JP2012016677A - 除害装置及び除害システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】給水管31より給水されたH2Oに対しバブル発生装置33より多数の細かい粒状の気泡35が混入される。H2Oはパイプ23を堰として溢れ、その後、パイプ23の内側を伝ってほぼ均一に自然落下する。このとき、気泡35はカソード電極27の位置する付近ではH2Oから外に飛散し難く、一方、パイプ23の内側を伝って流れるH2Oに含まれている空気又はO2は、内側貯留槽42に至るまでの過程で徐々に外部に飛散する。このとき、プラズマの周囲にプラズマの流れと並行した水膜41が形成されているため、広範囲に亙ってO2と接触され、PFCガスが酸化される。
【選択図】図1
Description
ラジカル化されたC,F,HにはH2Oに含まれている空気又はO2により十分なだけのO2が供給される。その結果、吸入されたPFCガスを含む排ガスをプラズマにより酸化促進して無害なCO2やHFに分解することができる。
一方、ケース上面21bには、このアノード電極25に対峙してカソード電極27が取り付けられている。そして、パイプ23の高さは、パイプ23の上端がカソード電極27の下端よりも下方となるように形成されている。
かかる構成によれば、セントラルスクラバー9により多少の減圧をされることで、PFCガスを含む排ガスが管路29を通じて除害装置17内に誘導される。
このとき、プラズマの雰囲気中では数1のようにPFCガスの酸化が促進される。
また、除害装置17で用いられるプラズマは常圧プラズマであるため、除害装置の設置が容易である。
以上の構成によっても図1及び図2の除害装置17と同様に機能させることができる。
21 ケース
23 パイプ
25 アノード電極
27 カソード電極
29 管路
31、50 給水管
33 バブル発生装置
35 気泡
40 外側貯留槽
42 内側貯留槽
44 壁部
46 底部貯留槽
41、48 水膜
Claims (3)
- 吸入されたPFCガスを含む排ガスをプラズマにより酸化することで無害化する除害装置であって、
アノード電極とカソード電極間に高電圧を印加して常圧中でプラズマを生成するプラズマ発生手段と、
H2Oに対し空気又はO2の気泡を混入する気泡混入手段とを備え、
前記プラズマ発生手段により発生されたプラズマの周囲に前記気泡の混入されたH2Oが接触することで前記排ガスが酸化促進されることを特徴とする除害装置。 - 前記カソード電極より前記アノード電極方向に向けて所定長分離れた位置より前記アノード電極に至るまで、又は、前記カソード電極より前記アノード電極方向に向けて所定長分離れた位置より前記アノード電極の手前所定長分に至るまで、前記プラズマの周囲を囲むように設けられたプラズマ貫通路を備え、
前記気泡の混入されたH2Oが該プラズマ貫通路の内表面を水膜状に流れることを特徴とする請求項1記載の除害装置。 - 請求項1又は請求項2記載の除害装置の上流側にプロセスチャンバより真空引きするための真空ポンプ及びドライポンプが備えられたことを特徴とする除害システム。
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