JP2011526937A - アリスキレン化合物の固形体 - Google Patents

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Abstract

本発明は、医薬的に許容し得るアリスキレン化合物の固体、及びそれらの調製プロセスに関する。本発明は更に、医薬的に許容し得るアリスキレン化合物の非晶質形又は結晶形を含有する医薬製剤、及びその製造方法、並びに高血圧を治療するためにレニンを阻害する方法を提供する。
【選択図】なし

Description

本願は、米国特許仮出願第61/150,196号に基づく利益を主張する。この米国仮出願の内容は本明細書に援用される。
本発明は、固体アリスキレン化合物の幾つかの形態、及びそれらを調製する方法に関する。
アリスキレンヘミフマル酸塩(Aliskiren hemifumarate)[CAS登録番号:173334−58−2]は、化学名(2S,4S,5S,7S)−N−(2−カルバモイル−2−メチルプロピル)−5−アミノ−4−ヒドロキシ−2,7−ジイソプロピル−8−[4−メトキシ−3−(3−メトキシプロポキシ)フェニル]オクタンアミドヘミフマル酸塩[C305336・0.5C444]であり、下記構造を有する。
Figure 2011526937
本化合物は高血圧治療に適応されており、レニン阻害剤として機能し、ノバルティスから1日1回投与製剤TEKTURN A(登録商標)として販売されている。アリスキレン及び関連化合物の合成については米国特許第5,559,111号を、アリスキレン及びその関連化合物の薬理作用、薬物動態、及び治療研究についてはLindsay, K.B. et al, J Org. Chem., Vol. 71, pp 4766-4777 (2006) 及び Drugs of the Future, Vol. 26, No. 12, pp 1139-1148 (2001)を参照されたい。
米国特許出願公開第2006/0154926号(US’926)は、アリスキレン塩酸塩の調製を開示する。アリスキレン塩酸塩からのアリスキレンヘミフマル酸塩の調製も、US’926に開示されている。
WO2007/107317は結晶形アリスキレン硫酸水素塩の調製を開示する。
WO2007/098503は結晶形アリスキレン硝酸塩の調製を開示する。
WO2008/055669は結晶形アリスキレンオロト酸塩の調製を開示する。
本発明は、アリスキレン化合物の固形体を開示する。
本発明は、医薬的に許容し得るアリスキレン化合物、すなわちアリスキレンヘミマレイン酸塩、アリスキレンモノマレイン酸塩、アリスキレンヘミコハク酸塩、アリスキレンヘミ酒石酸塩、アリスキレンモノ酒石酸塩、アリスキレンクエン酸塩、アリスキレンクエン酸水素塩、アリスキレンクエン酸二水素塩、アリスキレンヘミリンゴ酸塩、アリスキレンモノリンゴ酸塩、アリスキレンリン酸水素塩、アリスキレン硫酸水素塩、アリスキレンリン酸二水素塩、アリスキレン塩酸塩及びアリスキレン臭化水素酸塩の結晶形を提供する。
本発明は更に、医薬的に許容し得るアリスキレン化合物、すなわちアリスキレンヘミマレイン酸塩、アリスキレンモノマレイン酸塩、アリスキレンヘミコハク酸塩、アリスキレンヘミ酒石酸塩、アリスキレンモノ酒石酸塩、アリスキレンクエン酸塩、アリスキレンクエン酸水素塩、アリスキレンクエン酸二水素塩、アリスキレンヘミリンゴ酸塩、アリスキレンモノリンゴ酸塩、アリスキレンリン酸水素塩、アリスキレン硫酸水素塩、アリスキレンリン酸二水素塩、アリスキレン塩酸塩及びアリスキレン臭化水素酸塩の非晶形を提供する。
本発明の実施態様の固形体は、アリスキレン又はアリスキレン塩の公知の形態と比較して、少なくとも1つ以上の好ましい特性を有し得る。特に、本発明の固形体は、より高い結晶化度、溶解度、溶解速度、モルホロジー、多形転移の安定性、より低い吸湿性、貯蔵安定性、流動性などの改善された特徴、並びに圧縮率及び/又はかさ密度などの有利な加工及び取り扱い特性を有し得る。好ましくは、本発明の実施態様の固形体は、有利なモルホロジー、結晶化度、多形安定性、溶解度、圧縮率及びかさ密度及び/又は溶解速度を有する。
図1は、非晶質アリスキレンヘミマレイン酸塩のXRPDパターンを表す。 図2は、非晶質アリスキレンモノマレイン酸塩のXRPDパターンを表す。 図3は、非晶質アリスキレンヘミコハク酸塩のXRPDパターンを表す。 図4は、非晶質アリスキレンヘミ酒石酸塩のXRPDパターンを表す。 図5は、非晶質アリスキレンモノ酒石酸塩のXRPDパターンを表す。 図6は、非晶質アリスキレンクエン酸二水素塩のXRPDパターンを表す。 図7は、非晶質アリスキレンクエン酸水素塩のXRPDパターンを表す。 図8は、非晶質アリスキレンクエン酸塩のXRPDパターンを表す。 図9は、非晶質アリスキレンヘミリンゴ酸塩のXRPDパターンを表す。 図10は、非晶質アリスキレンモノリンゴ酸塩のXRPDパターンを表す。 図11は、非晶質アリスキレンリン酸水素塩のXRPDパターンを表す。 図12は、非晶質アリスキレンリン酸二水素塩のXRPDパターンを表す。 図13は、非晶質アリスキレン塩酸塩のXRPDパターンを表す。 図14は、非晶質アリスキレン臭化水素酸塩のXRPDパターンを表す。 図15は、アリスキレン塩酸塩の結晶形態C1のXRPDパターンを表す。 図16は、アリスキレン塩酸塩の結晶形態C2のXRPDパターンを表す。 図17は、アリスキレン塩酸塩の結晶形態C3のXRPDパターンを表す。 図18は、実施例8に従い得られたアリスキレンヘミコハク酸塩の結晶形態S1のXRPDパターンを表す。 図19は、実施例10に従い得られたアリスキレンヘミコハク酸塩の結晶形態S1のXRPDパターンを表す。 図20は、アリスキレンヘミコハク酸塩の結晶形態S2のXRPDパターンを表す。 図21は、実施例9に従い得られたアリスキレンヘミコハク酸塩の結晶形態S3のXRPDパターンを表す。 図22は、実施例11に従い得られたアリスキレンヘミコハク酸塩の結晶形態S3のXRPDパターンを表す。 図23は、アリスキレンヘミコハク酸塩の結晶形態S4のXRPDパターンを表す。 図24は、アリスキレン硝酸塩の結晶形態N1のXRPDパターンを表す。 図25は、アリスキレンヘミマレイン酸塩の結晶形態M1のXRPDパターンを表す。 図26は、アリスキレンクエン酸水素塩の結晶形態I1のXRPDパターンを表す。 図27は、アリスキレンヘミコハク酸塩の結晶形態S2のXRPDパターンを表す。
本明細書において使用される「室温」とは、約15℃〜約30℃の温度をいう。
一実施態様において、本発明は、固形物アリスキレンヘミマレイン酸塩を提供する。
本明細書において使用されるアリスキレンヘミマレイン酸塩とは、アリスキレン塩基のマレイン酸に対するモル比それぞれ約2:1を有する、アリスキレン塩基及びマレイン酸で構成された化合物をいう。
別の実施態様において、本発明は、非晶質アリスキレンヘミマレイン酸塩を提供する。この非晶質アリスキレンヘミマレイン酸塩は、図1に示されたXRPDパターンにより特徴づけることができる。典型的には、非晶質アリスキレンヘミマレイン酸塩は、結晶形アリスキレンヘミマレイン酸塩を約5%未満、約3%未満、又は約1%未満含有し得る。
非晶質アリスキレンヘミマレイン酸塩は、C1−C2アルコール中のアリスキレン塩基及びマレイン酸の溶液を提供すること、及び更にこのアルコールを除去することを含むプロセスにより調製されてよい。このアルコールは、例えば、約20〜60℃、約30〜50℃、例えば約40℃などの温度での蒸発により除去し得る。
好ましくは、マレイン酸は、アリスキレン塩基のマレイン酸に対するモル比それぞれ約2:1で使用される。
好ましくは、本プロセスの任意の実施態様において、アリスキレン塩基は、アルコール1mlにつき約20mg〜約100mg、例えば約100mgの量で使用される。本プロセスに加え他のプロセスにおいて使用される出発アリスキレン塩基は、例えば、米国特許第6,730,798号又は米国特許第5,559,111号に開示された手順に従い、調製することができる。
この溶液は、約15℃〜約60℃、例えばほぼ室温などの温度で、約5分間〜約1時間維持することができる。
得られた生成物は、好ましくは乾燥される。乾燥は好ましくは、約100mmHg未満の圧力を含む、1atm未満の圧力(減圧)下で実行される。乾燥は、減圧又は非減圧下で約40℃〜約80℃、約40℃〜約60℃、約40℃〜約50℃、例えば約40℃で加熱することにより実施できる。得られた沈殿は、約16時間〜約72時間、約16時間〜約48時間、又は約16時間〜約24時間乾燥してもよい。
一実施態様において、本発明は、固形物アリスキレンモノマレイン酸塩を提供する。
本明細書に使用されるアリスキレンモノマレイン酸塩とは、アリスキレン塩基のマレイン酸に対するモル比それぞれ約1:1を有する、アリスキレン塩基及びマレイン酸で構成された化合物をいう。
別の実施態様において、本発明は、非晶質アリスキレンモノマレイン酸塩を提供する。この非晶質アリスキレンモノマレイン酸塩は、図2に示されたXRPDパターンにより特徴づけることができる。典型的には、非晶質アリスキレンモノマレイン酸塩は、結晶形アリスキレンモノマレイン酸塩を約5%未満、約3%未満、又は約1%未満含有し得る。
非晶質アリスキレンモノマレイン酸塩は、C1−C2アルコール中のアリスキレン塩基及びマレイン酸の溶液を提供すること、及び更にこのアルコールを除去することを含むプロセスにより調製されてよい。
好ましくは、本プロセスの任意の実施態様において、アリスキレン塩基は、アルコール1mlにつき約20mg〜約100mg、例えば約100mgの量で使用される。
この溶液は、約15℃〜約60℃、例えばほぼ室温などの温度で、約5分間〜約1時間維持することができる。
得られた生成物は、好ましくは乾燥される。乾燥は好ましくは、約100mmHg未満の圧力を含む、1atm未満の圧力(減圧)下で実行される。乾燥は、減圧又は非減圧下で約40℃〜約80℃、約40℃〜約60℃、約40℃〜約50℃、例えば約40℃で加熱することにより実施できる。得られた沈殿は、約16時間〜約72時間、約16時間〜約48時間、又は約16時間〜約24時間乾燥してもよい。
好ましくは、マレイン酸は、アリスキレン塩基のマレイン酸に対するモル比約1:1で使用される。
一実施態様において、本発明は、固形物アリスキレンヘミコハク酸塩を提供する。
本明細書において使用されるアリスキレンヘミコハク酸塩とは、アリスキレン塩基のコハク酸に対するモル比それぞれ約2:1を有する、アリスキレン塩基及びコハク酸で構成された化合物をいう。
別の実施態様において、本発明は、非晶質アリスキレンヘミコハク酸塩を提供する。この非晶質アリスキレンヘミコハク酸塩は、図3に示されたXRPDパターンにより特徴づけることができる。典型的には、非晶質アリスキレンヘミコハク酸塩は、結晶形アリスキレンヘミコハク酸塩を約5%未満、約3%未満、又は約1%未満含有し得る。
非晶質アリスキレンヘミコハク酸塩は、C1−C2アルコール中のアリスキレン塩基及びコハク酸の溶液を提供すること、及び更にこのアルコールを除去することを含むプロセスにより調製されてよい。
好ましくは、コハク酸は、アリスキレン塩基のコハク酸に対するモル比それぞれ約2:1で使用される。
好ましくは、本プロセスの任意の実施態様において、アリスキレン塩基は、アルコール1mlにつき約20mg〜約100mg、例えば約100mgの量で使用される。
この溶液は、約15℃〜約60℃、例えばほぼ室温などの温度で、約5分間〜約1時間維持することができる。
得られた生成物は、好ましくは乾燥される。乾燥は好ましくは、約100mmHg未満の圧力を含む、1atm未満の圧力(減圧)下で実行される。乾燥は、減圧又は非減圧下で約40℃〜約80℃、約40℃〜約60℃、約40℃〜約50℃、例えば約40℃で加熱することにより実施できる。得られた沈殿は、約16時間〜約72時間、約16時間〜約48時間、又は約16時間〜約24時間乾燥してもよい。
一実施態様において、本発明は、固形物アリスキレンヘミ酒石酸塩を提供する。
本明細書において使用されるアリスキレンヘミ酒石酸塩とは、アリスキレン塩基の酒石酸に対するモル比それぞれ約2:1を有する、アリスキレン塩基及び酒石酸で構成された化合物をいう。
別の実施態様において、本発明は、非晶質アリスキレンヘミ酒石酸塩を提供する。この非晶質アリスキレンヘミ酒石酸塩は、図4に示されたXRPDパターンにより特徴づけることができる。典型的には、非晶質アリスキレンヘミ酒石酸塩は、結晶形アリスキレンヘミ酒石酸塩を約5%未満、約3%未満、又は約1%未満含有し得る。
非晶質アリスキレンヘミ酒石酸塩は、C1−C2アルコール中のアリスキレン塩基及び酒石酸の溶液を提供すること、及び更にこのアルコールを除去することを含むプロセスにより調製されてよい。
好ましくは、酒石酸は、アリスキレン塩基の酒石酸に対するモル比それぞれ約2:1で使用される。
好ましくは、本プロセスの任意の実施態様において、アリスキレン塩基は、アルコール1mlにつき約20mg〜約100mg、例えば約100mgの量で使用される。
この溶液は、約15℃〜約60℃、例えばほぼ室温などの温度で、約5分間〜約1時間維持することができる。
得られた生成物は、好ましくは乾燥される。乾燥は好ましくは、約100mmHg未満の圧力を含む、1atm未満の圧力(減圧)下で実行される。乾燥は、減圧又は非減圧下で約40℃〜約80℃、約40℃〜約60℃、約40℃〜約50℃、例えば約40℃で加熱することにより実施できる。得られた沈殿は、約16時間〜約72時間、約16時間〜約48時間、又は約16時間〜約24時間乾燥してもよい。
一実施態様において、本発明は、固形物アリスキレンモノ酒石酸塩を提供する。
本明細書において使用されるアリスキレンモノ酒石酸塩とは、アリスキレン塩基の酒石酸に対するモル比約1:1を有する、アリスキレン塩基及び酒石酸で構成された化合物をいう。
別の実施態様において、本発明は、非晶質アリスキレンモノ酒石酸塩を提供する。この非晶質アリスキレンモノ酒石酸塩は、図5に示されたXRPDパターンにより特徴づけることができる。典型的には、非晶質アリスキレンモノ酒石酸塩は、結晶形アリスキレンモノ酒石酸塩を約5%未満、約3%未満、又は約1%未満含有し得る。
非晶質アリスキレンモノ酒石酸塩は、C1−C2アルコール中のアリスキレン塩基及び酒石酸の溶液を提供すること、及び更にこのアルコールを除去することを含むプロセスにより調製されてよい。
好ましくは、酒石酸は、アリスキレン塩基の酒石酸に対するモル比約1:1で使用される。
好ましくは、本プロセスの任意の実施態様において、アリスキレン塩基は、アルコール1mlにつき約20mg〜約100mg、例えば約100mgの量で使用される。
この溶液は、約15℃〜約60℃、例えばほぼ室温などの温度で、約5分間〜約1時間維持することができる。
得られた生成物は、好ましくは乾燥される。乾燥は好ましくは、約100mmHg未満の圧力を含む、1atm未満の圧力(減圧)下で実行される。乾燥は、減圧又は非減圧下で約40℃〜約80℃、約40℃〜約60℃、約40℃〜約50℃、例えば約40℃で加熱することにより実施できる。得られた沈殿は、約16時間〜約72時間、約16時間〜約48時間、又は約16時間〜約24時間乾燥してもよい。
一実施態様において、本発明は、固形物アリスキレンクエン酸二水素塩を提供する。
本明細書において使用されるアリスキレンクエン酸二水素塩とは、アリスキレン塩基のクエン酸に対するモル比約1:1を有する、アリスキレン塩基及びクエン酸で構成された化合物をいう。
別の実施態様において、本発明は、非晶質アリスキレンクエン酸二水素塩を提供する。この非晶質アリスキレンクエン酸二水素塩は、図6に示されたXRPDパターンにより特徴づけることができる。典型的には、非晶質アリスキレンクエン酸二水素塩は、結晶形アリスキレンクエン酸二水素塩を約5%未満、約3%未満、又は約1%未満含有し得る。
非晶質アリスキレンクエン酸二水素塩は、C1−C2アルコール中のアリスキレン塩基及びクエン酸の溶液を提供すること、及び更にこのアルコールを除去することを含むプロセスにより調製されてよい。
好ましくは、クエン酸は、アリスキレン塩基のクエン酸に対するモル比約1:1で使用される。
好ましくは、本プロセスの任意の実施態様において、アリスキレン塩基は、アルコール1mlにつき約20mg〜約100mg、例えば約100mgの量で使用される。
この溶液は、約15℃〜約60℃、例えばほぼ室温などの温度で、約5分間〜約1時間維持することができる。
得られた生成物は、好ましくは乾燥される。乾燥は好ましくは、約100mmHg未満の圧力を含む、1atm未満の圧力(減圧)下で実行される。乾燥は、減圧又は非減圧下で約40℃〜約80℃、約40℃〜約60℃、約40℃〜約50℃、例えば約40℃で加熱することにより実施できる。得られた沈殿は、約16時間〜約72時間、約16時間〜約48時間、又は約16時間〜約24時間乾燥してもよい。
一実施態様において、本発明は、固形物アリスキレンクエン酸水素塩を提供する。
本明細書において使用されるアリスキレンクエン酸水素塩とは、アリスキレン塩基のクエン酸に対するモル比それぞれ約1:2/3を有する、アリスキレン及びクエン酸で構成された化合物をいう。
別の実施態様において、本発明は、非晶質アリスキレンクエン酸水素塩を提供する。この非晶質アリスキレンクエン酸水素塩は、図7に示されたXRPDパターンにより特徴づけることができる。典型的には、非晶質アリスキレンクエン酸水素塩は、結晶形アリスキレンクエン酸水素塩を約5%未満、約3%未満、又は約1%未満含有し得る。
非晶質アリスキレンクエン酸水素塩は、C1−C2アルコール中のアリスキレン塩基及びクエン酸の溶液を提供すること、及び更にこのアルコールを除去することを含むプロセスにより調製されてよい。.
好ましくは、クエン酸は、アリスキレン塩基のクエン酸に対するモル比それぞれ約1:2/3で使用される。
好ましくは、本プロセスの任意の実施態様において、アリスキレン塩基は、アルコール1mlにつき約20mg〜約100mg、例えば約100mgの量で使用される。
この溶液は、約15℃〜約60℃、例えばほぼ室温などの温度で、約5分間〜約1時間維持することができる。
得られた生成物は、好ましくは乾燥される。乾燥は好ましくは、約100mmHg未満の圧力を含む、1atm未満の圧力(減圧)下で実行される。乾燥は、減圧又は非減圧下で約40℃〜約80℃、約40℃〜約60℃、約40℃〜約50℃、例えば約40℃で加熱することにより実施できる。得られた沈殿は、約16時間〜約72時間、約16時間〜約48時間、又は約16時間〜約24時間乾燥してもよい。
本明細書において使用されるアリスキレンクエン酸塩とは、アリスキレン塩基のクエン酸に対するモル比それぞれ約1:1/3を有する、アリスキレン及びクエン酸で構成された化合物をいう。
別の実施態様において、本発明は、非晶質アリスキレンクエン酸塩を提供する。この非晶質アリスキレンクエン酸塩は、図8に示されたXRPDパターンにより特徴づけることができる。典型的には、非晶質アリスキレンクエン酸塩は、結晶形アリスキレンクエン酸塩を約5%未満、約3%未満、又は約1%未満含有し得る。
非晶質アリスキレンクエン酸塩は、C1−C2アルコール中のアリスキレン塩基及びクエン酸の溶液を提供すること、及び更にこのアルコールを除去することを含むプロセスにより調製されてよい。
好ましくは、クエン酸は、アリスキレン塩基のクエン酸に対するモル比それぞれ約1:1/3で使用される。
好ましくは、本プロセスの任意の実施態様において、アリスキレン塩基は、アルコール1mlにつき約20mg〜約100mg、例えば約100mgの量で使用される。
この溶液は、約15℃〜約60℃、例えばほぼ室温などの温度で、約5分間〜約1時間維持することができる。
得られた生成物は、好ましくは乾燥される。乾燥は好ましくは、約100mmHg未満の圧力を含む、1atm未満の圧力(減圧)下で実行される。乾燥は、減圧又は非減圧下で約40℃〜約80℃、約40℃〜約60℃、約40℃〜約50℃、例えば約40℃で加熱することにより実施できる。得られた沈殿は、約16時間〜約72時間、約16時間〜約48時間、又は約16時間〜約24時間乾燥してもよい。
一実施態様において、本発明は、固形物アリスキレンヘミリンゴ酸塩を提供する。
本明細書において使用されるアリスキレンヘミリンゴ酸塩とは、アリスキレン塩基のリンゴ酸に対するモル比それぞれ約2:1を有する、アリスキレン及びリンゴ酸で構成された化合物をいう。
別の実施態様において、本発明は、非晶質アリスキレンヘミリンゴ酸塩を提供する。この非晶質アリスキレンヘミリンゴ酸塩は、図9に示されたXRPDパターンにより特徴づけることができる。典型的には、非晶質アリスキレンヘミリンゴ酸塩は、結晶形アリスキレンヘミリンゴ酸塩を約5%未満、約3%未満、又は約1%未満含有し得る。
非晶質アリスキレンヘミリンゴ酸塩は、C1−C2アルコール中のアリスキレン塩基及びリンゴ酸の溶液を提供すること、及び更にこのアルコールを除去することを含むプロセスにより調製されてよい。
好ましくは、リンゴ酸は、アリスキレン塩基のリンゴ酸に対するモル比それぞれ約2:1で使用される。
好ましくは、本プロセスの任意の実施態様において、アリスキレン塩基は、アルコール1mlにつき約20mg〜約100mg、例えば約100mgの量で使用される。
この溶液は、約15℃〜約60℃、例えばほぼ室温などの温度で、約5分間〜約1時間維持することができる。
得られた生成物は、好ましくは乾燥される。乾燥は好ましくは、約100mmHg未満の圧力を含む、1atm未満の圧力(減圧)下で実行される。乾燥は、減圧又は非減圧下で約40℃〜約80℃、約40℃〜約60℃、約40℃〜約50℃、例えば約40℃で加熱することにより実施できる。得られた沈殿は、約16時間〜約72時間、約16時間〜約48時間、又は約16時間〜約24時間乾燥してもよい。
一実施態様において、本発明は、固形物アリスキレンモノリンゴ酸塩を提供する。
本明細書において使用されるアリスキレンモノリンゴ酸塩とは、アリスキレン塩基:リンゴ酸のモル比約1:1を有する、アリスキレン及びリンゴ酸で構成された化合物をいう。
別の実施態様において、本発明は、非晶質アリスキレンモノリンゴ酸塩を提供する。この非晶質アリスキレンモノリンゴ酸塩は、図10に示されたXRPDパターンにより特徴づけることができる。典型的には、非晶質アリスキレンモノリンゴ酸塩は、結晶形アリスキレンモノリンゴ酸塩を約5%未満、約3%未満、又は約1%未満含有し得る。
非晶質アリスキレンモノリンゴ酸塩は、C1−C2アルコール中のアリスキレン塩基及びリンゴ酸の溶液を提供すること、及び更にこのアルコールを除去することを含むプロセスにより調製されてよい。
好ましくは、リンゴ酸は、アリスキレン塩基のリンゴ酸に対するモル比約1:1で使用される。
好ましくは、本プロセスの任意の実施態様において、アリスキレン塩基は、アルコール1mlにつき約20mg〜約100mg、例えば約100mgの量で使用される。
この溶液は、約15℃〜約60℃、例えばほぼ室温などの温度で、約5分間〜約1時間維持することができる。
得られた生成物は、好ましくは乾燥される。乾燥は好ましくは、約100mmHg未満の圧力を含む、1atm未満の圧力(減圧)下で実行される。乾燥は、減圧又は非減圧下で約40℃〜約80℃、約40℃〜約60℃、約40℃〜約50℃、例えば約40℃で加熱することにより実施できる。得られた沈殿は、約16時間〜約72時間、約16時間〜約48時間、又は約16時間〜約24時間乾燥してもよい。
一実施態様において、本発明は、固形物アリスキレンリン酸水素塩を提供する。
本明細書において使用されるアリスキレンリン酸水素塩とは、アリスキレン塩基のオルト−リン酸に対するモル比それぞれ約1:2/3を有する、アリスキレン及びオルト−リン酸で構成された化合物をいう。
別の実施態様において、本発明は、非晶質アリスキレンリン酸水素塩を提供する。この非晶質アリスキレンリン酸水素塩は、図11に示されたXRPDパターンにより特徴づけることができる。典型的には、非晶質アリスキレンリン酸水素塩は、結晶形アリスキレンリン酸水素塩を約5%未満、約3%未満、又は約1%未満含有し得る。
非晶質アリスキレンリン酸水素塩は、C1−C2アルコール中のアリスキレン塩基及びオルト−リン酸の溶液を提供すること、及び更にこのアルコールを除去することを含むプロセスにより調製されてよい。
好ましくは、オルト−リン酸は、アリスキレン塩基のオルト−リン酸に対するモル比それぞれ約1:2/3で使用される。
好ましくは、本プロセスの任意の実施態様において、アリスキレン塩基は、アルコール1mlにつき約20mg〜約100mg、例えば約100mgの量で使用される。
この溶液は、約15℃〜約60℃、例えばほぼ室温などの温度で、約5分間〜約1時間維持することができる。
得られた生成物は、好ましくは乾燥される。乾燥は好ましくは、約100mmHg未満の圧力を含む、1atm未満の圧力(減圧)下で実行される。乾燥は、減圧又は非減圧下で約40℃〜約80℃、約40℃〜約60℃、約40℃〜約50℃、例えば約40℃で加熱することにより実施できる。得られた沈殿は、約16時間〜約72時間、約16時間〜約48時間、又は約16時間〜約24時間乾燥してもよい。
一実施態様において、本発明は、固形物アリスキレンリン酸二水素塩を提供する。
本明細書において使用されるアリスキレンリン酸二水素塩とは、アリスキレン塩基のオルト−リン酸に対するモル比約1:1を有する、アリスキレン及びオルト−リン酸で構成された化合物をいう。
別の実施態様において、本発明は、非晶質アリスキレンリン酸二水素塩を提供する。この非晶質アリスキレンリン酸二水素塩は、図12に示されたXRPDパターンにより特徴づけることができる。典型的には、非晶質アリスキレンリン酸二水素塩は、結晶形アリスキレンリン酸二水素塩を約5%未満、約3%未満の結晶化度、又は約1%未満含有し得る。
非晶質アリスキレンリン酸二水素塩は、C1−C2アルコール中のアリスキレン塩基及びオルト−リン酸の溶液を提供すること、及び更にこのアルコールを除去することを含むプロセスにより調製されてよい。
好ましくは、オルト−リン酸は、アリスキレン塩基のオルト−リン酸に対するモル比約1:1で使用される。
好ましくは、本プロセスの任意の実施態様において、アリスキレン塩基は、アルコール1mlにつき約20mg〜約100mg、例えば約100mgの量で使用される。
この溶液は、約15℃〜約60℃、例えばほぼ室温などの温度で、約5分間〜約1時間維持することができる。
得られた生成物は、好ましくは乾燥される。乾燥は好ましくは、約100mmHg未満の圧力を含む、1atm未満の圧力(減圧)下で実行される。乾燥は、減圧又は非減圧下で約40℃〜約80℃、約40℃〜約60℃、約40℃〜約50℃、例えば約40℃で加熱することにより実施できる。得られた沈殿は、約16時間〜約72時間、約16時間〜約48時間、又は約16時間〜約24時間乾燥してもよい。
本明細書において使用されるアリスキレン塩酸塩とは、アリスキレン塩基の塩化水素に対するモル比約1:1を有する、アリスキレン及び塩化水素で構成された化合物をいう。
更に別の実施態様において、本発明は、非晶質アリスキレン塩酸塩を提供する。この非晶質アリスキレン塩酸塩は、図13に示されたXRPDパターンにより特徴づけることができる。典型的には、非晶質アリスキレン塩酸塩は、結晶形アリスキレン塩酸塩を約5%未満、約3%未満の結晶化度、又は約1%未満含有し得る。
非晶質アリスキレン塩酸塩は、C1−C2アルコール中のアリスキレン塩基及び塩酸の溶液を提供すること、及び更にこのアルコールを除去することを含むプロセスにより調製されてよい。
好ましくは、塩酸は、アリスキレン塩基の塩化水素に対するモル比約1:1で使用される。
好ましくは、本プロセスの任意の実施態様において、アリスキレン塩基は、アルコール1mlにつき約20mg〜約100mg、例えば約100mgの量で使用される。
この溶液は、約15℃〜約60℃、例えばほぼ室温などの温度で、約5分間〜約1時間維持することができる。
得られた生成物は、好ましくは乾燥される。乾燥は好ましくは、約100mmHg未満の圧力を含む、1atm未満の圧力(減圧)下で実行される。乾燥は、減圧又は非減圧下で約40℃〜約80℃、約40℃〜約60℃、約40℃〜約50℃、例えば約40℃で加熱することにより実施できる。得られた沈殿は、約16時間〜約72時間、約16時間〜約48時間、又は約16時間〜約24時間乾燥してもよい。
一実施態様において、本発明は、固形物アリスキレン臭化水素酸塩を提供する。
本明細書において使用されるアリスキレン臭化水素酸塩とは、アリスキレン塩基の臭化水素に対するモル比約1:1を有する、アリスキレン及び臭化水素酸で構成された化合物をいう。
更に別の実施態様において、本発明は、非晶質アリスキレン臭化水素酸塩を提供する。この非晶質アリスキレン臭化水素酸塩は、図14に示されたXRPDパターンにより特徴づけることができる。典型的には、非晶質アリスキレン臭化水素酸塩は、結晶形アリスキレン臭化水素酸塩を約5%未満、約3%未満、又は約1%未満含有し得る。
非晶質アリスキレン臭化水素酸塩は、C1−C2アルコール中のアリスキレン塩基及び臭化水素の溶液を提供すること、及び更にこのアルコールを除去することを含むプロセスにより調製されてよい。
好ましくは、臭化水素は、アリスキレン塩基の臭化水素に対するモル比約1:1で使用される。
好ましくは、本プロセスの任意の実施態様において、アリスキレン塩基は、アルコール1mlにつき約20mg〜約100mg、例えば約100mgの量で使用される。
この溶液は、約15℃〜約60℃、例えばほぼ室温などの温度で、約5分間〜約1時間維持することができる。
得られた生成物は、好ましくは乾燥される。乾燥は好ましくは、約100mmHg未満の圧力を含む、1atm未満の圧力(減圧)下で実行される。乾燥は、減圧又は非減圧下で約40℃〜約80℃、約40℃〜約60℃、約40℃〜約50℃、例えば約40℃で加熱することにより実施できる。得られた沈殿は、約16時間〜約72時間、約16時間〜約48時間、又は約16時間〜約24時間乾燥してもよい。
好ましくは、先に説明されたプロセスのいずれかで使用される任意の酸は、C1−C2アルコール中に溶解されると同時に、この反応に導入される。従ってHCl及びHBrは、このアルコール中のHCl/HBrの気溶体(gaseous solution)の形で使用されることが好ましい。
一実施態様において、本発明は、C1と命名された、約5.3、14.1、18.7、21.2及び22.2±0.2度2θにピークを有するXRPDパターン;図15に示すXRPDパターン;及び、それらの組合せからなる群から選択されるデータにより特徴づけられる、アリスキレン塩酸塩の結晶形を提供する。
形態C1は更に、追加のピーク約5.7、10.1、10.9、15.2及び19.1±0.2度2θのピークを含むXRPDパターンにより特徴づけることができる。
アリスキレン塩酸塩C1は、酢酸イソブチル中のアリスキレン塩酸塩のスラリー又は溶液を提供すること、及び結晶物質をそれらのいずれかから回収することを含むプロセスにより調製されることができ;ここでスラリーが提供される場合は、出発アリスキレン塩酸塩は非晶形である。
好ましくは、本プロセスの任意の実施態様において、アリスキレン塩基は、アルコール1mlにつき約20mg〜約100mg、より好ましくは約100mgの量で使用される。
前記スラリー又は溶液は、結晶物質の回収の前に、例えば約24時間〜約72時間、好ましくはほぼ室温で維持される。結晶物質の回収は、溶液からの沈殿、それに続く濾過、又はスラリーからの濾過を含むことができる。沈殿は、例えば冷却することにより誘導され得る。
別の実施態様において、本発明は、C2と命名された、約5.4、11.9、14.5、16.1及び21.6±0.2度2θにピークを有するXRPDパターン;図16に示すXRPDパターン;及び、それらの組合せからなる群から選択されるデータにより特徴づけられる、アリスキレン塩酸塩を提供する。
形態C2は更に、追加のピーク約5.6、10.2、14.8、18.5及び19.2±0.2度2θのピークを含むXRPDパターンにより特徴づけることができる。
アリスキレン塩酸塩C2は、トルエン、炭酸ジメチル、及びクロロベンゼンからなる群から選択される溶媒中のアリスキレン塩酸塩のスラリー又は溶液を提供すること、及び結晶物質をそれらのいずれかから回収することを含むプロセスにより調製されることができ;ここでスラリーが提供される場合は、出発アリスキレン塩酸塩は非晶質である。
得られたアリスキレン塩酸塩形態C2は、例えば、約16時間〜約72時間、約16時間〜約48時間、約16時間〜約24時間更に乾燥してもよい。乾燥は、真空下で、約40℃〜約50℃で実施できる。
このアリスキレン塩基は、アルコール1mlにつき約20mg〜約100mg、例えば約100mgの量で使用することができる。
このスラリー又は溶液は、約24時間〜約72時間、好ましくはほぼ室温で維持することができる。
アリスキレン塩酸塩C2は、クロロベンゼン中のアリスキレン塩酸塩のスラリー又は溶液を提供すること、更にこの溶液を攪拌し懸濁液を得ること、及びこの溶媒を除去し、結晶形アリスキレン塩酸塩C2を得ることを含むプロセスにより調製されることができ;ここでスラリーが提供される場合は、出発アリスキレン塩酸塩は非晶質である。
攪拌は、約1日〜約3日の期間実行されるか、又は溶液が提供される場合、懸濁液が得られるまで実行される。
一実施態様において、本発明は、C3と命名された、約4.9、6.3、7.5、9.6及び17.2±0.2度2θにピークを有するXRPDパターン;図17に示すXRPDパターン;及び、それらの組合せからなる群から選択されるデータにより特徴づけられる、アリスキレン塩酸塩を提供する。
形態C3は更に、追加のピーク約5.7、14.4、15.4、20.4及び21.9±0.2度2θにより特徴づけることができる。
アリスキレン塩酸塩C3は、アリスキレン塩酸塩C1を乾燥することを含むプロセスにより調製することができる。
乾燥は、約100mmHg未満の圧力を含む、1atm未満の圧力(減圧)下で実行され得る。乾燥は、減圧又は非減圧下で約30℃〜約80℃、約30℃〜約60℃、約40℃〜約50℃、例えば約40℃で加熱することにより実施できる。得られた沈殿は、約16時間〜約72時間、約16時間〜約48時間、又は約16時間〜約24時間乾燥してもよい。
一実施態様において、本発明は、S1と命名された、約3.7、6.7、7.3及び8.5±0.2度2θにピークを有するXRPDパターン;図18に示すXRPDパターン;及び、それらの組合せからなる群から選択されるデータにより特徴づけられる、アリスキレンヘミコハク酸塩を提供する。
形態S1は更に、追加のピーク約8.0、10.0、13.4及び22.6±0.2度2θにより特徴づけることができる。
別の実施態様において、形態S1は、約8.4、9.9、18.2、20.0及び22.6±0.3度2θにピークを有するXRPDパターンにより特徴づけられる。
別の実施態様において、形態S1は、約6.1、7.2、8.4、9.9、12.2、15.2、18.2、20.0、21.2及び22.6±0.3度2θのピークを含むXRPDパターンにより特徴づけられる。
アリスキレンヘミコハク酸塩形態S1は典型的には、先行技術の形と比べ、特に公知のアリスキレンヘミフマル酸塩形と比べ、より高い結晶化度、溶解度、溶解速度、モルホロジー、多形転移の安定性、より低い吸湿性、貯蔵安定性、流動性などの1つ以上の改善された特徴、並びに圧縮率及び/又はかさ密度などの有利な加工及び取り扱い特性を有する。アリスキレンヘミコハク酸塩形態S1は好ましくは、公知のアリスキレン塩形と比べ(特に公知のアリスキレンヘミフマル酸塩形と比べ)、有利な結晶化度又は溶解度を有する。特にアリスキレンヘミコハク酸形態S1は、容易な取り扱い及び加工を可能にする晶癖を有し、従って容易に圧縮し得る。
形態S1は、炭酸ジメチル及び炭酸ジエチルからなる群から選択される溶媒中のアリスキレンヘミコハク酸塩の溶液を提供すること、更にこの溶液を攪拌し、懸濁液を得ること、及び結晶物質を回収することを含むプロセスにより調製することができる。
このアリスキレンヘミコハク酸塩は、溶媒1mlにつき約20mg〜約100mg、例えば約100mgの量で使用することができる。
得られた溶液は、好ましくはほぼ室温で、約24時間〜約72時間、例えば約30時間維持することができる。
一実施態様において、本発明は、S2と命名された、約4.6、5.9、7.1、9.3及び10.9±0.2度2θにピークを有するXRPDパターン;図27に示すXRPDパターン;及び、それらの組合せからなる群から選択されるデータにより特徴づけられる、アリスキレンヘミコハク酸塩を提供する。
形態S2は更に、追加のピーク約17.1、18.7、19.4及び20.1±0.2度2θにより特徴づけることができる。
別の実施態様において、形態S2は、約7.2、9.5、10.9、14.2及び16.6±0.3度2θのXRPDパターンにより特徴づけられる。
別の実施態様において、形態S2は、約4.7、6.0、7.2、8.5、9.5、10.9、14.2、15.0、16.6及び17.1±0.3度2θのXRPDパターンにより特徴づけられる。
アリスキレンヘミコハク酸塩の形態S2は典型的には、先行技術の形と比べ、特に公知のアリスキレンヘミフマル酸塩形と比べ、より高い結晶化度、溶解度、溶解速度、モルホロジー、多形転移の安定性、より低い吸湿性、貯蔵安定性、流動性などの1つ以上の改善された特徴、並びに圧縮率及び/又はかさ密度などの有利な加工及び取り扱い特性を有する。アリスキレンヘミコハク酸塩形態S2は好ましくは、公知のアリスキレン塩形と比べ(特に公知のアリスキレンヘミフマル酸塩形と比べ)、有利な結晶化度又は溶解度を有し、かつ特にアリスキレンヘミコハク酸塩の形態S2は、容易な取り扱い及び加工を可能にする晶癖を有し、従って容易に圧縮し得る。先行技術のアリスキレンヘミフマル酸塩形は、それらの針状の晶癖のために、製剤の観点からは余り望ましくない。そのような晶癖は、本活性物質の加工能に影響を及ぼし、かつ例えば圧縮による問題を引き起こし得る。特に本発明のアリスキレンヘミコハク酸塩形態S2は、針状結晶を有さず、結晶化度の良好な程度を保持する。従って形態S2は、製剤への加工に特に有用である。
形態S2は、アセトニトリル中のアリスキレンヘミコハク酸塩の溶液を提供すること、この溶液を更に攪拌し、懸濁液を得ること、及び結晶物質を回収することを含むプロセスにより調製することができる。
アリスキレンヘミコハク酸塩は、溶媒1mlにつき約20mg〜約100mg、例えば約100mgの量で使用することができる。
得られた溶液は、好ましくはほぼ室温で、約24時間〜約72時間、例えば約30時間維持することができる。
形態S2は、得られた懸濁液から濾過により回収することができる。
得られたS2は、更に乾燥してもよい。乾燥は、約100mmHg未満の圧力を含む、1atm未満の圧力(減圧)下で実行され得る。乾燥は、減圧又は非減圧下で約40℃〜約80℃、約40℃〜約60℃、約40℃〜約50℃、例えば約40℃で加熱することにより実施できる。得られた沈殿は、約16時間〜約72時間、約16時間〜約48時間、約16時間〜約24時間乾燥してもよい。
一実施態様において、本発明は、約6.7、8.0、15.6及び17.4±0.3度2θにピークを有するXRPDパターン;図21に示すXRPDパターン;及び、それらの組合せからなる群から選択されるデータにより特徴づけられる、アリスキレンヘミコハク酸塩の形態S3を提供する。
あるいは形態S3は、約3.8、6.7、7.7、8.0、11.2、13.7、14.6、15.6及び17.4±0.3度2θにピークを有するXRPDパターンにより特徴づけることができる。
アリスキレンヘミコハク酸塩形態S3は典型的には、先行技術の形と比べ、特に公知のアリスキレンヘミフマル酸塩形と比べ、より高い結晶化度、溶解度、溶解速度、モルホロジー、多形転移の安定性、より低い吸湿性、貯蔵安定性、流動性などの1つ以上の改善された特徴、並びに圧縮率及び/又はかさ密度などの有利な加工及び取り扱い特性を有する。アリスキレンヘミコハク酸塩形態S3は好ましくは、公知のアリスキレン塩形と比べ(特に公知のアリスキレンヘミフマル酸塩形と比べ)、有利な結晶化度又は溶解度を有し、かつ特にアリスキレンヘミコハク酸塩形態S3は、容易な取り扱い及び加工を可能にする晶癖を有し、従って容易に圧縮し得る。先行技術のアリスキレンヘミフマル酸塩形は、それらの針状の晶癖のために、製剤の観点からは余り望ましくない。そのような晶癖は、本活性物質の加工能に影響を及ぼし、かつ例えば圧縮による問題を引き起こし得る。特に本発明のアリスキレンヘミコハク酸塩形態S3は、針状結晶を有さず、結晶化度の良好な程度を保持する。従って形態S3は、製剤への加工に特に有用である。
形態S3は、形態S1を乾燥することを含むプロセスにより調製し得る。
乾燥は、約100mmHg未満の圧力を含む、1atm未満の圧力(減圧)下で実行され得る。乾燥は、減圧又は非減圧下で約40℃〜約80℃、約40℃〜約60℃、約40℃〜約50℃、例えば約50℃で加熱することにより実施できる。得られた沈殿は、約16時間〜約72時間、約16時間〜約48時間、約16時間〜約24時間乾燥してもよい。
形態S3は、シクロペンチルメチル中の非晶質アリスキレンヘミコハク酸塩の懸濁液を提供すること、次にこの懸濁液を更に攪拌すること、及び結晶物質を回収することを含む別のプロセスにより調製することができる。得られた沈殿は、更に乾燥してもよい。
乾燥は、約100mmHg未満の圧力を含む、1atm未満の圧力(減圧)下で実行され得る。乾燥は、減圧又は非減圧下で約40℃〜約80℃、約40℃〜約60℃、約40℃〜約50℃、例えば約50℃で加熱することにより実施できる。得られた沈殿は、約16時間〜約72時間、約16時間〜約48時間、約16時間〜約24時間乾燥してもよい。
アリスキレンヘミコハク酸塩は、溶媒1mlにつき約20mg〜約100mg、例えば約100mgの量で使用することができる。
得られた溶液は、好ましくはほぼ室温で、約24時間〜約72時間維持することができる。
別の実施態様において、本発明は、約9.8、10.2、19.0、20.4及び22.3±0.3度2θにピークを有するXRPDパターン;図23に示すXRPDパターン;及び、それらの組合せからなる群から選択されるデータにより特徴づけられる、アリスキレンヘミコハク酸塩の形態S4を提供する。
別の実施態様において、形態S4は、約3.8、7.3、9.8、10.2、16.2、17.3、19.0、20.4及び22.3±0.3度2θのXRPDパターンにより特徴づけることができる。
アリスキレンヘミコハク酸塩形態S4は典型的には、先行技術の形と比べ、特に公知のアリスキレンヘミフマル酸塩形と比べ、より高い結晶化度、溶解度、溶解速度、モルホロジー、多形転移の安定性、より低い吸湿性、貯蔵安定性、流動性などの1つ以上の改善された特徴、並びに圧縮率及び/又はかさ密度などの有利な加工及び取り扱い特性を有する。アリスキレンヘミコハク酸塩形態S4は好ましくは、公知のアリスキレン塩形と比べ(特に公知のアリスキレンヘミフマル酸塩形と比べ)、有利な結晶化度又は溶解度を有する。特にアリスキレンヘミコハク酸塩形態S4は、容易な取り扱い及び加工を可能にする晶癖を有し、従って容易に圧縮し得る。
形態S4は、酢酸エチル中に非晶質アリスキレンヘミコハク酸塩をスラリー化すること、及び結晶物質を回収することを含むプロセスにより調製することができる。
このアリスキレン塩基は、アルコール1mlにつき約20mg〜約100mg、例えば約100mgの量で使用される。
得られたスラリーは、好ましくはほぼ室温で、約24時間〜約72時間、例えば約30時間維持することができる。
一実施態様において、本発明は、N1と命名された、約4.9、8.5、13.2、14.8及び18.1±0.2度2θにピークを有するXRPDパターン;図24に示すXRPDパターン;及び、それらの組合せからなる群から選択されるデータにより特徴づけられる、アリスキレン硝酸塩を提供する。
形態N1は、追加のピーク約11.0、19.1、19.9、21.9及び24.9±0.2度2θにより更に特徴づけることができる。
アリスキレン硝酸塩N1は、イソプロパノール中にアリスキレン硝酸塩をスラリー化すること、及び結晶物質を回収することを含むプロセスにより調製されることができ;ここで、アリスキレン硝酸塩は、C1−C2アルコール中に溶解され、かつスラリー化の前に、このアルコールは、アリスキレン硝酸塩溶液から除去される。
形態N1の調製について説明する前記プロセスにおける溶媒は、濾過及び乾燥により除去し得る。
任意にイソプロパノール中にスラリー化されたアリスキレン硝酸塩は、開放容器中、室温で維持され、結晶形アリスキレン硝酸塩N1を得る。
一実施態様において、本発明は、M1と命名された、約5.0、8.5、13.3、15.0及び18.2±0.2度2θにピークを有するXRPDパターン;図25に示すXRPDパターン;及び、それらの組合せからなる群から選択されるデータにより特徴づけられる、アリスキレンヘミマレイン酸塩を提供する。
形態M1は、追加のピーク約11.0、19.2、19.9、21.9及び25.0±0.2度2θのピークを含むXRPDパターンにより更に特徴づけることができる。
アリスキレンヘミマレイン酸塩M1は、ジイソプロピルエーテル中に非晶質アリスキレンヘミマレイン酸塩をスラリー化すること、及び結晶物質を回収することを含むプロセスにより調製することができる。
形態M1の調製について説明する前記プロセスにおける溶媒は、濾過及び乾燥により除去し得る。
このアリスキレン塩基は、アルコール1mlにつき約20mg〜約100mg、例えば約100mgの量で使用される。
得られたスラリーは、好ましくはほぼ室温で、約24時間〜約72時間、例えば約30時間維持することができる。
一実施態様において、本発明は、I1と命名された、約5.4、5.6、7.0、11.0及び22.6±0.2度2θにピークを有するXRPDパターン;及び、図26に示すXRPDパターン;及び、それらの組合せからなる群から選択されるデータにより特徴づけられる、アリスキレンクエン酸水素塩を提供する。
形態I1は、追加のピーク約8.1、8.8、16.7、18.1、19.3、20.7及び21.7±0.2度2θのピークを含むXRPDパターンにより更に特徴づけることができる。
アリスキレンクエン酸水素塩I1は、アセトニトリル中の非晶質アリスキレンクエン酸水素塩の溶液を提供すること、この溶液を更に攪拌し懸濁液を得ること、及び結晶物質を回収することを含むプロセスにより調製することができる。
このアリスキレン塩基は、アルコール1mlにつき約20mg〜約100mg、例えば約100mgの量で使用される。
得られたスラリーは、好ましくはほぼ室温で、約24時間〜約72時間、例えば約30時間維持することができる。
一実施態様において、先に説明されたプロセスのいずれかにおいて使用されるC1−C2アルコールは、エタノール又はメタノールである。好ましくはエタノールが使用される。
先に説明されたプロセスのいずれかにおいて説明された除去工程は、濾過及び乾燥、蒸発又は不活性ガス流れを使用することによる蒸発などの、従来の技術により行われることができる。蒸発は、大気圧下又は真空下で、約20℃〜約40℃で行われることができる。本プロセスがスラリー化を用いて行われる場合、この除去は濾過によることが好ましい。
本発明は更に、医薬的に許容し得るアリスキレン化合物の非晶形又は結晶形を含有する医薬製剤を包含している。この医薬組成物は、少なくとも1種の医薬的に許容し得る賦形剤を追加して含有してよい。
本発明は、本発明のプロセスにより製造された非晶形又は結晶形、及び1種以上の医薬的に許容し得る賦形剤を含有する医薬組成物を更に包含している。
本発明は、本発明の非晶形又は結晶形を、少なくとも1種の医薬的に許容し得る賦形剤と組合せることを含む、医薬製剤を調製するプロセスを更に包含している。
別の実施態様において、本発明は、医薬的に許容し得るアリスキレン化合物の前述の結晶形又は非晶形の治療的有効量を、それらを必要とする患者へ投与することを含む、酵素レニンを阻害し、高血圧の患者を治療する方法を提供する。
本発明を特定の好ましい実施態様及び実施例に即して説明したが、当業者であれば理解するように、本明細書に説明又は例示された発明に対して、開示された発明の趣旨及び範囲を逸脱しない限りにおいて変更を加えてもよい。実施例は発明の理解を助けるためのものであり、発明の範囲を制限することを意図するものではなく、決して制限するものと解釈してもならない。
XRPD解析は、下記の何れかを用いて行った。
1.ARL(SCINTAG)粉末X−線回折計モデルX’TRA−019、CuKα線照射、ペルチェ(Peltier)検出器、ラウンドゼロバックグラウンドプレートを備える円形標準アルミニウム試料ホルダーを使用した。走査パラメータ:値域:2〜40度2、連続走査、速度:3度/分(図7、8、15、16、17、21、22、25、26)。
2.Bruker粉末X−線回折計モデルD8アドバンス、CuKα線照射、LynxEye位置感度検出計を装着。値域:2〜40°。ステップサイズ:0.05°。1ステップ当たりの時間:5.2秒(図1、2、3、4、5、6、9、10、11、12、13、14、18、19、20、23、24)。
実施例1:アリスキレン化合物調製の全般的手順
酸(下記に添付した表1に詳述した酸のリストから選択)のエタノール溶液を、攪拌しているアリスキレン塩基(AKN)の0.1Mエタノール溶液(5ml、0.5mmol)に添加し、この溶液を、室温で1時間攪拌した。エタノールを、真空下で40℃で蒸発させ、この固形物を真空下で同じ温度で一晩乾燥した。この固形物をXRPDにより解析した。
表1に、異なる酸を用いてアリスキレン化合物を得るべく行った種々の実験と、そのXRPDの解釈をまとめた。
Figure 2011526937
実施例2:アリスキレン塩酸塩C1の多形の調製
非晶質アリスキレン塩酸塩(50mg)を、酢酸イソブチル0.5ml中に懸濁した。この懸濁液を、室温で3日間攪拌した。この固形物を濾過し、XRPDにより解析した。
実施例3:アリスキレン塩酸塩C2の多形の調製
非晶質アリスキレン塩酸塩(50mg)を、トルエン0.5ml中に懸濁した。この懸濁液を、室温で3日間攪拌した。この固形物を濾過し、XRPDにより解析した。
実施例4:アリスキレン塩酸塩C2の多形の調製
非晶質アリスキレン塩酸塩(50mg)を、炭酸ジメチル0.5ml中に懸濁した。この懸濁液を、室温で3日間攪拌した。この固形物を濾過し、真空下で50℃で一晩乾燥し、XRPDにより解析した。
実施例5:アリスキレン塩酸塩C2の多形の調製
非晶質アリスキレン塩酸塩(50mg)を、クロロベンゼン0.5mlと共に、室温で3日間攪拌し、懸濁液を得た。この固形物を濾過し、真空下で50℃で一晩乾燥し、XRPDにより解析した。
実施例6:アリスキレン塩酸塩C3の多形の調製
アリスキレン塩酸塩C1を、実施例2に従い調製し、かつ更に真空下で40℃で一晩乾燥し、XRPDにより解析した。
実施例7:アリスキレンヘミコハク酸塩S4の多形の調製
非晶質アリスキレンヘミコハク酸塩(50mg)を、酢酸エチル0.5mlと共に、室温で30時間懸濁した。この固形物を濾過し、XRPDにより解析した。
実施例8:アリスキレンヘミコハク酸塩S1の多形の調製
非晶質アリスキレンヘミコハク酸塩(50mg)を、炭酸ジメチル0.5mlと共に、室温で30時間攪拌し、懸濁液を得た。この固形物を濾過し、XRPDにより解析した。
実施例9:アリスキレンヘミコハク酸塩S3の多形の調製
アリスキレンヘミコハク酸塩S1を、実施例8に従い調製し、かつ更に真空下で50℃で一晩乾燥し、XRPDにより解析した。
実施例10:アリスキレンヘミコハク酸塩S1の多形の調製
非晶質アリスキレンヘミコハク酸塩(50mg)を、炭酸ジエチル0.5mlと共に、室温で30時間攪拌し、懸濁液を得た。この固形物を濾過し、XRPDにより解析した。
実施例11:アリスキレンヘミコハク酸塩S3の多形の調製
アリスキレンヘミコハク酸塩S3を、実施例10に従い調製し、かつ更に真空下で50℃で一晩乾燥し、XRPDにより解析した。
実施例12:アリスキレンヘミコハク酸塩S2の多形の調製
非晶質アリスキレンヘミコハク酸塩(50mg)を、アセトニトリル0.5mlと共に、室温で30時間攪拌し、懸濁液を得た。この固形物を濾過し、真空下で50℃で一晩乾燥し、XRPDにより解析した。
実施例13:アリスキレンヘミコハク酸塩S3の多形の調製
非晶質アリスキレンヘミコハク酸塩(50mg)を、シクロペンチルメチルエーテル0.5mlと共に、室温で30時間攪拌し、懸濁液を得た。この固形物を濾過し、XRPDにより解析した。
実施例14:アリスキレンヘミコハク酸塩形態S1の多形の調製
非晶質アリスキレンヘミコハク酸塩(50mg)を、ジエトキシメタン0.5mlと共に、室温で週末の間攪拌し、攪拌不能な懸濁液を得た。ジエトキシメタン(0.5ml)を添加し、この固形物を濾過し、XRPDにより解析した。
実施例15:アリスキレン硝酸塩N1の多形の調製
硝酸のエタノール溶液(0.1M溶液, 6ml, 0.6mmol)を、攪拌しているアリスキレン塩基(AKN)の0.1Mエタノール溶液(6ml, 0.6mmol)に添加し、この溶液を室温で1時間攪拌した。エタノールを真空下で40℃で蒸発させ、乾固した。この固形物を、イソプロパノール1ml中に懸濁した。1時間後、この懸濁液は攪拌不能となり始め、イソプロパノール1mlを添加した。この懸濁液を、室温で一晩攪拌した。この固形物を濾過し、真空下で40℃で一晩乾燥した。湿潤試料及び乾燥試料を、XRPDにより解析した。
湿潤試料及び乾燥試料に関する形態N1
母液を、開放ガラス内で1日維持し、イソプロパノールを蒸発させた。得られた結晶を、XRPDにより解析した。
実施例16:アリスキレンヘミマレイン酸塩M1の多形の調製
非晶質アリスキレンヘミマレイン酸塩(50mg)を、ジイソプロピルエーテル0.5mlと共に、室温で30時間懸濁した。この固形物を濾過し、真空下で50℃で一晩乾燥し、XRPDにより解析した。
実施例17:アリスキレンクエン酸水素塩I1の多形の調製
非晶質アリスキレンクエン酸水素塩(50mg)を、アセトニトリル0.5mlと共に、室温で30時間攪拌し、懸濁液を得た。この固形物を濾過し、XRPDにより解析した。

Claims (9)

  1. 約3.7、6.7、7.3及び8.5±0.2度2θにピークを有するXRPDパターン、図18に示すXRPDパターン、及びそれらの組合せ、からなる群から選択される少なくとも1つのデータにより特徴づけられる、アリスキレンヘミコハク酸塩形態S1。
  2. 約4.6、5.9、7.1、9.3及び10.9±0.2度2θにピークを有するXRPDパターン、図27に示すXRPDパターン、及びそれらの組合せ、からなる群から選択される少なくとも1つのデータにより特徴づけられる、アリスキレンヘミコハク酸塩形態S2。
  3. 約6.7、8.0、15.6及び17.4±0.3度2θにピークを有するXRPDパターン、図21に示すXRPDパターン、及びそれらの組合せ、からなる群から選択される少なくとも1つのデータにより特徴づけられる、アリスキレンヘミコハク酸塩形態S3。
  4. 約9.8、10.2、19.0、20.4及び22.3±0.3度2θにピークを有するXRPDパターン、図23に示すXRPDパターン;及び、それらの組合せからなる群から選択される少なくとも1つのデータにより特徴づけられる、アリスキレンヘミコハク酸塩形態S4。
  5. 約5.3、14.1、18.7、21.2及び22.2±0.2度2θにピークを有するXRPDパターン、図15に示すXRPDパターン、及びそれらの組合せ、からなる群から選択される少なくとも1つのデータにより特徴づけられる、アリスキレン塩酸塩形態C1。
  6. 約5.4、11.9、14.5、16.1及び21.6±0.2度2θにピークを有するXRPDパターン、図16に示すXRPDパターン、及びそれらの組合せ、からなる群から選択される少なくとも1つのデータにより特徴づけられる、アリスキレン塩酸塩形態C2。
  7. 約4.9、6.3、7.5、9.6及び17.2±0.2度2θにピークを有するXRPDパターン、図17に示すXRPDパターン、及びそれらの組合せ、からなる群から選択される少なくとも1つのデータにより特徴づけられる、アリスキレン塩酸塩形態C3。
  8. 請求項1〜7の何れか1項に記載のアリスキレン化合物と、少なくとも1種の医薬的に許容し得る賦形剤とを含んでなる医薬組成物。
  9. 医薬製剤を調製する方法であって、請求項1〜7の何れか1項に記載のアリスキレン化合物を、少なくとも1種の医薬的に許容し得る賦形剤と組合せることを含んでなる方法。
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