100〜210℃の溶剤に吸収させる工程
工程(4):ブタジエン溶液から水を除去する工程
工程(5):ブタジエン溶液から高沸成分を除去する工程
【選択図】なし
Description
即ち、本発明は以下の通りである。
工程(1):n−ブテンを含む原料ガスと酸素含有ガスを流動層反応器に供給し、触媒と 接触させて酸化脱水素反応によりブタジエンを含むガスを生成させる工程
工程(2):ブタジエンを含むガスを急冷塔で冷却する工程
工程(3):ブタジエンを含むガスを沸点が100〜210℃の溶剤に吸収させる工程
工程(4):ブタジエン溶液から水を除去する工程
工程(5):ブタジエン溶液から高沸成分を除去する工程
[2]前記原料は、ブタジエン及びイソブテンを除去した後の炭素数4の留分から、更に、ブタンを除去して得られた炭素数4の留分である請求項1に記載の方法。
以下、ブタジエンを精製されたブタジエンを製造する為に必要な方法について記載する。
(1) 原料
原料は、n−ブテンを含有する。工業的にはブタジエン及びイソブテンを除去した後の炭素数4の留分に含まれるn−ブテン(具体的には、1−ブテン及び/又は2−ブテン)を好適に利用できる。1−ブテンと2−ブテンの比率には特に制限が無く、1−ブテンは0〜100重量%、2−ブテンは100〜0重量%の範囲で任意に用いることができる。また、2−ブテンにはトランス体とシス体があるが、この比率もそれぞれ100〜0重量%、0〜100重量%の範囲で任意に用いることができる。この原料は、ブタジエン及びイソブテンを少量であれば含むことも出来る。ブタジエンはn−ブテンに対して5重量%以下、好ましくは3重量%以下、更に好ましくは1重量%以下である。また、イソブテンはn−ブテンに対して10重量%以下、好ましくは0.1〜6重量%、更に好ましくは0.5〜3重量%である。この原料はn−ブタン、イソブタン、炭素数が3以下の炭化水素、炭素数が5以上の炭化水素を含んでいても良く、n−ブテンの濃度は40重量%以上、好ましくは50重量%以上、更に好ましくは60重量%以上の原料を用いることが好ましい。
原料混合ガス中は水を30容量%以下で、好ましくは20容量%以下、更に好ましくは10容量%以下で含むことも好ましい方法の一つである。
n−ブテンの酸化脱水素反応によるブタジエンの製造は、流動層反応方式で行われる。
流動層反応器は、反応器内にガス分散器・内挿物・サイクロンをその主要構成要素として有し、触媒を流動させつつ、原料であるガスと接触させる構造である。流動床ハンドブック(株式会社培風館刊、1999年)等に記載の流動層反応器であれば使用可能であるが、特に気泡流動層方式の反応器が適している。発生する反応熱の除熱は反応器に設置した冷却管を用いて行うことができる。
冷却管は反応器内の濃厚層及び希薄層に配置され、目的の温度を実現する為に操作される。
n−ブテンと酸素が反応に供される。酸素源としては通常、空気を用いるが、酸素を空気と混合するなどして酸素濃度を高めたガス、又は空気と窒素、ヘリウム、反応生成ガスからブタジエン、n−ブテン、n−ブタン、イソブタンなどの炭化水素化合物を分離した後のガスなどを混合して酸素濃度を低めたガス、また、酸素分離膜などを用いた分離方法により製造した酸素濃度を高めたガス、又は、酸素濃度を低めたガスなどを用いることもできる。n−ブテンに対する酸素のモル比は0.5〜1.5(空気/n−ブテン比として2.5〜7.5)とするのが好ましく、より好ましくは0.6〜1.3(空気/n−ブテン比として3.0〜6.5)の範囲である。
(4−1)構造
流動層反応により比較的高い収率でブタジエンを得る観点で、酸化物を担体に担持した触媒は、担体と、Mo、Bi及びFeを含むのが好ましい。Mo、Bi及びFeの組成は合目的な酸化物を形成するように調節されており、この酸化物中の格子酸素によって、n−ブテンからブタジエンの酸化脱水素反応が行われると考えられる。一般に、触媒中の格子酸素が酸化脱水素反応に消費されると、酸化物中に酸素空孔が生じる結果、反応の進行に伴って酸化物の還元も進行し、触媒活性が失活していくので、触媒活性を維持するためには、還元を受けた酸化物を速やかに再酸化することが必要である。Mo、Bi及びFeを含む酸化物は、n−ブテンからブタジエンの酸化脱水素反応に対する反応性に加え、気相中の酸素を解離吸着して酸化物内に取り込み、消費された格子酸素の再生を行う再酸化作用にも優れていると考えられる。従って、長期にわたって反応を行う場合でも、格子酸素の再酸化作用が維持され、触媒は失活することなく、n−ブテンからブタジエンを安定に製造できるものと考えられる。
Mo12BipFeqAaBbCcDdEeOx
(式中、Aはニッケル及びコバルトから選ばれる少なくとも1種の元素、Bはアルカリ金属元素から選ばれる少なくとも1種の元素、Cはマグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、亜鉛及びマンガンから選ばれる少なくとも1種の元素、Dは少なくとも1種の希土類元素、Eはクロム、インジウム及びガリウムから選ばれる少なくとも1種の元素、Oは酸素であり、p、q、a、b、c、d、e、及びxはそれぞれモリブデン12原子に対するビスマス、鉄、A、B、C、D、E及び酸素の原子比を表し、0.1≦p≦5、0.5≦q≦8、0≦a≦10、0.02≦b≦2、0≦c≦5、0≦d≦5、0≦e≦5であり、xは存在する他の元素の原子価要求を満足させるのに必要な酸素の原子数である。)
で表されるのが好ましい。本明細書中、「実験式」は、当該式に含まれる金属の原子比と、その原子比及び酸化数の総計に応じて要求される酸素とからなる組成を表す。様々な酸化数をとりうる金属を含む酸化物において、酸素の原子数を特定することは実質的に不可能であるため、酸素の数は形式的に「x」で表すこととしている。例えば、Mo化合物、Bi化合物及びFe化合物を含むスラリーを調製し、それを乾燥及び/又は焼成して酸化物を得る場合、スラリーに含まれる金属の原子比と、得られる酸化物中の金属の原子比とは実質的に同じと考えてよいので、スラリーの仕込み組成式にOxを付加したものが、得られる酸化物の実験式である。なお本明細書中、上述のスラリーの仕込み組成のように、意図的にコントロールした成分とその比率を表す式を「組成式」と呼ぶので、上述の例の場合、実験式からOxを除いたものが「組成式」である。
上記組成式において、より好ましい組成としては、0.1≦p≦0.5、1.5≦q≦3.5、1.7≦a≦9、0.02≦b≦1、0.5≦c≦4.5、0.02≦d≦0.5、0≦e≦4.5であり、さらに好ましい組成としては、Bがルビジウム、カリウム又はセシウム、Cがマグネシウム、Dがセリウムであり、0.15≦p≦0.4、1.7≦q≦3、2≦a≦8、0.03≦b≦0.5、1≦c≦3.5、0.05≦d≦0.3、0≦e≦3.5である。Aがニッケル、Bがルビジウム、カリウム又はセシウム、Cがマグネシウム、Dがセリウムの場合、共役ジオレフィン収率がより高く、かつその燃焼分解が良好に抑制され、また触媒に対して還元劣化に対する耐性を付与することができる傾向がある。
原料スラリーを調製する第1の工程、該原料スラリーを噴霧乾燥する第2の工程、及び第2の工程で得られた乾燥品を焼成する第3の工程からなる、触媒の製造法の好ましい態様について、Mo、Bi及びFeを含む触媒を例にとって説明する。
急冷塔は2区画以上を有する多段急冷塔が好ましく、より好ましくは3段以上の区画を有する。多段急冷塔は各区画において抜出した水溶液を抜き出し位置より上部に噴霧し、ガスを冷却する。抜出した水溶液は冷却した後に噴霧することが好ましい。これにより、急冷塔の出口ガス温度を70℃以下にするのが好ましく、より好ましくは0〜60℃の範囲に、更に好ましくは5〜50℃の範囲に制御する。
吸収溶媒は沸点100〜210℃の溶剤を使用する。このような溶媒の具体例としては、オクタン、ノナン、デカン、エチルシクロヘキサン、オクテン、ノネン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、クメン、ビニルシクロヘキセン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、フルフラール、n−メチルピロリドンなどが挙げられる。これらの中で、オクタン、ノナン、デカン、エチルシクロヘキサン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、トリメチルベンゼンを用いるのが好ましい。キシレンとしてはm−キシレン、o−キシレン、p−キシレンの単独、または、混合物として用いることが出来る。
吸収塔底から抜出したブタジエンを含む吸収溶媒は工程(4)のブタジエンを回収する工程へ導入される。
ブタジエンを含む溶液は、放散塔の中段に導入されるのが好ましい。放散塔は、圧力0.03〜0.5MPa/G、好ましくは0.05〜0.3MPa/Gで、塔頂温度は0〜90℃、塔底温度は100〜190℃にするのが好ましく、より好ましくは110〜180℃で操作される。100℃以上にすることでではブタジエンなどの炭化水素を十分に放散し易く、190以下にすることで重合体やタ−ルの生成を防止できる。
