JP2012036306A - 低反射材用樹脂組成物、その製造方法及びその利用 - Google Patents

低反射材用樹脂組成物、その製造方法及びその利用 Download PDF

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Abstract

【課題】低反射性と耐擦傷性を具備し、更には透明性、防汚性及び耐久性を兼ね備える事ができる低反射材用樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】特定のフッ素含有(メタ)アクリル酸エステルと金属アルコキシドと化学結合を形成できる官能基を含有する特定の(メタ)アクリル酸エステルを単位構造として有する(メタ)アクリル酸エステルの共重合体と、金属アルコキシド、とをゾル−ゲル反応させて得られることを特徴とする樹脂組成物により達成できる。
【選択図】なし

Description

本発明は、低反射材用樹脂組成物、その製造法及びその利用に関するものである。より詳しくは、金属酸化物とフッ素含有(メタ)アクリル樹脂を含有し、屈折率が低く、低反射性に優れ、更には、耐擦傷、透明性、防汚性及び耐久性に優れた膜を形成することができる低反射材用樹脂組成物に関する。
液晶表示パネル、プラズマディスプレイ、電子ペーパー等の各種フラットパネルディスプレーにおいて、外光の反射を防止し、画質を向上させるために、低屈折率、透明性、耐擦傷性及び耐久性に優れた低反射材(反射防止材)が求められている。
最近は、タッチパネルの増加に伴って、これらフラットパネルディスプレーにおいては、指紋などの汚れが付着しにくい、付着した汚れをふき取りやすい等の防汚性が求められている。
このような低反射材として、例えば、エチレン性不飽和基とフッ素を含有する重合体と重合性不飽和基を含有する有機化合物によって表面処理され、かつ連鎖球状の形状を有するシリカで構成される硬化性樹脂組成物よりなる低屈折率の膜を有する材料が知られている。(特許文献1)
しかしながら、このような材料では、膜を形成するプロセスにおける溶液調整、コーティング、乾燥、硬化等の工程を経るために長い時間を要したり、加熱により無機粒子が流動する等のため膜を形成する過程で、無機粒子の凝集、沈降などがしばしば発生する。結果、透明性が安定的に得られないばかりか、充分な強度を有する膜とはならず、割れやすくなる等の課題があった。
また、一次粒径よりも大きな粒径を有する連鎖球状シリカを多量に含有させているため、透明性を低下させないために極めて薄い膜にする必要が有り、結果、耐擦傷性(ハードコート性)が得られず、耐擦傷性を有する膜を別に形成しなければならずコスト面での課題もあった。
特開2007−327018
本発明が解決しようとしている課題は、低反射性と耐擦傷性を具備し、更には透明性、防汚性及び耐久性を兼ね備える事ができる低反射材用樹脂組成物を提供することである。
本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意検討した結果、フッ素含有(メタ)アクリル酸エステルと金属アルコキシドと反応性を有する官能基を含有する(メタ)アクリル酸エステルを単位構造として有するポリマーと、金属アルコキシドとをゾル−ゲル反応させることにより、低反射性、耐擦傷性に優れる樹脂組成物を得る事ができることを見出した。しかも、得られる樹脂組成物に含まれる金属アルコキシドのゾル−ゲル反応生成物の金属酸化物の形状は、主に連鎖していない微細な球状で有り、多量に含有していても透明性が損なわれないため、低反射材用樹脂組成物として好適に用いることができることを見出し、本発明に至った。
すなわち、本発明は以下に関する。
1)(A)下記一般式(1)で表される含フッ素(メタ)アクリル酸エステルと下記一般式(2)で表される(メタ)アクリル酸エステルとを構成単位として含有する(メタ)アクリル酸エステルの共重合体と、
(B)金属アルコキシド、
とをゾル−ゲル反応させて得られることを特徴とする樹脂組成物。
Figure 2012036306
(Rは、水素、又はメチル基、Rは、フッ素を含有する炭素数1以上20以下の置換アルキル基を表す。)
Figure 2012036306
(Rは、水素又はメチル基、Rは、金属アルコキシドと反応性を有する官能基を含む基を表す。)
2)前記一般式(2)で表される(メタ)アクリル酸エステルの共重合モル比率 (2)/[(1)+(2)]が、0.01以上0.2以下の範囲内であることを特徴とする1)に記載の樹脂組成物。
3)前記一般式(2)における金属アルコキシドと反応性を有する官能基が水酸基、カルボキシル基、アルコキシシラン基からなる群より選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする1)または2)に記載の樹脂組成物。
4)前記(A)(メタ)アクリル酸エステルの共重合体と(B)金属アルコキシドのゾルーゲル反応により生成する金属酸化物の重量混合比 (金属酸化物)/[(A)+(金属酸化物)]は、0.05以上0.6以下の範囲内であることを特徴とする1)〜3)のいずれかに記載の樹脂組成物。
5)前記(B)金属アルコキシドのゾルーゲル反応生成物が、粒径200nm以下、10nm以上の金属酸化物であることを特徴とする1)〜4)のいずれかに記載の樹脂組成物。
6)ゾルーゲル反応時に、(C)有機溶媒を含むことを特徴とする1)〜5)のいずれかに記載の樹脂組成物。
7)前記(C)有機溶媒が、20℃〜25℃の温度範囲における水に対する溶解度が20g/100gHO以上であることを特徴とする6)に記載の樹脂組成物。
8)前記ゾルーゲル反応が、水添加、加熱処理、又は超音波処理のいずれかひとつの工程を含むことを特徴とする1)〜7)のいずれかに記載の樹脂組成物の製造方法。
9)1)〜7)のいずれかに記載の樹脂組成物を含有することを特徴とするハードコート。
10)透明基材の少なくとも片面に1)〜7)にいずれかに記載の樹脂組成物からなる層が形成されていることを特徴とする積層体。
11)前記樹脂組成物を含む層の表面に10nm以上、200nm以下の空孔を含むことを特徴とする10)に記載の積層体。
12)前記空孔が存在する厚みが1000nm以下20nm以上であることを特徴とする11)に記載の積層体。
13)前記空孔が(B)金属アルコキシドのゾルーゲル反応生成物である金属酸化物を除去し形成されたものでことを特徴とする11)または12)に記載の積層体。
14)前記樹脂組成物を含む溶液を50℃以下の温度で調整し、透明基材に塗布した後、100℃以上200℃以下の温度で加熱する工程を含むことを特徴とする10)〜13)のいずれかに記載の積層体の製造方法
15)10)〜13)のいずれかに記載の積層体からなることを特徴とする低反射材。
本発明によれば、フッ素を含有する(メタ)アクリル樹脂成分と微細な球状の金属酸化物を含有し、更にフッ素を含有する(メタ)アクリル樹脂成分と金属アルコキシドのゾル−ゲル反応により生成する金属酸化物成分が化学的に結合している樹脂組成物を得ることができ、低反射性、耐擦傷性、透明性に優れているため、低反射材に好適に使用することが出来る。
本発明により、低反射性と耐擦傷性を具備し、更には透明性、防汚性及び耐久性を兼ね備える事ができる低反射材用樹脂組成物を得ることができる。
本発明の一実施形態について説明すると以下の通りであるが、本発明はこれに限定されるものではない。
本発明は、フッ素含有(メタ)アクリル酸エステルと金属アルコキシドと反応性を有する官能基を含有する(メタ)アクリル酸エステルを単位構造として有する(メタ)アクリル酸エステルの共重合体と、金属アルコキシドとをゾル−ゲル反応させて得られる樹脂組成物(以下、樹脂組成物と記す)であることを特徴とする。
(A)(メタ)アクリル酸エステル共重合体
本発明の(メタ)アクリル酸エステル共重合体は、下記一般式(1)
Figure 2012036306
(Rは、水素、又はメチル基、Rは、フッ素を含有する炭素数1以上20以下の置換アルキル基を表す。)
で表される少なくとも1種のフッ素含有(メタ)アクリル酸エステルと下記一般式(2)
Figure 2012036306
(Rは、水素又はメチル基、Rは、金属アルコキシドと反応性を有する官能基を含む基を表す。)で表される少なくとも1種の(メタ)アクリル酸エステルを構成単位として含有する(メタ)アクリル樹脂成分である。
一般式(1)におけるフッ素を含有する置換アルキル基は、得られる(メタ)アクリル樹脂成分の屈折率が一般的なアクリル樹脂の屈折率に比べて低くできる、また重合反応を阻害しない置換アルキル基であれば特に限定されないが、具体的な例としては、
Figure 2012036306
(mは、0以上18以下、pは0以上16以下、qは0以上17以下の整数を表す。)で表される化合物群より選択される置換アルキル基を挙げる事ができる。
重合反応の進み易さや、得られる(メタ)アクリル樹脂成分のガラス転移温度が比較的高くなる等の観点で
Figure 2012036306
(m及びqは、0以上5以下の整数を表す。)で表される化合物群より選択される置換アルキル基が好ましく、
Figure 2012036306
(m及びqは、0以上4以下の整数を表す。)で表される化合物群より選択される置換アルキル基が入手性の点で特に好ましい。
また、上記置換アルキル基を有する(メタ)アクリル酸エステル群より、1種または2種以上混合し使用する事ができる。
一般式(2)における金属アルコキシドと反応性を有する官能基としては、付加反応または縮合反応等により化学結合が形成できれば特に限定されないが、水酸基、カルボキシル基、アルコキシシラン基からなる群より選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。
具体的な例としては、
Figure 2012036306
(rは、1以上5以下、Rは炭素数が1以上5以下のアルキル基を表す。)で表される化合物群より選択される官能基を挙げる事ができる。
金属アルコキシドとの反応性、官能基の自己縮合や分解を抑制できる点から
Figure 2012036306
(rは、1以上5以下、Rは炭素数が1以上5以下のアルキル基を表す。)で表される化合物群より選択される官能基が好ましく、
Figure 2012036306
(rは、1以上5以下、Rは炭素数が1以上3以下のアルキル基を表す。)で表される化合物群より選択される官能基が入手性の点で特に好ましい。
また、上記官能基を有する(メタ)アクリル酸エステル群より、1種または2種以上混合し使用する事ができる。
本発明の(メタ)アクリル酸エステルの共重合体における、一般式(2)であらわされる(メタ)アクリル酸エステルの共重合モル(混合モル)比率 (2)/[(1)+(2)]は、0.01以上0.2以下の範囲内で有ることが好ましい。
官能基と金属アルコキシドのゾルーゲル反応により生成する金属酸化物が強固に結合することにより、金属酸化物と(メタ)アクリル樹脂成分との界面がなくなるため、金属酸化物が多量含有させても強度(強靭性)の低下が抑制されたり、金属酸化物の粒子間の凝集も抑制され分散性が向上し、透明な樹脂組成物を得る事ができる。
一般式(2)であらわされる(メタ)アクリル酸エステルの共重合モル(混合モル)比率が0.01未満であると金属酸化物との結合部位が少なく、上記のような効果が得られにくい傾向がある。また、共重合モル(混合)比率が0.2を超えると、官能基同士の自己縮合や分解が促進されるため、(メタ)アクリル樹脂成分の溶解性が低下する、金属酸化物との反応部位が減少し、透明性や耐擦傷性、強靭性等を特性を発現しにくくなる傾向がある。
本発明の(メタ)アクリル酸エステル共重合体の重量平均分子量は、ゾル−ゲル反応できる加工性を有していれば特に限定されないが、1万以上10万以下が好ましく、2万以上8万以下がより好ましい。
本発明の樹脂組成物を膜状に加工する場合、重量平均分子量が1万未満であると膜の機械的強度が低下し脆くなる傾向が有り、10万を越えるとゾル−ゲル反応時にゲル化し易くなり膜状に加工できなくなる傾向がある。
また、(メタ)アクリル酸エステルの共重合体を製造する場合は、接着性や耐候性などの諸特性を改善するため一般式(1)や一般式(2)で表される(メタ)アクリル酸エステル以外の(メタ)アクリル酸エステルを混合し用いる事ができる。混合量は、(メタ)アクリル酸エステルの共重合体の本来の特性を損なわない範囲であれば、特に限定されない。
上記(メタ)アクリル酸エステルの共重合体の製造方法としては、ラジカル重合法、アニオン重合法、カチオン重合法など一般的な(メタ)アクリル樹脂を製造する方法で製造することが出来る。分子量を制御しやすい、精製しやすい等の点で有機溶媒中でのラジカル重合法で製造する事が好ましい。
(B)金属アルコキシド
本発明に用いられる金属アルコキシドは、ゾルーゲル反応後に金属酸化物となる。金属酸化物の粒径が200nm以下、10nm以上で主に連鎖していない微細な球状の形状を有することが好ましい。
金属酸化物の粒径が200nmを越えると、低反射材として十分な透明性と耐擦傷性の両方を得にくくなる傾向がある、また本発明の樹脂組成物を膜状とした際に充分な膜の強度が得られず割れ易くなる等の傾向がある。
10nm未満であると、金属アルコキシドの縮合反応が不十分なため、3次元の網目構造を有しない金属酸化物であり、耐擦傷性や耐熱性が十分に得られない傾向がある。
金属酸化物の種類としては、二酸化ケイ素(以下、シリカ)、二酸化チタン(以下、チタニア)、二酸化ジルコニウム(以下、ジルコニア)、酸化アルミニウム(以下、アルミナ)、酸化マグネシウム、酸化鉄等の金属元素と酸素を含む化合物である。
特に、ハードコート性が得られ易く特性が安定している点、入手性の点等でシリカ、チタニア、ジルコニア、アルミナが好ましく用いられ、特に屈折率の点でシリカ、チタニアが特に好ましく、シリカがより好ましい。
また、金属酸化物の前駆体とは、金属の酸化反応や水存在下における金属アルコキシドの加水・縮合反応(ゾルーゲル反応)等の化学反応により金属酸化物を生成する化合物であれば特に限定されない。金属酸化物の前駆体としては、微細な球状の金属酸化物が得られ易い、反応を制御し易い性、入手性の点で金属アルコキシドやその生成反応物がより好ましく用いる事ができる。金属アルコキシドとは、下記一般式(3)
Figure 2012036306
(Mは金属元素、Rは、メチル基、エチル基、プロピル基から選択される基、nは、金属元素の酸化数を表す。)で表される化合物であり、以下の反応により金属酸化物を生成できる。
(加水分解反応)M(OR)n+nHO→M(OH)n+n ROH
(縮合反応) M(OH)n→MO+n/2 H
本発明の好ましく用いることができる金属アルコキシドとしては、上記一般式(3)で表される化合物あるいは、加水分解反応から縮合反応における反応の中途段階の化合物や加水分解生成物が数個縮合したオリゴマーを挙げることができる。
反応により生成する金属酸化物の粒径は、200nm以下、10nm以上となるように反応条件を選択する必要がある。最適な反応条件は、金属の種類、反応の環境(pH、水量、濃度)等により一概には言えないが、200nm以下、10nm以上となるように反応温度、反応時間、pH等の諸条件を選択すればよい。また、本発明の樹脂組成物は、(メタ)アクリル酸エステルの共重合体の存在下でゾルーゲル反応させるため、小さな粒径の金属酸化物を形成しやすい。理由は明確でないが、共重合体によりゾルーゲル反応の反応空間が抑制されているためと推測している。
金属アルコキシドと金属酸化物を混合して用いることもできる。
金属酸化物を用いる場合、金属酸化物の粒子の表面の一部は、ポリマー中に良好に分散させる目的で有機化されていても良い。有機化剤は、金属酸化物表面の水酸基と反応しうる有機物であれば特に限定されないが、アルコキシシラン化合物を好ましく使用することが出来る。有機化の方法は、金属酸化物表面の水酸基と有機化剤が反応または、付着する方法であれば特に限定されないが、金属酸化物に直接有機化剤を噴霧する方法や、金属酸化物を有機溶媒または水等に分散させた分散液に有機化剤を混合する方法等を好適に用いることができる。
(低反射材樹脂組成物の製造方法)
ここで、本発明の樹脂組成物の製造方法の一実施形態について説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
樹脂組成物は、一般的なポリマーと金属酸化物を混合する方法やポリマーと金属酸化物の前駆体とを混合した後ポリマー中で前駆体のゾルーゲル反応により金属酸化物を形成させる方法等により製造する事ができる。小さな粒径の金属酸化物が得られ易い点で、ポリマー中におけるゾルーゲル反応により製造する事が好ましい。
一製造方法として、ポリマー溶液中におけるゾルーゲル法による金属酸化物を形成させる方法による製造方法について具体的を説明する。
本願のゾルーゲル反応時に、(C)有機溶媒を含むことが好ましい。
(メタ)アクリル酸エステルの共重合体を有機溶媒に溶解した樹脂溶液に、金属酸化物の前駆体として金属アルコキシドを混合し、更に反応触媒と水を加え攪拌してゾルーゲル反応を進行させることにより得る事ができる。
使用する有機溶媒としては、(メタ)アクリル酸エステルの共重合体を溶解できれば特に限定されないが、小さな粒径の金属酸化物が得られ易い点で、20℃〜25℃の温度範囲における水に対する溶解度が20g/100gHO以上の有機溶媒を使用することが好ましく、無限に溶解する有機溶媒が特に好ましい。理由は明確ではないが、ゾルーゲル反応では水が必須成分であり、水の溶解度が高い有機溶媒の方が(メタ)アクリル酸エステルの共重合体、金属アルコキシド、水、触媒が均一混合した溶液を形成できるためと考えられる。
具体的には、テトラヒドロフラン、ジオキソラン、ジオキサン等の環状エーテル系、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル等の鎖状エーテル、メチルエチルケトン、アセトン等のケトン類、γ―ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチル等のエステル類、N,N―ジメチルホルムアミド、N,N―ジメチルアセトアミド、N―メチルー2−ピロリドン等のアミド類を挙げる事ができ、固形や膜状の樹脂組成物を得る際に、有機溶媒を除去し易い点から、ジオキソラン、アセトン、メチルエチルケトン、N,N―ジメチルホルムアミドを好適に用いる事ができる。
また、金属酸化物の配合量は、低反射材としての十分な透明性、耐擦傷性、強靭性が得られる範囲であれば特に限定されないが、(A)(メタ)アクリル酸エステルの共重合体と(B)金属アルコキシドのゾルーゲル反応により生成する金属酸化物の重量混合比 (金属酸化物)/[(A)+(金属酸化物)]は、0.05以上0.6以下の範囲内であることが好ましい。0.05未満であると耐擦傷性が得られ難くなる傾向がある。また0.6を超えると、透明性や強靭性が得られにくくなる傾向がある。
有機溶媒に溶解した本発明の樹脂組成物を製造する方法としては、金属酸化物の凝集を防ぐ点で、前記ゾルーゲル反応が、水添加、加熱処理、又は超音波処理のいずれかひとつの工程を含むことが好ましい。
本発明に用いる事のできる触媒としては、金属アルコキシドの加水分解や縮合反応を促進することができる化合物であれば特に限定されないが、塩酸や酢酸などの酸性の化合物、アンモニアや水酸化ナトリウムなどのアルカリ性の化合物を使用する事が出来る。
(積層体の製造方法)
本発明の樹脂組成物を含有する層を透明基材の表面に形成する事により、低反射機能を有する積層体を得る事ができ、液晶パネル等のフラットパネルディスプレーの最表面の部材として使用する事が出来る。
積層体の製造方法としては、樹脂組成物を熱で溶融して透明基材の上にコーティングする方法や、溶液上の樹脂組成物を透明基材に上に塗布及び乾燥させる方法などが挙げられる。
樹脂組成物を含む溶液を透明基材に塗布し積層体を製造する場合は、樹脂組成物を含む溶液を50℃以下の温度で調整すると共に、塗布後に100℃以上200℃以下の温度で加熱することが好ましい。
溶液を50℃を超える温度で調整すると、(A)(メタ)アクリル酸エステルの共重合体と(B)金属アルコキシドとの反応が進みすぎてしまい、溶液が固化してしまい塗布出来なくなくなる傾向がある。
また塗布後に100℃未満の温度のみで加熱すると、(A)(メタ)アクリル酸エステルの共重合体と(B)金属アルコキシドとの反応が十分に進まず、膜の耐擦傷性や強度が得られにくい傾向がある。
加熱温度が200℃を超えると、樹脂組成物の一部が熱分解し、着色したり強度が低下する傾向がある。
また、本発明の積層体は、低反射性を高める目的で低反射材用樹脂組成物を含む層の表面に更に空孔を含む層を有する事も好ましい。
表面に樹脂よりも屈折率の低い空孔を含有させる事により、表面のみを更に屈折率を低くすることができ、低反射性を高める事ができる。
空孔を含む層の厚みは、低反射性を向上できる範囲であれば特に限定されないが、1000nm以下20nm以上である事が好ましい。1000nmを超えると低反射性の向上効果や耐擦傷性を得られ難くなる傾向がある。
また、20nm未満であると低反射性を得られ難くなる傾向がある。
また、前記の空孔は(B)金属アルコキシドのゾルーゲル反応生成物である金属酸化物成分を除去し形成することが好ましい。金属酸化物成分を除去することにより形成される空孔は、直径が10nm以上、200nm以下の微細な空孔であることが好ましい。
200nm超えると透明性に劣り、10nm未満では、十分な低反射性を得られにくくなる傾向がある。空孔の形成方法としては、金属酸化物を溶解、分解等の方法により形成できる方法であれば、特に限定されないが、フッ化水素などの強酸水溶液や水酸化ナトリウムなどの強アルカリ水溶液などを使用する事が出来る。
また、本発明の低反射材用樹脂組成物は、必要に応じて、アクリルビーズ(光拡散材)や滑剤、可塑剤、紫外線吸収剤、安定剤やフィラー等の公知の添加剤やその他の樹脂を含有しても良い。
〔(メタ)アクリル樹脂の製造例A−1〕
セパラブルフラスコに、130.0gのメチルエチルケトン(以下、MEK、和光純薬工業社製)と重合開始剤として0.3gの2,2‘−アゾビスイソブチロニトリル(以下、AIBN、和光純薬工業社製)を投入し窒素気流下で30分攪拌してAIBN溶液を得た。
AIBN溶液にフッ素含有(メタ)アクリル酸エステルとして100gの2,2,2,−トリフルオロエチルメタクリレート(以下、3FM、東ソー・エフテック社製、商品名:フルオレスター)と金属アルコキシト゛と反応性を有する官能基を有する(メタ)アクリル酸エステルとして5.0gの3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(以下、MPS、東レ・ダウコーニング社製)を投入後、窒素気流下で温度を65℃〜75℃の範囲で制御しつつ6時間攪拌した。
得られた溶液を、室温まで冷却後2kgのイソプロパノール(以下、IPA、和光純薬工業社製)中に滴下し樹脂を析出させた。樹脂をろ別し、真空ポンプで減圧下、70℃で6時間乾燥させて、3FMとMPSのモル比率3FM/MPS=97/3の (メタ)アクリル樹脂〔A−1〕を80g得た。
〔(メタ)アクリル樹脂の製造例A−2〕
MPSを使用しなかった以外は、(メタ)アクリル樹脂A−1の製造方法と同様の操作で、3FMのみからなる金属酸化物と化学結合を形成できる官能基を含有しない(メタ)アクリル樹脂A−2を得た。
〔(メタ)アクリル樹脂の製造例A−3〕
3FMに代えてメタクリル酸メチル(以下、MMA、和光純薬工業社製)を3FMと同モル使用した以外は、(メタ)アクリル樹脂A−1の製造方法と同様の操作で、フッ素を含有しない(メタ)アクリル樹脂A−3を得た。
〔(メタ)アクリル樹脂の製造例A−4〕
3FMとMPSの混合比MPS/(MPS+3FM)を0.1となるように配合した以外は、(メタ)アクリル樹脂A−1の製造方法と同様の操作で(メタ)アクリル樹脂A−4を得た。
〔低反射材用樹脂組成物B−1〕10gの(メタ)アクリル樹脂A−1をジオキソラン(水に対する溶解度=∞)に溶解し、20wt%の樹脂溶液を調整した。樹脂溶液に金属酸化物の前駆体である金属アルコキシドとして6.5gのテトラエトキシシラン(以下、TEOS、多摩化学社製、ゾルーゲル反応後に1.9gのシリカに変換)と、触媒及び加水分解用の水として塩酸でpH=2に調整した蒸留水を1.2g添加したのち、40℃に加熱し超音波で2時間混合処理し、低反射材用樹脂組成物B−1を得た。
〔低反射材用樹脂組成物B−2〕
(メタ)アクリル樹脂A−1にかえて、(メタ)アクリル樹脂A−2を使用した以外は、低反射材用樹脂組成物B−1の製造方法と同様の操作で低反射材用樹脂組成物B−2を製造した。
〔低反射材用樹脂組成物B−3〕
(メタ)アクリル樹脂A−1にかえて、(メタ)アクリル樹脂A−3を使用した以外は、低反射材用樹脂組成物B−1の製造方法と同様の操作で低反射材用樹脂組成物B−3を製造した。
〔低反射材用樹脂組成物B−4〕
(メタ)アクリル樹脂A−1にかえて、(メタ)アクリル樹脂A−4を使用した以外は、低反射材用樹脂組成物B−1の製造方法と同様の操作で低反射材用樹脂組成物B−4を製造した。
〔低反射材用樹脂組成物B−5〕
ジオキソラン代えてMEK(水に対する溶解度=26.8)を使用した以外は、低反射材用樹脂組成物B−1の製造方法と同様の操作で低反射材用樹脂組成物B−5を製造した。
〔低反射材用樹脂組成物B−6〕
10gの(メタ)アクリル樹脂A−1をジオキソラン(水に対する溶解度=∞)に溶解し、20wt%の樹脂溶液を調整した。樹脂溶液に金属酸化物の前駆体である金属アルコキシドとして10.0gのテトラエトキシシラン(以下、TEOS、多摩化学社製、ゾルーゲル反応後は2.9gのシリカに変換)と、触媒及び加水分解用の水として塩酸でpH=2に調整した蒸留水を1.2g添加したのち、40℃に加熱し超音波で2時間混合処理し、低反射材用樹脂組成物B−6を得た。
(実施例1)
低反射材用樹脂組成物B−1を125umPETフィルム(T−60、東レ社製)にバーコーターを用い乾燥後の膜厚みが5umとなる様に塗布し、60℃、80℃で各1分間乾燥させて、更に100℃、120℃で各5分間加熱させてPETフィルム上に、金属酸化物のシリカが含有した低反射材層を形成した積層体C−1を得た。C−1の透明性は目視で良好であった。
更に、積層体C−1をフッ化水素水に室温で1分間浸漬後、蒸留水で洗浄後、100℃5分乾燥させて、低反射材層の表面にシリカの溶解により形成された空孔を含有する積層体D−1を得た。得られた積層体D−1の断面を透過型電子顕微鏡(TEM、日立製作所製 H−7650)にて観察した結果、表面から厚み方向で100nmまでの層には50nm〜100nmの空孔が含有しており、それ以外の低反射材層には、50nm〜100nmのシリカが含有していた。
またD−1についてJIS−K5600−5−4に従い鉛筆硬度を測定した結果、3Hを示し、200nm〜800nmの視感反射率(5°正反射、日本分光(株)社製、V650DS)を測定した結果、2.2%と良好な反射率示した。
(実施例2)
低反射材用樹脂組成物B−1に代えて、低反射材用樹脂組成物B−4を使用した以外は、実施例1と同様の操作で積層体C−2及びD−2を作製し、断面を観察した。表面から厚み方向で100nmまでの層には40nm〜80nmの空孔が含有しており、それ以外の低反射材層には、40nm〜80nmのシリカが含有していた。積層体C−2は目視で透明性良好で有り、また実施例1と同様に鉛筆硬度を測定した結果、4Hを示し、視感反射率を測定した結果、2.0%と良好な反射率を示した。
(実施例3)
低反射材用樹脂組成物B−1に代えて、低反射材用樹脂組成物B−5を使用した以外は、実施例1と同様の操作で積層体C−3及びD−3を作製し、断面を観察した。表面から厚み方向で100nmまでの層には80nm〜180nmの空孔が含有しており、それ以外の低反射材層には、80nm〜180nmのシリカが含有していた。積層体C−3は目視で透明性良好で有り、また実施例1と同様に鉛筆硬度を測定した結果、4Hを示し、視感反射率を測定した結果、2.1%と良好な反射率を示した。
(実施例4)
低反射材用樹脂組成物B−1に代えて、低反射材用樹脂組成物B−6を使用した以外は、実施例1と同様の操作で積層体C−4及びD−4を作製し、断面を観察した。表面から厚み方向で100nmまでの層には50nm〜130nmの空孔が含有しており、それ以外の低反射材層には、50nm〜130nmのシリカが含有していた。積層体C−4は目視で透明性良好で有り、また実施例1と同様に鉛筆硬度を測定した結果、5Hを示し、視感反射率を測定した結果、1.2%と良好な反射率を示した。
(比較例1)
低反射材用樹脂組成物B−2を125umPETフィルム(T−60、東レ社製)にバーコーターを用い乾燥後の膜厚みが5umとなる様に塗布し、60℃、80℃で各1分間乾燥させて、更に100℃、120℃で各5分間加熱させてPETフィルム上に、金属酸化物のシリカが含有した低反射材層を形成した積層体C−5を得た。積層体C1〜4に比較して目視での透明性が劣っていた。
更に、積層体C−1をフッ化水素水に室温で1分間浸漬後、蒸留水で洗浄後、100℃5分乾燥させて、低反射材層の表面にシリカの溶解により形成された空孔を含有する積層体D−5を得た。得られた積層体D−5の断面を透過型電子顕微鏡にて観察した結果、表面から厚み方向で100nmまでの層には250nm以上nmの空孔が含有しており、それ以外の低反射材層には、250nm以上のシリカが含有していた。
またJIS−K5600−5−4に従い鉛筆硬度を測定した結果、HBを示し、視感反射率を測定した結果、2.2%と良好な反射率を示した。
(比較例2)
低反射材用樹脂組成物B−2を低反射材用樹脂組成物B−3を使用した以外は、比較例1と同様の操作で積層体C−6およびD−6を作製し、断面を観察した。表面から厚み方向で100nmまでの層には50nm〜130nmの空孔が含有しており、それ以外の低反射材層には、50nm〜130nmのシリカが含有していた。積層体D−6の透明性は、目視で良好であった。また実施例1と同様に鉛筆硬度を測定した結果、5Hを示し、視感反射率は、4.2%とD−1〜4に比較して高い数値を示し、低反射性に劣っていた。
Figure 2012036306

Claims (15)

  1. (A)下記一般式(1)で表される含フッ素(メタ)アクリル酸エステルと下記一般式(2)で表される(メタ)アクリル酸エステルとを構成単位として含有する(メタ)アクリル酸エステルの共重合体と、
    (B)金属アルコキシド、
    とをゾル−ゲル反応させて得られることを特徴とする樹脂組成物。
    Figure 2012036306
    (Rは、水素、又はメチル基、Rは、フッ素を含有する炭素数1以上20以下の置換アルキル基を表す。)
    Figure 2012036306
    (Rは、水素又はメチル基、Rは、金属アルコキシドと反応性を有する官能基を含む基を表す。)
  2. 前記一般式(2)で表される(メタ)アクリル酸エステルの共重合モル比率 (2)/[(1)+(2)]が、0.01以上0.2以下の範囲内であることを特徴とする請求項1に記載の樹脂組成物。
  3. 前記一般式(2)における金属アルコキシドと反応性を有する官能基が水酸基、カルボキシル基、アルコキシシラン基からなる群より選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の樹脂組成物。
  4. 前記(A)(メタ)アクリル酸エステルの共重合体と(B)金属アルコキシドのゾルーゲル反応により生成する金属酸化物の重量混合比 (金属酸化物)/[(A)+(金属酸化物)]は、0.05以上0.6以下の範囲内であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の樹脂組成物。
  5. 前記(B)金属アルコキシドのゾルーゲル反応生成物が、粒径200nm以下、10nm以上の金属酸化物であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の樹脂組成物。
  6. ゾルーゲル反応時に、(C)有機溶媒を含むことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の樹脂組成物。
  7. 前記(C)有機溶媒が、20℃〜25℃の温度範囲における水に対する溶解度が20g/100gHO以上であることを特徴とする請求項6に記載の樹脂組成物。
  8. 前記ゾルーゲル反応が、水添加、加熱処理、又は超音波処理のいずれかひとつの工程を含むことを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の樹脂組成物の製造方法。
  9. 請求項1〜7のいずれかに記載の樹脂組成物を含有することを特徴とするハードコート。
  10. 透明基材の少なくとも片面に請求項1〜7にいずれかに記載の樹脂組成物からなる層が形成されていることを特徴とする積層体。
  11. 前記樹脂組成物を含む層の表面に10nm以上、200nm以下の空孔を含むことを特徴とする請求項10に記載の積層体。
  12. 前記空孔が存在する厚みが1000nm以下20nm以上であることを特徴とする請求項11に記載の積層体。
  13. 前記空孔が(B)金属アルコキシドのゾルーゲル反応生成物である金属酸化物を除去し形成されたものでことを特徴とする請求項11または請求項12に記載の積層体。
  14. 前記樹脂組成物を含む溶液を50℃以下の温度で調整し、透明基材に塗布した後、100℃以上200℃以下の温度で加熱する工程を含むことを特徴とする請求項10〜13のいずれかに記載の積層体の製造方法。
  15. 請求項10〜13のいずれかに記載の積層体からなることを特徴とする低反射材。
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