JP2011521995A - 化学的使用のための低濃度エチレンの製造方法 - Google Patents

Abstract

ａ）炭化水素源が第１分解工程、すなわち分解炉で実施される熱分解工程にかけられ、こうして分解生成物の混合物を生成する工程と、ｂ）分解生成物の前記混合物が、精製された粗ガス流れを得ることを可能にする、圧縮工程を含む、一連の処理工程にかけられる工程と、ｃ）精製された粗ガス流れが次に、６個以上の炭素原子の炭化水素を精製された粗ガス流れから除去できるようにそれら炭化水素が凝縮する温度に冷却される工程と、ｄ）生じた精製ガス流れが後で１つの分離塔に供給され、分離塔で、水素、メタンおよびエチレンを含有する画分（画分Ａ）が塔のヘッドで分離され、重質画分（画分Ｃ）が塔の底部で分離される工程と、ｅ）この塔の還流の一部が冷凍サイクルに供給されて、エチレンに富む画分（画分Ｂ）をもたらす工程と、ｆ）画分Ａおよび画分Ｂが別々にエチレンの化学的使用に供給される工程とによる、炭化水素源から出発する化学的使用のためのエチレンの製造方法。

Description

本発明は、化学的使用のための低濃度エチレンの製造方法に関する。

これまで、９９．８％より高い純度のエチレンが、通常化学合成のために使用されている。非常に高い純度のこのエチレンは、様々な石油製品を分解した後、エチレンを分解の他の生成物から単離しかつ非常に高い純度の製品を得るために、多数の複雑な、費用のかかる分離操作によって得られる。

従来のエチレンプラントでは、例えば欧州特許第０８７２５３７ Ｂ１号明細書に記載されているように、粗ガス圧縮の後に、高純度（ポリマー品質）のエチレンおよびプロピレンが製造される、複雑な分離プロセスが続く。さらなる生成物は、ブタジエン、ベンゼン、トルエン、スチレンなどであってもよい。この分離プロセスは次の工程で特徴づけられる：
１．Ｃ２マイナス画分／Ｃ３プラス画分への分割
２．Ｃ２マイナス画分の分割
２．１．おおよそ−１５０℃の深冷での水素およびメタンの分離
２．２．Ｃ２画分の分離
２．３．エチレンおよびエタンへのＣ２画分の分割
２．４．分解へのエタンのリサイクリング
３．Ｃ３およびＣ４プラス画分へのＣ３プラス画分の分割
３．１．Ｃ３画分中のプロピンおよびプロパジエンの水素化
３．２．Ｃ３画分からの純プロピレンの蒸留
３．３．要件に応じた、Ｃ４／Ｃ５画分の分割

−１５０℃まで温度を下げるための冷凍装置がエチレンの製造用のプラントに統合される。純エチレンおよび純プロピレンが冷媒としての機能を果たす。

エチレンの化学的使用のためには、９８％超の高濃度は多くの場合に必要ではない。

国際公開第０３／０４８０８８号パンフレットは、エタン脱水素による塩素との化学反応用の低濃度エチレンの製造を記載している。エタン負荷ガス流れは、水素およびメタンのみならず、多量の未転化エタンをも含有する。この方法の経済的デザインのためには、未転化エタンは、複雑な清浄化プロセス後にエタン脱水素にフィードバックされなければならない。この方法は、エタンを供給原料として使用できるにすぎない。重大な欠点は、水素、プロピレン、ブタジエンなどのガス流れのさらなる成分がエチレンを非常に特別なプロセスで使用することを可能にするにすぎないという事実だけでなく、エチレンの非常に低い濃度−６０％未満−である。

国際公開第２００６／０６７１８８号パンフレットでは、供給原料としてのエタン／液化ガスの分解から出発する、塩化ビニルの製造が記載されている。この供給原料は通常の分解を受ける。急冷および水洗浄後に、分解ガスは、それが３つの画分に分けられる前に、圧縮され、硫化水素、二酸化炭素および水を除去される。画分Ａは、エチレン、エタン、メタン、水素ならびに少量の一酸化炭素を含有する。画分Ｂは、主としてエチレンおよびエタンならびに少量のメタンおよび非常に少量の水素を含有する。両画分は、様々なプロセスで塩素との反応のために使用される。画分Ｃは、エタンおよび３個超の炭素原子の炭化水素を含有する。ガス混合物の分離のために、少なくとも２つの塔の様々な回路が記載されている。

画分Ｃの使用については、燃焼、さらなる処理なしの供給原料としてのリサイクリングまたは画分Ｃ中に含有される不飽和成分の水素化後の供給原料へのリサイクリングなどの、様々な変形が提案されている。我々の経験によれば、さらなる処理なしに供給原料へのリサイクリングは、高いオレフィン含有率の供給原料が熱分解炉での強いコーク形成をもたらし、かつ、非常に低いエチレン収率を与えるので、仮説変形にすぎない。

画分Ｃの水素化の前に、５個未満または５個超の炭素原子の画分に分けることが記載されている。５個以下の炭素原子の画分のみが水素化を受ける。この記載は、水素化の技術に関する情報を含んでいない。

プロピレンの水素化は、ＤＥ第１５１８８２７号明細書に明記されている。この特許出願は、エチレン製造のための分解炉への供給原料として戻されるべきプロパンへのプロピレンの水素化を記載している。水素化は、液相で水素雰囲気の反応器（細流相（ｔｒｉｃｋｌｅ ｐｈａｓｅ）反応器）で行われる。かかる反応器および第８亜族の金属（パラジウム、白金）をベースとする利用触媒は、液体不飽和炭化水素の水素化について国際的に能力を証明してきた。不飽和炭化水素の分解はコーク形成の増加をもたらすことが明示されている。

本発明の目的は、化学的使用のためのエチレンを製造するための技術的により簡単な、かつ、より費用効果的な方法であって、副生物の蓄積が排除される方法を提供することである。

この趣旨で、本発明は、
ａ）炭化水素源が第１分解工程、すなわち分解炉で実施される熱分解工程にかけられ、こうして分解生成物の混合物を生成する工程と、
ａ）分解生成物の前記混合物が、精製された粗ガス流れを得ることを可能にする、圧縮工程を含む、一連の処理工程にかけられる工程と、
ｂ）精製された粗ガス流れが次に、６個以上の炭素原子の炭化水素を精製された粗ガス流れから除去できるようにそれら炭化水素が凝縮する温度に冷却される工程と、
ｃ）生じた精製ガス流れが後で１つの分離塔に供給され、分離塔で、水素、メタンおよびエチレンを含有する画分（画分Ａ）が塔のヘッドで分離され、重質画分（画分Ｃ）が塔の底部で分離される工程と、
ｄ）この塔の還流の一部が冷凍サイクルに供給されて、エチレンに富む画分（画分Ｂ）をもたらす工程と、
ｅ）画分Ａおよび画分Ｂが別々にエチレンの化学的使用に供給される工程と
による、炭化水素源から出発する化学的使用のためのエチレンの製造方法に関する。

本発明による方法は、炭化水素源（供給原料とも言われる）から出発する方法である。

考えられる炭化水素源は、任意の公知の炭化水素源であってもよい。好ましくは、分解（工程ａ））にかけられる炭化水素源は、ナフサ、ガスオイル、天然ガス液、エタン、プロパン、ブタン、イソブタンおよびそれらの混合物からなる群から選択される。特に好ましくは、炭化水素源は、エタン、プロパン、ブタンおよびプロパン／ブタン混合物からなる群から選択される。より特に好ましくは、炭化水素源は、プロパン、ブタンおよびプロパン／ブタン混合物からなる群から選択される。プロパン／ブタン混合物は、そのようなものとして存在してもよいし、またはプロパンとブタンとの混合物からなってもよい。

表現エタン、プロパン、ブタンおよびプロパン／ブタン混合物は、本発明の目的のためには、商業的に入手可能である、すなわち主として純製品（エタン、プロパン、ブタンまたは混合物としてのプロパン／ブタン）と、二次的に純製品そのものより軽質または重質である、他の飽和または不飽和炭化水素とからなる製品を意味すると理解される。

本発明による化学的使用のためのエチレンの製造方法では、炭化水素源は第１分解工程、すなわち分解炉で実施される熱分解工程にかけられ、こうして分解生成物の混合物を生成する。

表現第１分解工程、すなわち分解炉で実施される熱分解工程（工程ａ））は、水、酸素、硫黄誘導体および／または分解生成物の混合物の形成を生み出すための触媒などの第３化合物の存在下または不存在下での炭化水素源の、熱の作用下の、転化を意味すると理解される。

分解生成物のこの混合物は有利には、水素、一酸化炭素、二酸化炭素、窒素、酸素、硫化水素、少なくとも１個の炭素原子を含む有機化合物および水を含む。

上に定義された工程ａ）後に、工程ｂ）に従って、分解生成物の混合物は、精製された粗ガス流れを得ることを可能にする、圧縮工程を含む、一連の処理工程にかけられる。

第１分解工程ａ）に有利には、そのうちに分解ガスの熱の熱回収、場合によりガスの有機急冷（中間流体との一連の交換器による熱の回収を場合により含む）、水性急冷、圧縮および乾燥、二酸化炭素の少なくとも大部分を除去することを目指すアルカリ性洗浄、場合により、例えば、（おおよそ５ｐｐｍのアセチレンの値を有利に達成するために）アセチレンなどの望ましくない誘導体の水素化、場合により水素および／またはメタンの一部の除去ならびに硫化水素の除去のための工程が存在する一連の処理からなる工程ｂ）が続く。

上に定義された工程ｂ）後に、工程ｃ）に従って、精製された粗ガス流れは次に、６個以上の炭素原子の炭化水素を精製された粗ガス流れから除去することができるようにそれら炭化水素が凝縮する温度に冷却される。

選択されるべき温度は、ガス組成およびガス圧力に依存する。温度選択は有利には、冷却後のガス中のベンゼン含有率が合計して有利には約２重量％未満、好ましくは約１重量％未満、より好ましくは約０．５重量％未満になるようなものである。

精製された粗ガス流れは好ましくは、有利には５℃以下、好ましくは０℃以下、より好ましくは−５℃以下の温度に冷却される。それは好ましくは、有利には少なくとも−３０℃、好ましくは少なくとも−２５℃、より好ましくは少なくとも−２０℃の温度に冷却される。

工程ｃ）で凝縮した炭化水素は、有利には工程ｂ）に、好ましくは工程ｂ）の圧縮工程に、より好ましくは工程ｂ）の圧縮工程の圧縮の最終段階に戻される。

上に定義された工程ｃ）後に、工程ｄ）に従って、生じた精製ガス流れは後で１つの分離塔に供給され、分離塔で、水素、メタンおよびエチレンを含有する画分（画分Ａ）が塔のヘッドで分離され、重質画分（画分Ｃ）は塔の底部で分離される。

精製ガス流れは、好ましくはさらに冷却された後に、１つの塔に供給され、この塔でエチレンとエタンとの分離が有利には行われる。エチレン、メタンおよび水素は有利には、塔のヘッドから抜き出される。全ての他のガス成分は有利には、底部生成物中に含有される。ガス状ヘッド生成物（画分Ａ）中に含有されるエチレンは、エチレンの化学的使用に供給される。

エタンとエチレンとの分離は有利には、この塔での好適な技術条件が選択されるという条件で、水素、メタンおよび高級炭化水素の存在にもかかわらず可能である。エチレン、メタンおよび水素は、塔のヘッドで分離され（画分Ａ）、粗ガス中に含有される全ての他の成分は、塔の底部生成物中にとどまる（画分Ｃ）。

塔は有利には、ヘッド生成物の凝縮のための凝縮器、凝縮したヘッド生成物のためのタンク、塔ならびに関連ポンプを加熱するためのボイラーを備えている。液体エチレンは好ましくは、エチレン冷凍機で生成するヘッド生成物の凝縮のために使用される。

塔の圧力は有利には、ヘッド生成物の凝縮が、好ましくは液体エチレンによって可能であることを確実にするために調節される。圧力は有利には少なくとも８バール、好ましくは少なくとも１０バール、より好ましくは少なくとも１２バールのものである。この圧力は有利には４５バール以下、好ましくは４０バール以下、より好ましくは３８バール以下のものである。

温度は、塔の頂部で有利には少なくとも−１００℃、好ましくは少なくとも−９０℃、より好ましくは少なくとも−８０℃である。それは、塔の頂部で有利には−３０℃以下、好ましくは−４０℃以下、より好ましくは−５０℃以下である。

この塔で、エチレン／エタン分離は有利には塔の上方部で主として行われるが、Ｃ３およびより高沸点炭化水素の分離は塔の下方部で行われる。

上に定義された工程ｄ）後に、工程ｅ）に従って、分離塔の還流の一部は、エチレンに富む画分（画分Ｂ）をもたらす冷凍サイクルに供給される。

還流の一部は、好ましくは冷凍内容物の蒸発および利用後に、冷凍サイクルに供給される。冷凍サイクルは好ましくはエチレンをベースとしている。

冷凍サイクルに供給されるこの量の一部の還流は有利には、ガス状態で冷凍サイクルから取り出され、エチレンの化学的使用のために供給される主として水素を含まない、より濃縮されたエチレン画分（製品Ｂ）を表す。

塔のヘッド生成物の冷却によって生成した液体は有利には、塔への還流としての機能を果たす。塔のヘッド生成物の冷却によって生成した液体は有利には、冷凍サイクルに導入され、冷凍サイクルでそれは冷凍サイクルの液化エチレンと混合される。液体エチレンはより好ましくは、ヘッド生成物凝縮器に供給され、蒸発する。蒸発後に、エチレンは再び最も好ましくは、エチレン冷凍サイクルに入り、エチレン冷凍サイクルでそれは、それが液化する前に、圧縮機によって圧縮される。このアプローチは、エチレン冷凍サイクルに供給される塔のヘッド生成物の冷却によって生成した液体の冷却容量（ｃｏｏｌｉｎｇ ｃｏｎｔｅｎｔ）の完全な回収を可能にする。

エチレン冷凍サイクルに供給される塔のヘッド生成物の冷却によって生成する量の液体は有利には、冷凍サイクルのエチレン圧縮機の下流で、ガス状態でエチレン冷凍サイクルから取り出される。

塔のヘッドでの凝縮条件に従って、塔のヘッド生成物の冷却によって生成する液体は有利には、水素をほとんど含まず、塔のガス状ヘッド生成物より少ないメタンを含有する。

必要ならば、水素およびメタンの部分は、後で好ましくは画分Ａに加えられる不活性ガスとしてエチレン冷凍サイクルから取り出すことができる。画分Ｂはそれ故有利には、冷凍サイクルから水素およびメタンを不活性ガスとして除去することによって、好ましくは低温ボイラーにおいて、水素およびメタンを激減させられる。

本発明によれば、冷却のために必要なエチレン冷却回路冷凍サイクルを用いた分離塔のオーバーヘッド生成物の凝縮の結合は有利には、２つのグレードのエチレン、すなわち画分Ａおよび画分Ｂの生成を可能にする。

画分Ａを特徴づけるために下に定義される量は有利には、冷凍サイクルから取り出される不活性ガスを含有する画分Ａについてのものである。

画分Ａは有利には、画分Ａプラス画分Ｂの合計中に含有されるエチレン量の１０％超、好ましくは２０％超、より好ましくは２５％超を含有する。画分Ａは有利には、画分Ａプラス画分Ｂの合計中に含有されるエチレン量の９０％未満、好ましくは８０％未満、より好ましくは７５％未満を含有する。

画分Ａは有利には、画分Ａプラス画分Ｂの合計中に含有される水素量の８０％超、好ましくは８５％超、より好ましくは９０％超を含有する。

画分Ａは有利には、画分Ａプラス画分Ｂの合計中に含有されるメタン量の７０％超、好ましくは７５％超、より好ましくは８０％超を含有する。

画分Ａは有利には、画分Ａプラス画分Ｂの合計中に含有されるエタン量の５０％未満、好ましくは４５％未満、より好ましくは４０％未満を含有する。

画分Ｂは、画分Ｂの総容量に対して有利には０．１％以下、好ましくは０．０５％以下、特に好ましくは０．０１容量％以下の少なくとも３個の炭素原子を含有する化合物の含有率で特徴づけられる。

画分Ｃは有利には、工程ｄ）にかけられた精製ガス流れ中に含有される少なくとも３個の炭素原子を含む化合物の少なくとも９５％、好ましくは少なくとも９８％、特に好ましくは少なくとも９９％を含有する。

画分Ｃは有利には、画分Ｃの総重量に対して１重量％以下、好ましくは０．８重量％以下、特に好ましくは０．５重量％以下のエチレンを含有する。

生成物組成（重量％）の例は次の通りである：

塔の底部に生じた重質画分（画分Ｃ）は有利には、エタンならびに３、４または５個の炭素原子の炭化水素を含有する。６個以上の炭素原子の炭化水素はもはや画分Ｃ中に含有されていないので、この画分はさらなる処理なしに、好ましくは供給原料として使用される前に水素化を受けることができる。

画分Ｃはそれ故好ましくは水素化され、工程ａ）での炭化水素源に供給される。

水素化の技術は、エチレン製造のための供給原料に依存する：

エタンをエチレン製造のための供給原料として使用するとき、画分Ｃは、少量のエチレンおよび３または４個の炭素原子の炭化水素に加えて、エタンを主として含有する。生成物を供給原料として再使用する前に、プロピン、ブタジエン、ビニルアセチレンなどの高不飽和化合物は好ましくは除去され、さもなければこれらの物質は、熱分解炉で強いコーク形成をもたらす。

これらの強不飽和化合物の水素化はより好ましくは、圧縮機の下流で好ましくは起こる選択的水素化でのアセチレンの水素化と平行して行われる。これは、さらなる水素化なしに画分Ｃを炉にリサイクルすることを可能にする。追加の水素化が必要である場合、これは有利には、パラジウムに基づく公知の触媒での気相水素化として行われる。

エタンを供給原料として使用するとき、画分Ｃの水素化はそれ故より好ましくは、さらなる水素化なしに供給原料への画分Ｃの直接供給を可能にするアセチレンの任意の水素化と一緒に行われる。

プロパンおよび／またはブタンをエチレン製造のための供給原料として使用するとき、大量のプロピレン／ブタジエンが、分離されるエタンと一緒に、画分Ｃ中に副生物として蓄積する。６個以上の炭素原子の炭化水素は分離塔の上流で既に分離されるので、追加の分離などのさらなる処理なしに画分Ｃを水素化することがそれ故有利には可能である。画分Ｃの水素化は好ましくは、断熱細流相反応器で、より好ましくはパラジウムに基づく証明済みの触媒を使って行われる。

プロパン、ブタンまたはプロパン／ブタン混合物を供給原料として使用するとき、画分Ｃはそれ故最も好ましくは、追加の分離なしに細流相反応器での水素化にかけられ、後で供給原料と混合される。

幾つかの場合には、エタンを、それを付加価値化するために個々の画分として単離することは興味深いことであり得る。これらの状況において、本発明による方法は、例えば画分Ｃを単離するために使用される蒸留塔の底部から個々の画分としてエタンを抜き取ることによってか、またはさらなる蒸留塔を使用して画分Ｃ中に存在するより重質の炭化水素からエタンを分離することによってエタンが単離されるように適合させることができる。回収された後、エタンは、燃料として燃焼させるかまたは化学的に付加価値化することができる。

本発明による方法の工程ｆ）に従って、画分Ａおよび画分Ｂは別々に、エチレンの化学的使用に供給される。

エチレンの化学的使用のうち、例えばエチレンオキシド、線状アルファ−オレフィン、線状第一級アルコール、エチレンのホモポリマーおよびコポリマー、エチルベンゼン、酢酸ビニル、アセトアルデヒド、エチルアルコール、プロピオンアルデヒドおよび１，２−ジクロロエタンなどのエチレンから出発して直接製造されるエチレン誘導体化合物と、そしてまた例えば
− エチレンオキシドから製造されるグリコールおよびエーテル類、
− エチルベンゼンから製造されるスチレンおよびスチレンから誘導されるスチレンのポリマー、
− ＤＣＥから製造されるＶＣ、
− ＶＣから誘導される塩化ビニリデン、フッ素化炭化水素およびポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）ならびにフッ素化炭化水素から誘導されるフッ素化ポリマー、ならびに
− 塩化ビニリデンから誘導されるポリ塩化ビニリデンおよびフッ素化炭化水素（およびフッ素化ポリマー）
などのそれらから誘導される化合物との製造が挙げられてもよい。

好ましくは、画分Ａおよび画分Ｂは別々に、少なくとも１つのエチレン誘導体化合物の製造に搬送される。

表現「少なくとも１つのエチレン誘導体化合物」は、本発明の目的のためには、１つまたは２つ以上のエチレン誘導体化合物が本発明による方法によって製造できることを意味すると理解される。

表現「エチレン誘導体化合物」は、本発明の目的のためには、エチレンから出発して直接製造される任意のエチレン誘導体化合物ならびにそれから誘導される任意の化合物を意味すると理解される。

表現「エチレンから出発して直接製造されるエチレン誘導体化合物」は、本発明の目的のためには、エチレンから直接製造される任意の化合物を意味すると理解される。

表現「それから誘導される化合物」は、本発明の目的のためには、エチレンから製造される１化合物それ自体から製造される任意の化合物ならびにそれから誘導される任意の化合物を意味すると理解される。

より好ましくは、画分Ａおよび画分Ｂのうち１つの画分が、場合によりアセチレン水素化にかけられた後に、１，２−ジクロロエタンと場合によりそれから誘導される任意の化合物との製造に搬送されるが、他の画分は、１，２−ジクロロエタンとは異なるエチレンから出発して直接製造される少なくとも１つのエチレン誘導体化合物と場合によりそれから誘導される任意の化合物との製造に搬送される。

最も好ましくは、画分Ａおよび画分Ｂは両方とも、場合によりアセチレン水素化にかけられた後に、１，２−ジクロロエタンと場合によりそれから誘導される任意の化合物との製造に搬送される。

特に好ましい方法は、画分Ａが塩素化反応器に搬送され、そして画分Ｂがオキシ塩素化反応器に搬送され、それらの反応器で画分Ａおよび画分Ｂ中に存在するエチレンのほとんどが１，２−ジクロロエタンに転化されるものである。得られた１，２−ジクロロエタンは後で有利には、塩素化およびオキシ塩素化反応器に由来する生成物の流れから分離され、好ましくはＤＣＥ分解工程にかけられて塩化ビニルを生成し、塩化ビニルそれ自体は後でより好ましくは重合させられてＰＶＣを生成する。

本発明による方法の好ましい実施形態は、
ａ）炭化水素源が第１分解工程、すなわち分解炉で実施される熱分解工程にかけられ、こうして分解生成物の混合物を生成する工程と、
ｂ）分解生成物の前記混合物が、精製された粗ガス流れを得ることを可能にする、圧縮工程を含む、一連の処理工程にかけられる工程と、
ｃ）精製された粗ガス流れが次に、６個以上の炭素原子の炭化水素を精製された粗ガス流れから除去し、後で工程ｂ）に戻すことができるようにそれら炭化水素が凝縮する温度に冷却される工程と、
ｄ）生じた精製ガス流れが後で１つの分離塔に供給され、分離塔で、水素、メタンおよびエチレンを含有する画分（画分Ａ）が塔のヘッドで分離され、重質画分（画分Ｃ）が塔の底部で分離される工程と、
ｅ）この塔の還流の一部が、エチレン冷凍サイクルである冷凍サイクルに供給されて、エチレンに富む画分（画分Ｂ）をもたらす工程と、
ｅ’）画分Ｂが場合により、冷凍サイクルから水素およびメタンを不活性ガスとして除去することによって、水素およびメタンを激減させられる工程と、
ｅ”）水素およびメタンが場合により画分Ａに加えられる工程と、
ｆ）画分Ａおよび画分Ｂが別々にエチレンの化学的使用に供給される工程と、
ｇ）画分Ｃが水素化され、工程ａ）での炭化水素源に供給される工程と
による炭化水素源から出発する化学的使用のためのエチレンの製造方法である。

本発明による方法は今、本説明に付随する図面に関連して例示される。この図面は、本発明の方法の好ましい実施形態を概略的に示す添付の図１からなる。

炭化水素源ａは、第１分解工程１にかけられ、この分解工程でそれは分解生成物の混合物に転化される。分解生成物の前記混合物は後で、精製された粗ガス流れｂを得るために圧縮工程（本明細書では以下圧縮機エリアと呼ばれる）を含む一連の処理工程２にかけられる。精製された粗ガス流れｂは次に３で冷却され、その結果、６個以上の炭素原子の炭化水素は、圧縮機エリア２に戻される前に凝縮する。生じた精製ガス流れｃは後で、塔のヘッドでのｄと塔の底部でのｊ（画分Ｃ）とに塔４で分離される。エチレン、メタン、水素ならびに微量のＣＯを含有する画分ｄは次に、エチレン冷凍サイクル６からの液体エチレンｉによって凝縮器５で部分凝縮する。残った気相ｅ（画分Ａ）は、その中に含有されるエチレンの化学的使用に供給される。凝縮した液体ヘッド生成物ｆは塔への還流として使用され、部分ｇは、エチレン冷凍サイクル６に提供され、含有される冷エネルギーの回収後に、含有されるエチレンの化学的使用にガス状態でｅ’（画分Ｂ）として提供される。必要ならば、溶解した水素ならびにメタンは、エチレン冷凍サイクルで不活性ガスｈとして分離される。不活性ガスｈはｅに加えられてもよい。

塔４の底部生成物ｊは、エタンならびに３〜５個の炭素原子の炭化水素を含有する。その中に含有される不飽和成分の水素化は水素化７で行われる。水素化生成物ｋは、分解１の前の供給原料に加えられる。

Claims (10)

1. ａ）炭化水素源が第１分解工程、すなわち分解炉で実施される熱分解工程にかけられ、こうして分解生成物の混合物を生成する工程と、
   ｂ）分解生成物の前記混合物が、精製された粗ガス流れを得ることを可能にする、圧縮工程を含む、一連の処理工程にかけられる工程と、
   ｃ）精製された粗ガス流れが次に、６個以上の炭素原子の炭化水素を精製された粗ガス流れから除去できるようにそれら炭化水素が凝縮する温度に冷却される工程と、
   ｄ）生じた精製ガス流れが後で１つの分離塔に供給され、分離塔で、水素、メタンおよびエチレンを含有する画分（画分Ａ）が塔のヘッドで分離され、重質画分（画分Ｃ）が塔の底部で分離される工程と、
   ｅ）この塔の還流の一部が冷凍サイクルに供給されて、エチレンに富む画分（画分Ｂ）をもたらす工程と、
   ｆ）画分Ａおよび画分Ｂが別々にエチレンの化学的使用に供給される工程と
   による、炭化水素源から出発する化学的使用のためのエチレンの製造方法。
2. 前記炭化水素源が、ナフサ、ガスオイル、天然ガス液、エタン、プロパン、ブタン、イソブタンおよびそれらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
3. 前記炭化水素源が、エタン、プロパン、ブタンおよびプロパン／ブタン混合物からなる群から選択されることを特徴とする請求項２に記載の方法。
4. 工程ｃ）で凝縮した前記炭化水素が工程ｂ）に戻されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
5. 前記冷凍サイクルがエチレン冷凍サイクルであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
6. 前記分離塔の還流の一部が、冷凍内容物の蒸発および利用後に冷凍サイクルに供給されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
7. 画分Ｂが、前記冷凍サイクルから水素およびメタンを不活性ガスとして除去することによって、水素およびメタンを激減させられることを特徴とする請求項１に記載の方法。
8. 画分Ｃが水素化され、工程ａ）での炭化水素源に供給されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
9. エタンを供給原料として使用するとき、画分Ｃの前記水素化が、さらなる水素化なしに前記炭化水素源への画分Ｃの直接供給を可能にするアセチレンの任意の水素化と一緒に行われることを特徴とする請求項８に記載の方法。
10. プロパン、ブタンまたはプロパン／ブタン混合物を供給原料として使用するとき、画分Ｃが、追加の分離なしに細流相反応器での水素化にかけられ、後で前記炭化水素源と混合されることを特徴とする請求項８に記載の方法。

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