ブタジエンを含むガスは放散塔の塔頂から回収され、塔底からはブタジエンなどの炭化水素をほとんど含まない吸収溶媒が抜出される。塔底液は吸収溶媒として利用可能であるので、吸収塔の塔頂に導入されるのが好ましい。この吸収溶媒は長時間の使用により高沸物やタールなどにより汚れてくるので、連続または断続的に溶媒の精製を行うことが良い。汚れを防ぐ観点で、吸収溶媒に重合防止剤を添加することが好ましい。
ブタジエンを含むガスを圧縮して液化し、水を分離する為に蒸留塔の上部に供給し、塔頂から水を分離する。塔底からは水を除去したブタジエンを抜出す。この蒸留は、圧力0.3〜0.7MPa/G、好ましくは0.4〜0.6MPa/Gで、塔頂温度は40〜60℃、塔底温度は45〜65℃で操作される。脱水工程には、充填塔、段塔などの塔を用いることが出来る。重合防止剤は添加することが好ましい。
脱水工程で塔底から抜出したブタジエンを、高沸成分を分離する為に蒸留塔の中段に供給し、塔頂から精製されたブタジエンを抜出す。塔底からは2−ブテンなどの高沸成分を抜出す。この蒸留は、圧力0.3〜0.7MPa/G、好ましくは0.4〜0.6MPa/Gで、塔頂温度は40〜60℃、塔底温度は50〜70℃で操作される。この高沸分離塔は、充填塔、段塔などの塔を用いることが出来る。重合防止剤は添加することが好ましい。
n−ブテン転化率(%)=(反応したn−ブテンのモル数)/(供給したn−ブテンのモ ル数)*100
ブタジエン選択率(%)=(生成した−ブタジエンのモル数)/(反応したn−ブテンの モル数)*100
ブタジエン収率(%)=(生成した−ブタジエンのモル数)/(供給したn−ブテンのモ ル数)*100
接触時間(g・sec/cc)=W/F*60*273.15/(273.15+T)*(P*1000+101.325)/101.325
式中、Wは触媒充填量(g)、Fは原料混合ガス流量(cc/min、NTP換算)、Tは反応温度(℃)、Pは反応圧力(MPa)を表す。
(a)触媒の調製
組成がMo12Bi0.60Fe1.8Ni5.0K0.09Rb0.05Mg2.0Ce0.75で表される酸化物を、50重量%のシリカに担持して、触媒を次のようにして調製した。30重量%のSiO2を含むシリカゾル1835.4gをとり、16.6重量%の硝酸413.3gに58.7gの硝酸ビスマス〔Bi(NO3)3・5H2O〕、65.7gの硝酸セリウム〔Ce(NO3)3・6H2O〕、146.7gの硝酸鉄〔Fe(NO3)3・9H2O〕、293.4gの硝酸ニッケル〔Ni(NO3)2・6H2O〕、103.5gの硝酸マグネシウム〔Mg(NO3)2・6H2O〕、1.8gの硝酸カリウム〔KNO3〕及び1.5gの硝酸ルビジウム〔RbNO3〕を溶解させた液を加え、最後に水860.9gに427.4gのパラモリブデン酸アンモニウム〔(NH4)6Mo7O24・4H2O〕を溶解させた液を加えた。ここに得られた原料調合液を並流式の噴霧乾燥器に送り、入口温度約250℃、出口温度約140℃で乾燥させた。該調合液の噴霧化は、乾燥器上部中央に設置された皿型回転子を備えた噴霧化装置を用いて行った。得られた粉体は、電気炉で空気雰囲気下350℃で1時間の前焼成の後、空気雰囲気下590℃で2時間焼成して触媒を得た。
触媒の調製工程で得られた触媒1300gを、管径3インチで高さ950mmのSUS304製反応器に入れ、この反応管に炭素数4の留分として、n−ブテン:n−ブタン:イソブタン:イソブテン=53.9:37.0:8.4:0.7(重量比)の原料を405.9g/Hrで、酸素及び窒素をそれぞれ85.4g/Hr、816.3g/Hrで供給し、反応温度T-=360℃、反応圧力P=0.05MPaの条件で反応を行った。この時、触媒と混合ガスの接触時間は2.9(g・sec/cc)であった。
反応開始から24時間後の反応成績は、n−ブテンの転化率は95.5%、ブタジエンの選択率は83.1%、ブタジエン収率は79.4%であった。
(b)の工程で得られた反応ガスを、ボトムは管径200mm、高さ300mmでその上部に管径100mm、高さ1000mmの急冷部を有するSUS304製急冷塔の下段に導入した。急冷部は3段式で、上段、中段及び下段に対して塔底から抜出した液をそれぞれ100、170、160L/Hrでスプレーした。中段へのスプレー液にはボトム抜出液のpHが7.2になるように水酸化ナトリウムの10%水溶液を添加した。また、上段へのスプレー液は熱交換器を通して45℃に冷却してスプレーした。この時、急冷塔塔頂からの排出ガス温度は50℃であった。
(c)の工程で得られた排出ガスを圧縮機で0.5MPa/Gまで加圧し、熱交換器を通して50℃に制御したガスを、管径2.5インチ、高さ3300mmでその内部に5mmφ*5mmのラシヒリングを充填したSUS304製吸収塔の下段に導入した。この塔の上段には10℃に冷却したm−キシレン(沸点:139.1℃)を5.0kg/Hrで供給し、向流接触させ、99.8%のブタジエンを吸収させた。このブタジエンを吸収した50℃のm−キシレンをボトムから抜出した。
