JP2011251404A - マイクロマシニング型の構成部材およびマイクロマシニング型の構成部材に対する製造法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】マイクロマシニング型の構成部材であって、保持部材が設けられており、該保持部材に対して少なくとも第1の位置から第2の位置に調節可能な構成要素が設けられており、該構成要素が、保持部材に少なくとも1つのばね20を介して結合されている。少なくとも1つのばね20に配置されたシリサイド含有の少なくとも1つの線路区分30,32が設けられている。
【選択図】図1B
Description
12 調節可能な部材
12’ 傾けられた位置
14 第1の回動軸線
16 第2の回動軸線
18 内側のばね
20 外側のばね
20a 第1の固着領域
20b 第2の固着領域
20’ 撓み位置
22 結合部材
24 第1のアクチュエータ電極
24a 第1の結合ウェブ
24b 第1の電極フィンガ
26 第2のアクチュエータ電極
26a 第2の結合ウェブ
26b 第2の電極フィンガ
30 第1の線路区分
32 第2の線路区分
34 ばね領域
36 センサ
40 反射性のコーティング
Claims (10)
- マイクロマシニング型の構成部材であって、
保持部材(10)が設けられており、
該保持部材(10)に対して少なくとも第1の位置から第2の位置に調節可能な構成要素(12,18,22,24,26)が設けられており、該構成要素(12,18,22,24,26)が、保持部材(10)に少なくとも1つのばね(20)を介して結合されている形式のものにおいて、
少なくとも1つのばね(20)に配置されたシリサイド含有の少なくとも1つの線路区分(30,32)が設けられていることを特徴とする、マイクロマシニング型の構成部材。 - 前記マイクロマシニング型の構成部材が、調節可能な構成要素(12,18,22,24,26)に配置されたシリサイド含有の少なくとも1つの反射性のコーティング(40)を有している、請求項1記載のマイクロマシニング型の構成部材。
- シリサイド含有の少なくとも1つの線路区分(30,32)が、シリサイド含有の少なくとも1つの反射性のコーティング(40)に含有された少なくとも一種類のシリサイドを有している、請求項2記載のマイクロマシニング型の構成部材。
- 前記マイクロマシニング型の構成部材が、シリサイド含有の少なくとも1つのエッチングマスクを有している、請求項1から3までのいずれか1項記載のマイクロマシニング型の構成部材。
- シリサイド含有の少なくとも1つの線路区分(30,32)、シリサイド含有の少なくとも1つの反射性のコーティング(40)および/またはシリサイド含有の少なくとも1つのエッチングマスクが、以下のシリサイドの少なくとも一種類:すなわち、NiSi,Na2Si,Mg2Si,PtSi,WSi2および/またはTiSi2を有している、請求項4記載のマイクロマシニング型の構成部材。
- 前記マイクロマシニング型の構成部材が、保持部材(10)に配置された少なくとも1つのステータ電極と、調節可能な構成要素(12,18,22,24,26)に配置された少なくとも1つのアクチュエータ電極(24,26)とを備えた静電アクチュエータを有しており、少なくとも1つのアクチュエータ電極(24,26)が、保持部材(10)からばね(20)を介して少なくとも1つのアクチュエータ電極(24,26)に延びるシリサイド含有の少なくとも1つの線路区分(32)を介して電圧源に接続されている、請求項1から5までのいずれか1項記載のマイクロマシニング型の構成部材。
- マイクロマシニング型の構成部材の運転時に該マイクロマシニング型の構成部材の保持部材(10)に対して少なくとも第1の位置から第2の位置に前記マイクロマシニング型の構成部材の調節可能な構成要素(12,18,22,24,26)が調節されるように、保持部材(10)に調節可能な構成要素(12,18,22,24,26)を少なくとも1つのばね(20)を介して結合する、マイクロマシニング型の構成部材に対する製造法において、
少なくとも1つのばね(20)にシリサイド含有の少なくとも1つの線路区分(30,32)を配置することを特徴とする、マイクロマシニング型の構成部材に対する製造法。 - 調節可能な構成要素(12,18,22,24,26)にシリサイド含有の少なくとも1つの反射性のコーティング(40)を配置する、請求項7記載の製造法。
- 付加的な方法ステップとして、
所定の表面を部分的に被覆するシリサイド含有のエッチングマスクを形成し、前記表面の、前記エッチングマスクによって被覆されていない少なくとも一部分面を形成し、
エッチングステップを実施し、少なくとも前記エッチングマスクによって被覆されていない前記部分面の材料を除去する、請求項7または8記載の製造法。 - シリサイド含有の前記エッチングマスクを、シリサイド含有の少なくとも1つの線路区分(30,32)および/またはシリサイド含有の少なくとも1つの反射性のコーティング(40)を形成する少なくとも一種類のシリサイドから形成する、請求項9記載の製造法。
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