JP2012004463A - インプリント装置、インプリント方法及びデバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基板上に塗布された転写材料と、パターンを有する型の少なくとも一方を他方に押し付けた状態で前記転写材料を硬化させた後、前記転写材料と前記型とを引き離すことにより、前記パターンを前記転写材料に転写するインプリント装置であって、前記基板を吸着して保持する基板保持部と、前記基板保持部に生じる前記基板を吸着するため吸着力を制御する制御部とを有し、前記制御部は、前記転写材料と前記型の少なくとも一方を他方に押し付ける工程における前記吸着力よりも、前記転写材料と前記型とを引き離す工程における前記吸着力を大きくする。
【選択図】 図2
Description
本実施形態では転写材料として光が照射されることによって硬化する樹脂を使用した、光硬化法のインプリント技術について説明する。また、型としては凹凸部が表面に形成されたモールドを用いて説明する。
第1実施形態では基板4が基板ステージ5から離れてしまうことを防ぐために、吸着圧を小さくする場合について説明した。
図5は本実施形態のインプリント装置を示す概略図である。上記実施形態と同じ番号のものはここでは説明を省略する。図5(a)のインプリント装置において、吸着圧可変機構10はバキューム源8から供給される真空圧を基板吸着用の2系統の吸着ライン13a、13bとに分け、モールド吸着用の2系統の吸着ライン13c、13dとに分ける。このような構成とすることにより、バキューム源8を一つとすることができる。それぞれの吸着ライン13a、13b、13c、13dによる吸着圧は、レギュレータ12a、12b、12c、12dによって所定の吸着圧に調整される。この調整により、基板吸着部6とモールド吸着部9に関する吸着圧はそれぞれ2段階の圧力に設定することができる。
インプリントを基板上で複数回繰り返す場合について説明する。パターンを転写する場所に樹脂を塗布するための移動とモールドを押し付けるための移動が繰り返し行なわれる。繰り返し行なわれるインプリントのプロセスについて図6を用いて説明する。
デバイス(半導体集積回路素子、液晶表示素子等)の製造方法は、上述したインプリント装置を用いて基板(ウエハ、ガラスプレート、フィルム状基板)にパターンを形成する工程を含む。さらに、該製造方法は、パターンを形成された基板をエッチングする工程を含みうる。なお、パターンドメディア(記録媒体)や光学素子などの他の物品を製造する場合には、該製造方法は、エッチングの代わりに、パターンを形成された基板を加工する他の処理を含みうる。本実施形態の物品製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも一つにおいて有利である。
2 モールドチャック
3 樹脂
4 基板
5 基板ステージ
6 基板吸着部
8 バキューム源
9 モールド吸着部
10 吸着圧可変機構
Claims (11)
- 基板上に塗布された転写材料とパターンを有する型の少なくとも一方を他方に押し付ける工程と、押し付けた状態で前記転写材料を硬化させる工程と、硬化させた後、前記転写材料と前記型とを引き離す工程を経ることにより、前記パターンを前記転写材料に転写するインプリント装置であって、
前記基板を吸着して保持する基板保持部と、
前記基板保持部に生じる前記基板を吸着するため吸着力を制御する制御部とを有し、
前記制御部は、前記転写材料と前記型の少なくとも一方を他方に押し付ける工程における前記吸着力よりも、前記転写材料と前記型とを引き離す工程における前記吸着力を大きくすることを特徴とするインプリント装置。 - 前記基板保持部は、前記基板を吸着保持するためのバキューム源に接続されており、
前記制御部は、前記バキューム源による吸着圧を小さくすることによって、前記基板を吸着保持するための前記吸着力を大きくすることを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。 - 前記基板保持部は、吸着圧可変機構に接続されており、
前記制御部が前記吸着圧可変機構を制御することによって前記吸着圧を変化させることを特徴とする請求項2に記載のインプリント装置。 - 前記吸着圧可変機構は、異なる吸着圧を発生する2系統の吸着ラインと
該異なる2系統の吸着ラインを所定のタイミングで切換える切換手段を有しており、
該切換手段で前記異なる2系統の吸着ラインを切換えることによって、前記吸着圧を変化させることを特徴とする請求項3記載のインプリント装置。 - 前記異なる2系統の吸着圧は、基板の表面を平坦に保つ第1の吸着圧と、該第1の吸着圧よりも吸着圧が小さい第2の吸着圧であることを特徴とする請求項4に記載のインプリント装置。
- 前記基板保持部は、前記転写材料と前記型の少なくとも一方を他方に押し付ける工程と前記転写材料を硬化させる工程で、前記基板の表面を平坦に保つ吸着力で前記基板を吸着するように、前記制御部が前記吸着圧を制御することを特徴とする請求項5に記載のインプリント装置。
- 前記吸着圧可変機構は、バキューム源の真空圧を無段階に変化させるサーボバルブを備えていることを特徴とする請求項3〜6のいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記基板保持部は部分的に異なる吸着力の大きさで前記基板を吸着することができ、
前記制御部は、前記型と前記転写材料が接触している部分に対応した前記基板保持部の吸着力を、前記引き離す工程で大きくすることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載のインプリント装置。 - 基板上に塗布された転写材料とパターンを有する型の少なくとも一方を他方に押し付ける工程と、押し付けた状態で前記転写材料を硬化させる工程と、硬化させた後、前記転写材料と前記型とを引き離す工程を経ることにより、前記パターンを前記転写材料に転写するインプリント装置であって、
前記型を吸着して保持する型保持部と、
前記型保持部に生じる前記型を吸着するため吸着力を制御する制御部とを有し、
前記制御部は、前記転写材料と前記型の少なくとも一方を他方に押し付ける工程における前記吸着力よりも、前記転写材料と前記型とを引き離す工程における前記吸着力を大きくする
ことを特徴とするインプリント装置。 - 基板上に塗布された転写材料とパターンを有する型の少なくとも一方を他方に押し付ける工程と、押し付けた状態で前記転写材料を硬化させる工程と、硬化させた後、前記転写材料と前記型とを引き離す工程を経ることにより、前記パターンを前記転写材料に転写するインプリント方法であって、
前記基板を吸着するための吸着力を、
前記転写材料と前記型の少なくとも一方を他方に押し付ける工程における前記吸着力よりも、前記転写材料と前記型とを引き離す工程における前記吸着力の大きさを大きくすることを特徴とするインプリント方法 - 請求項1〜9のいずれか1項に記載のインプリント装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とするデバイスの製造方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015023237A (ja) * | 2013-07-23 | 2015-02-02 | キヤノン株式会社 | インプリント方法、インプリント装置およびデバイス製造方法 |
JP2019047002A (ja) * | 2017-09-04 | 2019-03-22 | キヤノン株式会社 | インプリント装置および物品製造方法 |
CN110361929A (zh) * | 2018-04-11 | 2019-10-22 | 佳能株式会社 | 成型设备和制造物品的方法 |
JP2019201078A (ja) * | 2018-05-15 | 2019-11-21 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法、および物品製造方法 |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09174611A (ja) * | 1995-12-22 | 1997-07-08 | Mitsubishi Chem Corp | ディスク基板の成形方法 |
JPH1092728A (ja) * | 1996-09-11 | 1998-04-10 | Canon Inc | 基板保持装置およびこれを用いた露光装置 |
JPH10296795A (ja) * | 1997-04-28 | 1998-11-10 | Ricoh Co Ltd | 光ディスク基板の射出成形方法及び射出成形装置 |
JP2002343852A (ja) * | 2001-05-16 | 2002-11-29 | Canon Inc | 基板保持装置、基板保持方法、露光装置およびデバイス製造方法 |
JP2006326927A (ja) * | 2005-05-24 | 2006-12-07 | Hitachi High-Technologies Corp | インプリント装置、及び微細構造転写方法 |
JP2007083626A (ja) * | 2005-09-22 | 2007-04-05 | Ricoh Co Ltd | 微細構造転写装置 |
JP2007103684A (ja) * | 2005-10-05 | 2007-04-19 | Nikon Corp | パターン転写方法及びパターン転写装置 |
JP2007268955A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Toshiba Corp | パターン転写方法 |
JP2007305895A (ja) * | 2006-05-15 | 2007-11-22 | Apic Yamada Corp | インプリント方法およびナノ・インプリント装置 |
JP2008036921A (ja) * | 2006-08-04 | 2008-02-21 | Meiki Co Ltd | 転写プレス装置 |
JP2009220559A (ja) * | 2008-02-20 | 2009-10-01 | Toshiba Mach Co Ltd | 転写装置および転写方法 |
JP2010067796A (ja) * | 2008-09-11 | 2010-03-25 | Canon Inc | インプリント装置 |
-
2010
- 2010-06-18 JP JP2010139960A patent/JP5744423B2/ja active Active
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09174611A (ja) * | 1995-12-22 | 1997-07-08 | Mitsubishi Chem Corp | ディスク基板の成形方法 |
JPH1092728A (ja) * | 1996-09-11 | 1998-04-10 | Canon Inc | 基板保持装置およびこれを用いた露光装置 |
JPH10296795A (ja) * | 1997-04-28 | 1998-11-10 | Ricoh Co Ltd | 光ディスク基板の射出成形方法及び射出成形装置 |
JP2002343852A (ja) * | 2001-05-16 | 2002-11-29 | Canon Inc | 基板保持装置、基板保持方法、露光装置およびデバイス製造方法 |
JP2006326927A (ja) * | 2005-05-24 | 2006-12-07 | Hitachi High-Technologies Corp | インプリント装置、及び微細構造転写方法 |
JP2007083626A (ja) * | 2005-09-22 | 2007-04-05 | Ricoh Co Ltd | 微細構造転写装置 |
JP2007103684A (ja) * | 2005-10-05 | 2007-04-19 | Nikon Corp | パターン転写方法及びパターン転写装置 |
JP2007268955A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Toshiba Corp | パターン転写方法 |
JP2007305895A (ja) * | 2006-05-15 | 2007-11-22 | Apic Yamada Corp | インプリント方法およびナノ・インプリント装置 |
JP2008036921A (ja) * | 2006-08-04 | 2008-02-21 | Meiki Co Ltd | 転写プレス装置 |
JP2009220559A (ja) * | 2008-02-20 | 2009-10-01 | Toshiba Mach Co Ltd | 転写装置および転写方法 |
JP2010067796A (ja) * | 2008-09-11 | 2010-03-25 | Canon Inc | インプリント装置 |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015023237A (ja) * | 2013-07-23 | 2015-02-02 | キヤノン株式会社 | インプリント方法、インプリント装置およびデバイス製造方法 |
US10048581B2 (en) | 2013-07-23 | 2018-08-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprinting method, imprinting apparatus, and device manufacturing method |
JP2019047002A (ja) * | 2017-09-04 | 2019-03-22 | キヤノン株式会社 | インプリント装置および物品製造方法 |
CN110361929A (zh) * | 2018-04-11 | 2019-10-22 | 佳能株式会社 | 成型设备和制造物品的方法 |
JP2019186404A (ja) * | 2018-04-11 | 2019-10-24 | キヤノン株式会社 | 成形装置及び物品の製造方法 |
JP7033994B2 (ja) | 2018-04-11 | 2022-03-11 | キヤノン株式会社 | 成形装置及び物品の製造方法 |
US11372327B2 (en) * | 2018-04-11 | 2022-06-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Molding apparatus and method of manufacturing article |
CN110361929B (zh) * | 2018-04-11 | 2023-08-18 | 佳能株式会社 | 成型设备和制造物品的方法 |
JP2019201078A (ja) * | 2018-05-15 | 2019-11-21 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法、および物品製造方法 |
JP7091138B2 (ja) | 2018-05-15 | 2022-06-27 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法、および物品製造方法 |
US11693309B2 (en) * | 2018-05-15 | 2023-07-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint apparatus, imprint method, and method for manufacturing article |
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Publication number | Publication date |
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