(d)の工程で得られたブタジエンを含有するm−キシレンを、管径2.5インチ、高さ3000mmでその内部に5mmφ*5mmのラシヒリングを充填したSUS304製回収塔の中段に導入した。回収塔は圧力0.11MPa/G、塔底液温度は110℃、塔頂のガス温度は25℃になるように運転した。塔頂からは93.2重量%のブタジエンを含む液化ガスを188g/Hrで抜出し、塔底からはブタジエンを含まないm−キシレンを5.0kg/Hrで抜出し、(c)の工程の吸収液として供給した。
(e)の工程で塔頂から抜出したブタジエンを含む液化ガスを一時、タンクに保管し、597g/Hrで、36段のトレイを有する管径2.5インチ、高さ3000mmのSUS304製脱水塔の上段に導入した。脱水塔は圧力0.60MPa/G、塔底液温度は53℃、塔頂のガス温度は51℃になるように運転した。塔頂からは水を1g/Hrで系外に抜出し、塔底からは水をほとんど含まないブタジエンを596g/Hrで抜出した。
(f)の工程で塔底から抜出したブタジエンを、52段のトレイを有する管径2.5インチ、高さ3300mmのSUS304製脱水塔の中段に導入した。脱水塔は圧力0.60MPa/G、塔底液温度は61℃、塔頂のガス温度は52℃になるように運転した。塔頂からは509g/Hrのブタジエンを抜出した。このブタジエンの純度は99.3重量%であり、ブタジエン中のアセチレン類は10重量ppm以下であった。また、塔底からは41重量%の高沸成分を含むブタジエンを87g/Hrで抜出した。
Claims (2)
- 以下の工程(1)から(5)の工程を有するブタジエンの製造方法。
工程(1):n−ブテンを含む原料ガスと酸素含有ガスを流動層反応器に供給し、触媒と 接触させて酸化脱水素反応によりブタジエンを含むガスを生成させる工程
工程(2):ブタジエンを含むガスを急冷塔で冷却する工程
工程(3):ブタジエンを含むガスを沸点が100〜210℃の溶剤に吸収させる工程
工程(4):ブタジエン溶液から水を除去する工程
工程(5):ブタジエン溶液から高沸成分を除去する工程 - 前記原料は、ブタジエン及びイソブテンを除去した後の炭素数4の留分から、更に、ブタンを除去して得られた炭素数4の留分である請求項1に記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010228314A JP5717393B2 (ja) | 2010-10-08 | 2010-10-08 | ブタジエンの製造プロセス |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010228314A JP5717393B2 (ja) | 2010-10-08 | 2010-10-08 | ブタジエンの製造プロセス |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012082153A true JP2012082153A (ja) | 2012-04-26 |
JP5717393B2 JP5717393B2 (ja) | 2015-05-13 |
Family
ID=46241428
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010228314A Active JP5717393B2 (ja) | 2010-10-08 | 2010-10-08 | ブタジエンの製造プロセス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5717393B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013119530A (ja) * | 2011-12-07 | 2013-06-17 | Mitsubishi Chemicals Corp | 共役ジエンの製造方法 |
CN105555742A (zh) * | 2013-07-18 | 2016-05-04 | 巴斯夫欧洲公司 | 由正丁烯通过氧化脱氢制备1,3-丁二烯的方法 |
KR20160132543A (ko) * | 2015-05-11 | 2016-11-21 | 주식회사 엘지화학 | 공액디엔의 제조방법 |
JP2016539103A (ja) * | 2013-10-30 | 2016-12-15 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se | 酸化的脱水素反応によりn−ブテンから1,3−ブタジエンを製造するための方法 |
JP6070825B2 (ja) * | 2013-03-18 | 2017-02-01 | Jsr株式会社 | 1,3−ブタジエンの製造方法 |
KR101809319B1 (ko) | 2015-01-05 | 2017-12-14 | 주식회사 엘지화학 | 공액디엔의 제조 방법 |
JP2017218414A (ja) * | 2016-06-08 | 2017-12-14 | 旭化成株式会社 | ブタジエンの製造方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS615030A (ja) * | 1984-06-18 | 1986-01-10 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ブタジエン−1,3の精製法 |
JPS6118733A (ja) * | 1984-07-06 | 1986-01-27 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 1,3−ブタジエンの回収方法 |
EP2177266A2 (en) * | 2008-10-17 | 2010-04-21 | Korea Kumho Petrochemical Co., Ltd. | The complex oxide catalyst of Bi/Mo/Fe for the oxidative dehydrogenation of 1-butene to 1,3-Butadiene and process thereof |
JP2010090082A (ja) * | 2008-10-10 | 2010-04-22 | Mitsubishi Chemicals Corp | 共役ジエンの製造方法 |
JP2010120933A (ja) * | 2008-10-24 | 2010-06-03 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 共役ジオレフィンの製造方法 |
-
2010
- 2010-10-08 JP JP2010228314A patent/JP5717393B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS615030A (ja) * | 1984-06-18 | 1986-01-10 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ブタジエン−1,3の精製法 |
JPS6118733A (ja) * | 1984-07-06 | 1986-01-27 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 1,3−ブタジエンの回収方法 |
JP2010090082A (ja) * | 2008-10-10 | 2010-04-22 | Mitsubishi Chemicals Corp | 共役ジエンの製造方法 |
EP2177266A2 (en) * | 2008-10-17 | 2010-04-21 | Korea Kumho Petrochemical Co., Ltd. | The complex oxide catalyst of Bi/Mo/Fe for the oxidative dehydrogenation of 1-butene to 1,3-Butadiene and process thereof |
JP2010094674A (ja) * | 2008-10-17 | 2010-04-30 | Kumho Petrochemical Co Ltd | 1−ブテンを酸化的脱水素化して1,3−ブタジエンを製造するためのビスマス・モリブデン・鉄の複合酸化物触媒及びその製造方法 |
JP2010120933A (ja) * | 2008-10-24 | 2010-06-03 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 共役ジオレフィンの製造方法 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013119530A (ja) * | 2011-12-07 | 2013-06-17 | Mitsubishi Chemicals Corp | 共役ジエンの製造方法 |
JP6070825B2 (ja) * | 2013-03-18 | 2017-02-01 | Jsr株式会社 | 1,3−ブタジエンの製造方法 |
CN105555742A (zh) * | 2013-07-18 | 2016-05-04 | 巴斯夫欧洲公司 | 由正丁烯通过氧化脱氢制备1,3-丁二烯的方法 |
JP2016539103A (ja) * | 2013-10-30 | 2016-12-15 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se | 酸化的脱水素反応によりn−ブテンから1,3−ブタジエンを製造するための方法 |
KR101809319B1 (ko) | 2015-01-05 | 2017-12-14 | 주식회사 엘지화학 | 공액디엔의 제조 방법 |
KR20160132543A (ko) * | 2015-05-11 | 2016-11-21 | 주식회사 엘지화학 | 공액디엔의 제조방법 |
KR102008794B1 (ko) | 2015-05-11 | 2019-08-08 | 주식회사 엘지화학 | 공액디엔의 제조방법 |
JP2017218414A (ja) * | 2016-06-08 | 2017-12-14 | 旭化成株式会社 | ブタジエンの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5717393B2 (ja) | 2015-05-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5714857B2 (ja) | ブタジエンの製造方法 | |
JP5687800B2 (ja) | 共役ジオレフィンの製造方法 | |
JP5371692B2 (ja) | 共役ジオレフィンの製造方法 | |
JP5717393B2 (ja) | ブタジエンの製造プロセス | |
TWI324591B (en) | Preparation of butadiene from n-butane | |
KR20130137714A (ko) | 공역 디올레핀의 제조 방법 및 제조 장치 | |
US8546634B2 (en) | Method for production of conjugated diolefin | |
JP5571273B1 (ja) | 共役ジオレフィンの製造方法 | |
JP6070825B2 (ja) | 1,3−ブタジエンの製造方法 | |
WO2018075713A1 (en) | Oxidative cocracking of hydrocarbons to olefins | |
JP2012092092A (ja) | ブタジエンの製造方法 | |
JP5767795B2 (ja) | ブタジエンの製造方法 | |
JP2012067047A (ja) | ブタジエンを製造する方法 | |
JP2012106942A (ja) | 共役ジエンの製造方法 | |
JP6064033B2 (ja) | ブタジエンの製造方法 | |
JP5750252B2 (ja) | ブタジエンの製造方法 | |
JP2012072076A (ja) | 共役ジオレフィンの製造方法 | |
WO2014168051A1 (ja) | 1,3-ブタジエンの製造方法 | |
TWI430986B (zh) | Preparation of conjugated diolefins | |
JP2019085353A (ja) | ブタジエンの製造方法 | |
US11230513B2 (en) | Production process of 1,3-butadiene | |
JP2017218414A (ja) | ブタジエンの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130930 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140716 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140819 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141017 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150317 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150317 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5717393 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |