JP2012052243A - 蒸着装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】減圧された処理室30内において、被処理体に成膜材料を蒸着して成膜処理する蒸着装置であって、成膜材料の蒸気を噴出させる蒸気噴出口80が処理室30に配置された蒸着ヘッド65を備える。蒸着ヘッド65には、処理室30内に対して封止されたヒータ収納部102が形成され、ヒータ収納部102には、アルゴンガス、窒素ガスの少なくともいずれかが存在する。
【選択図】図10
Description
G ガラス基板
10 処理システム
11 ローダ11
12、14、16、18、20、22 トランスファーチャンバ
13 発光層の蒸着装置
15 仕事関数調整層の成膜装置
17 エッチング装置
19 スパッタリング装置
21 CVD装置
23 アンローダ
30 処理室
31 蒸気発生室
32 容器本体
33 隔壁
35、40 排気孔
36、41 真空ポンプ
45 ガイド部材
47 基板保持部
55〜60 蒸着ユニット
65 蒸着ヘッド
66 配管ケース
70〜72 蒸気発生部
75〜77 制御弁
80 蒸気噴出口
100 ヒータ
101、101a 連通路
102 ヒータ収納部
103 流路
104 電力供給線
110 皿ばね
111 押さえ板
Claims (5)
- 蒸着により被処理体を成膜処理する蒸着装置であって、
被処理体を成膜処理する処理室と、
成膜材料を蒸発させる蒸気発生室と、
前記処理室の内部を減圧させる排気機構とを設け、
前記処理室に露出して配置された成膜材料の蒸気を噴出させる蒸気噴出口と、
前記蒸気発生室に、成膜材料を蒸発させる蒸気発生部と、成膜材料の蒸気の供給を制御する制御弁とを配置し、
前記蒸気発生部で発生させた成膜材料の蒸気を、前記処理室と前記蒸気発生室の外部に出さずに、前記蒸気噴出口に供給させる流路を有する蒸着ヘッドを設け、
前記蒸着ヘッドには、前記処理室内に対して封止されたヒータ収納部が前記流路を囲むように形成され、
前記ヒータ収納部に、アルゴンガス、窒素ガスの少なくともいずれかが存在していることを特徴とする蒸着装置。 - 蒸着により被処理体を成膜処理する蒸着装置であって、
被処理体を成膜処理する処理室と、
前記処理室に隣接させて配置され、成膜材料を蒸発させる蒸気発生室と、
前記処理室の内部を減圧させる排気機構とを設け、
前記処理室に露出して配置された成膜材料の蒸気を噴出させる蒸気噴出口と、
前記蒸気発生室に、成膜材料を蒸発させる蒸気発生部と、成膜材料の蒸気の供給を制御する制御弁とを配置し、
前記蒸気発生部で発生させた成膜材料の蒸気を、前記処理室と前記蒸気発生室の外部に出さずに、前記蒸気噴出口に供給させる流路を有する蒸着ヘッドを設け、
前記蒸着ヘッドには、前記蒸気発生室および前記処理室内に対して封止されたヒータ収納部が前記流路を囲むように形成され、
前記ヒータ収納部に、アルゴンガス、窒素ガスの少なくともいずれかが存在していることを特徴とする蒸着装置。 - 前記ヒータ収納部が密閉され、前記アルゴンガス、前記窒素ガスの少なくともいずれかが数十トル程度の圧力となるように封入されていることを特徴とする請求項1または2に記載の蒸着装置。
- 1つの蒸着ヘッドに対し、複数の蒸気発生部を備えることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の蒸着装置。
- 前記ヒータへの電力供給線が前記蒸気発生室の内部を通って前記処理室の外側へ延びていることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の蒸着装置。
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