JP2012068309A - ミラー駆動装置 - Google Patents

Abstract

【課題】本発明は、ミラー駆動装置に係り、ミラーで反射した光を遮断し難くして、ミラーで反射する光を広範囲な角度に亘って走査することにある。
【解決手段】基板と、光を反射するミラーと、基板に対してミラーを支持する梁と、電磁力によりミラーを基板の上面よりも上方へ浮上させるミラー浮上制御機構と、ミラー浮上制御機構によりミラーが基板の上面よりも上方へ浮上されている際に、該ミラーを該基板に対して傾斜させるミラー傾斜制御機構と、を備える。
【選択図】図１

Description

本発明は、ミラー駆動装置に係り、特に、ミラーで反射する光を広範囲な角度に亘って走査するうえで好適なミラー駆動装置に関する。

従来、ミラーで反射する光を走査するミラー駆動装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。このミラー駆動装置は、基板に対してミラーを支持する梁構造を備えている。この梁構造は、基板に接続する蛇行した第１アクチュエータと、基板に対して第１アクチュエータを介して支持される可動フレームと、可動フレームに接続して可動フレームに対してミラーを支持する蛇行した第２アクチュエータと、を有している。かかる梁構造において、第１アクチュエータと第２アクチュエータとは、互いに９０度異なる方向に延びている。可動フレームは、第１アクチュエータの駆動により基板表面に対して平行に延びた軸を中心にして揺動することで、基板に対して傾斜する。また、ミラーは、第２アクチュエータの駆動により可動フレームの表面に対して平行に延びる軸を中心にして揺動することで、可動フレームに対して傾斜する。

特開２００３−１８１８００号公報

しかし、上記のミラー駆動装置においては、ミラーの中心が上下動することはなく、ミラーが基板表面と同レベルの高さで保持されながら傾斜する。かかる梁構造では、基板に対するミラーの傾斜角度が過度（例えば、４５度以上）に大きくなると、ミラーで反射した光が梁構造の一部（例えば、可動アクチュエータや基板）に遮断される事態が生じ得る。従って、上記のミラー駆動装置では、ミラーで反射する光を広範囲な角度に亘って走査することができない。

本発明は、上述の点に鑑みてなされたものであり、ミラーで反射した光を遮断し難くして、ミラーで反射する光を広範囲な角度に亘って走査することが可能なミラー駆動装置を提供することを目的とする。

上記の目的は、基板と、光を反射するミラーと、前記基板に対して前記ミラーを支持する梁と、電磁力により前記ミラーを前記基板の上面よりも上方へ浮上させるミラー浮上制御機構と、前記ミラー浮上制御機構により前記ミラーが前記基板の上面よりも上方へ浮上されている際に、該ミラーを該基板に対して傾斜させるミラー傾斜制御機構と、を備えるミラー駆動装置により達成される。

この態様の発明において、基板に対して梁を介して支持されるミラーは、ミラー浮上制御機構による電磁力により基板の上面よりも上方へ浮上され、かかる浮上時にミラー傾斜制御機構により基板に対して傾斜される。ミラーの傾斜がミラーが基板の上面よりも上方へ浮上した状態で行われると、ミラーによる光の反射を基板の上面よりも上方で行うことが可能となるため、ミラーで反射した光が広範囲な角度に亘って基板や梁などに遮断され難くなる。従って、本発明によれば、ミラーで反射する光を広範囲な角度に亘って走査することができる。

尚、上記したミラー駆動装置において、前記ミラー浮上制御機構は、前記ミラーに配設される磁石と、前記基板側に前記磁石に対向して配置され、電流が流れることにより前記磁石と反発する電磁力を発生する電磁石と、前記ミラーの前記基板に対する高さが所定値となるように前記電磁石に流れる電流を制御する電流制御手段と、を有することとしてもよい。

また、上記したミラー駆動装置において、前記ミラー浮上制御機構は、前記基板側に配設される磁石と、前記ミラーに前記磁石に対向して配置され、前記梁を介して電流が流れることにより前記磁石と反発する電磁力を発生する電磁コイルと、前記ミラーの前記基板に対する高さが所定値となるように前記電磁コイルに流れる電流を制御する電流制御手段と、を有することとしてもよい。

また、上記したミラー駆動装置において、前記ミラー浮上制御機構は、前記基板側に配設され、電流が流れることにより電磁力を発生する電磁石と、前記ミラーに配設され、前記梁を介して電流が流れることにより電磁力を発生する電磁コイルと、前記ミラーの前記基板に対する高さが所定値となるように前記電磁石及び前記電磁コイルに流れる電流を制御する電流制御手段と、を有することとしてもよい。

また、上記したミラー駆動装置において、前記ミラー傾斜制御機構は、前記ミラーに配設される磁石と、前記基板側に前記磁石に対向して配置され、電流が流れることにより前記磁石と反発する電磁力を発生する電磁石と、前記ミラーを前記基板に対して傾斜させるべき傾斜角度に応じて前記電磁石に流れる電流を制御する電流制御手段と、を有することとしてもよい。

更に、上記したミラー駆動装置において、前記梁は、前記ミラーの前記基板に対する高さが前記所定値となり得るほどに変形可能であることとするのが好適である。

本発明によれば、ミラーで反射した光を遮断し難くして、ミラーで反射する光を広範囲な角度に亘って走査することができる。

本発明の第１実施例であるミラー駆動装置の上面図である。 本発明の第１実施例であるミラー駆動装置を図１に示すIII−IIIで切断した際の断面図である。 本発明の第１実施例であるミラー駆動装置の動作を説明するための図である。 ミラーへの入射光とミラーからの反射光との関係を表した図である。 本発明の第２実施例であるミラー駆動装置の上面図である。 本発明の第２実施例であるミラー駆動装置を図５に示すIV−IVで切断した際の断面図である。 本発明の第２実施例であるミラー駆動装置の動作を説明するための図である。 本発明の変形例であるミラー駆動装置の上面図である。 本発明の変形例であるミラー駆動装置を図８に示すV−Vで切断した際の断面図である。 本発明の変形例であるミラー駆動装置の動作を説明するための図である。

以下、図面を用いて、本発明に係るミラー駆動装置の具体的な実施の形態について説明する。

図１は、本発明の第１実施例であるミラー駆動装置１０の上面図を示す。また、図２は、本実施例のミラー駆動装置１０を図１に示すIII−IIIで切断した際の断面図を示す。本実施例のミラー駆動装置１０は、ミラーを用いて光（例えばレーザー光）を走査するミラースキャナであり、センサなどに用いられる。

ミラー駆動装置１０は、半導体からなる基板１２と、光を反射する平板状のミラー１４と、基板１２に対してミラー１４を支持する梁１６と、を備えている。基板１２は、四角形状に空いた孔２０を有する枠状に形成されている。ミラー１４は、四角形状に形成されており、基板１２に空いた孔２０の大きさ（面積）よりも小さな大きさ（面積）を有している。ミラー１４は、基板１２に空いた孔２０内の略中央に配置される。

梁１６は、図１に示す如くクランク状に形成されており、ミラー１４を基板１２に支持するうえで複数（図１では４つ）設けられている。各梁１６はそれぞれ、一端が基板１２の孔２０を囲む側壁に接続され、かつ、他端がミラー１４の側壁に接続されている。梁１６の他端が接続するミラー１４の側壁は、その梁１６の一端が接続する基板１２の側壁に対向するミラー１４の側壁ではなく、その対向する側壁とは法線が直交する側壁である。梁１６は、ミラー１４の基板１２に対する高さが所定値に達するまでミラー１４が基板１２に対して上方（図２において上側）へ浮くのを許容し、かつ、その高さが所定値に達した状態でそのミラー１４が基板１２に対して所定角度まで傾斜するのを許容するように撓む（変形する）ことが可能である。このため、ミラー１４は、梁１６の変形により、基板１２に対して、基板１２の上面よりも上方へ浮上することが可能であると共に、傾斜することが可能である。

ミラー１４には、永久磁石２２が配設されている。永久磁石２２は、ミラー１４の下面（図２において下側）の略中央に取り付けられている。永久磁石２２は、ミラー１４が基板１２に対して浮く方向（すなわち上下方向）に磁化されている。

ミラー１４の下方には、第１の電磁石２４が配設されている。第１の電磁石２４は、基板１２に対して固定されており、ミラー１４下面の永久磁石２２に対向するように配置されている。第１の電磁石２４は、コントローラ３０に電気的に接続されている。第１の電磁石２４は、コントローラ３０の指示により電流が流れることにより磁界を発生し、永久磁石２２との間で反発する電磁力を発生する。永久磁石２２と第１の電磁石２４との間で電磁力が発生すると、ミラー１４側の永久磁石２２が基板１２側の第１の電磁石２４から離れるように反発することで、ミラー１４が基板１２に対して上方へ移動する。

ミラー１４の側方には、第２の電磁石２６が配設されている。第２の電磁石２６は、複数設けられており、基板１２に対して固定されている。第２の電磁石２６は、ミラー１４を挟んで対を形成するように配置されている。対となる２つの第２の電磁石２６は、ミラー１４が傾斜すべき方向に沿ってミラー１４を挟んで対向している。第２の電磁石２６は、コントローラ３０に電気的に接続されている。第２の電磁石２６は、コントローラ３０の指示により電流が流れることにより磁界を発生し、永久磁石２２との間で電磁力を発生する。また、対となる２つの第２の電磁石２６は、ミラー１４が基板１２に対して傾斜するように永久磁石２２との間で電磁力を発生する。

コントローラ３０には、ミラー１４の基板１２に対する高さを検出するためのセンサが電気的に接続されている。このセンサは、例えば、梁１６に配設される半導体ピエゾ抵抗による歪ゲージであって、梁１６の撓み量に応じた信号をコントローラ３０へ向けて出力する。コントローラ３０は、このセンサの出力信号に基づいて、梁１６の撓み量を算出し、ミラー１４の基板１２に対する高さを検出する。

次に、図３及び図４を参照して、本実施例のミラー駆動装置１０の動作について説明する。図３は、本実施例のミラー駆動装置１０の動作を説明するための図を示す。尚、図３（Ａ）にはミラー１４の浮上前の状況を表す断面図を、図３（Ｂ）にはミラー１４の浮上後の状況を表す断面図を、また、図３（Ｃ）にはミラー１４が浮上後に傾斜する状況を表す断面図を、それぞれ示す。更に、図４は、ミラー１４への入射光とミラー１４からの反射光との関係を表した図を示す。

第１の電磁石２４及び第２の電磁石２６に電流が流れていない場合は、図３（Ａ）に示す如く、ミラー１４が基板１２の上面付近で水平に保持されている。コントローラ３０は、ミラー１４を所望の角度に傾斜させるのに、第１の電磁石２４及び第２の電磁石２６に電流を流通させる。第１の電磁石２４に電流が流れると、第１の電磁石２４の周囲に磁界が発生することで、その第１の電磁石２４とミラー１４下面の永久磁石２２との間で反発する電磁力が発生する。かかる電磁力が発生すると、図３（Ｂ）に示す如く、永久磁石２２が第１の電磁石２４から離れるように反発することで、永久磁石２２が配設されたミラー１４が、梁１６に支持されながら、基板１２に対して上方へ移動し、基板１２の上面よりも上方へ浮上する。

コントローラ３０は、第１の電磁石２４に電流を流通させる場合、ミラー１４の基板１２に対する高さをフィードバック制御する。具体的には、上記したセンサの出力信号に基づいてミラー１４の基板１２に対する高さを検出し、そして、その検出したミラー１４の基板１２に対する高さに基づいて、その高さが予め定められた所定値になるように第１の電磁石２４に流通させる電流を制御する。このため、ミラー１４は、基板１２に対して所定の高さまで浮上する。

また、第２の電磁石２６に電流が流れると、第２の電磁石２６の周囲に磁界が発生することで、その第２の電磁石２６とミラー１４下面の永久磁石２２との間で電磁力が発生する。対となる２つの第２の電磁石２６それぞれで発生した電磁力が永久磁石２２に作用すると、図３（Ｃ）に示す如く、永久磁石２２が配設されたミラー１４が、梁１６に支持されながら、基板１２に対して傾斜する。

図４に示す如く基板１２表面に対して直交する光がミラー１４に入射するものとすると、その入射光はミラー１４表面で反射されて反射光として進行する。入射光に対して反射光が進行する方向は、ミラー１４の基板１２に対する傾斜角度に応じたものとなる。ミラー１４が基板１２に対して傾斜する度合いが低いときすなわちミラー１４の基板１２に対する傾斜角度が鋭角であるときは、反射光と入射光とがなす角度は鋭角である。一方、ミラー１４が基板１２に対して傾斜する度合いが高いときすなわちミラー１４の基板１２に対する傾斜角度が鈍角であるときは、反射光と入射光とがなす角度は鈍角である。ミラー駆動装置１０において光を走査することのできる範囲（光走査角度）は、ミラー１４が基板１２に対して傾斜可能な範囲（角度）に限られる。

コントローラ３０は、ミラー１４の基板１２に対する傾斜角度が所望の角度となるように第２の電磁石２６に流通させる電流を制御する。このため、ミラー１４は、基板１２に対して所望の角度を保って傾斜する。

上述の如くミラー１４が基板１２に対して所定の高さに浮上しかつ所望の角度を保って傾斜する状況で、光がミラー１４に入射すると、その光はミラー１４の基板１２に対する傾斜角度に応じた方向へ反射されて進行する。

本実施例のミラー駆動装置１０において、ミラー１４の基板１２に対する傾斜は、図３（Ｃ）に示す如く、そのミラー１４が基板１２の上面よりも上方へ浮上した状態で行われる。かかる構造においては、ミラー１４が光を反射する面を基板１２の上面よりも上方に位置させることができ、ミラー１４による光の反射を基板１２の上面よりも上方で行うことができる。

このため、ミラー１４に入射した光をミラー１４周辺に存在する基板１２や梁１６に遮断されることなく反射させるうえで、入射光と反射光との角度が９０度未満に制限されるのが回避され、入射光と反射光とが９０度以上の角度をなすことが許容されるので、ミラー１４で反射した光が広範囲な角度に亘って、ミラー１４周辺に存在する基板１２や梁１６に遮断され難くなる。従って、本実施例のミラー駆動装置１０によれば、ミラー１４で反射する光を広範な角度に亘って走査することができ、１８０度以上の光走査角度を実現することができる。

尚、上記の第１実施例においては、永久磁石２２、第１の電磁石２４、及びコントローラ３０が特許請求の範囲に記載した「ミラー浮上制御機構」に、永久磁石２２、第２の電磁石２６、及びコントローラ３０が特許請求の範囲に記載した「ミラー傾斜制御機構」に、コントローラ３０がミラー１４の基板１２に対する高さが予め定められた所定値になるように第１の電磁石２４に流通させる電流を制御することが特許請求の範囲の請求項２に記載した「電流制御手段」に、コントローラ３０がミラー１４の基板１２に対する傾斜角度が所望の角度となるように第２の電磁石２６に流通させる電流を制御することが特許請求の範囲の請求項５に記載した「電流制御手段」に、それぞれ相当している。

上記した第１実施例では、永久磁石２２をミラー１４に配設しかつ第１の電磁石２４を基板１２側に配設する。これに対して、本発明の第２実施例においては、ミラー１４に電磁コイルを配設しかつ基板１２側に永久磁石２２を配設することとしている。

図５は、本発明の第２実施例であるミラー駆動装置１００の上面図を示す。また、図６は、本実施例のミラー駆動装置１００を図５に示すIV−IVで切断した際の断面図を示す。尚、図５及び図６において、上記した図１及び図２に示す構成と同一の構成部分については、同一の符号を付してその説明を省略又は簡略する。

ミラー１４の下方には、永久磁石１０２が配設されている。永久磁石１０２は、ミラー１４が基板１２に対して浮く方向（すなわち上下方向）に磁化されている。

ミラー１４には、電磁コイル１０４が配設されている。電磁コイル１０４は、ミラー１４の表面に取り付けられている。電磁コイル１０４の両端は、梁１６に配設された配線を介して、基板１２に取り付けられた電極１０６，１０８に接続されている。電極１０６，１０８には、コントローラ１１０が電気的に接続されている。電磁コイル１０４は、コントローラ１１０の指示により電極１０６，１０８や配線等を通じて電流が流れることにより磁界を発生し、永久磁石１０２との間で反発する電磁力を発生する。永久磁石１０２と電磁コイル１０４との間で電磁力が発生すると、ミラー１４側の電磁コイル１０４が基板１２側の永久磁石１０２から離れるように反発することで、ミラー１４が基板１２に対して上方へ移動する。

ミラー１４の側方には、上記した第２の電磁石２６と同様の機能を有する電磁石（図５及び図６では図示せず）が配設されている。この電磁石は、複数設けられており、基板１２に対して固定されている。この電磁石は、ミラー１４を挟んで対を形成するように配置されている。これら対となる２つの電磁石は、ミラー１４が傾斜すべき方向に沿ってミラー１４を挟んで対向している。この電磁石は、コントローラ１１０に電気的に接続されており、コントローラ１１０の指示により電流が流れることにより磁界を発生し、電磁コイル１０４との間で電磁力を発生する。また、これら対となる２つの電磁石は、ミラー１４が基板１２に対して傾斜するように電磁コイル１０４との間で電磁力を発生する。

コントローラ１１０には、ミラー１４の基板１２に対する高さを検出するためのセンサが電気的に接続されている。このセンサは、例えば、梁１６に配設される半導体ピエゾ抵抗による歪ゲージであって、梁１６の撓み量に応じた信号をコントローラ１１０へ向けて出力する。コントローラ１１０は、このセンサの出力信号に基づいて、梁１６の撓み量を算出し、ミラー１４の基板１２に対する高さを検出する。

次に、図７を参照して、本実施例のミラー駆動装置１００の動作について説明する。図７は、本実施例のミラー駆動装置１００の動作を説明するための図を示す。尚、図７（Ａ）にはミラー１４の浮上前の状況を表す断面図を、図７（Ｂ）にはミラー１４の浮上後の状況を表す断面図を、また、図７（Ｃ）にはミラー１４が浮上後に傾斜する状況を表す断面図を、それぞれ示す。

電磁コイル１０４及びミラー１４側方の電磁石に電流が流れていない場合は、図７（Ａ）に示す如く、ミラー１４が基板１２の上面付近で水平に保持されている。コントローラ１１０は、ミラー１４を所望の角度に傾斜させるのに、電磁コイル１０４及びミラー１４側方の電磁石に電流を流通させる。電磁コイル１０４に電流が流れると、電磁コイル１０４の周囲に磁界が発生することで、そのミラー１４側の電磁コイル１０４と基板１２側の永久磁石１０２との間で反発する電磁力が発生する。かかる電磁力が発生すると、図７（Ｂ）に示す如く、電磁コイル１０４が永久磁石１０２から離れるように反発することで、電磁コイル１０４が配設されたミラー１４が、梁１６に支持されながら、基板１２に対して上方へ移動し、基板１２の上面よりも上方へ浮上する。

コントローラ１１０は、電磁コイル１０４に電流を流通させる場合、ミラー１４の基板１２に対する高さをフィードバック制御する。具体的には、上記したセンサの出力信号に基づいてミラー１４の基板１２に対する高さを検出し、そして、その検出したミラー１４の基板１２に対する高さに基づいて、その高さが予め定められた所定値になるように電磁コイル１０４に流通させる電流を制御する。このため、ミラー１４は、基板１２に対して所定の高さまで浮上する。

また、ミラー１４側方の電磁石に電流が流れると、その電磁石の周囲に磁界が発生することで、その電磁石とミラー１４側の電磁コイル１０４との間で電磁力が発生する。対となる２つの電磁石それぞれで発生した電磁力が電磁コイル１０４に作用すると、図７（Ｃ）に示す如く、電磁コイル１０４が配設されたミラー１４が、梁１６に支持されながら、基板１２に対して傾斜する。

コントローラ１１０は、ミラー１４の基板１２に対する傾斜角度が所望の角度となるようにミラー１４側方の電磁石に流通させる電流を制御する。このため、ミラー１４は、基板１２に対して所望の角度を保って傾斜する。

上述の如くミラー１４が基板１２に対して所定の高さに浮上しかつ所望の角度を保って傾斜する状況で、光がミラー１４に入射すると、その光はミラー１４の基板１２に対する傾斜角度に応じた方向へ反射されて進行する。

本実施例のミラー駆動装置１００においても、ミラー１４の基板１２に対する傾斜は、図７（Ｃ）に示す如く、そのミラー１４が基板１２の上面よりも上方へ浮上した状態で行われる。かかる構造においては、ミラー１４が光を反射する面を基板１２の上面よりも上方に位置させることができ、ミラー１４による光の反射を基板１２の上面よりも上方で行うことができる。

このため、ミラー１４に入射した光をミラー１４周辺に存在する基板１２や梁１６に遮断されることなく反射させるうえで、入射光と反射光との角度が９０度未満に制限されるのが回避され、入射光と反射光とが９０度以上の角度をなすことが許容されるので、ミラー１４で反射した光が広範囲な角度に亘って、ミラー１４周辺に存在する基板１２や梁１６に遮断され難くなる。従って、本実施例のミラー駆動装置１００においても、ミラー１４で反射する光を広範な角度に亘って走査することができ、１８０度以上の光走査角度を実現することができる。

尚、上記の第２実施例においては、永久磁石１０２、電磁コイル１０４、及びコントローラ１１０が特許請求の範囲に記載した「ミラー浮上制御機構」に、電磁コイル１０４、ミラー１４側方の電磁石、及びコントローラ１１０が特許請求の範囲に記載した「ミラー傾斜制御機構」に、コントローラ１１０がミラー１４の基板１２に対する高さが予め定められた所定値になるように電磁コイル１０４に流通させる電流を制御することが特許請求の範囲の請求項３に記載した「電流制御手段」に、コントローラ１１０がミラー１４の基板１２に対する傾斜角度が所望の角度となるようにミラー１４側方の電磁石に流通させる電流を制御することが特許請求の範囲の請求項５に記載した「電流制御手段」に、それぞれ相当している。

尚、上記の第１及び第２実施例においては、ミラー１４を基板１２の上面よりも上方へ浮上させるのに、ミラー１４側又は基板１２側に永久磁石２２，１０２を配設することとしたが、本発明はこれに限定されるものではなく、基板１２側に電磁石２４を配設した第１実施例とミラー１４側に電磁コイル１０４を配設した第２実施例とを組み合わせることで、ミラー１４側及び基板１２側の双方に永久磁石２２，１０２を配設することなく、ミラー１４を基板１２の上面よりも上方へ浮上させる構造を実現することとしてもよい（図８及び図９参照）。

すなわち、本変形例のミラー駆動装置２００においては、ミラー１４の下方に、第１の電磁石２４が配設されている。第１の電磁石２４は、基板１２に対して固定されている。第１の電磁石２４は、コントローラ２０２に電気的に接続されている。また、ミラー１４には、電磁コイル１０４が配設されている。電磁コイル１０４は、ミラー１４の表面に取り付けられている。電磁コイル１０４の両端は、梁１６に配設された配線を介して、基板１２に取り付けられた電極１０６，１０８に接続されている。電極１０６，１０８には、コントローラ２０２が電気的に接続されている。

第１の電磁石２４は、コントローラ２０２の指示により電流が流れることにより磁界を発生する。また、電磁コイル１０４は、コントローラ２０２の指示により電極１０６，１０８や配線等を通じて電流が流れることにより磁界を発生する。第１の電磁石２４及び電磁コイル１０４が共に磁界を発生すると、両者の間で反発する電磁力を発生する。第１の電磁石２４と電磁コイル１０４との間で電磁力が発生すると、ミラー１４側の電磁コイル１０４が基板１２側の第１の電磁石２４から離れるように反発することで、ミラー１４が基板１２に対して上方へ移動する。

ミラー１４の側方には、上記した第２の電磁石２６と同様の機能を有する電磁石（図８及び図９では図示せず）が配設されている。この電磁石は、複数設けられており、基板１２に対して固定されている。この電磁石は、ミラー１４を挟んで対を形成するように配置されている。これら対となる２つの電磁石は、ミラー１４が傾斜すべき方向に沿ってミラー１４を挟んで対向している。この電磁石は、コントローラ２０２に電気的に接続されており、コントローラ２０２の指示により電流が流れることにより磁界を発生し、電磁コイル１０４との間で電磁力を発生する。また、これら対となる２つの電磁石は、ミラー１４が基板１２に対して傾斜するように電磁コイル１０４との間で電磁力を発生する。

コントローラ２０２には、ミラー１４の基板１２に対する高さを検出するためのセンサが電気的に接続されている。このセンサは、例えば、梁１６に配設される半導体ピエゾ抵抗による歪ゲージであって、梁１６の撓み量に応じた信号をコントローラ２０２へ向けて出力する。コントローラ２０２は、このセンサの出力信号に基づいて、梁１６の撓み量を算出し、ミラー１４の基板１２に対する高さを検出する。

本変形例のミラー駆動装置２００において，第１の電磁石２４、電磁コイル１０４、及びミラー１４側方の電磁石に電流が流れていない場合は、図１０（Ａ）に示す如く、ミラー１４が基板１２の上面付近で水平に保持されている。コントローラ２０２は、ミラー１４を所望の角度に傾斜させるのに、第１の電磁石２４、電磁コイル１０４、及びミラー１４側方の電磁石に電流を流通させる。第１の電磁石２４に電流が流れかつ電磁コイル１０４に電流が流れると、第１の電磁石２４の周囲及び電磁コイル１０４の周囲に共に磁界が発生することで、基板１２側の第１の電磁石２４とミラー１４側の電磁コイル１０４との間で反発する電磁力が発生する。かかる電磁力が発生すると、図１０（Ｂ）に示す如く、電磁コイル１０４が第１の電磁石２４から離れるように反発することで、電磁コイル１０４が配設されたミラー１４が、梁１６に支持されながら、基板１２に対して上方へ移動し、基板１２の上面よりも上方へ浮上する。

コントローラ２０２は、電磁コイル１０４に電流を流通させる場合、ミラー１４の基板１２に対する高さをフィードバック制御する。具体的には、上記したセンサの出力信号に基づいてミラー１４の基板１２に対する高さを検出し、そして、その検出したミラー１４の基板１２に対する高さに基づいて、その高さが予め定められた所定値になるように電磁コイル１０４に流通させる電流を制御する。このため、ミラー１４は、基板１２に対して所定の高さまで浮上する。

また、ミラー１４側方の電磁石に電流が流れると、その電磁石の周囲に磁界が発生することで、その電磁石とミラー１４側の電磁コイル１０４との間で電磁力が発生する。対となる２つの電磁石それぞれで発生した電磁力が電磁コイル１０４に作用すると、図１０（Ｃ）に示す如く、電磁コイル１０４が配設されたミラー１４が、梁１６に支持されながら、基板１２に対して傾斜する。

コントローラ２０２は、ミラー１４の基板１２に対する傾斜角度が所望の角度となるようにミラー１４側方の電磁石に流通させる電流を制御する。このため、ミラー１４は、基板１２に対して所望の角度を保って傾斜する。

上述の如くミラー１４が基板１２に対して所定の高さに浮上しかつ所望の角度を保って傾斜する状況で、光がミラー１４に入射すると、その光はミラー１４の基板１２に対する傾斜角度に応じた方向へ反射されて進行する。

本変形例のミラー駆動装置２００においても、ミラー１４の基板１２に対する傾斜は、図１０（Ｃ）に示す如く、そのミラー１４が基板１２の上面よりも上方へ浮上した状態で行われる。かかる構造においては、ミラー１４が光を反射する面を基板１２の上面よりも上方に位置させることができ、ミラー１４による光の反射を基板１２の上面よりも上方で行うことができる。このため、ミラー１４に入射した光をミラー１４周辺に存在する基板１２や梁１６に遮断されることなく反射させるうえで、入射光と反射光との角度が９０度未満に制限されるのが回避され、入射光と反射光とが９０度以上の角度をなすことが許容されるので、ミラー１４で反射した光が広範囲な角度に亘って、ミラー１４周辺に存在する基板１２や梁１６に遮断され難くなる。従って、本変形例のミラー駆動装置２００においても、ミラー１４で反射する光を広範な角度に亘って走査することができ、１８０度以上の光走査角度を実現することができる。

また、上記の第１及び第２実施例においては、梁１６をクランク状に形成することとしたが、本発明はこれに限定されるものではなく、曲線状に形成することとしてもよい。ただし、その曲線状に形成される梁１６は、ミラー１４の基板１２に対する高さが所定値に達するまでミラー１４が基板１２に対して上方（図２において上側）へ浮くのを許容し、かつ、その高さが所定値に達した状態でそのミラー１４が基板１２に対して所定角度まで傾斜するのを許容するように撓む（変形する）ことが可能であることが必要である。

１０，１００，２００ ミラー駆動装置
１２ 基板
１４ ミラー
１６ 梁
２２，１０２ 永久磁石
２４ 第１の電磁石
２６ 第２の電磁石
３０，１１０，２０２ コントローラ
１０４ 電磁コイル

Claims (6)

1. 基板と、
   光を反射するミラーと、
   前記基板に対して前記ミラーを支持する梁と、
   電磁力により前記ミラーを前記基板の上面よりも上方へ浮上させるミラー浮上制御機構と、
   前記ミラー浮上制御機構により前記ミラーが前記基板の上面よりも上方へ浮上されている際に、該ミラーを該基板に対して傾斜させるミラー傾斜制御機構と、
   を備えることを特徴とするミラー駆動装置。
2. 前記ミラー浮上制御機構は、
   前記ミラーに配設される磁石と、
   前記基板側に前記磁石に対向して配置され、電流が流れることにより前記磁石と反発する電磁力を発生する電磁石と、
   前記ミラーの前記基板に対する高さが所定値となるように前記電磁石に流れる電流を制御する電流制御手段と、
   を有することを特徴とする請求項１記載のミラー駆動装置。
3. 前記ミラー浮上制御機構は、
   前記基板側に配設される磁石と、
   前記ミラーに前記磁石に対向して配置され、前記梁を介して電流が流れることにより前記磁石と反発する電磁力を発生する電磁コイルと、
   前記ミラーの前記基板に対する高さが所定値となるように前記電磁コイルに流れる電流を制御する電流制御手段と、
   を有することを特徴とする請求項１記載のミラー駆動装置。
4. 前記ミラー浮上制御機構は、
   前記基板側に配設され、電流が流れることにより電磁力を発生する電磁石と、
   前記ミラーに配設され、前記梁を介して電流が流れることにより電磁力を発生する電磁コイルと、
   前記ミラーの前記基板に対する高さが所定値となるように前記電磁石及び前記電磁コイルに流れる電流を制御する電流制御手段と、
   を有することを特徴とする請求項１記載のミラー駆動装置。
5. 前記ミラー傾斜制御機構は、
   前記ミラーに配設される磁石と、
   前記基板側に前記磁石に対向して配置され、電流が流れることにより前記磁石と反発する電磁力を発生する電磁石と、
   前記ミラーを前記基板に対して傾斜させるべき傾斜角度に応じて前記電磁石に流れる電流を制御する電流制御手段と、
   を有することを特徴とする請求項１記載のミラー駆動装置。
6. 前記梁は、前記ミラーの前記基板に対する高さが前記所定値となり得るほどに変形可能であることを特徴とする請求項１記載のミラー駆動装置。
   

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