JP2012079906A - 基板洗浄装置 - Google Patents

Abstract

【課題】基板の洗浄処理を効率よく行うことができ、設置スペースを小さくすることができる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】供給台３０と、回収台３６と、供給台３０から回収台３６までの搬送経路に沿って配置され、基板を洗浄する一連の洗浄処理工程を行う複数個の洗浄処理槽２２，２４，２６と、互いに隣接する洗浄処理槽２２，２４，２６の間に配置された仮置台３２，３４と、基板が収納されたラック２，４，６，８を搬送する複数の搬送アーム部４４，４６，４８とを備える。搬送アーム部４４，４６，４８は、それぞれ、搬送経路の互いに異なる区間において、基板が収納されたラック２，４，６，８を、供給台３０又は仮置台３２，３４から洗浄処理槽２２，２４，２６に搬送する第１の動作と、洗浄処理槽２２，２４，２６から仮置台３２，３４又は回収台３６に搬送する第２の動作とを繰り返す。
【選択図】図２

Description

本発明は、基板洗浄装置に関し、詳しくは、基板を洗浄する一連の洗浄処理工程を行う複数個の洗浄処理槽を備えた基板洗浄装置に関する。

従来、基板を洗浄する一連の洗浄処理工程を行う複数個の洗浄処理槽を備えた基板洗浄装置が種々提案されている。

例えば図１２の正面図に示す半導体ウエハーを洗浄する基板洗浄装置は、数個の洗浄処理槽１０５が並べられた洗浄処理槽部１０４の上部に、搬送装置１０１が取り付けられている。搬送装置１０１は、パネル１０７に形成された櫛歯状のアームガイド切り欠き溝１０６から、アーム１０３が突出している。アーム１０３には、半導体ウエハーが収納されたキャリア１０２が吊り下げられる。アーム１０３が、アームガイド切り欠き溝１０６に沿って移動することにより、供給部１０８のキャリアを吊り下げて、所定の洗浄処理槽１０５に搬送し、所定の処理の後、最終的に回収部１０９にキャリアを搬送する（例えば、特許文献１参照）。

また、図１３の説明図に示す基板洗浄装置は、搬入コンベア２１９と搬出コンベア２２５の間に洗浄処理槽２２２〜２２４が配置され、それらの左右に、門形の搬送機の昇降機構部２０１，２２０が設置され、門形の搬送機の複数のアーム２１３により洗浄ワーク２２１を搬送し、洗浄処理を行う（例えば、特許文献２参照）。

特開昭６１−２７３４２０号公報 特開平１０−３０３１６０号公報

図１２のように、一つのアームを用いてキャリアを洗浄処理槽に搬送する構成では、各洗浄処理槽での洗浄時間が異なる場合、あるいは所定の洗浄処理槽を飛ばして処理を行う場合においては、効率よく処理することができる。しかし、各洗浄処理槽での洗浄時間が同じである場合、あるいは飛ばして処理する洗浄処理槽がない場合においては、一度に搬送できるキャリアの数が少ないため、量産性が悪いという問題がある。

図１３のように、複数のアームを備えると、量産性は良くなる。しかし、洗浄ワークがセットされたバスケットの搬入及び搬出を行うために、洗浄処理槽の個数よりも多くのアームが設けられているので、洗浄処理槽のスペースからはみ出して、アーム及びその駆動部を設置する必要がある。このため、基板洗浄装置が大型化し、狭いスペースには収まらないという問題点がある。

本発明は、かかる実情に鑑み、基板の洗浄処理を効率よく行うことができ、設置スペースを小さくすることができる基板洗浄装置を提供しようとするものである。

本発明は、上記課題を解決するために、以下のように構成した基板洗浄装置を提供する。

基板洗浄装置は、（ａ）供給台と、（ｂ）回収台と、（ｃ）前記供給台から前記回収台までの搬送経路に沿って配置され、基板を洗浄する一連の洗浄処理工程を行う複数個の洗浄処理槽と、（ｄ）前記搬送経路に沿って、互いに隣接する前記洗浄処理槽の間に配置された仮置台と、（ｅ）基板が収納されたラックを搬送する複数の搬送アーム部とを備える。前記搬送アーム部は、それぞれ、前記搬送経路の互いに異なる区間において、基板が収納されたラックを、前記供給台又は前記仮置台から前記洗浄処理槽に搬送する第１の動作と、前記洗浄処理槽から前記仮置台又は前記回収台に搬送する第２の動作とを繰り返す。

上記構成によれば、それぞれの搬送アーム部が搬送経路の互いに異なる区間において第１の動作と第２の動作を繰り返すため、搬送アーム部の個数を洗浄処理槽の個数よりも多くする必要はなく、搬送アーム部の個数を減らすことができる。その結果、基板洗浄装置を小型化し、設置スペースを小さくすることができる。

また、複数の搬送アーム部により、複数のラックを同時に搬送することができる。さらに、洗浄処理槽の間に配置された仮置台に、洗浄処理槽で洗浄処理された基板が収納されたラックを一時的に載置している間に、基板に付着した液が重力で落下し、除去される。複数のラックを同時に搬送することができ、仮置きと同時に液切りもできるため、効率よく基板の洗浄処理を行うことができる。

好ましくは、前記搬送アーム部の個数は、前記洗浄処理槽の個数と同じである。

この場合、全ての洗浄処理槽に同時に、基板が収納されたラックを搬送し、全ての洗浄処理槽から同時に、基板が収納されたラックを取り出すことができる。搬送アーム部の個数を少なくしながら大量に洗浄を行うことができ、最も効率がよい。また、基板洗浄装置を小型化し、設置スペースを小さくすることが容易である。

好ましくは、前記仮置台は、基板が収納されたラックが載置される載置面が水平から傾いている。

この場合、ラックが仮置台の載置面に載置されたときに、ラックに収納された基板の外縁が水平から傾くようにして、重力による液切り性を向上させることが容易である。

好ましくは、前記搬送アーム部は、互いに平行かつ水平方向に延在する一対の挿通部材を有する。基板が収納されるラックの上部両側に、互いに対向し、互いの間隔が上に行くほど狭くなるガイド部材が固定されている。一対の前記挿通部材が互いに対向する前記ガイド部材の間に挿通されると、同時に、一対の前記挿通部材の一方が互いに対向する前記ガイド部材の一方に当接し、かつ、一対の前記挿通部材の他方が互いに対向する前記ガイド部材の他方に当接することが可能である。

この場合、簡単な構成で、基板が収納されたラックを、仮置台の斜めの載置面に載置したり、仮置台の斜めの載置面から吊り上げたりすることができる。

本発明によれば、基板の洗浄処理を効率よく行うことができ、設置スペースを小さくすることができる。

基板洗浄装置の（ａ）断面図、（ｂ）平面図である。（実施例１） 搬送装置の動作を示す概略図である。（実施例１） 搬送装置の動作を示す概略図である。（実施例１） 搬送装置の動作を示す概略図である。（実施例１） 搬送装置の動作を示す概略図である。（比較例１） 基板洗浄装置の動作を示す概略図である。（比較例１） ラックの斜視図である。（実施例２） ラックを仮置台に載置するときの状態を示す概略図である。（実施例２） ラックを仮置台に載置するときの状態を示す概略図である。（比較例２） ラックを仮置台に載置するときの状態を示す概略図である。（比較例３） 搬送装置の概略図である。（比較例３） 基板洗浄装置の正面図である。（従来例１） 基板洗浄装置の説明図である。（従来例２）

以下、本発明の実施の形態について、図１〜図１１を参照しながら説明する。

＜実施例１＞ 実施例１の基板洗浄装置１０について、図１〜図４を参照しながら説明する。

図１（ａ）は、図１（ｂ）の線Ｘ−Ｘに沿って切断した基板洗浄装置１０の断面図である。図１（ｂ）は、基板洗浄装置１０の平面図である。図２〜図４は、搬送装置４０の動作を示す概略図である。

