JP2011520641A5 - - Google Patents
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Claims (19)
- 膜シートの上に重合可能材料をパターニングするための方法であって、
前記膜シートの上に重合可能材料の複数の小滴を分与するステップと、
第1のインプリント・リソグラフィ・テンプレートと前記膜シート上の重合可能材料の前記小滴が接触するよう、前記第1のインプリント・リソグラフィ・テンプレートに力を印加するステップと、
残留層および少なくとも1つのフィーチャを有するパターン化された層を形成するために前記重合可能材料を凝固させるステップと
から構成され、
前記力は、前記第1のインプリント・リソグラフィ・テンプレートと接触している間に小滴が合体して連続層が形成されるよう、前記膜シート上の前記重合可能材料の前記小滴の局部トラッピングを最小化するように予め決定されている、ことを特徴とする方法。 - 前記膜シート上に分与されると前記小滴が合体して連続層が形成されるよう、前記小滴を分与するステップに先立って前記膜シートの張力を調整するステップをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記膜シートの張力を調整するステップは、前記膜シートの引張り強さを強くするステップを含むことを特徴とする請求項1または2に記載の方法。
- 前記膜シート上に分与されると前記小滴が合体して連続層が形成されるよう、前記小滴を分与するステップに先立って前記重合可能材料の表面接触角を調整するステップをさらに含むことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記膜シート上に分与されると前記小滴が合体して連続層が形成されるよう、前記小滴を分与するステップに先立って前記重合可能材料の粘性を調整するステップをさらに含むことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記膜シート上に分与されると前記小滴が合体して連続層が形成されるよう、前記小滴を分与するステップに先立って前記重合可能材料の前記小滴のサイズを調整するステップをさらに含むことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記膜シート上に分与されると前記小滴が合体して連続層が形成されるよう、前記小滴を分与するステップに先立って前記重合可能材料の配置を調整するステップをさらに含むことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の方法。
- 前記膜シートは、第1のローラおよび第2のローラに結合され、前記第1のローラおよび前記第2のローラが、前記膜シートの第1の部分が前記第1のインプリント・リソグラフィ・テンプレートに対して実質的に平行になるよう、互いに実質的に平行に配置されることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第1のインプリント・リソグラフィ・テンプレートは複数の型を含むことを特徴とする、請求項1乃至8のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第1のインプリント・リソグラフィ・テンプレートの前記複数の型は、実質的に類似していることを特徴とする請求項9に記載の方法。
- 前記第1のインプリント・リソグラフィ・テンプレートの前記複数の型は、第2のサブセットの型と相補をなす第1のサブセットの型を含むことを特徴とする請求項9に記載の方法。
- 前記第1のインプリント・リソグラフィ・テンプレートに隣接するチャッキング・システムをさらに備え、前記チャッキング・システムは個々の型と重畳して複数のチャンバを画定することを特徴とする請求項9乃至11のいずれか一項に記載の方法。
- 個々のチャンバと流体連絡しているポンプ・システムをさらに備え、前記第1のインプリント・リソグラフィ・テンプレートの一部は前記膜シートから離れる方向に湾曲し、かつ、前記テンプレートの一部が前記膜シートに向かって湾曲するよう、前記ポンプ・システムは個々のチャンバを真空状態にすることが可能であることを特徴とする請求項12に記載の方法。
- 個々のチャンバと流体連絡しているポンプ・システムをさらに備え、前記ポンプ・システムは個々のチャンバを圧力状態にすることが可能であることを特徴とする請求項12または13に記載の方法。
- 第2のインプリント・リソグラフィ・テンプレートを使用して前記パターン化された層の上に第2のパターン化された層をパターニングするステップをさらに備え、そのステップにおいて、前記第2のインプリント・リソグラフィ・テンプレートは、前記第1のインプリント・リソグラフィ・テンプレートを使用して前記パターン化された層を形成している間、前記重合可能材料からオフセットして配置され、また、前記第2のインプリント・リソグラフィ・テンプレートを使用してパターニングしている間、前記第1のインプリント・リソグラフィ・テンプレートが前記パターン化された層からオフセットして配置されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記第1のインプリント・リソグラフィ・テンプレートは、前記膜シートに向かって延在している複数の型、および型が実質的に存在しない複数の部分を含むことを特徴とする請求項15に記載の方法。
- 前記第2のインプリント・リソグラフィ・テンプレートは前記第1のインプリント・リソグラフィ・テンプレートと相補をなすことを特徴とする請求項15または16に記載の方法。
- 膜シートが実質的に平らになるよう、前記膜シート中の起伏が最小化されるように、前記パターン化された層をパターン化するために前記第2のインプリント・リソグラフィ・テンプレートに印加される力を決定することができることを特徴とする請求項15乃至17のいずれか一項に記載の方法。
- 前記膜シートは第1のローラおよび第2のローラに結合され、
前記パターン化された層および前記第2のパターン化された層を有する前記膜シートを前記第2のローラによって巻き戻すステップと、
巻き戻すステップに先立って前記第2のパターン化された層の上に膜をパターニングするステップであって、前記膜シートを巻き戻している間、前記膜が前記第2のパターン化された層を損傷から保護するステップと
をさらに含むことを特徴とする請求項15乃至18のいずれか一項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US4126408P | 2008-04-01 | 2008-04-01 | |
US61/041,264 | 2008-04-01 | ||
US12/415,563 US8187515B2 (en) | 2008-04-01 | 2009-03-31 | Large area roll-to-roll imprint lithography |
US12/415,563 | 2009-03-31 | ||
PCT/US2009/002032 WO2009123721A2 (en) | 2008-04-01 | 2009-04-01 | Large area roll-to-roll imprint lithography |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011520641A JP2011520641A (ja) | 2011-07-21 |
JP2011520641A5 true JP2011520641A5 (ja) | 2012-05-17 |
JP5613658B2 JP5613658B2 (ja) | 2014-10-29 |
Family
ID=41115897
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011502956A Active JP5613658B2 (ja) | 2008-04-01 | 2009-04-01 | 大面積ロールツーロール・インプリント・リソグラフィ |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8187515B2 (ja) |
EP (1) | EP2262592A4 (ja) |
JP (1) | JP5613658B2 (ja) |
KR (1) | KR101767966B1 (ja) |
CN (1) | CN101990470B (ja) |
MY (1) | MY152467A (ja) |
TW (1) | TWI391233B (ja) |
WO (1) | WO2009123721A2 (ja) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080160129A1 (en) * | 2006-05-11 | 2008-07-03 | Molecular Imprints, Inc. | Template Having a Varying Thickness to Facilitate Expelling a Gas Positioned Between a Substrate and the Template |
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JP5411557B2 (ja) * | 2009-04-03 | 2014-02-12 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 微細構造転写装置 |
KR20110066793A (ko) * | 2009-12-11 | 2011-06-17 | 엘지디스플레이 주식회사 | 패터닝 장치 |
US8691134B2 (en) | 2010-01-28 | 2014-04-08 | Molecular Imprints, Inc. | Roll-to-roll imprint lithography and purging system |
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JP6412317B2 (ja) | 2013-04-24 | 2018-10-24 | キヤノン株式会社 | インプリント方法、インプリント装置および物品の製造方法 |
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SG11201601162TA (en) | 2013-08-19 | 2016-03-30 | Univ Texas | Programmable deposition of thin films of a user-defined profile with nanometer scale accuracy |
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US11131923B2 (en) * | 2018-10-10 | 2021-09-28 | Canon Kabushiki Kaisha | System and method of assessing surface quality by optically analyzing dispensed drops |
WO2020232150A2 (en) * | 2019-05-13 | 2020-11-19 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Roll-to-roll nanoimprint lithography tools processes |
US11562924B2 (en) * | 2020-01-31 | 2023-01-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Planarization apparatus, planarization process, and method of manufacturing an article |
US11908711B2 (en) | 2020-09-30 | 2024-02-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Planarization process, planarization system and method of manufacturing an article |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US8076386B2 (en) * | 2004-02-23 | 2011-12-13 | Molecular Imprints, Inc. | Materials for imprint lithography |
US20050189676A1 (en) * | 2004-02-27 | 2005-09-01 | Molecular Imprints, Inc. | Full-wafer or large area imprinting with multiple separated sub-fields for high throughput lithography |
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CN101573659A (zh) * | 2005-12-08 | 2009-11-04 | 分子制模股份有限公司 | 排除位于基板和模具之间的气体的方法 |
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-
2009
- 2009-03-31 US US12/415,563 patent/US8187515B2/en active Active
- 2009-04-01 TW TW098110869A patent/TWI391233B/zh active
- 2009-04-01 KR KR1020107022385A patent/KR101767966B1/ko active IP Right Grant
- 2009-04-01 WO PCT/US2009/002032 patent/WO2009123721A2/en active Application Filing
- 2009-04-01 MY MYPI20104027 patent/MY152467A/en unknown
- 2009-04-01 JP JP2011502956A patent/JP5613658B2/ja active Active
- 2009-04-01 CN CN200980112481.2A patent/CN101990470B/zh active Active
- 2009-04-01 EP EP09726571A patent/EP2262592A4/en not_active Withdrawn
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