JP2011249246A - 荷電粒子線装置、試料移動装置、マスク位置調整機構、試料位置調整方法及びマスク位置調整方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】荷電粒子線装置の試料ステージ008に対する試料の位置を調整する試料移動装置040であって、SEM制御ユニット015からの指令に応じて出力指示信号を生成する赤外線ランプ制御ユニット014と、赤外線ランプ制御ユニット014からの出力指示信号に応じて赤外線信号を照射する赤外線ランプ010と、試料ステージ008上に固定された試料台ホルダー007と、試料台ホルダー007に対し変位可能に取り付けた試料台102と、赤外線ランプ010からの赤外線信号を受光する赤外線センサー108と、赤外線センサー108で受光した赤外線信号に応じて試料台102を駆動するモーター110とを備える。
【選択図】 図1
Description
図1は本発明の第1実施形態に係る試料移動装置を搭載した荷電粒子線装置の概略構成図である。また、図2は本発明の第1実施形態に係る試料移動装置の概略構成図で、図2(a)は側面図、図2(b)は図2(a)中の矢印II方向から見た正面図である。
図3は本発明の第2実施形態に係る試料移動装置040Aの概略構成図で、図3(a)は側面図、図3(b)は図3(a)中の矢印III方向から見た正面図である。
図4は本発明の第3実施形態に係る試料移動装置040Bの概略構成図で、図4(a)は側面図、図4(b)は図4(a)中の矢印IV方向から見た正面図である。
図5は本発明の第4実施形態に係る試料移動装置040Cの概略構成図で、図5(a)は側面図、図5(b)は図5(a)中の矢印V方向から見た正面図である。
図6は本発明の第5実施形態に係る試料移動装置040Dの概略構成図で、図6(a)は側面図、図6(b)は図6(a)中の矢印VI方向から見た正面図である。
図7は本発明の第6実施形態に係るマスク位置調整機構041の概略構成図で、図7(a)は側面図、図7(b)は図7(a)中の矢印VII方向から見た正面図である。
図9は本発明の第7実施形態に係るマスク位置調整機構041Aの概略構成図で、図9(a)は側面図、図9(b)は図9(a)中の矢印IX方向から見た正面図である。
図10は本発明の第8実施形態に係る試料移動装置040Eの概略構成図で、図10(a)は側面図、図10(b)は図10(a)中の矢印X方向から見た正面図である。
007 試料台ホルダー
008 試料ステージ
010 赤外線ランプ(赤外線照射手段)
011 試料室
014 赤外線ランプ制御ユニット(出力指示手段)
015 SEM制御ユニット(制御装置)
030 荷電粒子照射系
040,040A−E 試料移動装置
101 試料
102 試料台
108 赤外線センサー(赤外線受光手段)
109 バッテリー
110 モーター(駆動装置)
112 太陽電池(赤外線受光手段)
115 試料
117 マスク
121 モーター(駆動装置)
127 試料台
131 モーター(駆動装置)
141,141A マスク位置調整機構
147 モーター(駆動装置)
Claims (12)
- 試料室と、
この試料室内に設けた試料ステージと、
この試料ステージに向けて荷電粒子線を照射する荷電粒子照射系と、
前記試料ステージに対する試料の位置を調整する試料移動装置とを備え、
前記試料移動装置は、
接続される制御装置からの指令に応じて出力指示信号を生成する出力指示手段と、
前記出力指示手段からの出力指示信号に応じて赤外線信号を照射する赤外線照射手段と、
前記試料ステージ上に固定された試料台ホルダーと、
この試料台ホルダーに対し変位可能に取り付けた試料台と、
前記試料台ホルダーに取り付けられ、前記赤外線照射手段からの赤外線信号を受光する赤外線受光手段と、
この赤外線受光手段で受光した赤外線信号に応じて前記試料台を駆動する駆動装置と
を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 試料室と、
この試料室内に設けた試料ステージと、
この試料ステージに向けて荷電粒子線を照射する荷電粒子照射系と、
前記試料ステージに搭載された試料に対するマスクの位置を調整するマスク位置調整機構とを備え、
前記マスク位置調整機構は、
接続される制御装置からの指令に応じて出力指示信号を生成する出力指示手段と、
前記出力指示手段からの出力指示信号に応じて赤外線信号を照射する赤外線照射手段と、
前記試料ステージ上に固定された試料台ホルダーと、
この試料台ホルダーに取り付けた試料台と、
前記試料台ホルダーに対し変位可能に取り付けたマスクと、
前記試料台ホルダーに取り付けられ、前記赤外線照射手段からの赤外線信号を受光する赤外線受光手段と、
この赤外線受光手段で受光した赤外線信号に応じて前記マスクを駆動する駆動装置と
を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1又は2の荷電粒子線装置において、前記赤外線受光手段からの赤外線信号に応じて前記駆動装置を制御するバッテリーを有することを特徴とする荷電粒子線装置。
- 請求項3の荷電粒子線装置において、前記赤外線受光手段が赤外線センサーであることを特徴とする荷電粒子線装置。
- 請求項3の荷電粒子線装置において、前記赤外線受光手段は太陽電池であり、当該太陽電池で赤外線から得られた電気エネルギーが前記バッテリーに蓄電されることを特徴とする荷電粒子線装置。
- 請求項1の荷電粒子線装置において、前記試料台が前記試料台ホルダーに対して傾動可能に設けられていることを特徴とする荷電粒子線装置。
- 請求項1の荷電粒子線装置において、前記試料台が前記試料台ホルダーに対して上下に移動可能に設けられていることを特徴とする荷電粒子線装置。
- 請求項2の荷電粒子線装置において、前記マスクが前記試料台ホルダーに対して水平方向に移動可能に設けられていることを特徴とする荷電粒子線装置。
- 荷電粒子線装置の試料ステージに対する試料の位置及び姿勢の少なくとも一方を調整する試料移動装置において、
接続される制御装置からの指令に応じて出力指示信号を生成する出力指示手段と、
前記出力指示手段からの出力指示信号に応じて赤外線信号を照射する赤外線照射手段と、
前記試料ステージ上に固定された試料台ホルダーと、
この試料台ホルダーに対し変位可能に取り付けた試料台と、
前記試料台ホルダーに取り付けられ、前記赤外線照射手段からの赤外線信号を受光する赤外線受光手段と、
この赤外線受光手段で受光した赤外線信号に応じて前記試料台を駆動する駆動装置と
を備えたことを特徴とする試料移動装置。 - 荷電粒子線の試料ステージに搭載された試料に対するマスクの位置を調整するマスク位置調整機構において、
接続される制御装置からの指令に応じて出力指示信号を生成する出力指示手段と、
前記出力指示手段からの出力指示信号に応じて赤外線信号を照射する赤外線照射手段と、
前記試料ステージ上に固定された試料台ホルダーと、
この試料台ホルダーに取り付けた試料台と、
前記試料台ホルダーに対し変位可能に取り付けたマスクと、
前記試料台ホルダーに取り付けられ、前記赤外線照射手段からの赤外線信号を受光する赤外線受光手段と、
この赤外線受光手段で受光した赤外線信号に応じて前記マスクを駆動する駆動装置と
を備えたことを特徴とするマスク位置調整機構。 - 接続される制御装置からの指令に応じて出力指示信号を生成する出力指示手段と、前記出力指示手段からの出力指示信号に応じて赤外線信号を照射する赤外線照射手段と、荷電粒子線装置の試料ステージ上に固定される試料台ホルダーと、この試料台ホルダーに対し変位可能に取り付けた試料台と、前記試料台ホルダーに取り付けられ、前記赤外線照射手段からの赤外線信号を受光する赤外線受光手段と、この赤外線受光手段で受光した赤外線信号に応じて前記試料台を駆動する駆動装置とを備えた試料移動装置を、前記荷電粒子線装置の試料ステージ上に取り付け、
前記制御装置を操作して前記赤外線照射手段を制御し、赤外線信号を利用して前記試料移動装置を無線操作して前記試料ステージに対する試料の位置を調整する試料位置調整方法。 - 接続される制御装置からの指令に応じて出力指示信号を生成する出力指示手段と、前記出力指示手段からの出力指示信号に応じて赤外線信号を照射する赤外線照射手段と、荷電粒子線装置の試料ステージ上に固定される試料台ホルダーと、この試料台ホルダーに取り付けた試料台と、前記試料台ホルダーに対し変位可能に取り付けたマスクと、前記試料台ホルダーに取り付けられ、前記赤外線照射手段からの赤外線信号を受光する赤外線受光手段と、この赤外線受光手段で受光した赤外線信号に応じて前記マスクを駆動する駆動装置とを備えたマスク位置調整機構を、前記荷電粒子線装置の試料ステージ上に取り付け、
前記制御装置を操作して前記赤外線照射手段を制御し、赤外線信号を利用して前記マスク位置調整機構を無線操作して前記試料ステージに搭載された試料に対するマスクの位置を調整するマスク位置調整方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10269534B2 (en) | 2015-01-30 | 2019-04-23 | Hitachi High-Technologies Corporation | Mask position adjustment method of ion milling, electron microscope capable of adjusting mask position, mask adjustment device mounted on sample stage and sample mask component of ion milling device |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61117435A (ja) * | 1984-11-14 | 1986-06-04 | Shimadzu Corp | 分析装置用真空容器 |
JPH05266849A (ja) * | 1992-03-19 | 1993-10-15 | Hitachi Ltd | インテリジェント試料ホルダ及びそれを利用した荷電ビーム装置 |
JP2009245783A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Hitachi High-Technologies Corp | イオンミリング装置及びイオンミリング方法 |
-
2010
- 2010-05-28 JP JP2010123469A patent/JP5566778B2/ja not_active Expired - Fee Related
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US10269534B2 (en) | 2015-01-30 | 2019-04-23 | Hitachi High-Technologies Corporation | Mask position adjustment method of ion milling, electron microscope capable of adjusting mask position, mask adjustment device mounted on sample stage and sample mask component of ion milling device |
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