JP2012047615A - フィルムの検査装置、検査方法及び製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】光透過性フィルムに発生する塗布ムラ欠点を高精度に検査できる検査装置を提供する。
【解決手段】特定波長の単色光を照射する光照射手段と、前記光照射手段からの光に由来する光を反射する光反射手段と、光反射手段で反射された光に由来する光を受光する受光手段と、受光手段で受光した光量の変化を検出する検出手段とを備えた、光透過性フィルムの検査装置、とすることにより、光透過性フィルムに発生する欠点を高精度に検出することができる。
【選択図】図１

Description

本発明は、光学用途など、特にある特定の波長の光を選択的に吸収する光透過性フィルム（光透過性を有するフィルム）に発生する塗布ムラ欠点などの欠点を検出するための装置、及び前記光透過性フィルムに発生する前記欠点を検出する検査方法、及び前記検査方法を用いたフィルムの製造方法に関する。

液晶ディスプレイやプラズマディスプレイに用いられているフィルムには、波長選択吸収フィルムがある。光透過性フィルム、たとえば波長選択吸収フィルムは、基材フィルム１ｂに特定の波長の光を吸収する材料をコーティングする。図２に示すように、光透過性フィルムの1種である波長選択吸収フィルム１に光を透過させた場合、その光の波長特性は、図３に示すようにある特定の波長が少ない光となる。また、この光の吸収量は、波長選択吸収機能を有するコーティング層１ａの厚みにより変化し、厚いほど光の吸収量は増加し、透過光は少なくなる。このように、光透過性フィルム１により、光透過性フィルム１を透過した光の波長特性を制御している。

この光透過性フィルム１は、連続的に搬送される基材フィルム１ｂにコーティング層１ａを塗布することによって形成される。このコーティング層１ａを塗布する際に、基材フィルム１ｂの厚み変動や塗工機の条件によって、コーティング層１ａの一部の厚みが異なる塗布ムラ欠点が発生する場合がある。この塗布ムラ欠点は、一度発生すると光透過性フィルム１の長手方向に対し連続的に発生し、スジ状の外観欠点となるため、この塗布ムラ欠点は管理する必要がある。

これに対し、塗布ムラ欠点を検査するための一般的な方法として、光透過性フィルムの一面から光を照射し、光透過性フィルムを透過した光の光量差を目視により確認する方法がある。これは、塗布ムラ欠点の厚みがコーティング層１ａの厚みに比べて厚い場合は透過光量が減少し、薄い場合は透過光量が増加するため、この透過光量の違いにより、塗布ムラ欠点を検出することができる。

しかし、コーティング層１ａの塗布ムラ欠点部と通常部の厚みの変化量が非常に小さくなった場合、塗布ムラ欠点を目視で検出することは困難である。例えば、数μｍのコーティング層１ａの厚みに対し、塗布ムラ欠点部の厚みの変化量は５００ｎｍ程度であり、その時に、光透過性フィルムに光を照射した際の透過光量差は、１％以下である。また、目視での検査は、検査員の疲労が激しく、欠点の見落としが発生する場合があり、さらに光透過性フィルムの生産速度の高速化対応が困難である。

この問題を解決するために、特許文献１の方法がある。特許文献１の方法を、図４を参照して説明する。特許文献１の方法は、走行している磁気記録媒体３１の片側表面から、波長が６００ｎｍないし７００ｎｍのレーザ光をＨｅ−Ｎｅレーザ３２から照射し、ガルバノミラー式スキャナ３３を用いて、磁気記録媒体３１の幅方向に拡張し、磁気記録媒体３１を透過する透過光を光ファイバ集光系３４と光センサ３５で検出することによって、磁気記録媒体３１の塗布ムラ欠点を検査することを特徴としている。この方法では、検査対象である磁気記録媒体３１の６００ｎｍ以下の波長の光をほとんど通さないという波長特性を考慮し、６００ｎｍ以上の波長のレーザを使用することによって、磁気記録媒体３１に発生した塗布ムラ欠点と通常部の透過光量差を増加させ、検出感度を向上させることができる。さらに、検査の自動化により、検査における省人化、高速化ができる。

また、別の方法として特許文献２の方法がある。特許文献２の方法を、図５を参照して説明する。特許文献２の方法は、多孔質ポリエチレンフィルム４２にアラミドとアルミナからなる塗膜４３が塗布された樹脂塗布フィルム４１に発生する塗布欠点を、樹脂塗布フィルム４１の片側に配設された光源４４から発光強度のピーク波長が３８５〜４１５ｎｍの範囲にある検査光を照射し、その樹脂塗布フィルム４１での反射光をＣＣＤカメラ４５で観測してその出力差を検出することで、塗布欠点部分を検出することを特徴としている。この方法では、多孔質ポリエチレンフィルム４２とアラミドとアルミナからなる塗膜４３の反射率の差が大きくなる波長の光のみを選択的に用いることで、ＣＣＤカメラ４５で受光される光の塗布欠点発生時のＳ／Ｎ比を増加させ、検出感度を向上することができる。

特開平３−２１４４２３号公報 特開２００９−１３３７２５号公報

しかしながら、特許文献１の方法を連続的に搬送される光透過性フィルム１に発生する塗布ムラ欠点検査に適用した場合、レーザを使用していることにより、設置や調整が非常に困難となる。つまり、光透過性フィルム１の幅方向の検出感度を均一とするためには、レーザを光透過性フィルム１の幅方向に対して均一に照射しなければならず、そのためには、レーザを幅方向に照射するためのガルバノミラー式スキャナの高精度な制御と振動のない場所への安定した設置が必要となる。さらに、光透過性フィルム１を透過させ、検出感度を向上させるためには高出力のレーザが必要となる。高出力のレーザを使用する場合、作業者の作業範囲スペースへの設置ができず、装置の設置場所が限定されるという課題も有していた。

また、特許文献２の方法では、塗布ムラ欠点と通常部の反射率に差が生じている場合は塗布ムラ欠点の検出は可能である。例えば、光透過性フィルム１において、コーティング層１ａが完全に抜けているもの、また、塗布ムラ部の傾斜が大きく、光透過性フィルム１での反射光の角度を大きく変えるものについては、検出が可能である。

しかし、数μｍのコーティング層１ａの厚みに対し、塗布ムラ欠点部の厚みの変化量が５００ｎｍ程度である場合、塗布ムラ欠点と通常部の反射率に差がなく、さらに塗布ムラ欠点部の傾斜角も０．０２°程度と微小であるため、塗布欠点の検出が困難であるという課題を有していた。

本発明は、前記従来の課題を解決するもので、光透過性フィルムの表面を高精度に検査できる検査装置、検査方法、及び該検査方法を用いたフィルムの製造方法を提供することを目的とする。

本発明は、以下である。
（１） 特定波長の単色光を照射する光照射手段と、
前記光照射手段からの光に由来する光を反射する光反射手段と、
前記光反射手段で反射された光に由来する光を受光する受光手段と、
前記受光手段で受光した光量の変化を検出する検出手段とを備えた、光透過性フィルムの検査装置。
（２） 特定波長の透過率が２０％以下の光透過性フィルムの検査装置であって、
前記フィルムの一面（以下、この面を面Ａという）側に、前記特定波長の単色光を、前記フィルムの面Ａに対して照射する光照射手段と、
前記フィルムの他面（以下、この面を面Ｂという）側に、前記フィルムを透過した光を反射する光反射手段と、
前記面Ａ側に、前記光反射手段で反射して、前記フィルムを透過した光を受光する受光手段と、
前記受光手段で受光した光量の変化を検出して、前記フィルム表面を検査する検出手段とを備えた、光透過性フィルムの検査装置。
（３） 前記光照射手段は、照射する単色光の波長の半値幅が２０ｎｍ以内であることを特徴とする前記（１）または（２）に記載の光透過性フィルムの検査装置。
（４） 前記光反射手段と前記面Ｂの距離は、１ｍｍ以上１００ｍｍ以下であることを特徴とする前記（２）に記載の光透過性フィルムの検査装置。
（５） 前記光照射手段と前記受光手段が為す角度は、５度〜４５度のいずれかであることを特徴とする前記（１）〜（４）のいずれかに記載の光透過性フィルムの検査装置。
（６） 特定波長の透過率が２０％以下の光透過性フィルムの検査方法であって、
前記特定波長の単色光を、前記フィルムの一面（以下、この面を面Ａという）に照射する工程１、
前記フィルムを透過した工程１にて照射された光を、前記フィルムの他面（以下、この面を面Ｂという）側から反射する工程２、
前記フィルムを透過した工程２で反射された光を、面Ａ側で受光する工程３、
工程３で受光した光量の変化を検出して、前記フィルムの表面を検査する工程４とを有することを特徴とする、光透過性フィルムの検査方法。
（７） 前記（６）に記載の光透過性フィルムの検査方法を有することを特徴とする光透過性フィルムの製造方法。

本発明の検査装置及び検査方法では、特定波長の光を吸収する光透過性フィルムに発生する欠点を、高感度に検出することができる。特に、本発明は、特定波長の光を吸収する材料をコーティングした光透過性フィルムに発生する数百ｎｍの微小な塗布ムラ欠点を、高感度に検出するための検査装置及び検査方法として有用である。

本発明の実施の形態の一例を示す概略図である。 光透過性フィルムでの光の透過を示す図である。 光透過性フィルムでの光の波長特性を示す図である。 特許文献１の発明の概略図である。 特許文献２の発明の概略図である。 塗布ムラ欠点部での光の波長特性を示す図である。 特定の波長の光を用いた場合の塗布ムラ欠点部での光の波長特性を示す図である。 本発明の実施の形態の一例を示す概略図である。

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、この実施の形態によって本発明が限定されるものではない。

（実施の形態１）
図１は、本発明の第１の実施の形態における光透過性フィルムの検査装置の図を示すものである。

図１において、１は被検査体である光透過性フィルム、２は受光手段、３は光照射手段、４は光反射手段、５は検出手段、６は塗布ムラなどの欠点である。

光透過性フィルム１としては、特定波長の透過率が２０％以下である光透過性フィルムであることが重要である。特定波長の透過率を２０％以下とすることで、後述する光照射手段３から該特定波長の光を照射した際に、塗布ムラなどの欠点による透過光の光量変化が顕著となるために、特定波長の透過率が２０％以下である光透過性フィルムを用いることが重要である。

特定波長の透過率が２０％以下である光透過性フィルムとしては、基材フィルムに対して特定波長の光を吸収する材料をコーティングすることで、特定波長の透過率が２０％以下である光透過性フィルムとすることが好ましい。

なお、透過率が２０％以下である特定波長としては、後述する受光手段２の感度特性が可視光領域で高くなっていることから、好ましくは波長３８０〜７８０ｎｍの可視光領域のいずれかの特定波長であることが好ましい。

なお、特定波長の透過率が２０％以下である光透過性フィルムとしては、波長３８０〜７８０ｎｍの範囲における該特定波長以外の波長の透過率が７０％以上であることが、後述する光照射手段３から該特定波長の単色光を照射した場合に、全波長の光を照射した場合と比較して、塗布ムラなどの欠点の検出感度のＳ／Ｎ比がより高くなるために好ましい。

なお、光透過性フィルムの各波長における透過率は、大塚電子株式会社製の分光光度計（型式「ＭＣＰＤ−３７００」）により求めることができる。

また、光透過性フィルム１の組成や構成は特に限定されないが、図２に示すように、基材フィルム１ｂに特定波長の光を吸収するコーティング層１ａを積層したフィルムが光透過性フィルムとして好適に使用される。

そして、基材フィルム１ｂは、特に限定されないものの、例えばポリエチレンテレフタレートフィルム等のポリエステルフィルムなどのような無色透明なフィルムが好適に用いられる。

コーティング層１ａは、特定波長の光を吸収する材料であることが好ましく、例えば紫外線をカットする紫外線吸収剤や、赤外線をカットする赤外線吸収剤を含有した層が好適に用いられる。

このような基材フィルム上にコーティング層を有する光透過性フィルム１としては、例えば液晶ディスプレイなどに使用する近赤外遮蔽フィルム（ＮＩＲフィルム）や、自動車用暗視フィルム、その他の一般的な光学制御フィルムが挙げられるが、これに限定されない。

本発明の装置は光照射手段３を有する。好ましくは光照射手段３は、光透過性フィルム１の一面（面Ａ）側に配置され、光透過性フィルム１の面Ａに対して光を照射する。

光照射手段３は、特定波長の単色光を照射することが重要である。そして、光透過性フィルム１において透過率が２０％以下である特定波長の光と同じ特定波長の単色光を照射することが好ましい。

特定波長の単色光を照射する光照射手段としては、単一波長の光を照射するＬＥＤや蛍光灯、ランプ前面にバンドパスフィルターを配設したハロゲンやメタルハライド照明を伝送ロッドや光ファイバから照射するものなどを用いることができる。また、光照射手段３の光照射部の形状は、後述する受光手段２の受光範囲が線状の形態が好適であるため、それにあわせて線状にすることが好ましく、受光手段２の視野幅方向と光照射手段３の長手方向が平行になるように光照射手段３を配置することが好ましい。

本発明の装置は、光照射手段からの光に由来する光を反射する光反射手段４を有する。好ましくは光反射手段４は、光透過性フィルム１に対して、受光手段２や光照射手段３と反対（面Ｂ）側に配設される。そして光反射手段４は、光照射手段３から照射され、光透過性フィルム１を透過した光を反射するように配設されている。

ここで光反射手段４において反射された光は、光反射手段４の前方に対して均一に分布することが、光透過性フィルム１の幅方向にわたって、均一な検査が可能となるため好ましい。

また、光反射手段４を白色とすることにより、光照射手段３の照射波長に関わらず、光反射手段４での光の吸収量が少なくなり、光反射手段４における反射された光の光量を増加できるため好ましい。

なお、前記白色とは、可視光線の全波長領域の光を９０％以上反射することで白色を実現しているものであり、例えば光反射手段４として、東レ株式会社製白色フィルム「型式：Ｅ６０Ｖ」等を用いることができる。

さらに、光反射手段４と光透過性フィルム１の面Ｂとの距離は、短くなるほど光量のロスが少なくなるため１００ｍｍ以下とすることが好ましい。しかし、光反射手段４と光透過性フィルム１の面Ｂとの距離が短くなり両者が接触すると、光透過性フィルムにキズが発生するため、光反射手段４と光透過性フィルム１の面Ｂとの距離は１ｍｍ以上１００ｍｍ以下とすることが好ましく、より好ましくは１ｍｍ以上１０ｍｍ以下とした態様である。

本発明の装置は、光反射手段で反射された光に由来する光を受光する受光手段を有する。受光手段２は、光透過性フィルム１に対して光照射手段３と同じ面Ａ側に配設され、光照射手段３から照射されて光透過性フィルムを透過して、光反射手段４によって反射されて光透過性フィルムを再び透過した光を受光するように配設されている。受光手段は、光反射手段によって反射されて光透過性フィルムを透過した光を受光するように配置されることが好ましいのであり、光照射手段３から照射され光透過性フィルム１で反射された正反射光を受光することは好ましくない。

さらに、受光手段２と光照射手段３との為す角度を、５度〜４５度のいずれかの角度とすることにより、光反射手段４からの反射光を高感度に受光できるため、好ましい。

なお、受光手段と光照射手段との為す角度とは、受光手段の受光する光の光軸（受光軸）（光反射手段によって反射されて受光手段によって受光される光の光軸）と光照射手段の照射する光の光軸とで形成される角度であり、かつ受光手段の受光点（受光軸と受光手段との交点）、前記２つの光軸の交点、光照射手段の照射点（光照射手段の照射する光の光軸と光照射手段との交点）の３点で形成される三角形の内角に該当する角度を意味する。受光手段と光照射手段との為す角度とは、例えば図８のθで示される角である。

受光手段２は、受光素子が１次元に配列されたラインセンサカメラや、受光素子を２次元に配列したエリアセンサカメラを用いることができ、受光手段２の視野幅方向が、光照射手段３の長手方向と平行になるように配設されている。受光手段２は、モノクロやカラーのカメラを用いることができる。コーティング層１ａの光量差を捉える場合はモノクロカメラでもよく、コーティング層１ａの波長特性を捉える場合はカラーカメラを用いることができる。

なお、受光手段２が受光する光とは、光反射手段４によって反射された光に由来する光であることが重要であり、光反射手段４によって散乱反射された光に由来する光と正反射された光に由来する光を同時に受光してもよく、その検査目的に応じて適宜選択して受光手段２を設置することができる。

また本発明の検査装置は、受光手段が受光した光量の変化を検出することで、光透過性フィルム（披検査体）表面を検査する検出手段を有する。つまり受光手段２の出力信号は、検出手段５に接続されている。受光手段２からは、受光手段２が受光した光量に応じたアナログまたはデジタル信号が出力され、アナログ信号が出力される場合は、検出手段５内でデジタル信号に変換される。検出手段５はデジタル信号を検出して画像処理し、画像処理結果に基づいて光透過性フィルム１の表面（コーティング層１ａ等）の欠点を検出する。

具体的には、２ライン以上のデジタル信号の値を各画素で足し合わせ、画素間のデジタル信号の値のバラツキが大きい場合は、光透過性フィルム１の表面（コーティング層１ａ等）での光量にムラがあると判断し、光透過性フィルム１の表面に塗布ムラなどの欠点があると判定する。

また、欠点が塗布ムラ欠点の場合には、光透過性フィルム１の流れ方向に連続的に発生するため、２ライン以上のデジタル信号の値を各画素で足し合わせることにより、塗布ムラ欠点の検出感度は向上し、好ましくは、５０ライン以上のデジタル信号の値を足し合わせることにより、光透過性フィルムの変動によるノイズの検出を減少させ、検出性能を向上することができる。

次に、本発明によって光透過性フィルム１を検査する原理について説明する。本発明は、光照射手段３の照射する単色光を、特定波長の透過率が２０％以下である光透過性フィルム１における透過率が２０％以下である特定波長に一致させ、さらに、光照射手段に由来する単色光を、光透過性フィルム１中を２回以上透過させて、その光を受光することにより、光透過性フィルム１に発生する塗布ムラなどの欠点を高精度に検出することができる。

まず、光照射手段３が照射する単色光の波長を、光透過性フィルム１の透過率が２０％以下である特定波長に一致させることにより、塗布ムラ欠点の検出性能を向上させる原理について、図６、７を用いて説明する。図６は全波長の光を用いた場合の塗布ムラ欠点部の光の波長特性を示す図であり、図７は特定の波長の光を用いた場合の塗布ムラ欠点部の光の波長特性を示す図である。

波長λの光の透過率が１０％、吸収率が８５％、反射率が５％である光透過性フィルム１において、コーティング層１ａの厚みが５μｍの光透過性フィルム１に、５００ｎｍ凹んだ塗布ムラ欠点が発生した場合、図６に示すように、波長λの光における透過率は８．５％増加し、透過率が１８．５％、吸収率が７６．５％、反射率が５％となる。この時、受光手段２において光透過性フィルム１を透過した光から塗布ムラ欠点を検出する場合、波長λ以外の波長の光の光量には差が存在しないため、受光手段２が受光する光量差は１％以下とほぼ変化がなく、塗布ムラ欠点の検出は困難となる。

しかし、光照射手段３として、特定波長の透過率が２０％以下の光透過性フィルム１の該特定波長λと一致する波長のみの単色光を照射する光照射手段を用いた場合、図７に示すように、波長λの単色光における塗布ムラ欠点部の透過率の変化のみを捉えることができ、受光手段２で捉えた、通常部と塗布ムラ欠点部の透過光の差は８．５％となり、塗布ムラ欠点の検出性能を大幅に向上することができる。

また、光照射手段３が照射する単色光の波長の半値幅は、狭いほど塗布ムラ欠点部の透過光量差をそのまま受光手段２で受光でき、検出性能が向上するため好ましい。より好ましくは、光照射手段の照射する単色光の波長の半値幅を２０ｎｍ以内とした態様である。さらに塗布ムラ欠点の検出性能を向上するためには、光照射手段が照射する光の光量を増加することで、受光手段２が受光する光量の通常部と塗布ムラ欠点部との差を顕著とできるため、好ましい。また、光照射手段によって照射される単色光の波長の半値幅が狭くなりすぎると、受光手段で受光する光量が少なくなりすぎて、欠点の有無による透過光の変化量が小さくなりすぎることがあるため、光照射手段の照射する単色光の波長の半値幅は、５ｎｍ以上であることが好ましい。

次に、光透過性フィルム１を２回以上透過させることによって、塗布ムラ欠点の検出性能を向上させる原理について説明する。

光透過性フィルム１の透過率が２０％以下である特定波長における光の波長λと一致する波長のみの単色光を照射する光照射手段３から照射される光量をＱ０、塗布ムラ欠点のない光透過性フィルム１を透過した光の光量をＱ１、塗布ムラ欠点の発生した光透過性フィルム１を透過した光の光量をＱ２とした場合、塗布ムラ欠点の検出性能を表すＳ／Ｎ比は、
Ｓ／Ｎ比＝Ｑ２／Ｑ１＝０．１８５×Ｑ０／０．１×Ｑ０＝１．８５
である。ここで、光透過性フィルム１を再度透過させる場合、通常部の場合の光の光量は、０．１×Ｑ１となり、塗布ムラ欠点発生時の光の光量は、０．１８５×Ｑ２となる。そのため、光透過性フィルム１を再度透過させた場合の塗布ムラ欠点の検出性能を表すＳ／Ｎ比は、
Ｓ／Ｎ比＝０．１８５×Ｑ２／０．１×Ｑ１
＝０．１８５×０．１８５×Ｑ０／（０．１×０．１×Ｑ０）
＝３．４２２５
であり、塗布ムラ欠点の検出性能は、光の透過率の二乗で効いてくるため、２回以上光透過性フィルムを透過させることにより、塗布ムラ欠点の検出性能が向上する。このように、光透過性フィルム１を２回以上透過させることにより塗布ムラ欠点の検出性能は向上するが、光透過性フィルム１を透過させる毎に、光透過性フィルムによる光の吸収があるために光量が減少する。そのため、光透過性フィルム１の透過回数を２回とすることにより、塗布ムラ欠点に必要な光量を確保し、塗布ムラ欠点部のＳ／Ｎ比を向上することができるため、好ましい。

（実施の形態２）
白色フィルム等の光反射手段４が光透過性フィルム１と平行に配置される場合、光照射手段３から照射され、光透過性フィルム１を透過させた光を、光反射手段４の前方に対して均一に散乱反射する必要があり、これにより、受光手段２が受光する光量が減少するため、欠点を検出できない場合がある。

そこで図８のように、白色フィルム等の光反射手段４と光透過性フィルム１とを平行に配設するのではなく、白色フィルム等の光反射手段４と光透過性フィルム１とを傾けて配置して、光照射手段３から照射する光の光軸と光反射手段４の反射面のなす角度と、受光手段２の受光軸と光反射手段４の反射面のなす角度が等しくなるように光反射手段４を配設することにより、受光手段２で受光する光量を増加することができる。つまり、この時の光反射手段４で反射される光は、光反射手段４において散乱反射された光だけでなく正反射される光も多く含むことにより、受光手段２で受光する光量をさらに増加することができるため好ましい。

さらに、図８の実施形態では、光照射手段３から照射され、光透過性フィルム１で反射された光を受光手段２が受光しないように配設されており、これにより、欠点のＳ／Ｎ比を向上することも可能である。

続いて本発明の検査方法について説明する。

本発明の検査方法とは、特定波長の透過率が２０％以下の光透過性フィルムの検査方法であって、前記特定波長の単色光を、前記フィルムの一面（以下、この面を面Ａという）に照射する工程１、前記フィルムを透過した工程１にて照射された光を、前記フィルムの他面（以下、この面を面Ｂという）側から反射する工程２、前記フィルムを透過した工程２で反射された光を、面Ａ側で受光する工程３、工程３で受光した光量の変化を検出して、前記フィルムの表面を検査する工程４とを有することを特徴とする。

本発明の検査方法は、特定波長の透過率が２０％以下の光透過性フィルム、好ましくは基材フィルムにコーティング層を積層した光透過性フィルムに対して、上記工程１から４をこの順に適用した発明である。

工程１では、光透過性フィルムの透過率が２０％以下となる特定波長の単色光を、面Ａ側から照射することが重要であり、工程１にて照射される単色光の波長の半値幅は、２０ｎｍ以内であることが好ましい。また、工程１にて照射される単色光の波長の半値幅が狭くなると、受光手段で受光する光量が少なくなり、塗布ムラ欠点の有無による透過光の変化量が小さくなるため、工程１にて照射される単色光の波長の半値幅は、５ｎｍ以上２０ｎｍ以下とすることが好ましい。

工程２では、工程１で照射されて光透過性フィルムを透過した光について、面Ｂ側から反射することが重要であり、このためには、前述の光反射手段を用いる方法がある。また工程２では、面Ｂから１ｍｍ〜１００ｍｍ離れた位置で反射することが好ましい。

工程３では、工程２で反射されて光透過性フィルムを透過した光を、面Ａ側で受光することが重要であり、このためには、前述の受光手段を用いる方法がある。なお、工程１において単色光を照射する位置と工程３において受光する位置とのなす角度（工程１で照射する光の光軸と工程３で受光する光の光軸（受光軸）とのなす角度）は、５度〜４５度のいずれかであることが好ましい。

工程４では、工程３で受光した光量の変化を検出して、光透過性フィルムの表面を検査することが重要であり、このためには、前述の検出手段を用いる方法がある。

また本発明の光透過性フィルムの製造方法は、光透過性フィルムの製造工程中に、前述の本発明の検査方法を適用することを特徴とする。つまり本発明のフィルムの製造方法の一例は、フィルムを製膜して、コーティング層を形成した直後に、前記工程１から工程４をこの順序で行うものである。本発明の製造方法により得られたフィルムは、製造過程において欠点を高精度に検出できているため、得られたフィルムから欠点箇所を除去することが容易であり、また欠点が検出された時点でフィルムの巻き取りを止めることで、欠点の存在しないフィルムロールとすることもできる。

なお本発明の光透過性フィルムの製造方法では、前述の検査方法をその工程中に有することが重要なのであり、押出工程、キャスト工程、延伸工程、コーティング工程などの他のフィルムの製造工程は、既知の方法を適用することができる。

（実施例１）
図１の配置に従った装置を用いて検査を実施した。被検査対象として、厚み１００μｍのＰＥＴフィルムに波長６００ｎｍの光を吸収する材料をコーティングした波長選択吸収フィルム（波長６００ｎｍの光の透過率が２０％以下のフィルム）を用い、２０ｍ／ｍｉｎで波長選択吸収フィルムを走行させた。

さらに、光照射手段として無電極プラズマ光源を用い、その光源ランプ内に６００ｎｍの波長を透過する半値幅１０ｎｍのフィルタを設置し、走行する波長選択フィルム面から２００ｍｍ離れた位置の伝送ロッドから６００ｎｍの光を照射した。また、光反射手段として、東レ株式会社製白色フィルム「型式：Ｅ６０Ｖ」を用い、走行する波長選択吸収フィルム面から１０ｍｍ離れた位置に配設し、白色フィルムにより反射された光を、モノクロラインセンサカメラで受光した。この時のラインセンサカメラと走行する波長選択吸収フィルム面との距離は１０００ｍｍであり、波長選択吸収フィルム面とラインセンサカメラで受光する光の光軸（受光軸）の角度は９０度であり、ラインセンサカメラが受光する光量は、１５００ｌｘであった。なお、ラインセンサカメラの受光軸と伝送ロッドから照射する光の光軸とのなす角度は１０度である。

その結果、コーティング層の５００ｎｍの凹みである塗布ムラ欠点を検出することができた。
（実施例２）
実施例１の方法では、コーティング層の５００ｎｍの凹みである塗布ムラ欠点は検出することができたが、３００ｎｍの凹みは検出することができなかった。そのため、伝送ロッドから照射される光の光軸と、ラインセンサカメラの受光軸とが、正反射となるように、白色フィルムを配設し、それ以外は実施例１と同様にした。この時のラインセンサカメラが受光する光量は３０００ｌｘとなり、３００ｎｍの凹みである塗布ムラ欠点を検出することができた。

１ 透過性フィルム
１ａ コーティング層
１ｂ 基材フィルム
２ 受光手段
３ 光照射手段
４ 光反射手段
５ 検出手段
６ 塗布ムラ欠点
７ 入射光
８ 透過光
８ａ 通常時の透過光
８ｂ 塗布ムラ欠点部の透過光
３１ 磁気記録媒体
３２ Ｈｅ-Ｎｅレーザ
３３ ガルバノミラー式スキャナ
３４ 光ファイバ集光系
３５ 光センサ
４１ 樹脂塗布フィルム
４２ 多孔質ポリエチレンフィルム
４３ アラミドとアルミナからなる塗膜
４４ 光源
４５ ＣＣＤカメラ

Claims (7)

1. 特定波長の単色光を照射する光照射手段と、
   前記光照射手段からの光に由来する光を反射する光反射手段と、
   前記光反射手段で反射された光に由来する光を受光する受光手段と、
   前記受光手段で受光した光量の変化を検出する検出手段とを備えた、光透過性フィルムの検査装置。
2. 特定波長の透過率が２０％以下の光透過性フィルムの検査装置であって、
   前記フィルムの一面（以下、この面を面Ａという）側に、前記特定波長の単色光を、前記フィルムの面Ａに対して照射する光照射手段と、
   前記フィルムの他面（以下、この面を面Ｂという）側に、前記フィルムを透過した光を反射する光反射手段と、
   前記面Ａ側に、前記光反射手段で反射して、前記フィルムを透過した光を受光する受光手段と、
   前記受光手段で受光した光量の変化を検出して、前記フィルム表面を検査する検出手段とを備えた、光透過性フィルムの検査装置。
3. 前記光照射手段は、照射する単色光の波長の半値幅が２０ｎｍ以内であることを特徴とする請求項１または２に記載の光透過性フィルムの検査装置。
4. 前記光反射手段と前記面Ｂの距離は、１ｍｍ以上１００ｍｍ以下であることを特徴とする請求項２に記載の光透過性フィルムの検査装置。
5. 前記光照射手段と前記受光手段が為す角度は、５度〜４５度のいずれかであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光透過性フィルムの検査装置。
6. 特定波長の透過率が２０％以下の光透過性フィルムの検査方法であって、
   前記特定波長の単色光を、前記フィルムの一面（以下、この面を面Ａという）に照射する工程１、
   前記フィルムを透過した工程１にて照射された光を、前記フィルムの他面（以下、この面を面Ｂという）側から反射する工程２、
   前記フィルムを透過した工程２で反射された光を、面Ａ側で受光する工程３、
   工程３で受光した光量の変化を検出して、前記フィルムの表面を検査する工程４とを有することを特徴とする、光透過性フィルムの検査方法。
7. 請求項６に記載の光透過性フィルムの検査方法を有することを特徴とする光透過性フィルムの製造方法。

Images