図１に示すように、基板洗浄装置１０は、供給台３０と回収台３６との間に、洗浄処理槽２２，２４，２６が配置され、互いに隣接する洗浄処理槽２２と２４、２４と２６の間の中間位置に、仮置台３２，３４が配置されている。基板洗浄装置１０は、図２〜図４に示すように、基板が収納されたラック２，４，６，８を搬送する搬送装置４０を備えている。

図１に示すように、供給台３０と、仮置台３２，３４と、回収台３６は、それぞれ、ラック２，４，６，８が載置される載置面３０ｓ，３２ｓ，３４ｓ，３６ｓを有する。各載置面３０ｓ，３２ｓ，３４ｓ，３６ｓは、同じ高さで水平方向に延在する。

搬入されたラックは、供給台３０に載置される。仮置台３２，３４には、一連の洗浄処理工程の途中でラックが一時的に載置される。洗浄処理工程の終了後に、ラックは、回収台３６に載置され、搬出されるのを待つ。

洗浄処理槽２２，２４，２６は、ラックに収納された基板を洗浄する一連の洗浄処理工程を行う。例えば、洗浄処理槽２２は基板を予備洗浄し、洗浄処理槽２４は基板を本洗浄し、洗浄処理槽２６は基板を乾燥する。

ラックの搬送経路に沿って、供給台３０、洗浄処理槽２２、仮置台３２、洗浄処理槽２４、仮置台３４、洗浄処理槽２６、及び回収台３６が等ピッチで配置されると、基板洗浄装置１０の構成が簡単になり、好ましい。

図２〜図４に示すように、搬送装置４０は、共通部４２と、共通部４２に固定された搬送アーム部４４，４６，４８とを備える。搬送アーム部４４，４６，４８の個数は、洗浄処理槽２２，２４，２６の個数と同じである。搬送アーム部４４，４６，４８は、ラック２，４，６，８に解除可能に結合する。例えば、搬送アーム部４４，４６，４８は、ラック２，４，６，８に引っ掛かる固定式フックであり、ラック２，４，６，８を吊り下げることができる。

共通部４２は不図示の駆動機構により、所定の経路を移動する。搬送装置４０は、搬送アーム部４４，４６，４８がラック２，４，６又は４，６，８に結合している状態で、共通部４２が移動することにより、搬送アーム部４４，４６，４８に結合されたラック２，４，６、又は４，６，８を同時に搬送する。搬送装置４０は、図２（ａ）〜図４（ｅ）の動作を繰り返すことにより、供給台３０に載置されたラックを、洗浄処理槽２２、仮置台３２、洗浄処理槽２４、仮置台３４、洗浄処理槽２６、回収台３６に、順次、移動させる。

すなわち、図２（ａ）に示すように、洗浄処理槽２２，２４，２６にラック４，６，８が配置され、洗浄処理を行っているとき、搬送装置４０の共通部４２は上昇し、搬送アーム部４４，４６，４８は洗浄処理槽２２，２４，２６の上方に退避している。このとき、新たなラック２を供給台３０に載置することにより、基板洗浄装置１０にラックを供給する。

各洗浄処理槽２２，２４，２６における洗浄処理が終了すると、図２（ｂ）に示すように、搬送装置４０の共通部４２が下降位置まで下降し、搬送アーム部４４，４６，４８が、各洗浄処理槽２２，２４，２６に配置されたラック４，６，８に結合する。

次いで、搬送装置４０の共通部４２が上昇して、各洗浄処理槽２２，２４，２６からラック４，６，８を引き上げる。次いで、搬送アーム部４４，４６，４８が仮置台３２，３４及び回収台３６の上方に位置するように、搬送装置４０の共通部４２が図において右方向に、洗浄処理槽２２，２４，２６のピッチの約半分の距離だけ移動する。次いで、搬送装置４０の共通部４２が下降して、ラック４，６，８を仮置台３２，３４及び回収台３６に載置し、搬送アーム部４４，４６，４８からラック４，６，８を解放した後、搬送装置４０の共通部４２が上昇して、図３（ｃ）に示すように、搬送装置４０の搬送アーム部４４，４６，４８が仮置台３２，３４及び回収台３６の上方に退避する。回収台３６に載置されているラック８は、次のラックが回収台３６に載置されるまでの間に、回収台３６から取り除かれる。

次いで、搬送アーム部４４，４６，４８が供給台３０及び仮置台３２，３４の上方に位置するように、搬送装置４０の共通部４２が図において左方向に、洗浄処理槽２２，２４，２６のピッチと略同じ距離だけ移動する。次いで、搬送装置４０の共通部４２が下降して、図３（ｄ）に示すように、供給台３０及び仮置台３２，３４に載置されたラック２，４，６に搬送アーム部４４，４６，４８が結合する。

次いで、搬送装置４０の共通部４２が上昇する。次いで、搬送アーム部４４，４６，４８が洗浄処理槽２２，２４，２６の上方に位置するように、搬送装置４０の共通部４２が図において右方向に、洗浄処理槽２２，２４，２６のピッチの約半分の距離だけ移動する。次いで、搬送装置４０の共通部４２が下降して、図４（ｅ）に示すように、洗浄処理槽２２，２４，２６にラック２，４，６を配置する。

次いで、搬送アーム部４４，４６，４８がラック２，４，６を解放した後、搬送装置４０の共通部４２が上昇し、図２（ａ）に示したように、搬送アーム部４４，４６，４８が洗浄処理槽２２，２４，２６の上方に退避する。

以下、同じ動作を繰り返すことにより、供給台３０に載置されたラックを、洗浄処理槽２２、仮置台３２、洗浄処理槽２４、仮置台３４、洗浄処理槽２６、回収台３６に、順次、移動させる。

搬送アーム部４４，４６，４８は、図３（ｄ）及び図４（ｅ）に示すように、基板が収納されたラックを、供給位置又は中間位置に相当する供給台３０又は仮置台３２，３４から、洗浄処理槽２２，２４，２６に搬送する第１の動作と、図２（ｂ）及び図３（ｃ）に示すように、洗浄処理槽２２，２４，２６から、中間位置又は回収位置に相当する仮置台３２，３４又は回収台３６に搬送する第２の動作とを繰り返す。搬送アーム部４４は供給台３０と仮置台３２の間を移動する。搬送アーム部４６は仮置台３２と仮置台３４の間を移動する。搬送アーム部４８は、仮置台３４と回収台３６の間を移動する。搬送アーム部４４，４６，４８は、それぞれ、搬送経路の互いに異なる区間において、第１動作と第２動作とを繰り返す。

基板洗浄装置１０は、それぞれの搬送アーム部４４，４６，４８が搬送経路の互いに異なる区間において第１の動作と第２の動作を繰り返すため、搬送アーム部４４，４６，４８の個数を洗浄処理槽２２，２４，２６の個数よりも多くする必要はなく、後述する比較例１のように洗浄処理槽の間に仮置台を配置しない場合よりも、搬送アーム部の個数を減らすことができる。そのため、基板洗浄装置１０を小型化し、設置スペースを小さくすることができる。

基板洗浄装置１０は、複数の搬送アーム部４４，４６，４８により、複数のラックを同時に搬送することができる。さらに、洗浄処理槽２２，２４，２６の間の中間位置に配置された仮置台３２，３４に、洗浄処理槽２２，２４で洗浄処理された基板が収納されたラックを一時的に載置している間に、基板に付着した液が重力で落下し、除去される。基板洗浄装置１０は、複数のラックを同時に搬送することができ、仮置きと同時に液切りもできるため、効率よく基板の洗浄処理を行うことができる。

搬送アーム部４４，４６，４８の個数が洗浄処理槽２２，２４，２６の個数と同じであると、全ての洗浄処理槽２２，２４，２６に同時に、基板が収納されたラック２，４，６又は４，６，８を搬送し、全ての洗浄処理槽２２，２４，２６から同時に、基板が収納されたラック２，４，６又は４，６，８を取り出すことができる。この場合、搬送アーム部の個数を少なくしながら大量に洗浄を行うことができ、最も効率がよい。また、共通部４２は、水平方向に、洗浄処理槽２２，２４，２６のピッチと略同じ距離だけ往復移動できればよいので、基板洗浄装置１０を小型化し、設置スペースを小さくすることが容易である。

供給台３０、仮置台３２，３４及び回収台３６と、洗浄処理槽２２，２４，２６とを、基板を収納したラックの搬送経路に沿って、図１（ｂ）に示すように、平面視で一直線上に並ぶように配置すると、基板洗浄装置１０の設置スペースを小さくすることができ、好ましいが、これに限るものではない。例えば、基板が収納されたラックを、平面視でジグザグの搬送経路に沿って搬送し、搬送経路のジグザグの角に、供給台、仮置台及び回収台と洗浄処理槽とを交互に配置してもよい。

＜比較例１＞ 図５及び図６は、洗浄処理槽２２，２４，２６の間に仮置台を設けない比較例１の基板洗浄装置１０ｘにおいて、搬送装置４０ｘの動作を示す概略図である。

図５及び図６に示すように、搬送装置４０ｘは、共通部４１ｘと、共通部４１ｘに固定された搬送アーム部４２ｘ，４４ｘ，４６ｘ，４８ｘとを備える。搬送アーム部４２ｘ，４４ｘ，４６ｘ，４８ｘの個数は、洗浄処理槽２２，２４，２６の個数よりも１個多い。搬送アーム部４２ｘ，４４ｘ，４６ｘ，４８ｘは、ラック２，４，６，８に解除可能に結合する。搬送装置４０ｘは、搬送アーム部４２ｘ，４４ｘ，４６ｘ，４８ｘがラック２，４，６，８に結合している状態で、共通部４１ｘが移動することにより、ラック２，４，６，８を同時に搬送する。

すなわち、図５（ａ）に示すように、供給台３０ｘにラック２が載置され、洗浄処理槽２２，２４，２６にそれぞれラック４，６，８が配置されているとき、搬送装置４０ｘの共通部４１ｘは上昇し、搬送アーム部４２ｘ，４４ｘ，４６ｘ，４８ｘは、供給台３０ｘ及び洗浄処理槽２２，２４，２６の上方に退避している。

次いで、図５（ｂ）に示すように、搬送装置４０ｘの共通部４１ｘが下降し、搬送アーム部４２ｘ，４４ｘ，４６ｘ，４８ｘが、供給台３０ｘ及び洗浄処理槽２２，２４，２６のラック２，４，６，８に結合する。

次いで、図６（ｃ）に示すうように、搬送装置４０ｘの共通部４１ｘが上昇して、ラック２，４，６，８を吊り上げる。

次いで、搬送装置４０ｘの共通部４１ｘが、洗浄処理槽２２，２４，２６及び回収台３８ｘの上方に移動した後、下降し、図６（ｄ）に示すように、洗浄処理槽２２，２４，２６及び回収台３８ｘにラック２，４，６，８を載置する。

次いで、搬送アーム部４２ｘ，４４ｘ，４６ｘ，４８ｘがラック２，４，６，８を解放した後、図５（ａ）に示した状態に戻る。

搬送装置４０ｘは、図５（ａ）〜図６（ｄ）の動作を繰り返すことにより、供給台３０ｘに載置されたラックを、洗浄処理槽２２、洗浄処理槽２４、洗浄処理槽２６、回収台３８ｘに、順次、移動させる。

前述した実施例１の基板洗浄装置１０は、比較例１の基板洗浄装置１０ｘの搬送装置４０ｘよりも搬送アーム部の個数を減らすことができるため、基板洗浄装置１０を小型化し、設置スペースを小さくすることができる。

＜実施例２＞ 実施例２の基板洗浄装置について、図７及び図８を参照しながら説明する。

実施例２の基板洗浄装置は、実施例１の基板洗浄装置と略同様に構成されている。以下では、実施例１との相違点を中心に説明する。

実施例２の基板洗浄装置は、実施例１と同じく、供給台と回収台との間に、複数個の洗浄処理槽が配置され、隣接する洗浄処理槽の間の中間位置に、仮置台が配置されている。

実施例１とは異なり、実施例２の基板洗浄装置は、基板１を収納するラック５０を載置する仮置台３８の載置面３８ｓが水平から傾いている。これに対応して、基板１を収納するラック５０と、搬送装置の搬送アーム部が構成されている。

図７は、実施例２の基板搬送装置で用いるラック５０の構成を模式的に図示する斜視図である。ラック５０は、柱状の部材５２〜５６が立方体形状に結合されている。すなわち、矩形に結合された２組の左部材５２、下部材５３、右部材５４及び上部材５５の角同士が、４本の連結部材５６により結合されている。

ラック５０の上部両側に、２組の左ガイド部材５８及び右ガイド部材５９が結合されている。すなわち、左ガイド部材５８の両端は、左部材５２の中間位置と上部材５５の中間位置とに固定されている。右ガイド部材５９の両端は、右部材５４の中間位置と上部材５５の中間位置とに固定されている。左ガイド部材５８と右ガイド部材５９とは、ハ字状に配置されており、互いの間隔は上に行くほど狭くなる。

互いに対向する左ガイド部材５８と右ガイド部材５９との間の空間５１には、搬送装置の搬送アーム部を構成する一対の挿通部材４９ａ，４９ｂが挿通される。挿通部材４９ａ，４９ｂは、互いに平行かつ水平に延在している。図７に示すように、挿通部材４９ａ，４９ｂは、互いに対向する左ガイド部材５８と右ガイド部材５９の間に形成される空間５１に挿通されると、一方の挿通部材４９ａが左ガイド部材５８に、他方の挿通部材４９ｂが右ガイド部材５９に、同時に当接することが可能である。

ラック５０の内部には、不図示の仕切り部材が配置され、ラック５０内に基板１を立てた状態で保持できるようになっている。矩形の基板１は、下側の一辺１ａが、ラック５０の下部材５３と平行に延在した状態で、ラック５０内に保持される。

図８は、ラック５０が仮置台３８に載置されるときの状態を示す概略図である。図８に示すように、仮置台３８は、水平から傾いている載置面３８ｓと、載置面３８ｓとは逆方向に傾斜した傾斜面３８ｔとを有する。

ラック５０は、以下のように仮置台３８に載置される。

すなわち、ラック５０の左ガイド部材５８と右ガイド部材５９の間に形成される空間５１に、搬送装置の搬送アーム部の挿通部材４９ａ，４９ｂが挿通された状態で、搬送装置の共通部が下降すると、挿通部材４９ａ，４９ｂは中心線４９ｃと平行に下降する。図８（ａ）に示すようにラック５０の一端５０ｐが仮置台３８に当接するまで、挿通部材４９ａが左ガイド部材５８に、挿通部材４９ｂが右ガイド部材５９に、それぞれ接する。そのため、ラック５０の揺れを防ぐことができる。

さらに搬送装置の共通部が下降すると、図８（ｂ）に示すように、共通部の下降に伴って、一方の挿通部材４９ａが左ガイド部材５８に当接する位置が変わり、ラック５０が傾き、ラック５０の下部材５３と仮置台３８の載置面３８ｓとの間の角度が小さくなる。このとき、他方の挿通部材４９ｂは、右ガイド部材５９から離れている。

そして、図８（ｃ）に示すように、ラック５０の下部材５３と仮置台３８の載置面３８ｓとの間の角度が零になり、ラック５０の下部材５３全体が仮置台３８の載置面３８ｓに当接すると、ラック５０は傾いた状態で仮置台３８に載置される。このとき、ラック５０の下側の角５０ｑが、仮置台３８の載置面３８ｓと傾斜面３８ｔとの交点３８ｘ近傍に配置され、傾いたラック５０の移動が阻止されるようになっている。

ラック５０の下部材５３全体が仮置台３８の載置面３８ｓに当接した後、さらに搬送装置の共通部が下降すると、図８（ｃ）に示すように、一方の挿通部材４９ａも左ガイド部材５８から離れる。

ラック５０が仮置台３８に載置されたとき、ラック５０が傾くため、ラック５０内に収納された基板１も傾き、矩形の基板１のいずれの辺も水平から傾いた状態となる。そのため、基板１に付着している洗浄液は、重力により、基板１に沿って流れ、基板の最も下側の角に集中し、１か所で滴となって、自然に落下する。そのため、基板１の下側の一辺１ａが水平に配置され複数個所で滴ができる場合よりも、基板１から効率よく液切りすることができる。

ラック５０と吊り上げるとき、搬送装置の共通部が上昇すると、図８（ｂ）に示すように、まず、搬送アーム部の一方の挿通部材４９ａが左ガイド部材５８に当接して、ラック５０の傾きを起こした後、図８（ａ）に示すように、他方の挿通部材４９ｂも右ガイド部材５９に当接するので、ラック５０をセンタリングした状態で吊り上げることができる。

ラック５０にガイド部材５８，５９を設けると、後述する比較例２、３のようにラックにガイド部材を設けない場合に比べ、簡単な構成で、基板１が収納されたラック５０を、仮置台３８の斜めの載置面３８ｓに載置したり、仮置台３８の斜めの載置面３８ｓから安定して吊り上げたりすることができる。

＜比較例２＞ 図９の概略図に示すように、比較例２では、ガイド部材５８，５９を設けないラック５０ｘを、実施例２と同じ構成の搬送アーム部の挿通部材４９ａ，４９ｂを用いて、仮置台３８の斜めの載置面３８ｓに載置する。

図９（ａ）に示すように、実施例２と同じ間隔の搬送アーム部の挿通部材４９ａ，４９ｂでラック５０ｘを左右均等に支持している状態で、搬送装置の共通部が下降し、ラック５０ｘの一端５０ｐが仮置台３８に当接した後、さらに搬送装置の共通部が下降すると、図９（ｂ）に示すように、ラック５０ｘは傾いた状態で仮置台３８の載置面３８ｓに載置される。このとき、搬送アームの挿通部材４９ａ，４９ｂは、中心線４９ｃに沿って平行に移動する。このとき、ラック５０ｘが傾いているため、ラック５０ｘの上部材５５は中心線４９ｃからずれたままの状態である。

この状態から、ラック５０ｘを吊り上げるため搬送装置の共通部が上昇すると、搬送アームの挿通部材４９ａ，４９ｂは中心線４９ｃに沿って平行に移動し、ラック５０ｘの上部材５５に片寄って当接する。そのため、安定してラック５０ｘを搬送することができない。また、ラック５０ｘを搬送できても、洗浄処理槽内にラック５０ｘを位置決めできない。

＜比較例３＞ 図１０の概略図に示すように、比較例３では、搬送装置の搬送アーム部を構成する一対の挿通部材４９ｐ，４９ｑの間隔を広げ、挿通部材４９ｐ，４９ｑが、ガイド部材５８，５９を設けないラック５０ｘの左部材５２と右部材５４に沿って摺動するように構成する。

この場合、ラック５０ｘをセンタリングした状態で吊り下げることができる。しかし、図１０（ａ）に示すように、ラック５０ｘの一端５０ｐが仮置台３８の斜めの載置面３８ｓに当接した後、搬送装置の共通部が下降し、挿通部材４９ｐ，４９ｑをさらに下降しても、図１０（ｂ）に示すように、挿通部材４９ｐ，４９ｑがラック５０ｘの左部材５２と右部材５４とに当接するため、ラック５０ｘが傾かない。そのため、ラック５０ｘを仮置台３８に斜めの載置面３８ｓに載置することができない。

ラック５０ｘを仮置台３８に斜めの載置面３８ｓに載置できるようにするためには、例えば図１１の概略図に示す搬送装置４０ｙのように、搬送アーム部４６ｙと共通部４２ｙとの間に、洗浄処理槽２２，２４，２６から吊り上げたラック５０ｘを矢印４８ｙの方向に強制的に傾けるための回転駆動機構４４ｙを設ける必要がある。この場合、搬送装置４０ｙの構成が複雑になる。また、搬送装置４０ｙが大きくなり、ひいては、基板洗浄装置の設置スペースが大きくなってしまう。

＜まとめ＞ 以上に説明したように、搬送経路に沿って、隣接する洗浄処理槽の間の中間位置に仮置台を設け、複数の搬送アーム部が、搬送経路の互いに異なる区間において、基板が収納されたラックを搬送する動作を繰り返すように構成すると、基板の洗浄処理を効率よく行うことができ、設置スペースを小さくすることができる。

なお、本発明は、上記実施の形態に限定されるものではなく、種々変更を加えて実施することが可能である。

１ 基板
２，４，６，８ ラック
１０，１０ｘ 基板洗浄装置
２２，２４，２６ 洗浄処理槽
３０ 供給台
３０ｓ 載置面
３０ｘ 供給台
３２ 仮置台
３２ｓ 載置面
３４ 仮置台
３４ｓ 載置面
３６ 回収台
３６ｓ 載置面
３８ 仮置台
３８ｓ 載置面
３８ｘ 回収台
４０，４０ｘ，４９ｙ 搬送装置
４１ｘ 共通部
４２ 共通部
４２ｘ 搬送アーム部
４４，４４ｘ 搬送アーム部
４６，４６ｘ 搬送アーム部
４８，４８ｘ 搬送アーム部
４９ａ，４９ｂ 挿通部材
５０ ラック
５８，５９ ガイド部材

Claims (4)

1. 供給台と、
   回収台と、
   前記供給台から前記回収台までの搬送経路に沿って配置され、基板を洗浄する一連の洗浄処理工程を行う複数個の洗浄処理槽と、
   前記搬送経路に沿って、互いに隣接する前記洗浄処理槽の間に配置された仮置台と、
   基板が収納されたラックを搬送する複数の搬送アーム部と、
   を備え、
   前記搬送アーム部は、それぞれ、前記搬送経路の互いに異なる区間において、基板が収納されたラックを、前記供給台又は前記仮置台から前記洗浄処理槽に搬送する第１の動作と、前記洗浄処理槽から前記仮置台又は前記回収台に搬送する第２の動作とを繰り返すことを特徴とする、基板洗浄装置。
2. 前記搬送アーム部の個数は、前記洗浄処理槽の個数と同じであることを特徴とする、請求項１に記載の基板洗浄装置。
3. 前記仮置台は、基板が収納されたラックが載置される載置面が水平から傾いていることを特徴とする請求項１又は２に記載の基板洗浄装置。
4. 前記搬送アーム部は、互いに平行かつ水平方向に延在する一対の挿通部材を有し、
   基板が収納されるラックの上部両側に、互いに対向し、互いの間隔が上に行くほど狭くなるガイド部材が固定され、
   一対の前記挿通部材が互いに対向する前記ガイド部材の間に挿通されると、同時に、一対の前記挿通部材の一方が互いに対向する前記ガイド部材の一方に当接し、かつ、一対の前記挿通部材の他方が互いに対向する前記ガイド部材の他方に当接することが可能であることを特徴とする、請求項３に記載の基板洗浄装置。

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