JP2011527372A5

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Info

Publication number: JP2011527372A5
Application number: JP2011517448A
Authority: JP
Filing date: 2009-06-15
Publication date: 2011-12-08
Anticipated expiration: 2029-06-15

Claims

両親媒性マルチブロックコポリマー組成物であって、
ｃ）少なくとも一つの親水性の中間ブロック；および
ｄ）疎水性末端ブロック；
を含む両親媒性コポリマーを含み、
ここで、前記マルチブロックコポリマーが水不溶性であり、ここで、少なくとも一つのブロックがプロファイルドブロックであり、ここで、前記親水性ブロックが部分的または全面的に中和されており、そしてここで、前記コポリマーが、飽和溶液に暴露させた最初の３０分間のあいだに、その最大吸収容量の５重量パーセントを超える吸収をする、
両親媒性マルチブロックコポリマー組成物。
前記コポリマーが、飽和溶液に暴露させた最初の３０分間のあいだに、その最大吸収容量の２０重量パーセントを超える吸収をする、請求項１に記載の両親媒性マルチブロックコポリマー組成物。
前記末端ブロックが、３０〜２００℃の範囲のＴｇを有する、請求項１又は２に記載の両親媒性マルチブロックコポリマー組成物。
５〜５０重量パーセントの希釈剤をさらに含む、請求項１〜３の何れか一項に記載の両親媒性マルチブロックコポリマー組成物。
前記希釈剤が親水性である、請求項４に記載の両親媒性マルチブロックコポリマー組成物。
前記希釈剤が、前記一つまたは複数の親水性ブロック、前記複数の疎水性ブロック、またはそれらの組合せのための可塑剤である、請求項４又は５に記載の両親媒性マルチブロックコポリマー組成物。
前記中和された親水性ブロックが、アンモニウム、ナトリウム、カリウム、リチウム、クロリド、またはホスホニウムの塩を含む、請求項１〜６の何れか一項に記載の両親媒性マルチブロックコポリマー組成物。
前記コポリマーが、制御されたラジカル重合プロセスによって形成される、請求項１〜７の何れか一項に記載の両親媒性マルチブロックコポリマー組成物。
前記制御されたラジカル重合プロセスが、ニトロキシド媒介重合プロセスである、請求項８に記載の両親媒性マルチブロックコポリマー組成物。
ブロックコポリマーがヒドロゲルである、請求項１〜９の何れか一項に記載の両親媒性マルチブロックコポリマー組成物。
高い水吸着速度を有する両親媒性マルチブロックコポリマー組成物を形成させるための方法であって、
ａ）少なくとも一つの親水性中間ブロックと、前記コポリマーのそれぞれの末端の上に少なくとも一つの疎水性ブロックと、を含む両親媒性マルチブロックコポリマーを形成させる工程；および
ｂ）塩基を添加することによって、前記両親媒性コポリマーを部分的または全面的に中和させる工程、
を含む、方法。
前記両親媒性コポリマーが、制御されたラジカル重合プロセスを使用して形成される、請求項１１に記載の方法。
前記塩基をすべて添加するより前に、希釈剤を混合する工程をさらに含む、請求項１１又は１２に記載の方法。
前記ポリマー組成物を加工する工程をさらに含む、請求項１３に記載の方法。
前記加工工程の途中または後に、前記コポリマーから前記希釈剤を除去する工程をさらに含む、請求項１４に記載の方法。