JP2012077330A - スパッタリング装置、スパッタリング方法及び金属ベース層付樹脂フィルムの製造方法 - Google Patents
スパッタリング装置、スパッタリング方法及び金属ベース層付樹脂フィルムの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012077330A JP2012077330A JP2010221727A JP2010221727A JP2012077330A JP 2012077330 A JP2012077330 A JP 2012077330A JP 2010221727 A JP2010221727 A JP 2010221727A JP 2010221727 A JP2010221727 A JP 2010221727A JP 2012077330 A JP2012077330 A JP 2012077330A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- resin film
- sputtering
- metal
- base layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【解決手段】巻出ロール111から巻き出された耐熱性樹脂フィルム112は駆動ロール118、119、120、121、122、123により折り返された間で、耐熱性樹脂フィルム112方向に開口部がある2つの開口部を有する少なくとも4ユニットの対向スパッタリングユニット129、130、131,132により、耐熱性樹脂フィルム112の第1成膜面と第2成膜面に同時に成膜が進行する。両端の対向スパッタリングユニット129、132の片側は片面成膜である。
【選択図】図3
Description
(2)金属箔に耐熱性樹脂溶液をコーティングした後、乾燥させて製造する方法、
(3)耐熱性樹脂フィルムに真空成膜法(真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームスパッタリング法等)若しくは湿式めっき法により金属膜を成膜して製造する方法等が知られている。
(1)互いに対向するターゲットを構成する金属の電子がこの対向する領域が成す空間から外部に向かって飛び出すための開口が2つ形成された対向スパッタリングユニットと、
(2)長尺樹脂フィルムが巻き回された巻出ロールから巻き出された前記長尺樹脂フィルムの一方の面を前記2つの開口の一方の開口に対向させるように案内し、その後、前記一方の開口に案内された前記一方の面を、前記一方の開口とは異なる他方の開口に対向させるように案内する複数のガイドロールとを備えたことを特徴とするものである。
(3)前記2つの開口が互いに向き合うように所定間隔離されて配列された複数のものであり、
(4)前記互いに向き合う開口の間を前記長尺樹脂フィルムが通過するように案内するものであってもよい。
(5)前記長尺樹脂フィルムを前記巻出ロールから巻き出して搬送するための複数の駆動ロールであってもよい。
(6)前記複数の駆動ロールは、前記樹脂フィルムの搬送方向下流側に向かうほど、その回転速度が速くなるように制御されるものであってもよい。
(7)前記駆動ロールは、前記樹脂フィルムの搬送方向下流側に向かうほど、その回転速度が遅くなるように制御されるものであってもよい。
(8)互いに対向するターゲットを構成する金属の電子がこの対向する領域が成す空間から外部に向かって飛び出すための開口が2つ形成された第1対向スパッタリングユニットと、この第1対向スパッタリングユニットと同じ構造の第2対向スパッタリングユニットと、この第2対向スパッタリングユニットと同じ構造の第3対向スパッタリングユニットと、この第3対向スパッタリングユニットと同じ構造の第4対向スパッタリングユニットとを、それぞれの2つの開口のうちのいずれか一方の開口が互いに向き合うように一列に配置しておき、
(9)前記一列に配置された4つの対向スパッタリングユニットの一番端の第1対向スパッタリングユニットの2つの開口の一方の開口に対向させるように長尺樹脂フィルムの一方の面をガイドロールで案内してこの一方の面に成膜し、続いて、前記一方の開口に案内された前記一方の面を、前記一方の開口とは異なる他方の開口に対向させるようにガイドロールで案内しながら、前記成膜された一方の面に重ねて成膜する第1成膜工程と、
(10)前記第1成膜工程で、前記他方の開口に対向させるようにガイドロールで案内しながら成膜した前記一方の面の反対側の面に前記第2対向スパッタリングユニットで成膜し、続いて、この成膜された反対側の面に重ねて成膜する第2成膜工程と、
