JP2012014107A - 光学部材 - Google Patents
光学部材 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012014107A JP2012014107A JP2010153010A JP2010153010A JP2012014107A JP 2012014107 A JP2012014107 A JP 2012014107A JP 2010153010 A JP2010153010 A JP 2010153010A JP 2010153010 A JP2010153010 A JP 2010153010A JP 2012014107 A JP2012014107 A JP 2012014107A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical member
- fluororesin
- fluororesin film
- convex portion
- fluorine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 54
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 claims description 5
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 claims description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 abstract description 24
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 21
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 abstract description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 17
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract description 17
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 4
- 230000002265 prevention Effects 0.000 abstract 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 19
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 19
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 description 18
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 10
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 5
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 5
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 3
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 125000006551 perfluoro alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 229910000927 Ge alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001774 Perfluoroether Chemical group 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 241000135309 Processus Species 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 229920006125 amorphous polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
【解決手段】テラヘルツ波を取り扱う光学系に用いられる光学部材10であって、フィルム状のフッ素樹脂基材12の表面に、互いに平行にかつ所定のピッチPで形成された、長さ方向に直交する断面の形状が三角形の複数の凸条14(凸部)からなる反射防止構造を有し、凸条14がフッ素樹脂からなる。
【選択図】図1
Description
そこで、光学部材の表面におけるテラヘルツ波の反射率を低減するために、光学部材の表面に、複数の凸部(断面三角形の凸条、円錐形、角錐形、角錐台形等の突起等)からなる反射防止構造(モスアイ構造等)を形成することが提案されている(特許文献1、2)。
前記フッ素樹脂は、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合体であることが好ましい。
本発明の光学部材は、テラヘルツ波を取り扱う光学系に用いられる光学部材であって、ピッチが使用波長以下の複数の凸部からなる反射防止構造を表面に有し、凸部がフッ素樹脂からなるものである。具体的には、フッ素樹脂基材の表面に複数の凸部からなる反射防止構造が形成されたものであり、フッ素樹脂基材の裏面側に支持基材を有していてもよい。
フッ素樹脂としては、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合体、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体(ETFE)、プロピレン−テトラフルオロエチレン共重合体、ビニルエーテル−クロロトリフルオロエチレン共重合体、フッ化ビニリデン−トリフルオロエチレン共重合体、テトラフルオロエチレン−・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体等が挙げられ、屈折率が低い点から、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合体またはETFEが好ましく、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合体が特に好ましい。
主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有するとは、重合体における含フッ素脂肪族環の環を構成する炭素原子の1個以上が重合体の主鎖を構成する炭素原子であることをいう。含フッ素脂肪族環の環を構成する原子は、炭素原子以外に酸素原子、窒素原子等を含んでいてもよい。含フッ素脂肪族環としては、1〜2個の酸素原子を有する含フッ素脂肪族環が好ましい。含フッ素脂肪族環を構成する原子の数は、4〜7個が好ましい。
CF2=CF−Q−CF=CF2 ・・・(3)。
ただし、Qは、炭素原子数1〜3のペルフルオロアルキレン基(エーテル性酸素原子を有していてもよい。)を示す。エーテル性酸素原子を有するペルフルオロアルキレン基である場合、エーテル性酸素原子は該基の一方の末端に存在していてもよく、該基の両末端に存在していてもよく、該基の炭素原子の間に存在していてもよい。環化重合性の点からは、該基の一方の末端に存在しているのが好ましい。
CF2=CFOCF2CF=CF2 ・・・(3−1)、
CF2=CFOCF(CF3)CF=CF2 ・・・(3−2)、
CF2=CFOCF2CF2CF=CF2 ・・・(3−3)、
CF2=CFOCF(CF3)CF2CF=CF2 ・・・(3−4)、
CF2=CFOCF2CF(CF3)CF=CF2 ・・・(3−5)、
CF2=CFOCF2OCF=CF2 ・・・(3−6)、
CF2=CFOC(CF3)2OCF=CF2 ・・・(3−7)、
CF2=CFCF2CF=CF2 ・・・(3−8)、
CF2=CFCF2CF2CF=CF2 ・・・(3−9)。
フッ素樹脂基材の材料は、上述したフッ素樹脂である。
フッ素樹脂基材の形状としては、フィルム状、シート状、平板状、曲板状、半球状等が挙げられる。
フッ素樹脂基材の厚さは、光学部材の用途に応じて適宜設計すればよい。
凸部としては、フッ素樹脂基材の表面に延在する長尺の凸条、フッ素樹脂基材の表面に点在する突起等が挙げられる。
凸条の形状としては、直線、曲線、折れ曲がり形状等が挙げられ、反射防止の点から、直線が好ましい。凸条は、反射防止の点から、複数が平行に存在して縞状をなしていることが好ましい。
凸条の長手方向に直交する断面の形状としては、三角形、台形、長方形、半円形等が挙げられ、反射防止の点から、三角形または台形が好ましい。
突起の形状としては、円錐形、角錐形、角錐台形、角柱形、円柱形、半球形等が挙げられ、反射防止の点から、円錐形、角錐形または角錐台形が好ましい。
凸部のピッチPとは、凸部の底部の幅と、凸部間に形成される溝の底部の幅との合計である。
凸部の底部の幅Wとは、凸条の場合は、長手方向に直交する断面における底辺の長さであり、突起の場合は、突起の底面における最大長さである。
支持基材の材料としては、従来のテラヘルツ波用の光学部材の材料として用いられているものが挙げられ、たとえば、高抵抗シリコン、ガリウム−ゲルマニウム合金、合成石英、樹脂(ポリエチレン、ポリフルオロエチレン等)等が挙げられる。
支持基材の形状としては、フィルム状、シート状、平板状、曲板状、半球状等が挙げられる。
支持基材の厚さは、光学部材の用途に応じて適宜設計すればよい。
図1は、本発明の光学部材の一例を示す斜視図である。
光学部材10は、フィルム状のフッ素樹脂基材12の表面に、互いに平行にかつ所定のピッチPで形成された、長さ方向に直交する断面の形状が三角形の複数の凸条14(凸部)からなる反射防止構造を有するものである。複数の凸条14間には、断面V字形の溝が形成される。凸条14とフッ素樹脂基材12とは、一体化しており、同じフッ素樹脂からなる。また、凸条14のピッチPは、光学部材の使用波長以下である。
図2は、本発明の光学部材の一例を示す斜視図である。
光学部材11は、板状の支持基材20の表面に形成されたフッ素樹脂膜22(フッ素樹脂基材)の表面に、互いに平行にかつ所定のピッチPで形成された、長さ方向に直交する断面の形状が三角形の複数の凸条14(凸部)からなる反射防止構造を有するものである。複数の凸条14間には、断面V字形の溝が形成される。凸条14とフッ素樹脂膜22とは、一体化しており、同じフッ素樹脂からなる。支持基材20は、高抵抗シリコン等からなる。また、凸条14のピッチPは、光学部材の使用波長以下である。
本発明の光学部材を製造する方法としては、たとえば、下記の方法(α)〜(δ)が挙げられる。
以上説明した本発明の光学部材にあっては、ピッチが使用波長以下の複数の凸部からなる反射防止構造を表面に有しているため、テラヘルツ波の反射率が低く抑えられ、テラヘルツ波の透過率が高くなる。また、凸部が、従来の高抵抗シリコン等比べ、屈折率が充分に低いフッ素樹脂からなるため、反射防止構造と空気との界面における屈折率の差が小さくなり、テラヘルツ波の透過率がさらに高くなる。
例1〜8は実施例であり、例9、10は比較例である。
テラヘルツ分光装置(ニコン社製)を用い、波長150μm、500μmにおける透過率を測定し、下記の基準にて評価した。
○:透過率が80%以上。
×:透過率が80%未満。
フッ素樹脂フィルムまたはフッ素樹脂膜の表面の断面三角形の凸条のサイズを、触針式表面形状測定機(Dektak150 Ulvac社製)で測定し、下記の基準にて評価した。
○:モールドの表面の断面V字形の溝のサイズと、フッ素樹脂フィルムまたはフッ素樹脂膜の表面の凸条のサイズが同じ。
×:モールドの表面の断面V字形の溝のサイズと、フッ素樹脂フィルムまたはフッ素樹脂膜の表面の凸条のサイズが異なる。
約10mmφの大きさにまとめ、表面が均一になるようにカットし、摩擦して均した#0000のスチールウールを、フッ素樹脂フィルムまたはフッ素樹脂膜の表面に、500gの荷重で押し付けながら、ストローク幅:25mm、速度:30mm/secにて10回往復させた後、フッ素樹脂フィルムまたはフッ素樹脂膜の表面を、触針式表面形状測定機(Dektak150 Ulvac社製)で観察し、下記の基準にて評価した。
○:フッ素樹脂フィルムまたはフッ素樹脂膜の表面の凸条の形状に変化なし。
×:フッ素樹脂フィルムまたはフッ素樹脂膜の表面の凸条の形状に変化あり。
4インチφ、厚さ:1mmの石英基板(旭硝子社製、AQ)の片面にダイシングソーを用いて同一方向に延びる複数の断面V字形の溝を形成した。
CF2=CFOCF2CF=CF2の単独重合体(旭硝子社製、サイトップ(登録商標)、波長150μmにおける屈折率:1.5)の3gを、200℃にてプレス成型し、無色透明のフッ素樹脂フィルム(70mm×70mm×500μm)を得た。
シランカップリング剤(信越シリコーン社製、KBE903)の0.5gを混合溶媒(水:400mL、エタノール:600mL)の中に滴下し、2時間室温で撹拌した。シランカップリング溶液を、4インチφ、厚さ:535μmの高抵抗シリコンウエハ(信越化学社製、波長150μmにおける屈折率:3.4)の表面にスピンコート法により塗布し、115℃で40分熱処理した。該シリコンウエハの表面に、フッ素樹脂(旭硝子社製、サイトップ(登録商標)CTX−807AP、波長150μmにおける屈折率:1.49)の溶液(固形分濃度:7質量%)をスピンコート法により塗布し、180℃で1時間熱処理し、シリコンウエハの表面に厚さ:150μmのフッ素樹脂膜を形成した。
ナノインプリント装置(東芝機械社製、ST−50)のプレス部の下側の面板に、フッ素樹脂フィルムを取り付け、130℃に加熱した。該装置のプレス部の上側の面板に、モールドの表面の断面V字形の溝が下側の面板に向くようにモールドを取り付け、120℃に加熱した。モールドを、10MPaの圧力(ゲージ圧)でフッ素樹脂フィルムに押し付け、そのまま5分間保持した。フッ素樹脂フィルムを80℃に冷却してからモールドを剥離し、モールドの断面V字形の溝が反転した断面三角形の複数の凸条からなる反射防止構造が形成されたフッ素樹脂フィルムを得た。
モールドの溝のサイズ、フッ素樹脂フィルムの凸条のサイズ、反射防止構造が形成されたフッ素樹脂フィルムの透過率、加工性、耐擦傷性を表1にまとめた。
モールドの溝のサイズを変更した以外は、例1と同様にして反射防止構造を表面に有するフッ素樹脂フィルムを得た。
モールドの溝のサイズ(ピッチP(単位:μm)、高さH(単位:μm)、H/P)、フッ素樹脂フィルムの凸条のサイズ(ピッチP(単位:μm)、高さH(単位:μm)、H/P)、反射防止構造が形成されたフッ素樹脂フィルムの透過率、加工性、耐擦傷性を表1にまとめた。
ナノインプリント装置のプレス部の下側の面板に、フッ素樹脂膜を表面に有するシリコンウエハを取り付けた以外は、例1と同様にして反射防止構造が形成されたフッ素樹脂膜を表面に有するシリコンウエハを得た。
モールドの溝のサイズ、フッ素樹脂膜の凸条のサイズ、反射防止構造が形成されたフッ素樹脂膜を表面に有するシリコンウエハの透過率、フッ素樹脂膜の加工性、耐擦傷性を表1にまとめた。
モールドの溝のサイズを変更した以外は、例1と同様にして反射防止構造を表面に有するフッ素樹脂フィルムを得た。
モールドの溝のサイズ、フッ素樹脂フィルムの凸条のサイズ、反射防止構造が形成されたフッ素樹脂フィルムの透過率、加工性、耐擦傷性を表1にまとめた。
4インチφ、厚さ:535mmの高抵抗シリコンウエハ(信越化学社製、波長150μmにおける屈折率:3.4)の片面にダイシングソーを用いて同一方向に延びる複数の断面V字形の溝を形成し、反射防止構造を表面に有するシリコンウエハを得た。
シリコンウエハの凸条のサイズ、シリコンウエハの透過率を表1にまとめた。
溝のサイズを変更した以外は、例1と同様にして反射防止構造を表面に有するシリコンウエハを得た。
シリコンウエハの凸条のサイズ、シリコンウエハの透過率を表1にまとめた。
11 光学部材
12 フッ素樹脂基材
14 凸条(凸部)
20 支持基材
22 フッ素樹脂膜(フッ素樹脂基材)
Claims (3)
- テラヘルツ波用の光学部材であって、
ピッチが使用波長以下の複数の凸部からなる反射防止構造を表面に有し、
前記凸部が、フッ素樹脂からなる、光学部材。 - 前記凸部のアスペクト比(凸部の高さ/凸部のピッチ)が、1.3以下である、請求項1に記載の光学部材。
- 前記フッ素樹脂が、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合体である、請求項1または2に記載の光学部材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010153010A JP5720130B2 (ja) | 2010-07-05 | 2010-07-05 | 光学部材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010153010A JP5720130B2 (ja) | 2010-07-05 | 2010-07-05 | 光学部材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012014107A true JP2012014107A (ja) | 2012-01-19 |
JP5720130B2 JP5720130B2 (ja) | 2015-05-20 |
Family
ID=45600559
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010153010A Active JP5720130B2 (ja) | 2010-07-05 | 2010-07-05 | 光学部材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5720130B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103663360A (zh) * | 2013-12-06 | 2014-03-26 | 上海理工大学 | 太赫兹器件及其制备方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007076242A (ja) * | 2005-09-15 | 2007-03-29 | Fujifilm Corp | 保護フィルム |
JP2007271852A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Dainippon Printing Co Ltd | 回折格子、及びそれを用いた反射防止部材、並びに反射防止板 |
JP2007334306A (ja) * | 2006-05-19 | 2007-12-27 | Asahi Glass Co Ltd | 光導波路 |
JP2009198628A (ja) * | 2008-02-20 | 2009-09-03 | Nissan Motor Co Ltd | 反射防止構造及び反射防止成形体 |
JP2009217085A (ja) * | 2008-03-12 | 2009-09-24 | Tochigi Nikon Corp | 光学部品 |
JP2009288047A (ja) * | 2008-05-29 | 2009-12-10 | Epson Toyocom Corp | テラヘルツ分光分析用液体セルおよびテラヘルツ分光分析用液体セルの製造方法 |
JP2009288046A (ja) * | 2008-05-29 | 2009-12-10 | Epson Toyocom Corp | テラヘルツ分光分析用液体セルおよびテラヘルツ分光分析用液体セルの製造方法 |
JP2010078544A (ja) * | 2008-09-29 | 2010-04-08 | Epson Toyocom Corp | テラヘルツ分光分析用液体セルの製造方法 |
-
2010
- 2010-07-05 JP JP2010153010A patent/JP5720130B2/ja active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007076242A (ja) * | 2005-09-15 | 2007-03-29 | Fujifilm Corp | 保護フィルム |
JP2007271852A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Dainippon Printing Co Ltd | 回折格子、及びそれを用いた反射防止部材、並びに反射防止板 |
JP2007334306A (ja) * | 2006-05-19 | 2007-12-27 | Asahi Glass Co Ltd | 光導波路 |
JP2009198628A (ja) * | 2008-02-20 | 2009-09-03 | Nissan Motor Co Ltd | 反射防止構造及び反射防止成形体 |
JP2009217085A (ja) * | 2008-03-12 | 2009-09-24 | Tochigi Nikon Corp | 光学部品 |
JP2009288047A (ja) * | 2008-05-29 | 2009-12-10 | Epson Toyocom Corp | テラヘルツ分光分析用液体セルおよびテラヘルツ分光分析用液体セルの製造方法 |
JP2009288046A (ja) * | 2008-05-29 | 2009-12-10 | Epson Toyocom Corp | テラヘルツ分光分析用液体セルおよびテラヘルツ分光分析用液体セルの製造方法 |
JP2010078544A (ja) * | 2008-09-29 | 2010-04-08 | Epson Toyocom Corp | テラヘルツ分光分析用液体セルの製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103663360A (zh) * | 2013-12-06 | 2014-03-26 | 上海理工大学 | 太赫兹器件及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5720130B2 (ja) | 2015-05-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101457254B1 (ko) | 광경화성 조성물, 미세 패턴 형성체의 제조 방법 및 광학 소자 | |
US10766169B2 (en) | Resin mold | |
US7441745B2 (en) | Mold, and process for producing base material having transferred micropattern | |
Lohmüller et al. | Biomimetic interfaces for high-performance optics in the deep-UV light range | |
JP5182644B2 (ja) | ワイヤグリッド型偏光子およびその製造方法 | |
US8540925B2 (en) | Photocurable composition, micropattern-formed product and its production process | |
JP4567094B2 (ja) | 回折光学素子および回折光学素子の製造方法 | |
Jang et al. | Multifunctional moth-eye TiO2/PDMS pads with high transmittance and UV filtering | |
Tahk et al. | Fabrication of antireflection and antifogging polymer sheet by partial photopolymerization and dry etching | |
CN104246540B (zh) | 光学膜、偏振片、液晶面板和图像显示装置 | |
TW201236872A (en) | Fine-structure laminate, method for preparing fine-structure laminate, and production method for fine-structure laminate | |
JP2007320072A (ja) | モールドおよびその製造方法 | |
TW201100852A (en) | Anti-reflection product and display device | |
Wang et al. | Self-assembled monolayer islands masked chemical etching for broad-band antireflective silicon surfaces | |
JP2006182011A (ja) | 光硬化性樹脂成型用モールドおよび該モールドを用いる硬化物の製造方法 | |
JP2012118501A (ja) | 光学素子 | |
JP2013254026A (ja) | 光学素子 | |
JP2011002759A (ja) | 反射防止膜 | |
JP6166472B2 (ja) | 耐指紋性フィルムおよび電気電子装置 | |
JP2011183554A (ja) | 微細構造体の製造方法 | |
JP5720130B2 (ja) | 光学部材 | |
JP2014115403A (ja) | 複合型機能性フィルムの製造方法 | |
JP2013061612A (ja) | 光学素子 | |
JP5343420B2 (ja) | 高光線透過性フッ素樹脂フィルム | |
KR20150145253A (ko) | 적층체 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130305 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131217 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140210 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20140212 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140819 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20141017 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150224 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150309 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5720130 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |