JP2011258917A - 発光ダイオードアレイおよびその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】 費用効率および長期的信頼性に優れたLEDアレイおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 第1電極を有する第1LED素子と第2電極を有する第2LED素子とを含む発光ダイオード(LED)アレイにおいて、第1LED素子および第2LED素子が同一の基板上に形成され、間隙を介して離隔されており、間隙を実質的に充填する少なくとも1種のポリマー材と、少なくとも1種のポリマー材上に形成され、第1電極および第2電極を電気的に接続する相互接続部とを含むLEDアレイを開示する。
【選択図】 図4C

Description

関連出願の参照
本願は、米国仮特許出願第61351779号の諸利益を主張するものである。この米国仮特許出願は、2010年6月4日に「ポリマー填隙および低融点金属の接合によるマルチメサベースのLEDチップの相互接続部構造および処理」と題して出願された。
本発明は半導体ベースの発光装置に関し、さらに詳細には、本発明は当該素子の構造およびその製造方法に関する。
発光ダイオード(LED)は、半導体ダイオードベースの光源である。ダイオードが順方向にバイアスされているとき(開閉器がオンのとき)は、電子を素子内の正孔と再結合できるため、エネルギーが光量子の形態で放出される。この効果はエレクトロルミネセンスと呼ばれるもので、(光量子のエネルギーに対応する)光の色は、半導体のエネルギー間隙によって決定される。光源としてLEDを用いると、白熱光源を用いた場合よりも多くの利点が得られる。具体的な利点としては、エネルギー消費量の節減、耐用年数の長期化、頑健性の向上、小型化、開閉の高速化、耐久性の強化、信頼性向上などがある。
図1は、基板102と、N型層110と、発光層125と、P型層130とを含むLEDダイ100の透視図である。N型層110にはN接点115を形成し、P型層130にはP接点135を形成することによって、その両方の層への電気的な接続を可能にしている。N接点115およびP接点135に適当な電圧を印加すると、N型層110から電子が離脱して発光層125内の正孔と結合する。発光層125にて電子と正孔が結合すると光が発生する。基板102の製造材料として一般的に用いられているのは、サファイヤである。N型層110の製造材料としては、たとえばSiドープAlGaNやSiドープGaNなどが挙げられ、P型層240の製造材料としては、たとえばMgドープAlGaNやMgドープGaNなどが挙げられる。発光層125は一般的に、単一量子井戸または多重量子井戸により形成される(多重量子井戸の例としては、InGaNやGaNなどがある)。
場合によっては、絶縁性または高抵抗性の基板(たとえば、サファイヤ、SiCなどIII族窒化物の基板)上に、直列または並列のLEDアレイを形成する。個々のLEDをトレンチを介して離隔し、アレイ上に堆積された相互接続部を通してアレイ内の個々のLEDの接点を電気的に接続する。個々のLEDの電気的分離が完全に遂行されるように、通常は相互接続部を堆積するに先立って、まずLEDアレイに誘電材料を堆積し、次いでN型層およびP型層に接触孔をあける位置にてパターン化・除去する。それによって、基板上の個々のLED間のトレンチ内、および各LEDの露出したP型層とN型層間のメサ壁上に誘電材料が残るようにする。誘電材料としては、たとえば、ケイ素の酸化物、ケイ素の窒素化合物、ケイ素の酸窒化物、酸化アルミニウムなど任意の適当な誘電材料を用いることができる。
ただし、誘電材料の堆積は時間とコストのかかる処理である。しかも、堆積処理の後に形成された相互接続部は、プロファイルが複雑になるとともに相互接続部の隅角部が鋭くなるため、信頼性にかかわる問題となる。そのため、LEDアレイ素子を費用効率および長期的信頼性に優れた方法で製造できるシステムおよび方法が求められる。
費用効率および長期的信頼性に優れたLEDアレイおよびその製造方法を提供する。
第1電極を有する第1LED素子と第2電極を有する第2LED素子とを含む発光ダイオード(LED)アレイを開示する。このLEDアレイにおいては、第1LED素子および第2LED素子が同一の基板上に形成され、間隙を介して離隔されている。LEDアレイは、間隙を実質的に充填する少なくとも1種のポリマー材と、少なくとも1種のポリマー材上に形成され、第1電極および第2電極を電気的に接続する相互接続部とをさらに含む。
本発明の別の態様においては、基板上にLED構造体を形成する工程と、LED構造体を間隙を介して第1LED素子および第2LED素子に離隔する工程と、間隙を実質的に充填するためLED構造体に少なくとも1種のポリマー材を堆積する工程と、少なくとも1種のポリマー材の一部を除去して、第1LED素子の第1電極および第2LED素子の第2電極を露出させる工程と、少なくとも1種のポリマー材上に第1電極および第2電極を電気的に接続する相互接続部を形成する工程とを含む、発光ダイオード(LED)アレイの形成方法が開示されている。
しかしながら、本発明の構成と施行方法、さらにその他の目的およびその諸利益は、特定実施形態に関する下掲の説明を添付の図面と関連付けて読むのが、最も理解されやすい。
LEDダイの透視図である。 単一基板内に配設されたLEDアレイの上面図である。 単一基板内に配設されたLEDアレイの上面図である。 図2Bに示す従来のLEDアレイの横断面図である。 本発明の一実施形態に係るLED素子を形成するための製造工程を示す図である。 本発明の一実施形態に係るLED素子を形成するための製造工程を示す図である。 本発明の一実施形態に係るLED素子を形成するための製造工程を示す図である。 基板内に形成されたトレンチを示す図であり、このトレンチを介して本発明の別の実施形態に係る2個のLED素子が離隔されている。 相互接続部の代替パターンをいくつか示した図である。 相互接続部の代替パターンをいくつか示した図である。 ボード上にフリップ実装されているLEDチップを示す図である。
本明細書に添付されている図面は、発明の特定の態様を表すために、本明細書の一部として含めたものである。図面に例示された模範的(ゆえに非制限的な)実施形態を参照することによって、本発明およびそれに係るシステムの構成要素および施行に関して明確化された概念を容易に把握できるようになるであろう。同図面において同じ参照番号は、(複数の図に出現している場合でも)同一の要素を指している。これらの図面のうちの1つまたは複数を参照し、本明細書に記載の説明を読むことによって、本発明の理解を深めることができるであろう。
本発明は、LEDアレイ構造体、およびその製造方法を開示するものである。LEDアレイは、比較的低い電流密度において有意量の光を放出する複数のLED素子によって形成される。電流密度を低減すると熱の放出量が減るため、ポリマー材をLEDアレイの形成に用いることができる。LEDアレイ構造体の詳細およびその製造工程については、以下に記載する。
図2Aおよび図2Bは、単一の基板205内に配設したLEDアレイ200の上面図である。図2Aを参照すると、LEDアレイ200が説明の目的に4つの行(Y)および4つの列(X)で示してある。この行列は、相等しいLED素子210[0:3,0:3]が離隔された状態でそれぞれメサ形状をなしていることを表す。LED素子210を離隔する手段として、レーザーエッチング法または誘導結合型プラズマ反応性イオンエッチング法(ICP―RIE)を用いてもよい。たとえば、隣接するLED素子210[2,3]および210[3,3]は、間隙220[2]を介して離隔されている。LED素子210[2,3]に具備してある2つの電極(パッド213[2,3]およびパッド215[2,3])はそれぞれ、LED素子210[2,3]の陽極および陰極として機能している。両電極は、P−GaNおよびN−GaN上に(P側またはN側のどちらかを上にして)形成してもよい。1つのLED素子の陽極パッドを隣接のLED素子の陰極パッドに近接して配置することにより、LED素子210を容易に直列に接続できるようにして
いる。
次に図2Bを参照すると、パッド213[2,3]およびパッド215[3,3]が相互接続部230[2,3]を通して接続されている。パッド213およびパッド215を形成する場合と同様、相互接続部230を形成する場合も一般的には金属を用いるが、パッド213、パッド215、および相互接続部230を必ずしも同じ金属で形成しなくてもよい。
図3は、図2Bに図示する従来のLEDアレイ202の、位置A−A’における横断面図である。単一基板205上に複数のLED素子210が構築されており、図3に示す210[1,3]および210[2,3]にて2つの隣接する横断面が示してある。たとえば、パッド213[1,3]をLED素子210[1,3]の陽極とし、パッド215[2,3]をLED素子210[2,3]の陰極とする。従来通り、LED素子210間にある間隙220[1]に酸化物層310を堆積し、隣接する構造体からパッド213およびパッド215を電気的に絶縁する。さらに、酸化物層310上に金属相互接続部230[1,3]を形成してパッド213[1,3]およびパッド215[2,3]に接続する。間隙220が深いために間隙220全体を酸化物層310で充填できない場合、金属相互接続部230の隅角部が鋭くなり、プロファイルが複雑になる。隅角部がとがっていると、比較的壊れやすくなるため信頼性にかかわる問題となる。
図4A〜図4Cは、本発明の一実施形態に係るLED素子210間の間隙220を充填するための製造工程を示す図である。本発明に係るLED素子は、熱をほとんど生じることなしに高効率で利用できることを前提としているので、完成したLED素子内にポリマー材を残すことは可能である。
図4Aを参照すると、個々のLED素子210とそれらの各パッド213およびパッド215を形成し終えた後に、LED素子210上にポリマー層410を堆積することにより、間隙220を充填している。ポリマー材としては、ポリメチルグルタルイミド(PMGI)やSU―8などのフォトレジストを用いるのが好ましい。光抽出を高めるためには、ポリマー層410の屈折率を1(空気の屈折率)から2.6(半導体の屈折率)までの範囲とする。ポリマー層410の光透過性は90%以上とし、99%以上とするのがより好ましい。パッド213上で測定されるポリマー層410の膜厚は、約2μmとするのが一般的である。ポリマー層410を燐光体(約30重量%の塗布量)に予備混合することによって放射光の色を調節できるが、その際にはポリマー塗布厚と燐光体粒径との相対寸法の調整が必要になる。たとえば、パッド213におけるポリマー層410の膜厚を約3μmとした場合、適切な燐光体粒経は約3μm以下である。
図4Bを参照すると、ポリマー層410にパターン化用マスク420を塗布する。このマスク420のパッド213およびパッド215に対応する位置には開口423が設けられており、その上方のポリマー層410に対して除去処理を施せるようになっている。ポリマーの除去処理によって、ポリマー層410の表面プロファイルも滑らかになる。
ポリマー除去の処理が終えてパッド213およびパッド215が露出された後は、ポリマー表面に対して表面親水性の改質を施しして(たとえば、酸素プラズマにより)元の疎水性表面を親水性表面に変換する。結果として、後に形成された金属ベースの相互接続部を通してポリマー層410への付着性が改善される。
図4Cを参照すると、パッド213とパッド215とを接続する相互接続部430が、ポリマー層410に形成されている。ポリマー層410の表面プロファイルが滑らかであるため、後に形成された金属ベースの相互接続部430はプロファイルが薄く滑らかになり耐久性も改善される。それに対して、従来の相互接続部(図3の230)は、プロファイルが複雑でしかも隅角部がとがっているため、比較的壊れやすい。従来の相互接続部230の壊れやすさは、相互接続部230の厚幅を増やすことで若干改善されるが、この方法では別途の材料を使用しなければならず加工時間も余計にかかるため、コストが割高となる。
本発明におけるLED素子210は、先に述べたように、熱をほとんど生じることなしに高効率で利用できることを前提とするため、低融点金属(たとえば、Al、In、Snや関係する合金金属)を用いて相互接続部430の主成分(90容量%以上)を形成すれば、LED素子の製造コストの大幅削減につながる。相互接続部430を形成するための加工処理としては、たとえば化学気相成長法、金属スパッタリング・蒸着などを用いることができる。模範的処理では、3つの金属層(Ti/Al/Pt)をスパッタリングして相互接続部430を形成する。
なお、相互接続部430の形成には金属粉末およびポリマー(たとえば、銀ペースト)の混合物を用いてもよい。付随する加工処理にて、スクリーン印刷法あるいはステンシル印刷法を用いれば、製造コストの大幅削減につながる。
加えて、ポリマー層410を滑らかにすると、パッド213、パッド215および相互接続部430の寸法が図3に示す従来のものよりも縮小されるので、不透明なパッド213、パッド215および相互接続部430で遮蔽するLED領域をこれまでより狭く抑えることができる。
ポリマー層410は、前述したように表面を滑らかにできるだけでなく、隣接するLED素子210から熱を吸収・放散することもできる。これは、特にポリマー層410にセラミックスや炭素系ナノ構造などの特殊な材料を若干混入した場合に当てはまる。
セラミックスおよび炭素系ナノ構造は、熱エネルギーを吸収して、それを遠赤外波長エネルギーとして放出する。赤外放射は電磁放射の一形態である。赤外放射の波長は、電磁スペクトルの可視部分の赤端よりも長いが、マイクロ波放射よりは短い。この波長はおよそ1〜数百μの範囲にわたり、その下位区分には標準的な規定がないが、大まかには近赤外線(0.7〜1.5μ)、中赤外線(1.5〜5μ)、および遠赤外線(5〜1000μ)に分けられる。
無機酸化物系、窒化物系、または炭化物系のセラミックスは、遠赤外線放射体として最も有効であると思料される。セラミック系の遠赤外線放射体(酸化ジルコニウム、チタニア、アルミナ、酸化亜鉛、酸化ケイ素、窒化ホウ素、炭化ケイ素など)に関しては、これまでに多くの調査が報告されている。遷移元素の酸化物(たとえば、MnO、Fe、CuO、CoOなど)は、遠赤外線放射体として比較的有効であると考えられる。その他の遠赤外線放射体として挙げられる炭素系ナノ構造(たとえば、カーボンナノカプセルやカーボンナノチューブは、高度な放射活性も示す。炭素系ナノ構造の材料は黒体に酷似しており、赤外線範囲全体にわたって高度な放射活性を呈する。本発明の一実施形態によれば、セラミックスまたは炭素系ナノ構造にポリマー層410を予備混合する。こうしておくと、ナノ構造を介して近辺のLED素子210および/または燐光体から熱が吸収され、次いで遠赤外放射として散逸されるようになる。この特性を活かせば、LED素子210がヒートシンクや冷却ファンのない密閉筐体内に設置されているときでも、LED素子210から熱を逃散できる。ヒートシンクや冷却ファンを設置すれば当然、熱の散逸効率を高めことができる。
図5は基板205内に形成されたトレンチ502の図であり、このトレンチ502を介して本発明の別の一実施形態に係る2つのLED素子を離隔している。LED素子210の横側部からの光の放出量を増やすために、2つのLED素子210間に間隙を形成する際は一般的に、レーザーエッチング法で基板にトレンチ502を形成する。結果として、LED素子210アレイが組み込まれた後のLEDチップは全体的に光抽出効率が向上する。トレンチ502を深いほど、LEDチップの光抽出効率が高くなる。トレンチ502の深さは、基板205の表面からトレンチ502の底部までを測定した値であり、一般的には20μm〜100μmの範囲で制御される。
しかしながら、トレンチ502は充填しづらい。本発明の一実施形態によれば、図5に示すように、トレンチ502内に先にPMGI層510を堆積してからSU―8層520を堆積する。充填特性は、PMGI層510の方が良好である。PMGI層510上に堆積されたSU―8層520は、下に配置されたPMGI層510が以降のフォトレジスト処理にて現像剤と反応するのを防ぐバリヤー層として機能する。この種のフォトレジスト処理の1つとしては、金属スパッタリングにてNR―7パターニングフォトレジストを用いて相互接続部430を形成する方法が挙げられる。SU―8層520によって反応が阻止される場合を除き、NR―7フォトレジストに用いられる現像剤はPMGI層510と反応しうる。ただし、印刷処理にて相互接続部430を銀ペーストで形成した場合は、単一のPMGI層を用いて2つのLED素子210間の間隙(トレンチ502など)全体を充填すれば、加工コストの大幅削減につながる。
図6Aおよび図6Bは、相互接続部430の代替パターンをいくつか示した図である。図6Aを参照すると、相互接続部630aおよび相互接続部630bはLED素子210の縁部まで移動しており、これは電極パッドの再配置に対応している(図不示)。図6Bを参照すると、相互接続部635aおよび相互接続部635bはT字状をなし、隣接するLED素子210を接続している。さまざまな相互接続部パターンを用いる目的は、相互接続部領域を減らし、LED素子からの放出光を相互接続部で遮蔽する領域を最小限に抑えることにある。
図7は、ボード720上にフリップ実装されているLEDチップ702を示す図である。LEDチップ702は、図4A〜図4Cに示す処理を経て製造される。すなわち、同一の基板205上に複数のLED素子210が形成される(図7には示していない)。基板205を透光性の高いサファイヤとすれば、ボード720上にLEDチップ702をフリップ実装できる。そのような場合、LEDチップ702の基板205を一番上に配置し、この基板205の下方に複数のLED素子210を配置する。ボード720上にLEDチップ702をフリップ実装する際には、事前にまずLEDチップ702の端子上に半田球710を形成する。次いで、半田球710を対応する端子相互接続部722に整列配置し、LEDチップ702を反転させた状態でボード720上に設置する。溶融処理後は、端子相互接続部722を介して半田球710にてLEDチップ702をボード720に接合する。フリップチップ技術の利用によってボードレベルの相互接続部をできるだけ短縮し、電気絶縁性を向上できることが明らかである。同一のボード720上に複数のLEDチップ702を取り付けた状態では、フリップチップ実装の実装密度を従来のワイヤ接合に比べて高密度化できる。さらに、ボード720上にLEDチップ702をフリップ実装し終えた後に、LEDチップ702実装用の基板(図7には示していない)を取り除くことによって発光性が高まる。
上の図は、種々の実施形態、すなわち本発明におけるさまざまな特徴を実用に供するための実施形態を示したものである。構成要素および処理を含む特定実施形態は、本発明の理解を助けるために挙げられている。これらはもちろん単なる実施形態にすぎず、本発明を請求項に記載された内容に限定することを目的としたものではない。
本発明は、本明細書に1つまたは複数の特定実施例に具体化して図示および記載してあるが、詳述された内容に限定されるものではない。これは、本発明の趣旨から逸脱することなしに、請求項に該当する事項の範囲内にて種々の修正および構造変更を施すことが可能だからである。したがって、下掲の請求項の規定事項に則り、添付の請求項をあまねくしかも本発明の範囲と一致した方法で解釈するのが適切である。

Claims (15)

  1. 第1電極を有する第1LED素子と、第2電極を有する第2LED素子とを含む発光ダイオード(LED)アレイにおいて、
    前記第1LED素子および前記第2LED素子が同一の基板上に形成され、間隙を介して離隔されており、
    前記LEDアレイは、
    前記間隙を実質的に充填する少なくとも1種のポリマー材と、
    前記少なくとも1種のポリマー材上に形成され、第1電極と第2電極とを電気的に接続する相互接続部とを含むことを特徴とするLEDアレイ。
  2. 前記第1LED素子および前記第2LED素子が直列または並列に接続されていることを特徴とする請求項1に記載のLEDアレイ。
  3. 前記ポリマー材がフォトレジストであることを特徴とする請求項1に記載のLEDアレイ。
  4. 光抽出を高めるため前記ポリマー材の光透過性が90%以上であり、かつ屈折率が1〜2.6の範囲であることを特徴とする請求項1に記載のLEDアレイ。
  5. 前記ポリマー材を燐光体、赤外線放射材、またはそれらの混合物に予備混合することを特徴とする請求項1に記載のLEDアレイ。
  6. 前記間隙が2種以上のポリマー材で実質的に充填され多層構造が形成されていることを特徴とする請求項1に記載のLEDアレイ。
  7. 前記LEDアレイは、さらにボードを含んでおり、
    前記LEDアレイは、前記基板が前記第1LED素子および前記第2LED素子よりも上方に配置するように前記ボード上にフリップ実装されていることを特徴とする請求項1に記載のLEDアレイ。
  8. 前記ボード上に前記LEDアレイをフリップ実装し終えた後に前記基板を除去することを特徴とする請求項7に記載のLEDアレイ。
  9. 基板上に発光ダイオード(LED)構造体を形成する工程と、
    前記LED構造体を間隙を介して第1LED素子および第2LED素子に離隔する工程と、
    前記間隙を実質的に充填するため前記LED構造体に少なくとも1種のポリマー材を堆積する工程と、
    前記少なくとも1種のポリマー材の一部を除去して前記第1LED素子の第1電極および前記第2LED素子の第2電極を露出させる工程と、
    前記第1電極および前記第2電極を電気的に接続する前記少なくとも1種のポリマー材上に相互接続部を形成する工程と、を含むことを特徴とするLEDアレイを形成する方法。
  10. 前記少なくとも1種のポリマー材がフォトレジストであることを特徴とする請求項9に記載の方法。
  11. 前記ポリマー材を燐光体、赤外線放射材、またはそれらの混合物に予備混合することを特徴とする請求項9に記載の方法。
  12. ポリマー表面に対して表面親水性の改質を施して元の疎水性表面を親水性表面に変換する工程をさらに含むことを特徴とする請求項9に記載の方法。
  13. 前記ポリマー材の部分を選択的に除去するためのパターン化用フォトマスクを塗布する工程をさらに含むことを特徴とする請求項9に記載の方法。
  14. 前記LEDアレイをフリップ実装するボードを提供する工程をさらに含んでおり、
    前記基板を前記第1LED素子および前記第2LED素子よりも上方に配置することを特徴とする請求項9に記載の方法。
  15. 前記LEDアレイを前記ボード上にフリップ実装し終えた後に、前記基板を除去することを特徴とする請求項14に記載の方法。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013165188A (ja) * 2012-02-10 2013-08-22 Oki Data Corp 半導体発光装置、光源装置、画像形成装置及び画像表示装置
JP2015128158A (ja) * 2013-12-30 2015-07-09 成 ▲温▼ 不可視光発光装置
JP2015525001A (ja) * 2012-08-15 2015-08-27 晶元光▲電▼股▲ふん▼有限公司 発光部品
US9178115B2 (en) 2012-02-10 2015-11-03 Oki Data Corporation Semiconductor light emitting apparatus, image displaying apparatus, mobile terminal, head-up display apparatus, image projector, head-mounted display apparatus, and image forming apparatus
KR20160112245A (ko) * 2015-03-18 2016-09-28 성균관대학교산학협력단 도선 및 반도체 소자 배선용 나노 카본 재료 및 육방정계 질화붕소 적층구조물 및 이의 제조 방법

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI495084B (zh) * 2009-07-07 2015-08-01 Epistar Corp 發光元件
US8193015B2 (en) * 2010-11-17 2012-06-05 Pinecone Energies, Inc. Method of forming a light-emitting-diode array with polymer between light emitting devices
CN102403331A (zh) * 2011-10-26 2012-04-04 华夏光股份有限公司 发光二极管阵列
US20130161667A1 (en) * 2011-12-21 2013-06-27 Phostek, Inc. Patterned reflective layer on dielectric layer for led array
US20130161654A1 (en) * 2011-12-21 2013-06-27 Phostek, Inc. Reflective layer on dielectric layer for led array
CN103208489A (zh) * 2012-01-13 2013-07-17 华夏光股份有限公司 发光二极管数组及其制造方法
US9287475B2 (en) * 2012-07-20 2016-03-15 Cree, Inc. Solid state lighting component package with reflective polymer matrix layer
US8558254B1 (en) * 2012-11-29 2013-10-15 Hong Kong Applied Science and Technology Research Institute Company Limited High reliability high voltage vertical LED arrays
KR102212803B1 (ko) * 2014-09-16 2021-02-05 엘지이노텍 주식회사 발광소자 및 발광소자 패키지
FR3055944B1 (fr) * 2016-09-15 2020-11-13 Valeo Vision Conversion lumineuse pour une source lumineuse de haute resolution
US11881546B2 (en) 2019-12-05 2024-01-23 Mikro Mesa Technology Co., Ltd. Device with light-emitting diode

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005209696A (ja) * 2004-01-20 2005-08-04 Seiko Epson Corp 半導体装置の製造方法
US20060169993A1 (en) * 2005-02-03 2006-08-03 Zhaoyang Fan Micro-LED based high voltage AC/DC indicator lamp
JP2009522803A (ja) * 2006-01-09 2009-06-11 ソウル オプト デバイス カンパニー リミテッド Ito層を有する発光ダイオード及びその製造方法
US7709849B1 (en) * 2008-12-17 2010-05-04 Seoul Semiconductor Co., Ltd. Light emitting diode having plurality of light emitting cells and method of fabricating the same

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10107316A (ja) 1996-10-01 1998-04-24 Toyoda Gosei Co Ltd 3族窒化物半導体発光素子
US6410942B1 (en) 1999-12-03 2002-06-25 Cree Lighting Company Enhanced light extraction through the use of micro-LED arrays
US7555333B2 (en) * 2000-06-19 2009-06-30 University Of Washington Integrated optical scanning image acquisition and display
GB0024294D0 (en) * 2000-10-04 2000-11-15 Univ Cambridge Tech Solid state embossing of polymer devices
US6547249B2 (en) * 2001-03-29 2003-04-15 Lumileds Lighting U.S., Llc Monolithic series/parallel led arrays formed on highly resistive substrates
US6995032B2 (en) * 2002-07-19 2006-02-07 Cree, Inc. Trench cut light emitting diodes and methods of fabricating same
TWI382452B (zh) * 2004-03-19 2013-01-11 Samsung Display Co Ltd 薄膜電晶體陣列面板及其製造方法
KR100583650B1 (ko) 2004-05-14 2006-05-30 최윤석 3차원 하체 운동기구
DE102004058305B3 (de) * 2004-12-02 2006-05-18 Infineon Technologies Ag Halbleiterbauteil mit einem eine Passivierungsschicht aufweisenden Halbleiterchip sowie Verfahren zur Herstellung desselben
US7349140B2 (en) * 2005-05-31 2008-03-25 Miradia Inc. Triple alignment substrate method and structure for packaging devices
US7847302B2 (en) * 2005-08-26 2010-12-07 Koninklijke Philips Electronics, N.V. Blue LED with phosphor layer for producing white light and different phosphor in outer lens for reducing color temperature
US7947993B2 (en) * 2006-12-18 2011-05-24 Seoul Opto Device Co., Ltd. Light emitting device having isolating insulative layer for isolating light emitting cells from each other and method of fabricating the same
KR101093117B1 (ko) 2008-09-30 2011-12-13 서울옵토디바이스주식회사 교류용 발광 소자 및 그것을 제조하는 방법
US8062916B2 (en) * 2008-11-06 2011-11-22 Koninklijke Philips Electronics N.V. Series connected flip chip LEDs with growth substrate removed

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005209696A (ja) * 2004-01-20 2005-08-04 Seiko Epson Corp 半導体装置の製造方法
US20060169993A1 (en) * 2005-02-03 2006-08-03 Zhaoyang Fan Micro-LED based high voltage AC/DC indicator lamp
JP2009522803A (ja) * 2006-01-09 2009-06-11 ソウル オプト デバイス カンパニー リミテッド Ito層を有する発光ダイオード及びその製造方法
US7709849B1 (en) * 2008-12-17 2010-05-04 Seoul Semiconductor Co., Ltd. Light emitting diode having plurality of light emitting cells and method of fabricating the same

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013165188A (ja) * 2012-02-10 2013-08-22 Oki Data Corp 半導体発光装置、光源装置、画像形成装置及び画像表示装置
US9178115B2 (en) 2012-02-10 2015-11-03 Oki Data Corporation Semiconductor light emitting apparatus, image displaying apparatus, mobile terminal, head-up display apparatus, image projector, head-mounted display apparatus, and image forming apparatus
JP2015525001A (ja) * 2012-08-15 2015-08-27 晶元光▲電▼股▲ふん▼有限公司 発光部品
JP2015128158A (ja) * 2013-12-30 2015-07-09 成 ▲温▼ 不可視光発光装置
KR20160112245A (ko) * 2015-03-18 2016-09-28 성균관대학교산학협력단 도선 및 반도체 소자 배선용 나노 카본 재료 및 육방정계 질화붕소 적층구조물 및 이의 제조 방법
KR101685791B1 (ko) 2015-03-18 2016-12-13 성균관대학교산학협력단 도선 및 반도체 소자 배선용 나노 카본 재료 및 육방정계 질화붕소 적층구조물 및 이의 제조 방법

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