JP2011248331A - 吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物、表示素子用層間絶縁膜及びその形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、[A]同一又は異なる重合体分子中に下記式(1)で表される基を含む構造単位(I)とエポキシ基含有構造単位とを有する重合体、[B]オキシムスルホネート化合物及びオニウム塩化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物、並びに[C]有機溶媒を含有し、固形分濃度が10質量%以上30質量%以下であり、25℃における粘度が2.0mPa・s以上12mPa・s以下であり、かつ[C]有機溶媒として、少なくとも(C1)20℃における蒸気圧が0.1mmHg以上1mmHg未満の有機溶媒を含む吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物である。
【選択図】なし
Description
[A]同一又は異なる重合体分子中に下記式(1)で表される基を含む構造単位(I)とエポキシ基含有構造単位とを有する重合体(以下、「[A]重合体」とも称する)、
[B]オキシムスルホネート化合物及びオニウム塩化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物(以下、「[B]化合物」とも称する)、並びに
[C]有機溶媒
を含有し、
固形分濃度が10質量%以上30質量%以下であり、25℃における粘度が2.0mPa・s以上12mPa・s以下であり、かつ
[C]有機溶媒として、少なくとも(C1)20℃における蒸気圧が、0.1mmHg以上1mmHg未満の有機溶媒を含む吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物である。
(式(1)中、R1及びR2は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基である。但し、上記アルキル基、シクロアルキル基及びアリール基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。また、R1及びR2が共に水素原子である場合はない。R3は、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基又は−M(R3m)3で表される基である。但し、これらの基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。Mは、Si、Ge又はSnである。R3mは、アルキル基である。但し、R1とR3とが連結して、これらが結合している炭素原子と共に環状エーテルを形成してもよい。)
(1)当該組成物を、吐出ノズルと基板とを相対的に移動させつつ、基板上に塗布して塗膜を形成する工程、
(2)上記形成された塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
(3)上記放射線が照射された塗膜を現像する工程、及び
(4)上記現像された塗膜を加熱する工程
を有する。
[A]重合体は、同一又は異なる重合体分子中に構造単位(I)とエポキシ基含有構造単位とを有しており、必要に応じてその他の構造単位を有していてもよい。構造単位(I)及びエポキシ基含有構造単位を有する[A]重合体の態様としては特に限定されず、
(i)同一の重合体分子中に構造単位(I)及びエポキシ基含有構造単位の両方を有しており、重合体中[A]に1種の重合体分子が存在する場合;
(ii)一の重合体分子中に構造単位(I)を有し、それとは異なる重合体分子中にエポキシ基含有構造単位を有しており重合体中[A]に2種の重合体分子が存在する場合;
(iii)一の重合体分子中に構造単位(I)及びエポキシ基含有構造単位の両方を有し、それとは異なる重合体分子中に構造単位(I)を有し、これらとはさらに異なる重合体分子中にエポキシ基含有構造単位を有しており、重合体中[A]に3種の重合体分子が存在する場合;
(iv)(i)〜(iii)に規定の重合体分子に加え、重合体中[A]にさらに別の1種又は2種以上の重合体分子を含む場合等が挙げられる。
構造単位(I)は、上記式(1)で表される基を含み、この基が酸の存在下で解離して極性基を生じる基(酸解離性基)として存在しているので、放射線の照射により[B]化合物から生じた酸により解離し、その結果アルカリ不溶性であった[A]重合体はアルカリ可溶性となる。上記酸解離性基は、アルカリに対しては比較的安定なアセタール構造又はケタール構造を有しており、これらが酸の作用によって解離することとなる。
(メタ)アクリル酸1−アルコキシアルキル、(メタ)アクリル酸1−(シクロアルキルオキシ)アルキル、(メタ)アクリル酸1−(ハロアルコキシ)アルキル、(メタ)アクリル酸1−(アラルキルオキシ)アルキル、(メタ)アクリル酸テトラヒドロピラニル等の(メタ)アクリレート系アセタール構造含有単量体;
2,3−ジ(1−(トリアルキルシラニルオキシ)アルコキシ)カルボニル)−5−ノルボルネン、2,3−ジ(1−(トリアルキルゲルミルオキシ)アルコキシ)カルボニル)−5−ノルボルネン、2,3−ジ(1−アルコキシアルコキシカルボニル)−5−ノルボルネン、2,3−ジ(1−(シクロアルキルオキシ)アルコキシカルボニル)−5−ノルボルネン、2,3−ジ(1−(アラルキルオキシ)アルコキシカルボニル)−5−ノルボルネン等のノルボルネン系アセタール構造含有単量体;
1−アルコキシアルコキシスチレン、1−(ハロアルコキシ)アルコキシスチレン、1−(アラルキルオキシ)アルコキシスチレン、テトラヒドロピラニルオキシスチレン等のスチレン系アセタール構造含有単量体等が挙げられる。
[A]重合体は、構造単位(I)と共に、エポキシ基含有構造単位を有する。エポキシ基含有構造単位は、エポキシ基含有単量体に由来する構造単位である。なお、エポキシ基とは、オキシラニル基(1,2−エポキシ構造)及びオキセタニル基(1,3−エポキシ構造)を含む概念である。[A]重合体が分子中に、エポキシ基含有構造単位を有することで、当該組成物から得られる表示素子用層間絶縁膜の硬度を向上させて耐熱性をより高めることができる。
(メタ)クリル酸グリシジル、(メタ)クリル酸3,4−エポキシブチル、アクリル酸3−メチル−3,4−エポキシブチル、メタクリル酸3−エチル−3,4−エポキシブチル、(メタ)クリル酸5,6−エポキシヘキシル、メタクリル酸5−メチル−5,6−エポキシヘキシル、メタクリル酸5−エチル−5,6−エポキシヘキシル、(メタ)クリル酸6,7−エポキシヘプチル、メタクリル酸3,4−エポキシシクロへキシル、メタクリル酸3,4−エポキシシクロへキシルメチル、(メタ)クリル酸3,4−エポキシシクロへキシルエチル、メタクリル酸3,4−エポキシシクロへキシルプロピル、メタクリル酸3,4−エポキシシクロへキシルブチル、(メタ)クリル酸3,4−エポキシシクロへキシルヘキシル、アクリル酸3,4−エポキシシクロへキシルメチル、アクリル酸3,4−エポキシシクロへキシルエチル、アクリル酸3,4−エポキシシクロへキシルプロピル、アクリル酸3,4−エポキシシクロへキシルブチル、アクリル酸3,4−エポキシシクロへキシルヘキシル等のオキシラニル基含有(メタ)アクリル系化合物;
o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−p−ビニルベンジルグリシジルエーテル等のビニルベンジルグリシジルエーテル類;
o−ビニルフェニルグリシジルエーテル、m−ビニルフェニルグリシジルエーテル、p−ビニルフェニルグリシジルエーテル等のビニルフェニルグリシジルエーテル類;
3−(アクリロイルオキシメチル)オキセタン、3−(アクリロイルオキシメチル)−3−メチルオキセタン、3−(アクリロイルオキシメチル)−3−エチルオキセタン、3−(アクリロイルオキシメチル)−3−フェニルオキセタン、3−(2−アクリロイルオキシエチル)オキセタン、3−(2−アクリロイルオキシエチル)−3−エチルオキセタン、3−(2−アクリロイルオキシエチル)−3−エチルオキセタン、3−(2−アクリロイルオキシエチル)−3−フェニルオキセタン、3−(メタクリロイルオキシメチル)オキセタン、3−(メタクリロイルオキシメチル)−3−メチルオキセタン、3−(メタクリロイルオキシメチル)−3−エチルオキセタン、3−(メタクリロイルオキシメチル)−3−フェニルオキセタン、3−(2−メタクリロイルオキシエチル)オキセタン、3−(2−メタクリロイルオキシエチル)−3−エチルオキセタン、3−(2−メタクリロイルオキシエチル)−3−エチルオキセタン、3−(2−メタクリロイルオキシエチル)−3−フェニルオキセタン、2−(アクリロイルオキシメチル)オキセタン、2−(アクリロイルオキシメチル)−2−メチルオキセタン、2−(アクリロイルオキシメチル)−2−エチルオキセタン、2−(アクリロイルオキシメチル)−2−フェニルオキセタン、2−(2−アクリロイルオキシエチル)オキセタン、2−(2−アクリロイルオキシエチル)−2−エチルオキセタン、2−(2−アクリロイルオキシエチル)−2−エチルオキセタン、2−(2−アクリロイルオキシエチル)−2−フェニルオキセタン、2−(メタクリロイルオキシメチル)オキセタン、2−(メタクリロイルオキシメチル)−2−メチルオキセタン、2−(メタクリロイルオキシメチル)−2−エチルオキセタン、2−(メタクリロイルオキシメチル)−2−フェニルオキセタン、2−(2−メタクリロイルオキシエチル)オキセタン、2−(2−メタクリロイルオキシエチル)−2−エチルオキセタン、2−(2−メタクリロイルオキシエチル)−2−エチルオキセタン、2−(2−メタクリロイルオキシエチル)−2−フェニルオキセタン等のオキセタニル基含有(メタ)アクリル系化合物等が挙げられる。
[A]重合体は構造単位(I)及びエポキシ基含有構造単位以外のその他の構造単位を含んでいてもよい。その他の構造単位を与える単量体としては、例えばカルボキシル基又はその誘導体を有する単量体、水酸基を有する単量体、その他の単量体等が挙げられる。
アクリル酸メチル、アクリル酸i−プロピル等のアクリル酸アルキル;
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸sec−ブチル、メタクリル酸t−ブチル等のメタクリル酸アルキル;
アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸2−メチルシクロヘキシル、アクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イル、アクリル酸2−(トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イルオキシ)エチル、アクリル酸イソボルニル等のアクリル酸脂環式アルキル;
メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸2−メチルシクロヘキシル、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イル、メタクリル酸2−(トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イルオキシ)エチル、メタクリル酸イソボルニル等のメタクリル酸脂環式アルキル;
アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル等のアクリル酸のアリールエステル又はアクリル酸のアラルキル;
メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル等のメタクリル酸のアリールエステル又はメタクリル酸のアラルキル;
マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等のジカルボン酸ジアルキル;
メタクリル酸テトラヒドロフルフリル、メタクリル酸テトラヒドロフリル、メタクリル酸テトラヒドロピラン−2−メチル等の酸素1原子を含む不飽和複素五員環メタクリル酸エステル又は不飽和複素六員環メタクリル酸;
4−メタクリロイルオキシメチル−2−メチル−2−エチル−1,3−ジオキソラン、4−メタクリロイルオキシメチル−2−メチル−2−イソブチル−1,3−ジオキソラン、4−メタクリロイルオキシメチル−2−シクロヘキシル−1,3−ジオキソラン、4−メタクリロイルオキシメチル−2−メチル−2−エチル−1,3−ジオキソラン、4−メタクリロイルオキシメチル−2−メチル−2−イソブチル−1,3−ジオキソラン等の酸素2原子を含む不飽和複素五員環メタクリル酸;
4−アクリロイルオキシメチル−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン、4−アクリロイルオキシメチル−2−メチル−2−エチル−1,3−ジオキソラン、4−アクリロイルオキシメチル−2、2−ジエチル−1,3−ジオキソラン、4−アクリロイルオキシメチル−2−メチル−2−イソブチル−1,3−ジオキソラン、4−アクリロイルオキシメチル−2−シクロペンチル−1,3−ジオキソラン、4−アクリロイルオキシメチル−2−シクロヘキシル−1,3−ジオキソラン、4−アクリロイルオキシエチル−2−メチル−2−エチル−1,3−ジオキソラン、4−アクリロイルオキシプロピル−2−メチル
−2−エチル−1,3−ジオキソラン、4−アクリロイルオキシブチル−2−メチル−2−エチル−1,3−ジオキソラン等の酸素2原子を含む不飽和複素五員環アクリル酸;
スチレン、α−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−メトキシスチレン、4−イソプロペニルフェノール等のビニル芳香族化合物;
N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−ベンジルマレイミド、N−スクシンイミジル−3−マレイミドベンゾエート、N−スクシンイミジル−4−マレイミドブチレート、N−スクシンイミジル−6−マレイミドカプロエート、N−スクシンイミジル−3−マレイミドプロピオネート、N−(9−アクリジニル)マレイミド等のN位置換マレイミド;
1,3−ブタジエン、イソプレン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン等の共役ジエン系化合物;
アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル等の不飽和化合物等が挙げられる。
装置:GPC−101(昭和電工製)
カラム:GPC−KF−801、GPC−KF−802、GPC−KF−803及びGPC−KF−804を結合
移動相:テトラヒドロフラン
カラム温度:40℃
流速:1.0mL/分
試料濃度:1.0質量%
試料注入量:100μL
検出器:示差屈折計
標準物質:単分散ポリスチレン
[A]重合体は、上記各構造単位を与える単量体のラジカル共重合により合成できる。同一の重合体分子に構造単位(I)及びエポキシ基含有構造単位の両方を含む[A]重合体を合成する場合は、少なくともアセタール構造含有単量体とエポキシ基含有単量体とを含む混合物を用いて共重合させればよい。一方、一の重合体分子に構造単位(I)を有し、かつそれとは異なる重合体分子にエポキシ基含有構造単位を有する[A]重合体を合成する場合は、少なくともアセタール構造含有単量体を含む重合性溶液をラジカル重合させて構造単位(I)を有する重合体分子を得ておき、別途少なくともエポキシ基含有単量体を含む重合性溶液をラジカル重合させてエポキシ基含有構造単位を有する重合体分子を得て、最後に両者を混合して[A]重合体とすればよい。
2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス−(2,4−ジメチルバレロニトリル)(ADVN)、2,2’−アゾビス−(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオン酸メチル)等のアゾ化合物;
ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、t−ブチルペルオキシピバレート、1,1’−ビス−(t−ブチルペルオキシ)シクロヘキサン等の有機過酸化物;及び
過酸化水素等が挙げられる。
[B]化合物は、オキシムスルホネート化合物及びオニウム塩化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物であり、放射線の照射によって酸を発生する化合物である。ここで、放射線としては、例えば可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線等を使用できる。当該組成物が[B]化合物と酸解離性基を有する[A]重合体を含むことで、ポジ型の感放射線特性を発揮できる。
オキシムスルホネート化合物としては、例えば下記式(2)で表されるオキシムスルホネート基を含有する化合物等が挙げられる。
オニウム塩としては、例えばジフェニルヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウム塩、スルホニウム塩、ベンゾチアゾニウム塩、テトラヒドロチオフェニウム塩等が挙げられる。
当該組成物は、[C]有機溶媒に[A]重合体、[B]化合物及び必要に応じて[D]界面活性剤等の好適成分、その他の任意成分を混合することによって溶解又は分散させた状態に調製される。[C]有機溶媒としては、少なくとも(C1)20℃における蒸気圧が0.1mmHg以上1mmHg未満の有機溶媒を含有する。また、(C2)有機溶媒として、20℃における蒸気圧が1mmHg以上20mmHg以下の有機溶媒を含有することが好ましい。上記特定範囲の蒸気圧を有する[C]有機溶媒を用いることで、吐出ノズル式塗布法を採用しても、塗布ムラを防止しつつ高速塗布が可能となる。なお、蒸気圧の測定は、公知の方法を使用できるが、本明細書ではトランスピレーション法(気体流通法)により測定した値をいう。
ベンジルアルコール;
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル類;
エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル等のエチレングリコールジアルキルエーテル類;
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類;
ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル等のジエチレングリコールモノアルキルエーテル類;
ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等のジエチレングリコールジアルキルエーテル類;
ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル等のジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類;
ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル等のジプロピレングリコールジアルキルエーテル類;
ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;
乳酸n−プロピル、乳酸イソプロピル、乳酸n−ブチル、乳酸イソブチル、乳酸n−アミル、乳酸イソアミル等の乳酸エステル類;
ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチル酪酸エチル、エトキシ酢酸エチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、3−メチル−3−メトキシブチルブチレート、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル等の脂肪族カルボン酸エステル類;
N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類;
N−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン等のケトン類等が挙げられる。
当該組成物は、当該組成物の被膜形成性をより向上させるために好適成分として[D]界面活性剤をさらに含有できる。界面活性剤としては、例えばフッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等が挙げられる。当該組成物が、[D]界面活性剤を含有することで、塗膜の表面平滑性を向上でき、その結果形成される表示素子用層間絶縁膜の膜厚均一性をより向上できる。
当該組成物は、好適成分として[E]多官能(メタ)アクリレートをさらに含有できる。当該組成物が、[E]多官能(メタ)アクリレート化合物をさらに含有することで、表示素子用層間絶縁膜の透過率及び耐熱透明性を向上することできる。[E]多官能(メタ)アクリレートとしては、例えば2官能(メタ)アクリレート、3官能以上の(メタ)アクリレート等が挙げられる。
当該組成物は、好適成分として[F]酸化防止剤をさらに含有できる。当該組成物が、[F]酸化防止剤をさらに含有することで表示素子用層間絶縁膜の透過率及び耐熱透明性を向上することできる。本明細書における[F]酸化防止剤とは、フェノール化合物、ヒンダードフェノール構造を有する化合物、ヒンダードアミン構造を有する化合物、アルキルホスフェート構造を有する化合物及びチオエーテル構造を有する化合物をいう。
当該組成物は、好適成分として[G]1分子中に2個以上のエポキシ基を有する化合物をさらに含有する化合物をさらに含有できる。当該組成物が、[G]エポキシ化合物をさらに含有することで、表示素子用層間絶縁膜の透過率及び耐熱透明性を向上することできる。
ビスフェノールAジグリシジルエーテル(4,4’−イソプロピリデンジフェノールと1−クロロ−2,3−エポキシプロパンとの重縮合物)、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールADジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールFジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールSジグリシジルエーテル等のビスフェノール化合物のジグリシジルエーテル;
1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル;
エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに1種又は2種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル;
フェノールノボラック型エポキシ樹脂;
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂;
ポリフェノール型エポキシ樹脂;
環状脂肪族エポキシ樹脂;
脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル;
高級脂肪酸のグリシジルエステル;
エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油等が挙げられる。
ビスフェノールA型エポキシ樹脂として、エピコート1001、同1002、同1003、同1004、同1007、同1009、同1010、同828(以上、ジャパンエポキシレジン製)等;
ビスフェノールF型エポキシ樹脂として、エピコート807(ジャパンエポキシレジン製)等;
フェノールノボラック型エポキシ樹脂として、エピコート152、同154、同157S65(以上、ジャパンエポキシレジン製)、EPPN201、同202(以上、日本化薬製)等;
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂として、EOCN102、同103S、同104S、1020、1025、1027(以上、日本化薬製)、エピコート180S75(ジャパンエポキシレジン製)等;
ポリフェノール型エポキシ樹脂として、エピコート1032H60、同XY−4000(以上、ジャパンエポキシレジン製)等;
環状脂肪族エポキシ樹脂として、CY−175、同177、同179、アラルダイトCY−182、同192、184(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)、ERL−4234、4299、4221、4206(以上、U.C.C製)、ショーダイン509(昭和電工製)、エピクロン200、同400(以上、大日本インキ製)、エピコート871、同872(以上、ジャパンエポキシレジン製)、ED−5661、同5662(以上、セラニーズコーティング製)等;
脂肪族ポリグリシジルエーテルとしてエポライト100MF(共栄社化学製)、エピオールTMP(日本油脂製)、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、ビス{[1−エチル(3−オキセタニル)]メチル}エーテル等が挙げられる。
当該組成物は、上記[A]〜[G]成分に加え、所期の効果を損なわない範囲で必要に応じて[H]密着助剤、[I]塩基性化合物、[J]キノンジアジド化合物等のその他の任意成分を含有してもよい。これらのその他の任意成分は、単独で使用してもよいし、2種以上を混合して使用してもよい。以下、各成分を詳述する。
密着助剤は、基板となる無機物、例えばシリコーン、酸化シリコーン、窒化シリコーン等のシリコーン化合物、金、銅、アルミニウム等の金属と絶縁膜との接着性を向上させるために使用できる。密着助剤としては、官能性シランカップリング剤が好ましい。官能性シランカップリング剤としては、例えばカルボキシル基、メタクリロイル基、イソシアネート基、エポキシ基(好ましくはオキシラニル基)、チオール基等の反応性置換基を有するシランカップリング剤等が挙げられる。
[I]塩基性化合物としては、化学増幅レジストで用いられるものから任意に選択して使用でき。例えば脂肪族アミン、芳香族アミン、複素環式アミン、4級アンモニウムヒドロキシド、カルボン酸4級アンモニウム塩等が挙げられる。当該組成物に[I]塩基性化合物を含有させることで、露光により[B]化合物から発生した酸の拡散長を適度に制御することができパターン現像性を良好にできる。
[J]キノンジアジド化合物は、放射線の照射によりカルボン酸を発生する化合物である。[J]キノンジアジド化合物として、フェノール性化合物又はアルコール性化合物(以下、「母核」とも称する)と1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合物を用いることができる。
当該組成物は、[C]有機溶媒に[A]重合体、[B]化合物、必要に応じて好適成分、その他の任意成分を混合することによって溶解又は分散させた状態に調製される。例えば[C]有機溶媒中で、各成分を所定の割合で混合することにより、当該組成物を調製できる。
本発明には、当該組成物から形成される表示素子用層間絶縁膜も好適に含まれる。本発明の表示素子用層間絶縁膜の形成方法は、
(1)当該組成物を、吐出ノズルと基板とを相対的に移動させつつ、基板上に塗布して塗膜を形成する工程、
(2)上記形成された塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
(3)上記放射線が照射された塗膜を現像する工程、及び
(4)上記現像された塗膜を加熱する工程
を有する。
本工程では、当該組成物を、吐出ノズルと基板とを相対的に移動させつつ、吐出ノズル式塗布法によって基板上に塗布して塗膜を形成する。好ましくは塗布面をプレベークすることによって[C]有機溶媒を除去する。
本工程では、上記形成された塗膜の少なくとも一部に放射線を照射し露光する。露光する際には、通常所定のパターンを有するフォトマスクを介して露光する。露光に使用される放射線としては、波長が190nm〜450nmの範囲にある放射線が好ましく、365nmの紫外線を含む放射線がより好ましい。露光量としては、放射線の波長365nmにおける強度を、照度計(OAI model356、OAI Optical Associates製)により測定した値で、500J/m2〜6,000J/m2が好ましく、1,500J/m2〜1,800J/m2がより好ましい。
本工程では、上記放射線が照射された塗膜を現像する。露光後の塗膜を現像することにより、不要な部分(放射線の照射部分)を除去して所定のパターンを形成する。現像工程に使用される現像液としては、アルカリ性の水溶液が好ましい。アルカリとしては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア等の無機アルカリ;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の4級アンモニウム塩等が挙げられる。
本工程では、上記現像された塗膜を加熱する。加熱には、ホットプレート、オーブン等の加熱装置を用い、パターニングされた薄膜を加熱することで、[A]重合体の硬化反応を促進して、硬化物を得ることができる。加熱温度としては、例えば120℃〜250℃程度である。加熱時間としては、加熱機器の種類により異なるが、例えばホットプレートでは5分〜30分間程度、オーブンでは30分〜90分間程度である。また、2回以上の加熱工程を行うステップベーク法等を用いることもできる。このようにして、目的とする表示素子用層間絶縁膜に対応するパターン状薄膜を基板の表面上に形成できる。
[合成例1]
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、重合開始剤としてADVN7質量部及び溶媒としてジエチレングリコールエチルメチルエーテル200質量部を仕込んだ。引き続き、構造単位(I)を与えるメタクリル酸1−エトキシエチル40質量部、エポキシ基含有構造単位を与えるメタクリル酸グリシジル40質量部、その他の構造単位を与えるメタクリル酸5質量部、スチレン5質量部及びメタクリル酸2−ヒドロキシエチル10質量部、並びに分子量調整剤としてのα−メチルスチレンダイマー3質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を70℃に上昇させ、この温度を5時間保持し重合体(A−1)を含む重合体溶液を得た。重合体(A−1)のMwは9,000であった。重合体溶液の固形分濃度は、32.1質量%であった。
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、重合開始剤としてADVN7質量部及び溶媒としてジエチレングリコールエチルメチルエーテル200質量部を仕込んだ。引き続き、
構造単位(I)を与えるメタクリル酸2−テトラヒドロピラニル40質量部、エポキシ基含有構造単位を与えるメタクリル酸グリシジル40質量部、その他の構造単位を与えるメタクリル酸5質量部、スチレン5質量部及びメタクリル酸2−ヒドロキシエチル10質量部、並びに分子量調整剤としてのα−メチルスチレンダイマー3質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を70℃に上昇させ、この温度を5時間保持し重合体(A−2)を含む重合体溶液を得た。重合体(A−2)のMwは9,000であった。重合体溶液の固形分濃度は、31.3質量%であった。
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、重合開始剤として2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオン酸メチル)8質量部及び溶媒としてメチルイソブチルケトン300質量部を仕込んだ。引き続き、構造単位(I)を与えるメタクリル酸2−テトラヒドロピラニル40質量部、3−(メタクリロイルオキシメチル)−3−エチルオキセタン40質量部、並びにその他の構造単位を与えるメタクリル酸5質量部及びメタクリル酸2−ヒドロキシエチル15質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を80℃に上昇させ、この温度を6時間保持し重合体溶液を得た。次いで、得られた重合体溶液を、過剰のヘプタン中に注いで、重合体を再沈殿させた。デカンテーションにより上澄みのヘプタンを取り除いた。その後、ろ過し、得られた重合体を24時間真空乾燥させ重合体(A−3)を得た。重合体(A−3)のMwは8,000であった。重合体溶液の固形分濃度は、29.8質量%であった。
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、重合開始剤としてADVN7質量部及び溶媒としてジエチレングリコールエチルメチルエーテル200質量部を仕込んだ。引き続き、
構造単位(I)を与えるメタクリル酸1−n−ブトキシエチル35質量部、エポキシ基含有構造単位を与えるメタクリル酸グリシジル30質量部、並びにその他の構造単位を与えるメタクリル酸ベンジル35質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を80℃に上昇させ、この温度を6時間保持し重合体(A−4)を含む重合体溶液を得た。重合体(A−4)のMwは10,000であった。重合体溶液の固形分濃度は、32.3質量%であった。
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、重合開始剤として2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオン酸メチル)7質量部及び溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート200質量部を仕込んだ。引き続き、構造単位(I)を与えるメタクリル酸1−n−ブトキシエチル67質量部、並びにその他の構造単位を与えるメタクリル酸10質量部及びメタクリル酸ベンジル23質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を80℃に上昇させ、この温度を6時間保持し重合体(a−1)を含む重合体溶液を得た。重合体(a−1)のMwは9,000であった。重合体溶液の固形分濃度は、30.3質量%であった。
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、重合開始剤として2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオン酸メチル)7質量部及び溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート200質量部を仕込んだ。引き続き、構造単位(I)を与えるメタクリル酸1−ベンジルオキシエチル90質量部、並びにその他の構造単位を与えるメタクリル酸2−ヒドロキシエチル6質量部及びメタクリル酸4質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を80℃に上昇させ、この温度を6時間保持し重合体(a−2)を含む重合体溶液を得た。重合体(a−2)Mwは9,000であった。重合体溶液の固形分濃度は、31.2質量%であった。
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、重合開始剤として2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオン酸メチル)7質量部及び溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート200質量部を仕込んだ。引き続き、構造単位(I)を与えるメタクリル酸2−テトラヒドロピラニル85質量部、並びにその他の構造単位を与えるメタクリル酸2−ヒドロキシエチル7質量部及びメタクリル酸8質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を80℃に上昇させ、この温度を6時間保持し重合体(a−3)を含む重合体溶液を得た。重合体(a−3)のMwは10,000であった。重合体溶液の固形分濃度は、29.2質量%であった。
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、重合開始剤としてADVN7質量部及び溶媒としてジエチレングリコールエチルメチルエーテル200質量部を仕込んだ。引き続き、エポキシ基含有構造単位を与えるメタクリル酸グリシジル52質量部、並びにその他の構造単位を与えるメタクリル酸ベンジル48質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を80℃に上昇させ、この温度を6時間保持し重合体(a−4)を含む重合体溶液を得た。重合体(a−4)のMwは10,000であった。重合体溶液の固形分濃度は、32.3質量%であった。
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、重合開始剤としてADVN7質量部及び溶媒としてジエチレングリコールエチルメチルエーテル200質量部を仕込んだ。引き続き、エポキシ基含有構造単位を与えるメタクリル酸3,4−エポキシシクロヘキシルメチル45質量部、並びにその他の構造単位を与えるメタクリル酸ベンジル45質量部及びメタクリル酸10質量部を仕込み窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を80℃に上昇させ、この温度を6時間保持し重合体(a−5)を含む重合体溶液を得た。重合体(a−5)のMwは10,000であった。重合体溶液の固形分濃度は、33.2質量%であった。
以下、実施例及び比較例の感放射線性組成物の調製に用いた成分を詳述する。
B−1〜B−5はオキシムスルホネート化合物である。B−6及びB−7は、オニウム塩(B−6はテトラヒドロチオフェニウム塩、B−7はスルホニウム塩)である。
B−2:上記化合物(ii)で表わされる(5−オクチルスルフォニルオキシイミノ−5H−チオフェン−2−イリデン)−(2−メチルフェニル)アセトニトリル(チバスペシャリティーケミカルズ製、IRGACURE PAG 108)
B−3:上記化合物(iv)で表わされる(5−p−トルエンスルフォニルオキシイミノ−5H−チオフェン−2−イリデン)−(2−メチルフェニル)アセトニトリル(チバスペシャリティーケミカルズ製、IRGACURE PAG 121)
B−4:上記化合物(iii)で表わされる(カンファースルフォニルオキシイミノ−5H−チオフェン−2−イリデン)−(2−メチルフェニル)アセトニトリル(チバスペシャルティーケミカルズ製、CGI 1380)
B−5:上記化合物(v)で表わされる(5−オクチルスルフォニルオキシイミノ)−(4−メトキシフェニル)アセトニトリル(チバスペシャリティーケミカルズ製、CGI 725)
B−6:4,7−ジ−n−ブトキシ−1−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート
B−7:ベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート
(C1)有機溶媒(20℃における蒸気圧が0.1mmHg以上1mmHg未満)
C−1−1:ジエチレングリコールエチルメチルエーテル(20℃、0.75mmHg)
C−1−2:ジプロピレングリコールジメチルエーテル(20℃、0.38mmHg)
C−2−1:ジエチエレングリコールジメチルエーテル(20℃、1.3mmHg)
C−2−2:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(20℃、3.75mmHg)
C−2−3:シクロヘキサノン(20℃、3.4mmHg)
1,4−ジオキサン(20℃、29mmHg)
エチレングリコール(20℃、0.08mmHg)
D−1:シリコーン系界面活性剤(東レ・ダウコーニング・シリコーン製、SH 8400 FLUID)
D−2:フッ素系界面活性剤(ネオス製、フタージェントFTX−218)
E−1:エチレングリコールジメタクリレート
E−2:トリメチロールプロパントリメタクリレート
E−3:ペンタエリスリトールテトラアクリレート
F−1:2,6−ジ−t−ブチル−4−クレゾール
F−2:4-メトキシフェノール
G−1:2ビスフェノールAジグリシジルエーテル(4,4’−イソプロピリデンジフェノールと1−クロロ−2,3−エポキシプロパンとの重縮合物)
G−2:3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート
H−1:γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
H−2:β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン
H−3:γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
I−1:4−ジメチルアミノピリジン
I−2:1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]−5−ノネン
重合体(A−1)を含む溶液(重合体(A−1)100質量部(固形分)に相当する量)に、[B]化合物として(B−1)3質量部、(C1)有機溶媒として(C−1−1)を所望の固形分濃度となるように添加し、[D]界面活性剤として(D−1)0.2質量部を混合し、孔径0.2μmのメンブランフィルタで濾過することにより、吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物を調製した。
各成分の種類及び配合量を表1に記載の通りとした以外は、実施例1と同様に操作して各組成物を調製した。なお、表1中の[C]有機溶媒の数値は(C1)有機溶媒と(C2)有機溶媒の質量%比である。また、表1中の「−」は、該当する成分を使用しなかったことを意味する。
調製した各組成物を用いて、下記の評価を実施した。結果を表1にあわせて示す。
E型粘度計(東機産業製、VISCONIC ELD.R)を用いて、25℃における当該組成物の粘度(mPa・s)を測定した。
各組成物0.3gをアルミ皿に精坪し、ジエチレングリコールジメチルエーテル約1gを加えたのち、175℃で60分間ホットプレート上にて乾固させて、乾燥前後の質量から各組成物中の固形分濃度(質量%)を求めた。
550×650mmのクロム成膜ガラス上に、調製した各組成物をスリットダイコーター(東京応化工業製、TR632105−CL)を用いて塗布し0.5Torrまで減圧乾燥した後、ホットプレート上で100℃にて2分間プレベークして塗膜を形成し、さらに2,000J/m2の露光量で露光することにより、クロム成膜ガラスの上面からの膜厚が4μmの膜を形成した。ナトリウムランプ下において、肉眼によりこの塗膜の外観の観察を行った。このとき、塗膜の全体における筋ムラ(塗布方向又はそれに交差する方向にできる一本または複数本の直線のムラ)、モヤムラ(雲状のムラ)、ピン跡ムラ(基板支持ピン上にできる点状のムラ)の出現状況を調べた。これらのムラのいずれもほとんど見えない場合を「A」(良好と判断)、いずれかが少し見える場合を「B」(やや不良と判断)、はっきりと見える場合を「C」(不良と判断)とした。
上述のようにして作製したクロム成膜ガラス上の塗膜の膜厚を、膜厚測定装置(大日本スクリーン製、ラムダエース)を用いて測定した。膜厚均一性は、9つの測定点における膜厚を測定し、下記式から計算した。9つの測定点は基板の短軸方向をX、長軸方向をYとすると、(X[mm]、Y[mm])が、(275、20)、(275、30)、(275、60)、(275、100)、(275、325)、(275、550)、(275、590)、(275、620)、(275、630)である。膜厚均一性が1.80%を超えて2%以下の場合をやや良好、膜厚均一性が1.80%以下の場合を良好と判断した。
550mm×650mmの無アルカリガラス基板上にスリットダイコーターを用いて塗布し、塗布条件として下地とノズルの距離150μm、露光後の膜厚が2.5μmとなるように、ノズルから塗布液を吐出し、ノズルの移動速度を120mm/sec.〜220mm/sec.の範囲で変量し、液切れによる筋状のムラが発生しない最大速度を求めた。この時、180mm/sec.以上の速度でも筋状のムラが発生しない場合は、高速塗布性が良好と判断した。
550×650mmのクロム成膜ガラス上に、ヘキサメチルジシラザンを塗布し、60℃にて1分間加熱した。このヘキサメチルジシラザン処理後のクロム成膜ガラス上に、各組成物をスリットダイコーター(東京応化工業製、TR632105−CL)を用いて塗布し、到達圧力を100Paに設定して真空下で溶媒を除去した後、さらに90℃において2分間プレベークすることによって、膜厚3.0μmの塗膜を形成した。続いて、露光機(キヤノン製、MPA−600FA)を用い、60μmのライン・アンド・スペース(10対1)のパターンを有するマスクを介して、塗膜に対し露光量を変量として放射線を照射した後、表1に表される濃度のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液にて25℃において液盛り法で現像した。現像時間は、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド濃度が0.40質量%の現像液を用いた場合は80秒、2.38質量%の現像液を用いた場合は50秒間とした。次いで、超純水で1分間流水洗浄を行い、その後乾燥することにより、HMDS処理後のクロム成膜ガラス基板上にパターンを形成した。このとき6μmのスペース・パターンが完全に溶解するために必要な露光量を調べた。この値が500J/m2以下の場合に感度が良好と判断した。
スピンナーを用いて、調製した各組成物をガラス基板上に塗布した後、90℃にて2分間ホットプレート上でプレベークして膜厚3.0μmの塗膜を形成した。塗膜に対し露光量700J/m2で露光した後、クリーンオーブン内にて220℃で1時間加熱して硬化膜を得た。次いで、波長400nmにおける透過率を、分光光度計(日立製作所製、150−20型ダブルビーム)を用いて測定した。測定値(%)を透過率とし、値が100%に近いほど透過率は良好であり、90%未満であった場合を透明性が不良と判断した。
上記透過率の評価で測定した基板について、さらにクリーンオーブン中にて250℃で1時間加熱し、加熱前後の光線透過率を上記透過率の評価と同様に測定した後、下記式より耐熱透明性(%)を算出した。この値が0%に近いほど耐熱透明性は良好であり、4%を超える場合、耐熱透明性が不良と判断した。
耐熱透明性(%)=加熱前透過率−加熱後透過率
さらに、[C]有機溶媒として(C1)有機溶媒と(C2)有機溶媒とを組み合わせた実施例3〜16は、(C1)有機溶媒のみを使用する実施例1及び2と比べ、膜厚均一性により優れることが明らかとなった。また、(C2)有機溶媒の含有量が、(C1)有機溶媒及び(C2)有機溶媒の合計量に対して50質量%以下である実施例3〜11は、(C2)有機溶媒の含有量が、(C1)有機溶媒及び(C2)有機溶媒の合計量に対して70質量%である実施例12と比べ、塗膜の外観、膜厚均一性に特に優れることが明らかとなった。
一方、当該組成物の好適成分である[E]多官能(メタ)アクリレート化合物、[F]酸化防止剤及び[G]エポキシ化合物を含有する実施例13〜16は、これらの成分を含有しない実施例1〜12と比べ、透過率及び耐熱透明性により優れることがわかった。
Claims (11)
- [A]同一又は異なる重合体分子中に下記式(1)で表される基を含む構造単位(I)とエポキシ基含有構造単位とを有する重合体、
[B]オキシムスルホネート化合物及びオニウム塩化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物、並びに
[C]有機溶媒
を含有し、
固形分濃度が10質量%以上30質量%以下であり、25℃における粘度が2.0mPa・s以上12mPa・s以下であり、かつ
[C]有機溶媒として、少なくとも(C1)20℃における蒸気圧が0.1mmHg以上1mmHg未満の有機溶媒を含む吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物。
(式(1)中、R1及びR2は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基である。但し、上記アルキル基、シクロアルキル基及びアリール基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。また、R1及びR2が共に水素原子である場合はない。R3は、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基又は−M(R3m)3で表される基である。但し、これらの基が有する水素原子の一部又は全部は、置換されていてもよい。Mは、Si、Ge又はSnである。R3mは、アルキル基である。但し、R1とR3とが連結して、これらが結合している炭素原子と共に環状エーテルを形成してもよい。) - [C]有機溶媒として、(C2)20℃における蒸気圧が1mmHg以上20mmHg以下の有機溶媒をさらに含有し、
(C2)有機溶媒の含有量が、(C1)有機溶媒及び(C2)有機溶媒の合計量に対して10質量%以上90質量%以下である請求項1に記載の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物。 - [C]有機溶媒として、(C2)20℃における蒸気圧が1mmHg以上20mmHg以下の有機溶媒をさらに含有し、
(C2)有機溶媒の含有量が、(C1)有機溶媒及び(C2)有機溶媒の合計量に対して10質量%以上50質量%以下である請求項1に記載の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物。 - [D]フッ素系界面活性剤及びシリコーン系界面活性剤からなる群より選択される少なくとも1種の界面活性剤をさらに含有し、
[D]界面活性剤の含有量が、[A]重合体100質量部に対して0.01質量部以上2質量部以下である請求項1、請求項2又は請求項3に記載の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物。 - [E]多官能(メタ)アクリレート化合物をさらに含有する請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物。
- [F]酸化防止剤をさらに含有する請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物。
- [G]1分子中に2個以上のエポキシ基を有する化合物をさらに含有する請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物。
- (C1)有機溶媒が、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ベンジルアルコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルからなる群より選択される少なくとも1種の有機溶媒である請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物。
- (C2)有機溶媒が、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、酢酸n−ブチル、メチルイソブチルケトン、3−メトキシプロピオン酸メチルからなる群より選択される少なくとも1種の有機溶媒である請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物。
- 請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物から形成される表示素子用層間絶縁膜。
- (1)請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物を、吐出ノズルと基板とを相対的に移動させつつ、基板上に塗布して塗膜を形成する工程、
(2)上記形成された塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
(3)上記放射線が照射された塗膜を現像する工程、及び
(4)上記現像された塗膜を加熱する工程
を有する表示素子用層間絶縁膜の形成方法。
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