JP2012066480A - Method of splitting brittle material substrate with resin - Google Patents
Method of splitting brittle material substrate with resin Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012066480A JP2012066480A JP2010213158A JP2010213158A JP2012066480A JP 2012066480 A JP2012066480 A JP 2012066480A JP 2010213158 A JP2010213158 A JP 2010213158A JP 2010213158 A JP2010213158 A JP 2010213158A JP 2012066480 A JP2012066480 A JP 2012066480A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- brittle material
- resin
- material substrate
- dividing
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28D—WORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
- B28D5/00—Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
- B28D5/0005—Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by breaking, e.g. dicing
- B28D5/0011—Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by breaking, e.g. dicing with preliminary treatment, e.g. weakening by scoring
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B43/00—Operations specially adapted for layered products and not otherwise provided for, e.g. repairing; Apparatus therefor
- B32B43/003—Cutting
Abstract
Description
本発明は、脆性材料基板を分割する方法に関し、特に、樹脂を接着させたセラミック基板を分割する方法に関する。 The present invention relates to a method for dividing a brittle material substrate, and more particularly to a method for dividing a ceramic substrate to which a resin is bonded.
LTCC(Low Temperature Co-fired Ceramics)やHTCC(High Temperature Co-fired Ceramics)などのセラミックスその他の脆性材料を用いて構成された脆性材料基板(主面や内部に電気回路等が形成されたものを含む)を分割し、複数の分割個片に切り出す手法には、種々のものがある。例えば、スクライビングホイールなどを用いて脆性材料基板の分割予定位置にスクライブラインを形成することで、スクライブラインに沿って脆性材料基板の厚み方向に垂直クラックを形成しておき、その後、外力(荷重)を印加することによって垂直クラックを脆性材料基板の厚み方向に伸展させることで、脆性材料基板をブレイクする態様が公知である(例えば、特許文献1参照)。係る場合、スクライブラインに沿って形成される垂直クラックが脆性材料基板の厚み方向に伸展して裏面に到達することによって、脆性材料基板がブレイクされる。あるいは脆性材料基板の製造過程において分割予定位置にあらかじめV字状の溝(V溝などと呼ばれる)が形成され、V溝に沿ってブレイクがなされる場合もある。V溝は、セラミックスの前駆体(セラミックスグリーンシートの積層体)の段階で形成されるのが一般的である。 A brittle material substrate made of ceramics or other brittle materials such as LTCC (Low Temperature Co-fired Ceramics) or HTCC (High Temperature Co-fired Ceramics) There are various methods for dividing the image into a plurality of divided pieces. For example, by forming a scribe line at a planned division position of the brittle material substrate using a scribing wheel or the like, a vertical crack is formed in the thickness direction of the brittle material substrate along the scribe line, and then external force (load) A mode in which a brittle material substrate is broken by applying a vertical crack in the thickness direction of the brittle material substrate by applying is known (for example, see Patent Document 1). In such a case, the vertical crack formed along the scribe line extends in the thickness direction of the brittle material substrate and reaches the back surface, whereby the brittle material substrate is broken. Alternatively, in the process of manufacturing the brittle material substrate, a V-shaped groove (referred to as a V-groove or the like) is formed in advance at a position to be divided, and a break may occur along the V-groove. The V-groove is generally formed at the stage of a ceramic precursor (ceramic green sheet laminate).
脆性材料基板には、主面に形成された回路の保護などを目的として、ガラスエポキシなどの熱硬化性樹脂を該主面に付着させたもの(樹脂付き脆性材料基板)がある。係る樹脂付き脆性材料基板を上述の手法にて脆性材料基板の側からブレイクする場合、脆性材料基板と樹脂とでは材質が異なることが原因で、垂直クラックが樹脂部分まで伸展しない、もしくは樹脂部分を貫通しない、という不具合が生じることがある。あるいは、クラックが垂直に伸展せず、ソゲなどと称される斜め割れが生じてしまう場合もある。 There is a brittle material substrate in which a thermosetting resin such as glass epoxy is attached to the main surface (brittle material substrate with resin) for the purpose of protecting a circuit formed on the main surface. When the brittle material substrate with resin is broken from the side of the brittle material substrate by the above-described method, the vertical crack does not extend to the resin portion because the material is different between the brittle material substrate and the resin, or the resin portion is The problem of not penetrating may occur. Alternatively, the crack may not extend vertically, and an oblique crack called soge may occur.
また、V溝が形成された脆性材料基板を樹脂付き脆性材料基板とする場合、熱硬化性樹脂を付着させる過程において脆性材料基板に生じる反りが、V溝によって緩和されるという効果が得られる。ただし、その一方で、該樹脂付き脆性材料基板を分割する場合、スクライブラインの先端部と比べると尖鋭度が弱いV溝の先端部(最下点)がブレイクの起点となるため、クラックがさらに垂直に伸展しにくい、という問題がある。 In addition, when the brittle material substrate with the V-groove is used as the brittle material substrate with resin, an effect is obtained that warpage generated in the brittle material substrate in the process of attaching the thermosetting resin is alleviated by the V-groove. However, on the other hand, when the brittle material substrate with resin is divided, the tip of the V-groove (the lowest point), which is less sharp than the tip of the scribe line, becomes the starting point of the break, so that cracks are further generated. There is a problem that it is difficult to extend vertically.
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、脆性材料基板にV溝が形成された樹脂付き脆性材料基板を、従来よりも高い確実性にて分割する方法を提供することを目的とする。 This invention is made | formed in view of the said subject, and it aims at providing the method of dividing | segmenting the brittle material board | substrate with resin in which the V-groove was formed in the brittle material board | substrate with higher certainty than before. .
上記課題を解決するため、請求項1の発明は、脆性材料基板の一主面に樹脂が付着してなるとともに、前記脆性材料基板の他主面にV字状溝部が設けられた樹脂付き脆性材料基板を、前記V字状溝部の先端部を起点として主面に垂直に分割する方法であって、前記樹脂付き脆性材料基板の樹脂側の分割予定位置に第2溝部を形成する溝部形成工程と、前記V字状溝部に沿って前記樹脂付き脆性材料基板を分割するブレイク工程と、を備えることを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problem, the invention of
請求項2の発明は、請求項1に記載の樹脂付き脆性材料基板の分割方法であって、前記ブレイク工程が前記脆性材料基板の主面上であって前記V字状溝部に対して対称な2つの位置と、前記樹脂側の主面であって前記V字状溝部の先端部の延長線上の位置とに対し、所定の付勢部材にて付勢することによって、前記樹脂付き脆性材料基板を分割するブレイク工程と、を備えることを特徴とする。
Invention of
請求項3の発明は、請求項1または請求項2に記載の樹脂付き脆性材料基板の分割方法であって、前記ブレイク工程が、前記V字状溝部の先端部から前記第2溝部へとクラックを伸展させることによって前記樹脂付き脆性材料基板を分割する工程である、ことを特徴とする。
Invention of Claim 3 is the division | segmentation method of the brittle material board | substrate with resin of
請求項4の発明は、請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の樹脂付き脆性材料基板の分割方法であって、前記溝部形成工程がダイサーにより前記第2溝部を形成する工程である、ことを特徴とする。
Invention of
請求項5の発明は、請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の樹脂付き脆性材料基板の分割方法であって、前記脆性材料基板がLTCCまたはHTCCであることを特徴とする。 A fifth aspect of the present invention is the method for dividing a brittle material substrate with a resin according to any one of the first to fourth aspects, wherein the brittle material substrate is LTCC or HTCC.
請求項1ないし請求項5の発明によれば、樹脂付き脆性材料基板をその主面に対して垂直な分割予定位置にて確実に分割することができる。
According to invention of
<樹脂付き脆性材料基板>
図1は、本実施の形態において分割の対象となる樹脂付き脆性材料基板10を示す模式図である。樹脂付き脆性材料基板10は、LTCC(Low Temperature Co-fired Ceramics)やHTCC(High Temperature Co-fired Ceramics)などのセラミックスその他の脆性材料を用いて構成された脆性材料基板1の一方の主面1aに、ガラスエポキシなどの熱硬化性樹脂(以下、単に樹脂とも称する)2を付着させたものである。なお、本実施の形態において、脆性材料基板1は、主面や内部に電気回路等が形成されたものを含むものとする。樹脂2は、例えば主面に形成された回路の保護などを目的として、設けられてなる。
<Brittle substrate with resin>
FIG. 1 is a schematic diagram showing a
脆性材料基板1の他方の主面1b側には、樹脂付き脆性材料基板10の分割予定位置に対応させて、V字状の溝部G1があらかじめ設けられてなる。溝部G1は、樹脂2の付着に先立つ脆性材料基板1の製造時に形成されてなる。例えば、焼成前の脆性材料基板1(より具体的には、セラミックス成分と有機成分とを含んだセラミックグリーンシートを積層圧着してなる積層体)にプレス等によって凹部を設けておくことなどによって、溝部G1は形成される。溝部G1は、樹脂2の硬化時の収縮に伴って脆性材料基板1の主面1aに作用する圧縮応力を、緩和させる効果がある。
On the other
また、図1においては、樹脂付き脆性材料基板10の分割予定位置を表す分割予定線Lを破線にて示している。分割予定線Lの脆性材料基板1側の端部は、溝部G1の先端部P1と一致する。後述するように、先端部P1が、樹脂付き脆性材料基板10を分割する際の起点となる。なお、本実施の形態においては、分割予定位置は脆性材料基板1の主面1a、1bに垂直に設定されるものとする。また、分割予定線Lの樹脂2側の端部(主面2aとの交差位置)を、分割予定位置P2と称することとする。係る場合において、先端部P1および分割予定位置P2は、紙面に垂直な方向に延在する直線である。
Moreover, in FIG. 1, the division | segmentation planned line L showing the division | segmentation planned position of the brittle material board |
なお、図1における脆性材料基板1と樹脂2とのサイズや、樹脂2の付着態様はあくまで例示に過ぎない。脆性材料基板1および樹脂2のいずれも、それぞれの目的に照らして適宜のサイズが選択されてよい。特に限定されるものではないが、例えば、樹脂付き脆性材料基板10の厚みは0.3〜3mm程度、脆性材料基板1の厚みは0.1〜2mm程度、樹脂2の厚みは0.1〜2mm程度とすることができる。また、図1においては(以降の図においても同様)、5箇所の分割予定位置(5本の分割予定線L)が示されているが、これも例示に過ぎない。さらには、溝部G1のサイズや形状についても、種々の態様が選択されてよい。
In addition, the size of the
<樹脂付き材料基板の分割>
図2は、本実施の形態において樹脂付き脆性材料基板10を分割する処理の手順を示す図である。以降、図2に示す手順に沿って、本実施の形態に係る樹脂付き脆性材料基板の分割処理の詳細を説明する。
<Division of material substrate with resin>
FIG. 2 is a diagram showing a processing procedure for dividing the
まず、樹脂付き脆性材料基板10を用意する(ステップS1)。係る樹脂付き脆性材料基板10には、図1に示したように、溝部G1が形成されているとともに、脆性材料基板1の主面1a、1bに垂直な分割予定位置が設定されているものとする。そして、用意した樹脂付き脆性材料基板10の樹脂2側の分割予定位置P2に、溝部形成加工を行う(ステップS2)。溝部形成加工は、ダイサー(ダイシングソー)、レーザービームその他の公知の加工手段の中から、適宜のものを選択して行うことができる。
First, a
図3は、ダイサー100を用いて溝部形成加工を行う様子を示す模式図である。図4は、係る溝部形成加工によって溝部G2が形成された樹脂付き脆性材料基板10を示す図である。
FIG. 3 is a schematic diagram showing a state in which the groove forming process is performed using the
ダイサー100を用いて溝部形成加工を行う場合、まず、樹脂付き脆性材料基板10が、樹脂2の主面2aが被加工面となるように、脆性材料基板1の主面1bを載置面としてダイサー100のステージ101の上に載置固定される。そして、外周部分がダイヤモンドなどを材質とする研削用の刃先となっている円板状のブレード102が溝部G2の深さに見合った高さ位置に調整される。そして、図示しない駆動手段によりブレード102を軸102aを中心に矢印AR1に示すように回転させつつ、分割予定位置P2に沿ってステージ101を矢印AR2に示すように移動させるかあるいはブレード102を矢印AR3に示すように移動させることによって、溝部G2が形成される。全ての分割予定位置P2に対して、同様の加工が行われた状態を示すのが、図4である。
When the groove forming process is performed using the
溝部G2の深さは、脆性材料基板1および樹脂2の材質、硬度、厚みなどによって、適宜に定められてよい。特に限定されるものではないが、例えば、溝部G2の深さは、樹脂2の厚みの30〜90%程度とすることができる。なお、図4においては断面視矩形状に溝部G2が形成されてなるが、溝部G2の断面形状は、必ずしも矩形には限られない。
The depth of the groove G2 may be appropriately determined depending on the material, hardness, thickness, and the like of the
溝部G2の形成が完了すると、続いて、樹脂付き脆性材料基板10を分割予定線Lに沿ってブレイクするブレイク加工を行う(ステップS3)。
When the formation of the groove portion G2 is completed, a break process is performed to break the
図5は、ブレイク加工を行うブレイク装置300の様子を示す模式断面図である。図6は、溝部G1に沿って脆性材料基板の厚み方向にクラックCRが形成されたブレイク加工後の樹脂付き脆性材料基板10を示す図である。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a state of the
ブレイク装置300は、被加工物が粘着固定された弾性フィルム301をその端縁部にて水平に開帳しつつ保持するフレーム302と、被加工物より上側にて上下動する2つの上側ブレイクバー303(303a、303b)と、被加工物より下側にて上下動する1つの下側ブレイクバー304とを主として備える。2つの上側ブレイクバー303a、303bは、水平方向(図面視左右方向)において離間配置されてなる。好ましくは、両者の離間距離は調節可能とされてなる。また、下側ブレイクバー304は、水平方向において2つの上側ブレイクバー303a、303bから等距離の位置に配置されてなる。
The
ブレイク装置300を用いて樹脂付き脆性材料基板10のブレイクを行う場合、まず、樹脂2の主面2aを固定面として樹脂付き脆性材料基板10を弾性フィルム301の粘着面301aに粘着固定する。そして、粘着面301aが上方となる状態で、弾性フィルム301をフレーム302にて開帳する。
In the case where the
続いて、下側ブレイクバー304を弾性フィルム301とは離間させた状態でブレイクの対象となる分割予定線L(以下、対象分割予定線)の延長線上の位置に配置する。そして、2つの上側ブレイクバー303a、303bを脆性材料基板1とは離間させた状態で該分割予定線Lに対して対称となるように、かつ、溝部G1を挟むように、所定の間隔で離間配置する。この状態で、2つの上側ブレイクバー303を下降させてそれぞれの先端303eを脆性材料基板1の主面1bに当接させるとともに、下側ブレイクバー304を上昇させてその先端304eを弾性フィルム301を介して樹脂2の主面2aに当接させる。これによって、樹脂付き脆性材料基板10は、上側ブレイクバー303によって鉛直下向きに、下側ブレイクバー304によって鉛直上向きに付勢される。すると、樹脂付き脆性材料基板10には、対象分割予定線の位置において3点曲げの応力が作用する。係る応力が作用すると、当該位置に設けられた溝部G1の先端部P1を起点として該対象分割予定線に沿ったクラック伸展が生じ、直下の溝部G2にまで達する垂直なクラックCRが形成される。このクラックCRの形成によって、対象分割予定線の位置におけるブレイクがなされたことになる。
Subsequently, the
なお、図5においては、上側ブレイクバー303の先端303eと下側ブレイクバー304の先端304eとが断面視鋭角をなしており、脆性材料基板1または弾性フィルム301に線接触する(図5に示す断面においては点接触となっている)態様を例示しているが、これは必須ではなく、先端303eおよび先端304eが断面視矩形状をなしており、脆性材料基板1または弾性フィルム301に面接触する態様であってもよい。
In FIG. 5, the
全ての分割予定線Lに対して、同様の加工が行われた状態を示すのが、図6である。本実施の形態に係る分割方法を用いた場合、クラックCRは脆性材料基板1に設けられた溝部G1の先端部P1から分割予定線Lに沿って樹脂2の溝部G2へと垂直に、しかも確実に(再現性よく)伸展する。なお、ブレイク加工の後においては、図6に示すように複数の分割個片11同士がクラックCRにおいて略接触した状態となっているが、当然ながら、それぞれの分割個片11は物理的には別体のものであって、個別に取り扱うことが可能である。
FIG. 6 shows a state in which the same processing has been performed on all the division lines L. When the dividing method according to the present embodiment is used, the crack CR is perpendicular to the groove portion G2 of the
図7は、対比のために示す、溝部形成加工を行わなかったほかは上述と同様の手順にて加工を行った樹脂付き脆性材料基板10についての、ブレイク加工後の様子を示す図である。係る場合、図7に示すように、樹脂2において分割予定線Lからずれた斜めのクラック(クラックCR1やクラックCR2)が形成されることで斜め割れが生じたり、樹脂2の途中までしか伸展しないクラック(クラックCR3やクラックCR4)や、あるいは、脆性材料基板1の範囲のみでしか伸展しないクラック(クラックCR5)が形成されるに留まる場合もある。また、仮に良好な分割が行えたとしても、ブレイクに際し、本実施の形態の場合に比してより大きな力を樹脂付き脆性材料基板10に与える必要がある。これらのことは、本実施の形態のように、あらかじめ樹脂2に溝部G2が形成しておくことが、樹脂付き脆性材料基板10を良好にブレイクするうえで効果があることを意味している。
FIG. 7 is a view showing a state after the break processing of the
以上、説明したように、本実施の形態によれば、一方の主面にV字状の溝部(V溝)が設けられた脆性材料基板からなる樹脂付き脆性材料基板を分割するにあたっては、樹脂側の分割予定位置に溝部を形成しておいたうえで、ブレイク加工を行うようにすることで、従来よりも高い確実性にて、樹脂付き脆性材料基板をその主面に対して垂直な分割予定位置にて分割することができる。 As described above, according to the present embodiment, in dividing a brittle material substrate with a resin made of a brittle material substrate having a V-shaped groove (V groove) on one main surface, Splitting the brittle material substrate with resin perpendicular to its main surface with higher certainty by making a break after forming the groove at the planned split position on the side It can be divided at the planned position.
<変形例>
ブレイク加工の態様は、上述の実施の形態のものには限られない。例えば、下側ブレイクバーの構成については上述のブレイク装置300と同様であるが、上側ブレイクバーが、比較的幅広で脆性材料基板1の主面1bさらには弾性フィルム301と十分な接触面積で接触する形状を有し、かつ、主面1bとの接触面がラバー等の弾性部材からなる受け部材として設けられてなるブレイク装置を用いる態様であってもよい。係るブレイク装置においては、V字状の溝部G1が形成された主面1bに上述の受け部材をあらかじめ接触させた状態で、対象分割予定線の延長線上に配置した下側ブレイクバーを、弾性フィルム301を介して樹脂側の主面2aに対し線接触させ、樹脂付き脆性材料基板10に付勢することで、ブレイクが実現される。
<Modification>
The mode of the break processing is not limited to that of the above-described embodiment. For example, the configuration of the lower break bar is the same as that of the above-described
あるいは、ブレイクバーによってブレイクを行うブレイク装置に代えて、樹脂2側の主面2aをローラーで押圧することにより、樹脂付き脆性材料基板10の厚み方向に垂直クラックを伸展させる形式のブレイク装置を使用してもよい。あるいは、ブレイク装置を使用することなく、V字状の溝部G1が形成された樹脂付き脆性材料基板10を人間の手で折り割りしてもよい。
Alternatively, instead of a break device that breaks with a break bar, a break device of a type that extends a vertical crack in the thickness direction of the
1 脆性材料基板
1a、1b (脆性材料基板の)主面
2 樹脂
10 樹脂付き脆性材料基板
11 分割個片
100 ダイサー
101 ステージ
102 ブレード
300 ブレイク装置
301 弾性フィルム
301a 粘着面
302 フレーム
303(303a、303b) 上側ブレイクバー
303e (上側ブレイクバーの)先端
304 下側ブレイクバー
304e 先端
CR、CR1〜CR5 クラック
G1 (脆性材料基板側の)溝部
G2 (樹脂側の)溝部
L 分割予定線
P1 (溝部の)先端部
P2 (樹脂側の)分割予定位置
DESCRIPTION OF
Claims (5)
前記樹脂付き脆性材料基板の樹脂側の分割予定位置に第2溝部を形成する溝部形成工程と、
前記V字状溝部に沿って前記樹脂付き脆性材料基板を分割するブレイク工程と、を備える、
ことを特徴とする樹脂付き脆性材料基板の分割方法。 Resin is adhered to one main surface of the brittle material substrate, and the brittle material substrate with resin having a V-shaped groove portion provided on the other main surface of the brittle material substrate, starting from the tip of the V-shaped groove portion. As a method of dividing perpendicularly to the main surface,
A groove portion forming step of forming a second groove portion at a planned division position on the resin side of the brittle material substrate with resin;
A breaking step of dividing the brittle material substrate with resin along the V-shaped groove,
A method for dividing a brittle material substrate with resin, characterized in that:
前記ブレイク工程が、
前記脆性材料基板の主面上であって前記V字状溝部に対して対称な2つの位置と、前記樹脂側の主面であって前記V字状溝部の先端部の延長線上の位置とに対し、所定の付勢部材にて付勢することによって、前記樹脂付き脆性材料基板を分割する工程である、
ことを特徴とする樹脂付き脆性材料基板の分割方法。 A method for dividing a brittle material substrate with resin according to claim 1,
The breaking step is
Two positions on the main surface of the brittle material substrate that are symmetric with respect to the V-shaped groove, and a position on the resin-side main surface on the extension line of the tip of the V-shaped groove. On the other hand, it is a step of dividing the brittle material substrate with resin by energizing with a predetermined energizing member.
A method for dividing a brittle material substrate with resin, characterized in that:
前記ブレイク工程が、前記V字状溝部の先端部から前記第2溝部へとクラックを伸展させることによって前記樹脂付き脆性材料基板を分割する工程である、
ことを特徴とする樹脂付き脆性材料基板の分割方法。 A method for dividing a brittle material substrate with a resin according to claim 1 or 2,
The breaking step is a step of dividing the brittle material substrate with resin by extending a crack from the tip of the V-shaped groove to the second groove.
A method for dividing a brittle material substrate with resin, characterized in that:
前記溝部形成工程がダイサーにより前記第2溝部を形成する工程である、
ことを特徴とする樹脂付き脆性材料基板の分割方法。 A method for dividing a brittle material substrate with a resin according to any one of claims 1 to 3,
The groove portion forming step is a step of forming the second groove portion by a dicer.
A method for dividing a brittle material substrate with resin, characterized in that:
前記脆性材料基板がLTCCまたはHTCCであることを特徴とする樹脂付き脆性材料基板の分割方法。 A method for dividing a brittle material substrate with a resin according to any one of claims 1 to 4,
The method for dividing a brittle material substrate with resin, wherein the brittle material substrate is LTCC or HTCC.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010213158A JP5170196B2 (en) | 2010-09-24 | 2010-09-24 | Method for dividing brittle material substrate with resin |
TW100114718A TWI498956B (en) | 2010-09-24 | 2011-04-27 | A method for dividing a brittle material substrate with resin |
CN201110154473.3A CN102416674B (en) | 2010-09-24 | 2011-06-02 | The dividing method of attached resin brittle material substrate |
KR1020110075602A KR101291001B1 (en) | 2010-09-24 | 2011-07-29 | Dividing method of resin-attached brittle material substrate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010213158A JP5170196B2 (en) | 2010-09-24 | 2010-09-24 | Method for dividing brittle material substrate with resin |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012066480A true JP2012066480A (en) | 2012-04-05 |
JP5170196B2 JP5170196B2 (en) | 2013-03-27 |
Family
ID=45941442
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010213158A Expired - Fee Related JP5170196B2 (en) | 2010-09-24 | 2010-09-24 | Method for dividing brittle material substrate with resin |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5170196B2 (en) |
KR (1) | KR101291001B1 (en) |
CN (1) | CN102416674B (en) |
TW (1) | TWI498956B (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014069237A (en) * | 2012-10-02 | 2014-04-21 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd | Method for processing substrate with pattern |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103586985A (en) * | 2012-08-17 | 2014-02-19 | 佳友科技有限公司 | Method and system for processing fragile material |
JP2015088512A (en) | 2013-10-28 | 2015-05-07 | 三菱電機株式会社 | Method of manufacturing semiconductor device |
TWI566288B (en) * | 2014-07-14 | 2017-01-11 | 矽品精密工業股份有限公司 | Carrier for dicing and dicing method |
JP2016166120A (en) * | 2015-03-06 | 2016-09-15 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | Processing method of laminated substrate, and processing device of laminated substrate by laser beam |
JP6561565B2 (en) * | 2015-04-30 | 2019-08-21 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | Method and apparatus for dividing bonded substrate |
CN105150397B (en) * | 2015-10-27 | 2017-06-06 | 天津英利新能源有限公司 | It is a kind of to reduce glass and technique for sticking that silico briquette cuts chipping |
CN111279459A (en) * | 2017-10-27 | 2020-06-12 | 三星钻石工业股份有限公司 | Method for dividing substrate with metal film |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002110716A (en) * | 2000-09-29 | 2002-04-12 | Kyocera Corp | Manufacturing method of semiconductor device |
JP2006192753A (en) * | 2005-01-14 | 2006-07-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method for dividing resin mold ceramic substrate |
JP2007129109A (en) * | 2005-11-04 | 2007-05-24 | Mitsumi Electric Co Ltd | Method for manufacturing electronic module |
WO2009148073A1 (en) * | 2008-06-05 | 2009-12-10 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | Scribing wheel and method for scribing brittle material substrate |
WO2010087424A1 (en) * | 2009-01-30 | 2010-08-05 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | Substrate breaking apparatus |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000124167A (en) * | 1998-10-20 | 2000-04-28 | Sanyo Electric Co Ltd | Manufacture of semiconductor device |
DE60331423D1 (en) * | 2002-04-01 | 2010-04-08 | Mitsuboshi Diamond Ind Co Ltd | PARTIAL PROCESS FOR SUBSTRATE FROM FRAGILE MATERIAL AND SUBSTRATE USING THE PROCESS |
JP4742649B2 (en) * | 2005-04-05 | 2011-08-10 | ソニー株式会社 | Substrate break device for bonded substrates and substrate break method |
-
2010
- 2010-09-24 JP JP2010213158A patent/JP5170196B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-04-27 TW TW100114718A patent/TWI498956B/en active
- 2011-06-02 CN CN201110154473.3A patent/CN102416674B/en not_active Expired - Fee Related
- 2011-07-29 KR KR1020110075602A patent/KR101291001B1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002110716A (en) * | 2000-09-29 | 2002-04-12 | Kyocera Corp | Manufacturing method of semiconductor device |
JP2006192753A (en) * | 2005-01-14 | 2006-07-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method for dividing resin mold ceramic substrate |
JP2007129109A (en) * | 2005-11-04 | 2007-05-24 | Mitsumi Electric Co Ltd | Method for manufacturing electronic module |
WO2009148073A1 (en) * | 2008-06-05 | 2009-12-10 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | Scribing wheel and method for scribing brittle material substrate |
WO2010087424A1 (en) * | 2009-01-30 | 2010-08-05 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | Substrate breaking apparatus |
JP2010173251A (en) * | 2009-01-30 | 2010-08-12 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd | Substrate breaking device |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014069237A (en) * | 2012-10-02 | 2014-04-21 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd | Method for processing substrate with pattern |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5170196B2 (en) | 2013-03-27 |
CN102416674A (en) | 2012-04-18 |
KR20120031430A (en) | 2012-04-03 |
CN102416674B (en) | 2015-08-26 |
TW201214541A (en) | 2012-04-01 |
KR101291001B1 (en) | 2013-07-30 |
TWI498956B (en) | 2015-09-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5170196B2 (en) | Method for dividing brittle material substrate with resin | |
JP5170195B2 (en) | Method for dividing brittle material substrate with resin | |
TWI434812B (en) | Breaking device and breaking method | |
JP5824365B2 (en) | Breaking method for brittle material substrate | |
TWI650292B (en) | Breaking method of brittle material substrate and breaking device | |
TWI623402B (en) | Method and device for cutting brittle material substrate | |
TWI620635B (en) | Elastic support plate, breaking device and breaking method | |
TWI620636B (en) | Fracture device and breaking method | |
TWI620634B (en) | Expander, breaking device and breaking method | |
CN111916356A (en) | Breaking method of metal laminated ceramic substrate | |
TW201637855A (en) | Method for dividing bonded substrate and dividing apparatus thereof | |
KR20160013795A (en) | Method for dividing bonded substrate and dividing apparatus | |
TW201417655A (en) | Breaking method and scribing device for laminated ceramic substrates | |
TWI619588B (en) | Fracture method and device for brittle material substrate | |
KR20160015145A (en) | Method for dividing bonded subatrate and dividing apparatus | |
JP6507866B2 (en) | Device and method for manufacturing semiconductor chip with solder ball | |
CN105365052B (en) | Cutting device and method for cutting brittle material substrate by cutting device | |
JP6344787B2 (en) | Ceramic substrate cutting method and scribing apparatus | |
CN106079115B (en) | Method and apparatus for dividing bonded substrate | |
KR20160049207A (en) | Method for processing substrate using laser | |
JP2014083808A (en) | Method of segmenting laminated ceramic substrate | |
JP7385908B2 (en) | Method for dividing bonded substrates and method for dividing stressed substrates | |
TW202041475A (en) | Cutting method and breaking method | |
KR20180012206A (en) | Apparatus for dividing substrate and method of dividing substrate | |
TW201605750A (en) | Methods for separating a glass sheet |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120402 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120626 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120820 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121204 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121217 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |