JP2012049134A5 - - Google Patents
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- 1又は複数のファン形ビームを発生するX線イメージング・システムであって、
少なくとも一つのターゲット焦点スポットを含んでおり、電子発生源からの電子により衝突されるとX線を放出するターゲットと、
該ターゲットと連絡しており、前記1又は複数のファン形ビームを発生するように全反射を通じて前記X線の少なくとも一部を伝達する1又は複数の勾配付き多層光学装置と
を備えており、該勾配付き多層光学装置は、全反射を通じてX線を方向転換させて伝達する第一の勾配付き多層区画を含んでおり、該第一の勾配付き多層区画は、
実部Re(n1)及び虚部β1を有する第一の複素屈折率n1を含む高屈折率物質層と、
実部Re(n2)及び虚部β2を有する第二の複素屈折率n2を含む低屈折率物質層と、
前記高屈折率物質層と前記低屈折率物質層との間に配設されており、Re(n1)>Re(n3)>Re(n2)となるような実部Re(n3)及び虚部β3を有する第三の複素実数屈折率n3を含む勾配層を有する勾配帯と
を含んでいる、X線イメージング・システム。 - 前記ターゲットは、X線透過性の窓を有する筐体に封入されており、前記勾配付き多層光学装置は、前記筐体の内部に装着されている、前記筐体の外部に装着されている、前記窓として作製されている、又は前記窓と一体化されているの何れかである、請求項1に記載のシステム。
- 前記1又は複数の勾配付き多層光学装置は、透過型ターゲットでは前記ターゲットに装着されており、又は反射型ターゲットでは前記ターゲットの近傍に装着されている、請求項1または2に記載のシステム。
- 前記ファン形ビームは、連続ファン形ビーム又は平行ファン形ビームの不連続な積層体を含んでいる、請求項1乃至3のいずれかに記載のシステム。
- 前記1又は複数の勾配付き多層光学装置は、積層された勾配付き多層光学装置の対を含んでおり、対の一方が当該対の他方の鏡像となるように配置されている、請求項1乃至4のいずれかに記載のシステム。
- 前記1又は複数の勾配付き多層光学装置は、前記ターゲットでの前記少なくとも一つの焦点スポットの移動を補償するように構成されている、請求項1乃至5のいずれかに記載のシステム。
- 当該X線イメージング・システムは、計算機式断層写真法(CT)システム、X線放射線写真法システム、トモシンセシス・システム、又はX線回折システムの一つに用いられる請求項1乃至6のいずれかに記載のシステム。
- 1又は複数のファン形ビームを発生する多重エネルギX線イメージング・システムであって、
電子発生源と、
該電子発生源からの電子により衝突されるとX線を形成するターゲットと、
該ターゲットを収容する真空室と、
前記X線が前記真空室を出るときに通る窓と、
前記1又は複数のファン形ビームを発生するのに望ましい範囲のX線エネルギを伝達するように構成されている少なくとも一つの勾配付き多層光学装置と
を備えており、該少なくとも一つの勾配付き多層光学装置は、
全反射を通じて第一の光学X線を方向転換させる第一の光学部分と、
前記第一の光学X線とは異なる平均エネルギ・レベルにある第二の光学X線を方向転換させる第二の光学部分と
を含んでいる、多重エネルギX線イメージング・システム。 - 前記第一の光学部分は、高い平均エネルギのスペクトルを発生するように構成されており、
前記第二の光学部分は、低い平均エネルギのスペクトル向けに構成されており、
前記第一の光学的エネルギ・スペクトルの前記平均エネルギは、前記第二の光学的エネルギ・スペクトルの前記平均エネルギ以上である、請求項8に記載の多重エネルギX線イメージング・システム。 - 対象を撮像する方法であって、
少なくとも一つの電子ビーム放出器から少なくとも一つのターゲット焦点スポットを有するターゲットへ向けて電子ビームを放出するステップと、
前記電子ビームにより衝突されるのに応答して前記ターゲットからX線を発生するステップと、
前記X線を1又は複数のファン形ビームとして形成するステップであって、該ファン形ビームは、当該1又は複数の勾配付き多層光学装置の少なくとも一つが前記少なくとも一つのターゲット焦点スポットと光学的に連絡するように配置されている1又は複数の勾配付き多層光学装置を通じた前記X線の全反射を介して発生される、形成するステップと、
前記1又は複数の勾配付き多層光学装置を介して伝達される前記放出X線を用いることにより前記対象の画像を形成するステップと
を備えた方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US12/871,484 US8311184B2 (en) | 2010-08-30 | 2010-08-30 | Fan-shaped X-ray beam imaging systems employing graded multilayer optic devices |
US12/871,484 | 2010-08-30 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015190569A Division JP6050455B2 (ja) | 2010-08-30 | 2015-09-29 | 勾配付き多層光学装置を用いたファン形x線ビーム・イメージング・システム |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012049134A JP2012049134A (ja) | 2012-03-08 |
JP2012049134A5 true JP2012049134A5 (ja) | 2014-10-02 |
JP5923257B2 JP5923257B2 (ja) | 2016-05-24 |
Family
ID=45566346
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011185511A Expired - Fee Related JP5923257B2 (ja) | 2010-08-30 | 2011-08-29 | 勾配付き多層光学装置を用いたファン形x線ビーム・イメージング・システム |
JP2015190569A Expired - Fee Related JP6050455B2 (ja) | 2010-08-30 | 2015-09-29 | 勾配付き多層光学装置を用いたファン形x線ビーム・イメージング・システム |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015190569A Expired - Fee Related JP6050455B2 (ja) | 2010-08-30 | 2015-09-29 | 勾配付き多層光学装置を用いたファン形x線ビーム・イメージング・システム |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8311184B2 (ja) |
JP (2) | JP5923257B2 (ja) |
DE (1) | DE102011053081B4 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8761346B2 (en) * | 2011-07-29 | 2014-06-24 | General Electric Company | Multilayer total internal reflection optic devices and methods of making and using the same |
US8693631B2 (en) | 2011-08-29 | 2014-04-08 | General Electric Company | Craser device, imaging system and method |
CN103137233A (zh) * | 2011-12-02 | 2013-06-05 | 佳能株式会社 | X射线波导和x射线波导系统 |
JP6108671B2 (ja) * | 2012-03-13 | 2017-04-05 | キヤノン株式会社 | 放射線撮影装置 |
EP2874251B1 (de) | 2013-11-18 | 2016-02-24 | Jean Müller GmbH Elektrotechnische Fabrik | Elektrisches Installationsgerät |
JP6025211B2 (ja) * | 2013-11-28 | 2016-11-16 | 株式会社リガク | X線トポグラフィ装置 |
US10082473B2 (en) * | 2015-07-07 | 2018-09-25 | General Electric Company | X-ray filtration |
EP3322341B1 (en) * | 2015-07-14 | 2019-03-27 | Koninklijke Philips N.V. | Imaging with modulated x-ray radiation |
EP3322340B1 (en) * | 2015-07-14 | 2019-06-19 | Koninklijke Philips N.V. | Imaging with enhanced x-ray radiation |
KR20170093500A (ko) * | 2016-02-05 | 2017-08-16 | 주식회사바텍 | 엑스선 콜리메이터 및 이를 이용한 엑스선 영상 촬영 장치 |
US11169286B2 (en) * | 2018-06-18 | 2021-11-09 | Redlen Technologies, Inc. | Methods of calibrating semiconductor radiation detectors using K-edge filters |
WO2020086958A1 (en) * | 2018-10-25 | 2020-04-30 | The Johns Hopkins University | Spatial-spectral filters for multi-material decomposition in computed tomography |
CN113030131B (zh) * | 2021-03-01 | 2022-10-28 | 浙江双元科技股份有限公司 | 一种基于x射线成像的图像采集设备及方法 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5192869A (en) | 1990-10-31 | 1993-03-09 | X-Ray Optical Systems, Inc. | Device for controlling beams of particles, X-ray and gamma quanta |
JPH05107396A (ja) * | 1991-10-14 | 1993-04-27 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | X線制御素子 |
US5604353A (en) | 1995-06-12 | 1997-02-18 | X-Ray Optical Systems, Inc. | Multiple-channel, total-reflection optic with controllable divergence |
JP2002093594A (ja) * | 2000-09-18 | 2002-03-29 | Ours Tex Kk | X線管およびx線分析装置 |
JP2004529388A (ja) | 2001-06-01 | 2004-09-24 | クセノックス | X線用途分野のためのハイブリッド光学部品、および関連する方法 |
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US7248670B2 (en) | 2002-06-19 | 2007-07-24 | Xenocs | Optical unit and associated method |
US7120228B2 (en) | 2004-09-21 | 2006-10-10 | Jordan Valley Applied Radiation Ltd. | Combined X-ray reflectometer and diffractometer |
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JP2008012206A (ja) * | 2006-07-10 | 2008-01-24 | Ge Medical Systems Global Technology Co Llc | X線断層撮影装置 |
KR100830549B1 (ko) * | 2006-10-02 | 2008-05-21 | 원광대학교산학협력단 | 이중 조사방식의 유방촬영장치 및 그 장치를 이용한유방촬영방법 |
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US20090041198A1 (en) | 2007-08-07 | 2009-02-12 | General Electric Company | Highly collimated and temporally variable x-ray beams |
US7508911B1 (en) | 2007-09-19 | 2009-03-24 | General Electric Company | X-ray imaging system and methods of using and forming an array of optic devices therein |
US7742566B2 (en) | 2007-12-07 | 2010-06-22 | General Electric Company | Multi-energy imaging system and method using optic devices |
JP5218014B2 (ja) * | 2008-12-17 | 2013-06-26 | ウシオ電機株式会社 | 極端紫外光光源装置および極端紫外光光源装置の保守方法 |
-
2010
- 2010-08-30 US US12/871,484 patent/US8311184B2/en active Active
-
2011
- 2011-08-29 DE DE102011053081.9A patent/DE102011053081B4/de not_active Expired - Fee Related
- 2011-08-29 JP JP2011185511A patent/JP5923257B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2015
- 2015-09-29 JP JP2015190569A patent/JP6050455B2/ja not_active Expired - Fee Related
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