JP2011527765A - 処理された金属酸化物粒子およびトナー組成物 - Google Patents
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Abstract
An−Zc−Yb−Ar(EW)a
式中、Arは芳香族基を表し、EWは電子求引基を表し、Yはスペーサー基を表し、Zはアルキレン基を表し、Anはアンカー基を表し、aは1〜5の整数であり、bは0もしくは1であり、そしてcは0もしくは1である。
また、処理された金属酸化物粒子は、第2の荷電変性剤または疎水性付与剤で処理することもできる。また、トナー粒子および処理された金属酸化物粒子を含むトナー組成物が開示されている。
Description
An−Zc−Yb−Ar(EW)a
An−Zc−Yb−Ar(EW)a
An−Zc−Yb−Ar(EW)a
An−Zc−Yb−Ar(EW)a
以下の例では、処理された金属酸化物粒子組成物は、商業的に入手可能な金属酸化物粒子の水性もしくは非水性分散体を処理することによって調製した。シリカ、アルミナおよびチタニア粒子を、以下の例において処理した。特に断りのない限り、金属酸化物粒子の処理は、適当な大きさの、オーバーヘッド攪拌モータ、熱電対および凝縮器を備えた3つ口丸底フラスコ中で実施した。Leco C-200を、調製した乾燥試料の炭素含量を測定するために用いた。これらの測定の不確実性は約3%である。全ての測定は、2回もしくは3回実施し、平均値を以下の表中に報告した。
5種の金属酸化物粒子組成物(組成物1A〜1E)を、最初にコロイド状シリカをヘキサメチルジシラザン(HMDZ)(Gelest, Inc.、受領したままで用いた)で、そして次いで3−(2,4−ジニトロフェニルアミノ)プロピルトリエトキシシラン(DNPS、CAS番号71783-41-0)で処理することによって調製した。また、対照組成物を、コロイド状シリカを、HMDZ単独で処理することによって調製した。それぞれの組成物は、6.8g(0.042モル)のHMDZを200gのSnowtex-OYL(商標)コロイド状シリカ分散体に加えることによって調製した。Snowtex-OYL(日産化学)は、20質量%のシリカ、2.0〜2.6の範囲のpH、約80nm±10nm(d10=60nm、そしてd90=120nm)、そして34〜42m2/gのBET表面積を有するコロイド状シリカの水性分散体である。このシリカ分散体−HMDZ混合物を、70℃に2時間加熱し、そして次いで室温まで冷却させた。この混合物が室温に到達した後に(組成物1A〜1Eについて)、予め定めた量のDNPSを50mLのTHF(Fisher Scientific、精製せずに用いた)中に溶解させ、そして次いでシリカHMDZ混合物へ加えた。また、一定体積のエタノール(70mL)(Fisher Scientific、精製せずに用いた)をこの混合物へ加えた。最終的な混合物を、還流温度に加熱し(約64℃)、そして連続的に5時間攪拌した。室温まで冷却した後に、遠心分離によって黄色固体を分離し、そして135℃で数時間乾燥させた。対照試料および組成物1A〜1Eの炭素含量を、表1中に報告した。
5種の金属酸化物粒子組成物(組成物2A〜2E)を、先ずコロイド状シリカをDNPSで、そして次いでHMDZで処理することによって調製した。それぞれの組成物は、予め定めた量のDNPSを50mLのTHF中に溶解し、これを次いで200gのSnowtex-OYL(商標)コロイド状シリカ分散体に加えることによって調製した。5分間の混合の後に、70mLのエタノールを反応フラスコへ加えて、そしてこの混合物を70℃に加熱した。5時間の加熱の後に、6.8g(0.042モル)のHMDAを、この混合物中に導入した。混合物の温度を、70℃に、更に3時間維持した。室温に冷却した後に、遠心分離によって黄色固体を分離し、そして135℃で数時間乾燥した。組成物2A〜2Eの炭素含量を表2中に報告した。
3種の金属酸化物粒子組成物(組成物3A〜3C)を、アルミナを、イソブチルトリメトキシシラン(IBTMS)およびDNPSの種々の混合物で処理することによって調製した。また、対照組成物を、アルミナをIBTMS単独で処理することによって調製した。それぞれの組成物は、、15gのヒュームドアルミナ(81m2/gのBET表面積を有するCabot CorporationのSpectrA1(登録商標)81ヒュームドアルミナ)を125mLのトルエン中に分散させることによって調製した。アルミナの分散の後に、0.02モルの混合シランを加えた(IBTMS:DNPS比を表3中に示した)。この分散混合物を110℃に加熱し、そしてこの温度に3時間保持した。次いで、この分散液を室温まで冷却し、そして遠心分離して処理されたアルミナ粒子を回収した。
金属酸化物粒子組成物(組成物4A)を、チタニアをオクチルトリエトキシシラン(OTES)およびDNPSの混合物で処理することによって調製した。また、対照組成物を、チタニアをOTES単独で処理することによって調製した。それぞれの組成物は、15gのヒュームドTiO2(Degussa P25(商標))を100mLのトルエン中に分散させることによって調製した。TiO2の分散の後に、0.1モルのシランを加えた(OTES:DNPS比を表4中に示した)。この分散混合物を110℃に加熱し、この温度に3時間保持した。次いで、この分散液を室温まで冷却し、そして遠心分離して処理されたチタニア粒子を回収した。
金属酸化物粒子組成物(組成物5A)を、アルミナを(OTES)および3−(トリエトキシシリルプロピル)−p−ニトロベンズアミド(TESPNBA、CAS番号60871-86-5)の混合物で処理することによって調製した。また、対照組成物を、アルミナをOTES単独で処理することによって調製した。それぞれの粒子組成物は、OTESおよびTESPNBAシランを用いた以外は、上記の例3で記載したように調製した。トナー組成物を、対照組成物および組成物5Aを用いて、前述の方法(処理されたアルミナおよびチタニア粒子組成物について)で調製した。粒子組成物の炭素含量を表5中に報告した。また、トナー組成物の摩擦帯電値を表5中に報告した。
2種の金属酸化物粒子組成物(組成物6Aおよび6B)を、アルミナを、(OTES)およびペンタフルオロフェニルトリエトキシシラン(PFPTES、CAS番号20083-34-5)の混合物で処理することによって調製した。それぞれの粒子組成物は、OTESおよびPFPTESシランを用いた以外は、上記の例3中で記載したように調製した。トナー組成物は、組成物6Aおよび6Bを用いて、前述の方法(処理されたアルミナおよびチタニア粒子組成物について)で調製した。粒子組成物の炭素含量を表6中に報告した。また、トナー組成物の摩擦帯電値を表6中に報告した。
3種の金属酸化物粒子組成物(組成物7A、7Bおよび7C)を、アルミナを、OTESおよび2−(4−クロロスルホニルフェニル)エチルトリメトキシシラン(CSPES)の混合物で処理することによって調製した。それぞれの粒子組成物は、OTESおよびCSPESシランを用いた以外は、上記の例3中に記載したように調製した。トナー組成物を、組成物7A、7Bおよび7Cを用いて、前述の方法(アルミナおよびチタニア粒子組成物について)で調製した。粒子組成物の炭素含量を、表7中に報告した。また、トナー組成物の摩擦帯電値を、表7中に報告した。
単一の金属酸化物粒子組成物(組成物8A)を、アルミナを、DNPSおよびPFPTESの混合物で処理することによって調製した。それぞれの粒子組成物は、DNPSおよびPFPTESシランを用いた以外は、上記の例3中に記載したように調製した。トナー組成物を、組成物8Aを用いて、前述の方法(処理したアルミナおよびチタニア粒子組成物について)で調製した。粒子組成物の炭素含量を、表8中に報告した。また、トナー組成物の摩擦帯電値を、表8中に報告した。また、表8では、炭素含量と摩擦帯電値を、上記で報告した組成物3Cおよび6Bのものと比較した。
第1の比較例を、196g(248モル)の2−プロパノールを、600gのSnowtex OL-40分散液にゆっくりと添加することによって調製した。Snowtex OL-40は、40質量%のシリカ、2.0〜2.6の範囲のpH、45nm(d10=20nmそしてd90=90nm)の平均粒子径、そして60〜75m2/gのBET表面積を有する、コロイド状シリカの水性分散体である。5分間の攪拌の後に、35.5g(0.130モル)のジフェニルジエトキシシラン(分子量272.4)を反応フラスコに加え、そして温度を75℃に上げた。反応を5.5時間進行させ、その後、この混合物を室温まで冷却し、パイレックス(登録商標)に移し、そしてオーブン中で110℃で乾燥した。
第2の比較例を、15gのヒュームドアルミナ(Cabot Corporation(登録商標)SpectrAl(登録商標)81)を125mLのトルエン中に分散させることによって調製した。アルミナの分散の後に、0.02モルの4−メチルフェニルトリメトキシシランを加えた。分散混合物を110℃に加熱し、そしてこの温度に3時間保持した。次いで、この分散液を、室温まで冷却し、そして遠心分離して処理されたアルミナ粒子を回収した。
Claims (61)
- トナー粒子と、少なくとも1種の荷電変性剤で処理された金属酸化物粒子とを含んでなるトナー組成物であって、前記荷電変性剤が以下の、
An−Zc−Yb−Ar(EW)a
式中、Arは芳香族基を表し、EWは電子求引基を表し、Yはスペーサー基を表し、Zはアルキレン基を表し、Anはアンカー基を表し、aは1〜5の整数であり、bは0もしくは1であり、そしてcは0もしくは1である式、
によって表される、トナー組成物。 - 前記金属酸化物粒子が、シリカ、アルミナ、セリア、チタニア、またはそれらの混合物である、請求項1記載のトナー組成物。
- 前記金属酸化物粒子が、ヒュームド金属酸化物粒子、コヒュームド金属酸化物粒子、沈降金属酸化物粒子、またはコロイド状金属酸化物粒子である、請求項1記載のトナー組成物。
- EWが、−NO2、−CN、−COCH3、−SO3H、−SO2CH3、−F、または−(CF2)nCF3、ここで、nは0もしくは1〜10の整数である、請求項1記載のトナー組成物。
- 前記電子求引基が、メタまたはパラ位のいずれかの、少なくとも0.2のハメット定数を有する基である、請求項1記載のトナー組成物。
- Yが、−N(R)−、−N(R)C(O)−、−C(O)N(R)−、−OC(O)−、−C(O)O−、−O−、−S−、−CH=N−、−N=CH−、−N=N−、または−S(O)2−であり、ここでRは水素あるいは、置換もしくは非置換アリールまたはアルキル基を表す、請求項1記載のトナー組成物。
- Zが、(CH2)eであり、ここでeは1〜18の整数である、請求項1記載のトナー組成物。
- Anが、XdSiR(3−d)で表され、ここでXは同じかもしくは異なる加水分解性基またはシロキサン基を表し、Rは水素あるいは置換もしくは非置換アリールまたはアルキル基を表し、そしてdは1〜3の整数である、請求項1記載のトナー組成物。
- 前記荷電変性剤が、3−(2,4−ジニトロフェニルアミノ)プロピルトリエトキシシラン(DNPS)、3,5−ジニトロベンズアミド−n−プロピルトリエトキシシラン、3−(トリエトキシシリルプロピル)−p−ニトロベンズアミド(TESPNBA)、ペンタフルオロフェニルトリエトキシシラン(PFPTES)、および2−(4−クロロスルホニルフェニル)エチルトリメトキシシラン(CSPES)からなる群から選ばれる、請求項1記載のトナー組成物。
- 前記金属酸化物粒子が、疎水性付与剤でも処理される、請求項1記載のトナー組成物。
- 前記疎水性付与剤が、シラザン化合物、シロキサン化合物またはシラン化合物である、請求項10記載のトナー組成物。
- 前記疎水性付与剤が、ヘキサメチルジシラザン(HMDZ)、イソブチルトリメトキシシラン、またはオクチルトリメトキシシランである、請求項10記載のトナー組成物。
- 前記金属酸化物粒子がコロイド状シリカであり、疎水性付与剤がHMDZであり、そして荷電変性剤がDNPSである、請求項10記載のトナー組成物。
- 前記金属酸化物粒子が、下記の、
An−Zc−Yb−Ar(EW)a
式中、Arは芳香族基を表し、EWは電子求引基を表し、Yはスペーサー基を表し、Zはアルキレン基を表し、Anはアンカー基を表し、aは1〜5の整数であり、bは0もしくは1であり、そしてcは0もしくは1である式で表される第2の荷電変性剤で処理されている、請求項1記載のトナー組成物。 - 前記第2の荷電変性剤が、EWが−Fまたは−(CF2)nCF3であり、ここでnが0もしくは1〜10の整数であるように選ばれる、請求項14記載のトナー組成物。
- 前記荷電変性剤の、処理された金属酸化物粒子への添加水準が、0.1〜100μモル/m2の範囲である、請求項1記載のトナー組成物。
- 前記荷電変性剤の、処理された金属酸化物粒子への添加水準が、1〜5μモル/m2の範囲である、請求項1記載のトナー組成物。
- 少なくとも1種の荷電変性剤で処理された金属酸化物粒子を含む荷電変性金属酸化物粒子組成物であって、前記金属酸化物粒子が酸化アルミニウム、酸化チタン、アルミニウムチタン混合酸化物、またはこれらの粒子のいずれかの混合物であり、そして500nm未満の平均粒子径を有しており、ここで前記荷電変性剤が下記の、
An−Zc−Yb−Ar(EW)a
式中、Arは芳香族基を表し、EWは電子求引基を表し、Yはスペーサー基を表し、Zはアルキレン基を表し、Anはアンカー基を表し、aは1〜5の整数であり、bは0もしくは1であり、そしてcは0もしくは1である式で表される、粒子組成物。 - 前記金属酸化物粒子が、ヒュームド粒子、コヒュームド粒子、沈降粒子、またはコロイド状粒子である、請求項18記載の粒子組成物。
- EWが、−NO2、−CN、−COCH3、−SO3H、−SO2CH3、−F、または−(CF2)nCF3、ここで、nは0もしくは1〜10の整数である、請求項18記載の粒子組成物。
- Yが、−N(R)−、−N(R)C(O)−、−C(O)N(R)−、−OC(O)−、−C(O)O−、−O−、−S−、−CH=N−、−N=CH−、−N=N−、または−S(O)2−であり、ここでRは水素あるいは、置換もしくは非置換アリールまたはアルキル基を表す、請求項18記載の粒子組成物。
- 前記金属酸化物粒子が疎水性である、請求項18記載の粒子組成物。
- 前記荷電変性剤が、3−(2,4−ジニトロフェニルアミノ)プロピルトリエトキシシラン(DNPS)、3,5−ジニトロベンズアミド−n−プロピルトリエトキシシラン、3−(トリエトキシシリルプロピル)−p−ニトロベンズアミド(TESPNBA)、ペンタフルオロフェニルトリエトキシシラン(PFPTES)、および2−(4−クロロスルホニルフェニル)エチルトリメトキシシラン(CSPES)からなる群から選ばれる、請求項18記載の粒子組成物。
- EWが−NO2であり、そしてYが−NR−であり、ここでRが水素あるいは置換もしくは非置換アリールまたはアルキル基である、請求項18記載の粒子組成物。
- 少なくとも1種の荷電変性剤で処理された金属酸化物粒子を含む荷電変性金属酸化物粒子組成物であって、前記金属酸化物粒子が酸化ケイ素であり、そして500nm未満の平均粒子径を有しており、ここで前記荷電変性剤が下記の、
An−Zc−Yb−Ar(EW)a
式中、Arは芳香族基を表し、EWは電子求引基を表し、Yはスペーサー基を表し、Zはアルキレン基を表し、Anはアンカー基を表し、aは1〜5の整数であり、bは0もしくは1であり、そしてcは0もしくは1である式で表される、粒子組成物。 - 前記金属酸化物粒子が、ヒュームド粒子、コヒュームド粒子、沈降粒子、またはコロイド状粒子である、請求項25記載の粒子組成物。
- EWが、−NO2、−CN、−COCH3、−SO3H、−SO2CH3、−F、または−(CF2)nCF3、ここで、nは0もしくは1〜10の整数である、請求項25記載の粒子組成物。
- Yが、−N(R)−、−N(R)C(O)−、−C(O)N(R)−、−OC(O)−、−C(O)O−、−O−、−S−、−CH=N−、−N=CH−、−N=N−、または−S(O)2−であり、ここでRは水素あるいは、置換もしくは非置換アリールまたはアルキル基を表す、請求項25記載の粒子組成物。
- 前記金属酸化物粒子が疎水性である、請求項25記載の粒子組成物。
- 前記荷電変性剤が、3−(2,4−ジニトロフェニルアミノ)プロピルトリエトキシシラン(DNPS)、3,5−ジニトロベンズアミド−n−プロピルトリエトキシシラン、3−(トリエトキシシリルプロピル)−p−ニトロベンズアミド(TESPNBA)、ペンタフルオロフェニルトリエトキシシラン(PFPTES)、および2−(4−クロロスルホニルフェニル)エチルトリメトキシシラン(CSPES)からなる群から選ばれる、請求項25記載の粒子組成物。
- EWが−NO2であり、そしてYが−NR−であり、ここでRが水素あるいは置換もしくは非置換アリールまたはアルキル基である、請求項25記載の粒子組成物。
- 第1および第2の荷電変性剤で処理された金属酸化物粒子を含む荷電変性金属酸化物粒子組成物であって、前記荷電変性剤のそれぞれが独立して下記の、
An−Zc−Yb−Ar(EW)a
式中、Arは芳香族基を表し、EWは電子求引基を表し、Yはスペーサー基を表し、Zはアルキレン基を表し、Anはアンカー基を表し、aは1〜5の整数であり、bは0もしくは1であり、そしてcは0もしくは1である式で表される、粒子組成物。 - 前記金属酸化物粒子が疎水性である、請求項32記載の粒子組成物。
- 前記金属酸化物粒子が、シリカ、アルミナ、セリア、チタニア、またはこれらの混合物である、請求項32記載の粒子組成物。
- 前記金属酸化物粒子が、ヒュームド金属酸化物粒子、コヒュームド金属酸化物粒子、沈降金属酸化物粒子、またはコロイド状金属酸化物粒子である、請求項32記載の粒子組成物。
- EWが、−NO2、−CN、−COCH3、−SO3H、−SO2CH3、−F、または−(CF2)nCF3、ここで、nは0もしくは1〜10の整数である、請求項32記載の粒子組成物。
- Yが、−N(R)−、−N(R)C(O)−、−C(O)N(R)−、−OC(O)−、−C(O)O−、−O−、−S−、−CH=N−、−N=CH−、−N=N−、または−S(O)2−であり、ここでRは水素あるいは、置換もしくは非置換アリールまたはアルキル基を表す、請求項32記載の粒子組成物。
- 前記第1の荷電変性剤が、EWが、−Fまたは−(CF2)nCF3であり、ここでnが0もしくは1〜10の整数であるように選ばれる、請求項32記載の粒子組成物。
- 疎水性付与剤および荷電変性剤で処理された金属酸化物粒子を含む荷電変性金属酸化物粒子組成物であって、前記荷電変性剤が下記の、
An−Zc−Yb−Ar(EW)a
式中、Arは芳香族基を表し、EWは電子求引基を表し、Yはスペーサー基を表し、Zはアルキレン基を表し、Anはアンカー基を表し、aは1〜5の整数であり、bは0もしくは1であり、そしてcは0もしくは1である式で表される、粒子組成物。 - 前記金属酸化物粒子が、シリカ、アルミナ、セリア、チタニア、またはこれらの混合物である、請求項39記載の粒子組成物。
- 前記金属酸化物粒子が、ヒュームド金属酸化物粒子、コヒュームド金属酸化物粒子、沈降金属酸化物粒子、またはコロイド状金属酸化物粒子である、請求項39記載の粒子組成物。
- EWが、−NO2、−CN、−COCH3、−SO3H、−SO2CH3、−F、または−(CF2)nCF3、ここで、nは0もしくは1〜10の整数である、請求項39記載の粒子組成物。
- 前記電子求引基が、メタまたはパラ位のいずれかの、少なくとも0.2のハメット定数を有する基である、請求項39記載の粒子組成物。
- Yが、−NR−、−N(R)C(O)−、−OC(O)−、−O−、−S−、−CH=N−、−N=CH−、−N=N−、または−S(O)2−であり、ここでRは水素あるいは、置換もしくは非置換アリールまたはアルキル基を表す、請求項39記載の粒子組成物。
- 前記疎水性付与剤が、シラザン化合物、シロキサン化合物、またはシラン化合物である、請求項39記載の粒子組成物。
- 前記疎水性付与剤が、ヘキサメチルジシラザン(HMDZ)、イソブチルトリメトキシシラン、またはオクチルトリメトキシシランである、請求項39記載の粒子組成物。
- 前記荷電変性剤が、3−(2,4−ジニトロフェニルアミノ)プロピルトリエトキシシラン(DNPS)、3,5−ジニトロベンズアミド−n−プロピルトリエトキシシラン、3−(トリエトキシシリルプロピル)−p−ニトロベンズアミド(TESPNBA)、ペンタフルオロフェニルトリエトキシシラン(PFPTES)、および2−(4−クロロスルホニルフェニル)エチルトリメトキシシラン(CSPES)からなる群から選ばれる、請求項39記載の粒子組成物。
- 前記金属酸化物粒子がコロイド状シリカであり、疎水性付与剤がHMDZであり、そして荷電変性剤がDNPSである、請求項39記載の粒子組成物。
- 前記荷電変性剤の添加水準が、0.1〜100μモル/m2の範囲である、請求項39記載の粒子組成物。
- 前記荷電変性剤の添加水準が、1〜5μモル/m2の範囲である、請求項39記載の粒子組成物。
- 疎水性の荷電変性金属酸化物粒子組成物の調製方法であって、
金属酸化物粒子を準備する工程、
前記金属酸化物粒子を、疎水性付与剤と接触させる工程、
前記金属酸化物粒子を、荷電変性剤と接触させる工程、ならびに、
前記荷電変性金属酸化物粒子を回収する工程を含み、
ここで、前記荷電変性剤が下記の、
An−Zc−Yb−Ar(EW)a
式中、Arは芳香族基を表し、EWは電子求引基を表し、Yはスペーサー基を表し、Zはアルキレン基を表し、Anはアンカー基を表し、aは1〜5の整数であり、bは0もしくは1であり、そしてcは0もしくは1である式で表される、方法。 - 準備する工程が、粉末の形態の金属酸化物粒子を準備する工程を含み;
前記金属酸化物粒子を前記疎水性付与剤と接触させる工程が、前記疎水性付与剤を前記金属酸化物粒子と、流動床中で結合させる工程を含み;そして、
前記金属酸化物粒子を前記荷電変性剤と接触させる工程が、前記荷電変性剤を前記金属酸化物粒子と、流動床中で結合させる工程を含む、請求項51記載の方法。 - 前記金属酸化物粒子が、ヒュームド金属酸化物粒子または沈降金属酸化物粒子を含む、請求項52記載の方法。
- 準備する工程が、金属酸化物粒子の分散体を準備する工程を含み、そして回収する工程が、前記反応混合物を乾燥して、前記荷電変性金属酸化物粒子を得る工程を含む、請求項51記載の方法。
- 前記分散体が、水性分散体、非水性分散体、またはそれらの混合物である、請求項50記載の方法。
- 前記金属酸化物粒子を前記疎水性付与剤と接触させる工程が、前記疎水性付与剤を金属酸化物粒子の前記分散体と結合させて第1の反応混合物を得る工程を含み;
前記金属酸化物粒子を前記荷電変性剤と接触させる工程が、前記荷電変性剤を前記第1の反応混合物と結合させて第2の反応混合物を得る工程を含み;ならびに、
前記反応混合物を乾燥する工程が、前記第2の反応混合物を乾燥させて、前記荷電変性金属酸化物粒子を得る工程を含む、請求項50記載の方法。 - 前記金属酸化物粒子を前記荷電変性剤と接触させる工程が、前記荷電変性剤を金属酸化物粒子の前記分散体と接触させて、第1の反応混合物を得る工程を含み;
前記金属酸化物粒子を前記疎水性付与剤と接触させる工程が、前記疎水性付与剤を前記第1の反応混合物と結合させて、第2の反応混合物を得る工程を含み;ならびに、
前記反応混合物を乾燥する工程が、前記第2の反応混合物を乾燥させて、前記荷電変性金属酸化物粒子を得る工程を含む、請求項50記載の方法。 - 前記金属酸化物粒子を前記荷電変性剤と接触させる工程、および前記金属酸化物粒子を前記疎水性付与剤と接触させる工程が、実質的に同時に行なわれる、請求項50記載の方法。
- 前記疎水性付与剤が、下記の
An−Zc−Yb−Ar(EW)a
式中、Arは芳香族基を表し、EWは電子求引基を表し、Yはスペーサー基を表し、Zはアルキレン基を表し、Anはアンカー基を表し、aは1〜5の整数であり、bは0もしくは1であり、そしてcは0もしくは1である式で表される、請求項51記載の方法。 - 前記疎水性付与剤が、EWが、−Fまたは−(CF2)nCF3であり、ここでnが0もしくは1〜10の整数であるように選ばれる、請求項59記載の方法。
- 前記疎水性付与剤が、ヘキサメチルジシラザン、イソブチルトリメトキシシラン、またはオクチルトリメトキシシランであり;そして前記荷電変性剤が、3−(2,4−ジニトロフェニルアミノ)プロピルトリエトキシシラン(DNPS)、3,5−ジニトロベンズアミド−n−プロピルトリエトキシシラン、3−(トリエトキシシリルプロピル)−p−ニトロベンズアミド(TESPNBA)、ペンタフルオロフェニルトリエトキシシラン(PFPTES)、または2−(4−クロロスルホニルフェニル)エチルトリメトキシシラン(CSPES)である、請求項51記載の方法。
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