(11)前記第2成膜工程で、前記他方の開口に対向させるようにガイドロールで案内しながら成膜した前記一方の面の反対側の面に前記第3対向スパッタリングユニットで成膜し、続いて、この成膜された反対側の面に重ねて成膜する第3成膜工程と、
(12)前記第3成膜工程で、前記他方の開口に対向させるようにガイドロールで案内しながら成膜した前記一方の面の反対側の面に前記第4対向スパッタリングユニットで成膜し、続いて、この成膜された反対側の面に重ねて成膜する第4成膜工程とを含むことを特徴とするものである。
(13)前記ガイドロールが前記長尺樹脂フィルムを案内するときの搬送速度は、その搬送方向下流側に向かうほど遅くなるものであってもよい。
(14)前記ガイドロールが前記長尺樹脂フィルムを案内するときの搬送速度は、その搬送方向下流側に向かうほど速くなるものであってもよい。
(15)前記長尺樹脂フィルムは、長尺耐熱性樹脂フィルムであってもよい。
(16)前記長尺樹脂フィルムは、ポリイミドフィルムまたはアラミドフィルムから選ばれる1種で構成されたものであってもよい。
(17)上記したいずれかのスパッタリング方法により、前記長尺樹脂フィルムの前記一方の面に金属の薄膜の金属シード層を前記第1成膜工程で成膜し、続いて、前記一方の面の反対側の面にも前記第1成膜工程で金属シード層を成膜し、
(18)前記金属シード層が所望の膜厚となるまで前記一方の面と前記反対側の面に成膜を繰り返し、
(19)前記一方の面の金属シード層の表面にCuまたはCu合金から選択される金属ベース層をいずれかの前記成膜工程で成膜し、前記一方の面の金属シード層の表面に前記金属ベース層をいずれかの前記成膜工程で成膜し、前記一方の面と前記他方の面の金属ベース層が前記所望の膜厚となるまで前記一方の面と前記他方の面に成膜を繰り返し、前記長尺樹脂フィルムの両面に金属シード層と金属ベース層の2層からなる積層体を成膜することを特徴とするものである。
(20)前記金属シード層がNiまたはNi合金であってもよい。
(21)前記Ni合金がNi−Cr合金層であってもよい。
1.金属膜付耐熱性樹脂フィルムS
本発明の成膜装置は、長尺樹脂フィルムの両面に金属シード層2と金属ベース層3を成膜する手段として適用することができる。
本発明の成膜装置は、巻き出しロールから巻き出された長尺の耐熱性樹脂フィルムをロール・トゥ・ロール方式により搬送して巻き取りロールに巻き取ると共に、前記耐熱性樹脂フィルムの表面にスパッタリング法で成膜を行うスパッタリング装置において、巻き出しロールと巻き取りロール間の搬送路上に、4個以上の隣接する駆動ロール(本発明にいうガイドロールの一例であり、駆動のみならずガイドの機能も有する。)が前記耐熱性樹脂フィルムを折り返す搬送路を構成して配置され、前記駆動ロール間に配置されかつ搬送路に向き開いた2つの開口部を有する対向スパッタリングユニットにより、耐熱性樹脂フィルムに少なくとも第1成膜面を2回、第2成膜面を2回、さらに、第1成膜面を2回、第2成膜面を2回成膜の成膜工程を順に繰り返しながら、前記長尺樹脂フィルムの両面に複数の薄膜を重ねて成膜することができることを特徴とするスパッタリング装置である。前記耐熱性樹脂フィルムの搬送路を折り返す駆動ロールを4つ以上配置させることで、耐熱性樹脂フィルムの搬送路に4カ所以上の折り返し箇所を設けることで、4個以上の対向スパッタリングユニットを設けることが可能となる。4個以上の対向スパッタリングユニットを設けることで、前記耐熱性樹脂フィルム各面に2個以上の対向スパッタリングユニットによるスパッタリング成膜が可能となり、2種類以上の異なるスパッタリング膜の積層や、スパッタリング膜の膜厚を厚くすることが可能となる。
さらには、両面に交互に成膜されていく膜の応力や金属ベース層付耐熱性樹脂フィルムの熱収縮・熱膨張により、金属ベース層付耐熱性樹脂フィルム長が伸びても縮んでも、駆動ロールの回転速度を個別に設定することで、金属ベース層付耐熱性樹脂フィルムに無理な引っ張りや弛みを与えることなく対応することが可能となる。
5ユニットの対向スパッタリングユニット159、160、161、162、163で第1成膜面と第2成膜面に交互に成膜を行う方法では、第1成膜面と第2成膜面の膜厚を交互に厚くしていくことが可能なため、両面の膜応力の差を低減でき、平面性に優れる金属ベース層付耐熱性樹脂フィルムを効率よく製造できる。第1成膜面の対向スパッタリングユニットは3ユニット、第2成膜面の対向スパッタリングユニットは2ユニットであるため、両面同じ膜厚にするためには各カソードのスパッタ電力(電圧、電流)を調整する必要がある。
さらには、両面に交互に成膜されていく膜の応力や金属ベース層付耐熱性樹脂フィルムの熱収縮・熱膨張により、金属ベース層付耐熱性樹脂フィルム長が伸びても縮んでも、駆動ロールの回転速度を個別に設定することで、金属ベース層付耐熱性樹脂フィルムに無理な引っ張りや弛みを与えることなく対応することが可能となる。
4.対向スパッタリングユニット
スパッタリング法ではスパッタ源から電子が基板に飛来することに起因するジュール熱によって耐熱性樹脂フィルムの温度上昇が問題となっている。特に、平板型ターゲットはスパッタからの電子が直接基板に飛来する配置であるため、耐熱性樹脂フィルムと言えども、熱負荷により熱収縮が生じたり、シワが発生することがある。これを防止するために、スパッタリング成膜中の耐熱性樹脂フィルムの裏側から水冷キャンロール等により冷却することが必要になる。しかし、この水冷キャンロールは複雑な内部構造で重量も重いため回転機構等も大がかりな機構になってしまう。ところが、直方体内部にスパッタリングターゲットが互いに向き合うように配置されて対向スパッタは、電子が耐熱性樹脂フィルムに直接飛来しないために耐熱性樹脂フィルムの温度上昇が低減できる方法であるため、耐熱性樹脂フィルムの冷却機構が不要になり、きわめてシンプルなスパッタリング装置を構成することができる。
5.金属膜
6.配線パターン
サブトラクティブ法は、金属膜付耐熱性樹脂フィルムの不要な金属膜と属ベース層と金属シード層を化学エッチングで除去して配線パターンを形成する。金属膜付耐熱性樹脂フィルムを準備し、該金属膜上にスクリーン印刷あるいはドライフィルムをラミネートして感光性レジスト膜を形成した後、露光現像して配線パターンの箇所にレジスト膜が残るようにパターニングする。次いで、塩化第2鉄溶液等のエッチング液で該金属膜を選択的にエッチング除去した後、上記レジスト膜を除去して所定の配線パターンを形成する。両面に配線パターン加工することが好ましい。全ての配線パターンを幾つかの配線領域に分割するかどうかは、配線パターンの配線密度の分布等による。例えば、配線パターンを、配線幅と配線間隔がそれぞれ50μm以下の高密度配線領域とその他の配線領域に分け、プリント基板との熱膨張差や取扱い上の都合等を考慮して分割する配線基板のサイズを10〜65mm程度に設定して適宜分割すればよい。
[比較例]
また、本発明は水冷キャンロールを採用していないにも関わらず従来技術の比較例(水冷キャンロールを採用)で作製した金属ベース層付耐熱性樹脂フィルムと同様に目視で確認できるシワの発生は無かった。
2,120 スパッタリング法による金属シード層
3,130 スパッタリング法による金属ベース層
4 湿式めっき法による金属膜
5 110,140 金属ベース層付耐熱性樹脂フィルムの製造装置の真空チャンバー
6,21,128,158 巻取ロール
8,12,15,19,115,118,119,120,121,122,123,125,145,147,148,149,150,151,152,153,155 駆動ロール
13,14,20,33,34,36,46,47,73,74,86,87,113,116,117,124,127,143,146,154,157 フリーロール
114,126,144,156 張力センサーロール
129,130,131,132,159,160,161,162,163 対向スパッタリングユニット
7,112,142,100 耐熱性樹脂フィルム(耐熱性ポリイミドフィルム)
6,111,141 巻出ロール
170,171 ターゲット
172,173 カソードユニット
174,175 囲い板
Claims (13)
- 互いに対向するターゲットを構成する金属の電子がこの対向する領域が成す空間から外部に向かって飛び出すための開口が2つ形成された対向スパッタリングユニットと、
長尺樹脂フィルムが巻き回された巻出ロールから巻き出された前記長尺樹脂フィルムの一方の面を前記2つの開口の一方の開口に対向させるように案内し、その後、前記一方の開口に案内された前記一方の面を、前記一方の開口とは異なる他方の開口に対向させるように案内する複数のガイドロールとを備えたことを特徴とするスパッタリング装置。 - 前記対向スパッタリングユニットは、前記2つの開口が互いに向き合うように所定間隔離されて配列された複数のものであり、
前記ガイドロールは、前記互いに向き合う開口の間を前記長尺樹脂フィルムが通過するように案内するものであることを特徴とする請求項1に記載のスパッタリング装置。 - 前記複数のガイドロールは、前記長尺樹脂フィルムを前記巻出ロールから巻き出して搬送するための複数の駆動ロールであることを特徴とする請求項1又は2に記載のスパッタリング装置。
- 前記複数の駆動ロールは、前記樹脂フィルムの搬送方向下流側に向かうほど、その回転速度が速くなるように制御されるものであることを特徴とする請求項3に記載のスパッタリング装置。
- 前記駆動ロールは、前記樹脂フィルムの搬送方向下流側に向かうほど、その回転速度が遅くなるように制御されるものであることを特徴とする請求項3に記載のスパッタリング装置。
- 互いに対向するターゲットを構成する金属の電子がこの対向する領域が成す空間から外部に向かって飛び出すための開口が2つ形成された第1対向スパッタリングユニットと、この第1対向スパッタリングユニットと同じ構造の第2対向スパッタリングユニットと、この第2対向スパッタリングユニットと同じ構造の第3対向スパッタリングユニットと、この第3対向スパッタリングユニットと同じ構造の第4対向スパッタリングユニットとを、それぞれの2つの開口のうちのいずれか一方の開口が互いに向き合うように一列に配置しておき、
前記一列に配置された4つの対向スパッタリングユニットの一番端の第1対向スパッタリングユニットの2つの開口の一方の開口に対向させるように長尺樹脂フィルムの一方の面をガイドロールで案内してこの一方の面に成膜し、続いて、前記一方の開口に案内された前記一方の面を、前記一方の開口とは異なる他方の開口に対向させるようにガイドロールで案内しながら、前記成膜された一方の面に重ねて成膜する第1成膜工程と、
前記第1成膜工程で、前記他方の開口に対向させるようにガイドロールで案内しながら成膜した前記一方の面の反対側の面に前記第2対向スパッタリングユニットで成膜し、続いて、この成膜された反対側の面に重ねて成膜する第2成膜工程と、
前記第2成膜工程で、前記他方の開口に対向させるようにガイドロールで案内しながら成膜した前記一方の面の反対側の面に前記第3対向スパッタリングユニットで成膜し、続いて、この成膜された反対側の面に重ねて成膜する第3成膜工程と、
前記第3成膜工程で、前記他方の開口に対向させるようにガイドロールで案内しながら成膜した前記一方の面の反対側の面に前記第4対向スパッタリングユニットで成膜し、続いて、この成膜された反対側の面に重ねて成膜する第4成膜工程とを含むことを特徴とするスパッタリング方法。 - 前記ガイドロールが前記長尺樹脂フィルムを案内するときの搬送速度は、その搬送方向下流側に向かうほど遅くなるものであることを特徴とする請求項6に記載のスパッタリング方法。
- 前記ガイドロールが前記長尺樹脂フィルムを案内するときの搬送速度は、その搬送方向下流側に向かうほど速くなるものであることを特徴とする請求項6に記載のスパッタリング方法。
- 前記長尺樹脂フィルムは、長尺耐熱性樹脂フィルムであることを特徴とする請求項6から請求項8までのうちのいずれか一項に記載のスパッタリング方法。
- 前記長尺樹脂フィルムは、ポリイミドフィルムまたはアラミドフィルムから選ばれる1種で構成されることを特徴とする請求項6から9に記載のスパッタリング方法。
- 請求項6から10までのうちのいずれかに記載のスパッタリング方法により、前記長尺樹脂フィルムの前記一方の面に金属の薄膜の金属シード層を前記第1成膜工程で成膜し、続いて、前記一方の面の反対側の面にも前記第1成膜工程で金属シード層を成膜し、
前記金属シード層が所望の膜厚となるまで前記一方の面と前記反対側の面に成膜を繰り返し、
前記一方の面の金属シード層の表面にCuまたはCu合金から選択される金属ベース層をいずれかの前記成膜工程で成膜し、前記一方の面の金属シード層の表面に前記金属ベース層をいずれかの前記成膜工程で成膜し、前記一方の面と前記他方の面の金属ベース層が前記所望の膜厚となるまで前記一方の面と前記他方の面に成膜を繰り返し、前記長尺樹脂フィルムの両面に金属シード層と金属ベース層の2層からなる積層体を成膜することを特徴とする金属ベース層付樹脂フィルムの製造方法。 - 前記金属シード層がNiまたはNi合金であることを特徴とする請求項11に記載の金属ベース層付樹脂フィルムの製造方法。
- 前記Ni合金がNi−Cr合金層であることを特徴とする請求項12に記載の金属ベース層付樹脂フィルムの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010221727A JP5648402B2 (ja) | 2010-09-30 | 2010-09-30 | スパッタリング装置、スパッタリング方法及び金属ベース層付樹脂フィルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010221727A JP5648402B2 (ja) | 2010-09-30 | 2010-09-30 | スパッタリング装置、スパッタリング方法及び金属ベース層付樹脂フィルムの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012077330A true JP2012077330A (ja) | 2012-04-19 |
JP5648402B2 JP5648402B2 (ja) | 2015-01-07 |
Family
ID=46237917
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010221727A Active JP5648402B2 (ja) | 2010-09-30 | 2010-09-30 | スパッタリング装置、スパッタリング方法及び金属ベース層付樹脂フィルムの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5648402B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016502588A (ja) * | 2012-10-09 | 2016-01-28 | ユーロブラズマ エンヴェー | 表面コーティングを塗布する装置及び方法 |
WO2016147633A1 (ja) * | 2015-03-17 | 2016-09-22 | 凸版印刷株式会社 | 成膜装置 |
CN106795623A (zh) * | 2014-10-14 | 2017-05-31 | 凸版印刷株式会社 | 通过气相沉积法在挠性基板上成膜的方法 |
US10422037B2 (en) | 2014-09-19 | 2019-09-24 | Toppan Printing Co., Ltd. | Film formation apparatus and film formation method |
KR20200135362A (ko) * | 2018-03-27 | 2020-12-02 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 필름 제조 장치 및 양면 적층 필름의 제조 방법 |
JP2022512978A (ja) * | 2018-11-09 | 2022-02-07 | 深▲せん▼市元子科技有限公司 | 膜及び製造プロセス |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6192431A (ja) * | 1984-10-11 | 1986-05-10 | Teijin Ltd | 磁気記録媒体の製造法 |
JPH116061A (ja) * | 1997-06-17 | 1999-01-12 | Toray Eng Co Ltd | 二層フレキシブル回路基材の製造方法 |
JP2005259325A (ja) * | 2004-02-12 | 2005-09-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法および製造装置 |
JP2008162245A (ja) * | 2007-01-05 | 2008-07-17 | Toray Advanced Film Co Ltd | メッキ法2層銅ポリイミド積層フィルムおよびその製造方法 |
JP2009249703A (ja) * | 2008-04-08 | 2009-10-29 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 金属薄膜積層基板の製造方法及び真空成膜装置 |
-
2010
- 2010-09-30 JP JP2010221727A patent/JP5648402B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6192431A (ja) * | 1984-10-11 | 1986-05-10 | Teijin Ltd | 磁気記録媒体の製造法 |
JPH116061A (ja) * | 1997-06-17 | 1999-01-12 | Toray Eng Co Ltd | 二層フレキシブル回路基材の製造方法 |
JP2005259325A (ja) * | 2004-02-12 | 2005-09-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法および製造装置 |
JP2008162245A (ja) * | 2007-01-05 | 2008-07-17 | Toray Advanced Film Co Ltd | メッキ法2層銅ポリイミド積層フィルムおよびその製造方法 |
JP2009249703A (ja) * | 2008-04-08 | 2009-10-29 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 金属薄膜積層基板の製造方法及び真空成膜装置 |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6998852B2 (ja) | 2012-10-09 | 2022-01-18 | ユーロブラズマ エンヴェー | 表面コーティングを塗布する装置及び方法 |
JP2016502588A (ja) * | 2012-10-09 | 2016-01-28 | ユーロブラズマ エンヴェー | 表面コーティングを塗布する装置及び方法 |
JP2019035153A (ja) * | 2012-10-09 | 2019-03-07 | ユーロブラズマ エンヴェー | 表面コーティングを塗布する装置及び方法 |
US10422037B2 (en) | 2014-09-19 | 2019-09-24 | Toppan Printing Co., Ltd. | Film formation apparatus and film formation method |
CN106795623A (zh) * | 2014-10-14 | 2017-05-31 | 凸版印刷株式会社 | 通过气相沉积法在挠性基板上成膜的方法 |
US10685817B2 (en) | 2015-03-17 | 2020-06-16 | Toppan Printing Co., Ltd. | Film forming apparatus |
US20180005800A1 (en) * | 2015-03-17 | 2018-01-04 | Toppan Printing Co., Ltd. | Film forming apparatus |
WO2016147633A1 (ja) * | 2015-03-17 | 2016-09-22 | 凸版印刷株式会社 | 成膜装置 |
KR20200135362A (ko) * | 2018-03-27 | 2020-12-02 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 필름 제조 장치 및 양면 적층 필름의 제조 방법 |
KR102414971B1 (ko) | 2018-03-27 | 2022-07-01 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 필름 제조 장치 및 양면 적층 필름의 제조 방법 |
US11384424B2 (en) | 2018-03-27 | 2022-07-12 | Nitto Denko Corporation | Film manufacturing apparatus and manufacturing method of double-sided laminated film |
JP2022512978A (ja) * | 2018-11-09 | 2022-02-07 | 深▲せん▼市元子科技有限公司 | 膜及び製造プロセス |
JP7320862B2 (ja) | 2018-11-09 | 2023-08-04 | 深▲せん▼市元子科技有限公司 | 膜及び製造プロセス |
US11962016B2 (en) | 2018-11-09 | 2024-04-16 | Shenzhen Yuanzi Technology Co., Ltd. | Film and preparation process |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5648402B2 (ja) | 2015-01-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5659807B2 (ja) | ロール・トゥ・ロール方式真空両面成膜装置および両面金属ベース層付樹脂フィルム製造装置 | |
JP5648402B2 (ja) | スパッタリング装置、スパッタリング方法及び金属ベース層付樹脂フィルムの製造方法 | |
JP2015040324A (ja) | 樹脂フィルムの表面処理方法及びこれを含んだ銅張積層板の製造方法 | |
JP5434859B2 (ja) | キャンロール上でのシワ伸ばし方法とその装置 | |
JP2010247417A (ja) | 金属ベース層付耐熱性樹脂フィルムと金属膜付耐熱性樹脂フィルムの製造方法および金属ベース層付耐熱性樹脂フィルムの製造装置 | |
JP2012026025A (ja) | 成膜方法、金属ベース層付樹脂フィルムの製造方法及びスパッタリング装置 | |
US11352697B2 (en) | Apparatus for processing long base material by roll-to-roll method and film forming apparatus using the same | |
JP6028711B2 (ja) | 両面成膜方法と金属ベース層付樹脂フィルムの製造方法 | |
JP2012117130A (ja) | ガス導入機構を備えた長尺基板の処理装置および処理方法、ならびに長尺基板の搬送方法 | |
JP6477150B2 (ja) | スパッタリング成膜方法およびそれを用いた金属化樹脂フィルムの製造方法ならびにスパッタリング成膜装置 | |
JP2014053410A (ja) | 両面金属積層フィルムの製造方法とその製造装置、および、フレキシブル両面プリント配線基板の製造方法 | |
JP2017125222A (ja) | 両面成膜体製造方法及びその装置 | |
JP5304733B2 (ja) | 誘電体膜を有する金属ベース層付耐熱性樹脂フィルムと金属膜付耐熱性樹脂フィルムの各製造方法および誘電体膜を有する金属ベース層付耐熱性樹脂フィルムの製造装置 | |
JP6028712B2 (ja) | 両面成膜方法と金属ベース層付樹脂フィルムの製造方法 | |
JP6060836B2 (ja) | 樹脂フィルムの表面処理方法及びこれを含んだ銅張積層板の製造方法 | |
JP6252988B2 (ja) | 2層銅張積層板及びその製造方法、並びにそれを用いたフレキシブル配線板及びその製造方法 | |
JP2014222689A (ja) | 両面金属積層フィルムの製造方法とその製造装置、および、フレキシブル両面プリント配線基板の製造方法 | |
JP6953698B2 (ja) | 被成膜物の搬送方法および乾式成膜装置ならびに該搬送方法を用いた被成膜物の成膜方法 | |
TWI754620B (zh) | 長條基板之捲取方法及捲取裝置、以及具備該捲取裝置的長條基板之表面處理裝置 | |
JP5741517B2 (ja) | 長尺体の表面処理装置と表面処理方法および銅張積層樹脂フィルム基板の製造方法 | |
JP5527186B2 (ja) | ガス導入機構を備えた長尺基板処理装置および処理方法 | |
JP6269385B2 (ja) | キャンロールと長尺基板処理装置および長尺基板処理方法 | |
JP2009249688A (ja) | 積層基板製造方法並びに真空成膜方法及び真空成膜装置 | |
JP5668677B2 (ja) | 長尺帯状体の搬送制御方法と長尺帯状体の表面処理方法 | |
JP7172334B2 (ja) | イオンビーム処理手段を備えた金属膜付樹脂フィルム基板の製造装置及び製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20130304 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20130304 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130419 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131113 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131119 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140115 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20140225 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140522 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20140602 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140708 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140821 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141014 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141027 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5648402 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |