JP2012058146A - X線検出システム - Google Patents
X線検出システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012058146A JP2012058146A JP2010203408A JP2010203408A JP2012058146A JP 2012058146 A JP2012058146 A JP 2012058146A JP 2010203408 A JP2010203408 A JP 2010203408A JP 2010203408 A JP2010203408 A JP 2010203408A JP 2012058146 A JP2012058146 A JP 2012058146A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- image
- cathodoluminescence
- rays
- spectrum
- diffracted
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000001514 detection method Methods 0.000 title claims abstract description 43
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims abstract description 119
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 52
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims abstract description 30
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims abstract description 22
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 11
- 238000005136 cathodoluminescence Methods 0.000 claims description 105
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 28
- 239000000284 extract Substances 0.000 claims description 14
- 230000007480 spreading Effects 0.000 claims description 13
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims description 3
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 abstract description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 21
- 230000008569 process Effects 0.000 description 12
- 239000013598 vector Substances 0.000 description 12
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000012886 linear function Methods 0.000 description 1
- 238000000504 luminescence detection Methods 0.000 description 1
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002830 nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
【解決手段】試料に対して電子線を照射する電子線照射部と、電子線が照射された前記試料から放出される特性X線を受けて回折X線を生じさせる回折格子と、前記回折格子で生じた回折X線を検出するイメージセンサと、前記イメージセンサで検出された前記回折X線の採取スペクトルを分析してエネルギー分布スペクトルを生成する分析部と、前記エネルギー分布スペクトルのベースラインを抽出するベース抽出部と、前記ベースラインの傾きから前記エネルギー分布スペクトルに含まれるカソードルミネッセンス成分を抽出するカソードルミネッセンス抽出部と、を備え、前記分析部は、抽出された前記カソードルミネッセンス成分を前記エネルギー分布スペクトルから除去する。
【選択図】図1
Description
まず図1〜図2を参照して第1実施形態のX線検出システムの構成を説明する。
この第2実施形態において、以上の第1実施形態との違いは、図4に示すように、画像処理部81からCL抽出部84がカソードルミネッセンスの抽出を行い、画像処理部81はカソードルミネッセンスが除去された状態の採取スペクトルのイメージをスペクトル分析部82に供給する構成になっている。すなわち、CL抽出部84は、イメージセンサ60で検出された回折X線の採取スペクトルのイメージを分析して、該イメージに含まれるエネルギー分散方向の特定の成分を検知し、イメージ中のエネルギー分散方向の成分の有無からイメージに含まれるカソードルミネッセンス成分を抽出する。その他の構成、および、基本的動作は第1実施形態と同じである。
この第3実施形態では、装置構成は図4の第2実施形態の場合と基本的に同じである。ただし、イメージセンサ60として、回折X線のイメージを一度に受光するフルサイズの大きさではなく、エネルギー分散方向(Z方向)には回折X線のイメージの範囲(図6の62)と同じであるものの、光広がり方向(X方向)には回折X線のイメージの範囲(図6の62)よりも小さい大きさのセンサ63を備え、駆動機構61の働きによって、露光時間内に光広がり方向(X方向)にセンサ63を移動しつつ受光する構成になっている。
この第4実施形態では、装置構成は図4の第2−第3実施形態の場合と基本的に同じである。また、イメージセンサ60として、第3実施形態と同様に、回折X線のイメージを一度に受光するフルサイズの大きさではなく、エネルギー分散方向(Z方向)には回折X線のイメージの範囲(図6の62)と同じであるものの、光広がり方向(X方向)には回折X線のイメージの範囲(図6の62)よりも小さい大きさのセンサ63を備え、駆動機構61の働きによって、露光時間内に光広がり方向(X方向)にセンサ63を移動しつつ受光する構成になっている。
この第5実施形態では、装置構成は図4の第2−第4実施形態の場合と基本的に同じである。
以上の第2実施形態に関連し、イメージセンサ60で得られた採取スペクトルのイメージを画像処理部81で処理する際に、CL抽出部84は、このイメージに含まれるX方向とY方向のベクトル比をパラメータとして、Z方向が一定以上になった場合にはカソードルミネッセンスが発生していると判断すると共に、カソードルミネッセンスが発生する位置(領域)を特定する。
以上の第2実施形態に関連し、CL抽出部84は、採取スペクトルのイメージに含まれるX方向とY方向のベクトル比をパラメータとして、カソードルミネッセンスが発生していな領域を特定して、画像処理部81に通知する。
以上の第1〜第7実施形態において、カソードルミネッセンスの検出手法と除去手法を説明してきた。このカソードルミネッセンスの検出と除去とを具体的に実行する手順を以下に説明する。
この第9実施形態は、上述した第8実施形態のカソードルミネッセンスの検出と除去とを具体的に実行する手順の改良である。
20 試料
30 X線集光ミラー部
40 X線集光ミラー調整部
50 回折格子
60 イメージセンサ
80 分析部
90 表示部
Claims (7)
- 試料に対して電子線を照射する電子線照射部と、
電子線が照射された前記試料から放出される特性X線を受けて回折X線を生じさせる回折格子と、
前記回折格子で生じた回折X線を検出するイメージセンサと、
前記イメージセンサで検出された前記回折X線の採取スペクトルを分析してエネルギー分布スペクトルを生成する分析部と、
前記エネルギー分布スペクトルのベースラインを抽出するベース抽出部と、
前記ベースラインの傾きから前記エネルギー分布スペクトルに含まれるカソードルミネッセンス成分を抽出するカソードルミネッセンス抽出部と、
を備えたことを特徴とするX線検出システム。 - 試料に対して電子線を照射する電子線照射部と、
電子線が照射された前記試料から放出される特性X線を受けて回折X線を生じさせる回折格子と、
前記回折格子で生じた回折X線を検出するイメージセンサと、
前記イメージセンサで検出された前記回折X線の採取スペクトルを分析してエネルギー分布スペクトルを生成する分析部と、
前記エネルギー分布スペクトルのベースラインを抽出するベース抽出部と、
前記ベースラインの傾きから前記エネルギー分布スペクトルに含まれるカソードルミネッセンス成分を抽出するカソードルミネッセンス抽出部と、を備え、
前記分析部は、
抽出された前記カソードルミネッセンス成分を前記エネルギー分布スペクトルから除去する、
たことを特徴とするX線検出システム。 - 試料に対して電子線を照射する電子線照射部と、
電子線が照射された前記試料から放出される特性X線を受けて回折X線を生じさせる回折格子と、
前記回折格子で生じた回折X線を検出するイメージセンサと、
前記イメージセンサで検出された前記回折X線の採取スペクトルのイメージを分析して、該イメージに含まれるエネルギー分散方向の成分を検知する画像処理部と、
前記イメージセンサで検出された前記回折X線の採取スペクトルを分析してエネルギー分布スペクトルを生成する分析部と、
前記イメージ中のエネルギー分散方向の成分の有無から前記イメージに含まれるカソードルミネッセンス成分を抽出するカソードルミネッセンス抽出部と、
を備えたことを特徴とするX線検出システム。 - 試料に対して電子線を照射する電子線照射部と、
電子線が照射された前記試料から放出される特性X線を受けて回折X線を生じさせる回折格子と、
前記回折格子で生じた回折X線を検出するイメージセンサと、
前記イメージセンサで検出された前記回折X線の採取スペクトルのイメージを分析して、該イメージに含まれるエネルギー分散方向の成分を検知する画像処理部と、
前記イメージセンサで検出された前記回折X線の採取スペクトルを分析してエネルギー分布スペクトルを生成する分析部と、
前記イメージ中のエネルギー分散方向の成分の有無から前記イメージに含まれるカソードルミネッセンス成分を抽出するカソードルミネッセンス抽出部と、
を備え、
前記画像処理部は、
前記カソードルミネッセンス抽出部により抽出された前記カソードルミネッセンスの領域のイメージを画像処理により除去し、該画像処理後のイメージを前記回折X線の採取スペクトルとして前記分析部に供給する、
ことを特徴とするX線検出システム。 - 前記カソードルミネッセンス抽出部は、前記エネルギー分散方向と直交する方向における前記イメージ中の異なる領域間での比較により、エネルギー分散方向の成分の有無を判断する、
ことを特徴とする請求項3−4に記載のX線検出システム。 - 前記イメージセンサは、
前記エネルギー分散方向と直交する方向(光広がり方向)において、受光すべき領域より小さく構成され、露光時間内に前記光広がり方向に移動しつつ受光する、
ことを特徴とする請求項5記載のX線検出システム。 - 前記画像処理部は、
前記イメージに含まれる軟X線成分を検出すると共に、前記カソードルミネッセンスの領域のイメージの除去による該軟X線成分の減衰量を検出し、該減衰量が一定に達した時点で、前記カソードルミネッセンスの領域のイメージの除去を停止する、
ことを特徴とする請求項4記載のX線検出システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010203408A JP5576749B2 (ja) | 2010-09-10 | 2010-09-10 | X線検出システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010203408A JP5576749B2 (ja) | 2010-09-10 | 2010-09-10 | X線検出システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012058146A true JP2012058146A (ja) | 2012-03-22 |
JP5576749B2 JP5576749B2 (ja) | 2014-08-20 |
Family
ID=46055408
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010203408A Expired - Fee Related JP5576749B2 (ja) | 2010-09-10 | 2010-09-10 | X線検出システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5576749B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3671191A2 (en) | 2018-12-18 | 2020-06-24 | Jeol Ltd. | Calibration method and analysis device |
US10739284B2 (en) | 2017-08-14 | 2020-08-11 | Jeol Ltd. | X-ray analyzer and spectrum generation method |
EP3705878A1 (en) | 2019-03-08 | 2020-09-09 | Jeol Ltd. | Analysis device and spectrum generation method |
EP4006531A1 (en) | 2020-11-27 | 2022-06-01 | Jeol Ltd. | X-ray detection apparatus and method |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59221626A (ja) * | 1983-05-31 | 1984-12-13 | Shimadzu Corp | バツクグラウンド除去装置 |
JPH0416754A (ja) * | 1990-05-11 | 1992-01-21 | Shimadzu Corp | 分析装置 |
JPH11316199A (ja) * | 1998-05-06 | 1999-11-16 | Shimadzu Corp | 半導体検出器のx線スペクトルのピーク強度計算方法 |
JP2002329473A (ja) * | 2001-02-27 | 2002-11-15 | Jeol Ltd | X線分光器を備えた透過型電子顕微鏡 |
JP2003294659A (ja) * | 2002-04-01 | 2003-10-15 | Jeol Ltd | X線分析装置 |
-
2010
- 2010-09-10 JP JP2010203408A patent/JP5576749B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59221626A (ja) * | 1983-05-31 | 1984-12-13 | Shimadzu Corp | バツクグラウンド除去装置 |
JPH0416754A (ja) * | 1990-05-11 | 1992-01-21 | Shimadzu Corp | 分析装置 |
JPH11316199A (ja) * | 1998-05-06 | 1999-11-16 | Shimadzu Corp | 半導体検出器のx線スペクトルのピーク強度計算方法 |
JP2002329473A (ja) * | 2001-02-27 | 2002-11-15 | Jeol Ltd | X線分光器を備えた透過型電子顕微鏡 |
JP2003294659A (ja) * | 2002-04-01 | 2003-10-15 | Jeol Ltd | X線分析装置 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
JPN6013059013; JERCINOVIC,M.J. 他: '"In-situ trace element analysis of monazite and other fine-grained accessory minerals by EPMA"' Chemical Geology Volume 254, Issues 3-4, 20080915, Pages 197-215 * |
JPN6013059014; SEELY,J.F. 他: '"Spatial resolution of a hard x-ray CCD detector"' APPLIED OPTICS Volume 49, Number 23, 20100810, Pages 4372-4378 * |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10739284B2 (en) | 2017-08-14 | 2020-08-11 | Jeol Ltd. | X-ray analyzer and spectrum generation method |
EP3671191A2 (en) | 2018-12-18 | 2020-06-24 | Jeol Ltd. | Calibration method and analysis device |
US11131638B2 (en) | 2018-12-18 | 2021-09-28 | Jeol Ltd. | Calibration method and analysis device |
EP3705878A1 (en) | 2019-03-08 | 2020-09-09 | Jeol Ltd. | Analysis device and spectrum generation method |
US11353414B2 (en) | 2019-03-08 | 2022-06-07 | Jeol Ltd. | Analysis device and spectrum generation method |
EP4006531A1 (en) | 2020-11-27 | 2022-06-01 | Jeol Ltd. | X-ray detection apparatus and method |
US11699567B2 (en) | 2020-11-27 | 2023-07-11 | Jeol Ltd. | X-ray detection apparatus and method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5576749B2 (ja) | 2014-08-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5517584B2 (ja) | 電子顕微鏡 | |
JP5676419B2 (ja) | 欠陥検査方法およびその装置 | |
US10393997B2 (en) | Methods, systems and devices for automatically focusing a microscope on a substrate | |
JP6294216B2 (ja) | 電子検出が改善された荷電粒子顕微鏡 | |
CN111344830B (zh) | 用于电子衍射分析的改进系统 | |
JP5914381B2 (ja) | X線データ処理装置、x線データ処理方法およびx線データ処理プログラム | |
JP5576749B2 (ja) | X線検出システム | |
JPWO2015181961A1 (ja) | 荷電粒子線分析装置および分析方法 | |
JP2009170241A (ja) | 電子顕微鏡装置 | |
US20150103181A1 (en) | Auto-flat field for image acquisition | |
US9613790B2 (en) | Electron spectrometer and measurement method | |
US20190271586A1 (en) | Method, apparatus and computer program for measuring and processing a spectrum of an xuv light source from soft x-rays to infrared wavelength | |
US20190285401A1 (en) | Determining the arrangement of a sample object by means of angle-selective illumination | |
US20150012229A1 (en) | Sample analysis apparatus, non-transitory computer-readable recording medium and sample analysis method | |
JP2015079009A (ja) | 欠陥検査方法およびその装置 | |
JP4776260B2 (ja) | エネルギー損失分光装置を備えた透過電子顕微鏡 | |
US20080170772A1 (en) | Apparatus for determining positions of objects contained in a sample | |
JP5441856B2 (ja) | X線検出システム | |
WO2019064632A1 (ja) | X線撮像装置およびx線撮像素子の画像処理方法 | |
JP2010197229A (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
JP2010236920A (ja) | 微粒子測定装置 | |
JP2010071874A (ja) | 試料分析装置 | |
US10018579B1 (en) | System and method for cathodoluminescence-based semiconductor wafer defect inspection | |
KR101413287B1 (ko) | 입자빔의 방출 이미지 획득 장치 및 방법 | |
Jerome | Confocal Digital Image Capture |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130107 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131122 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131203 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140203 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140415 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140613 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140701 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140704 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5576749 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |