JP2011243526A - 薄膜形成用基板の製造方法、薄膜形成用基板の製造装置、及び有機ｅｌ装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】薄膜パターンの形成を行うことなく撥液層の態様を確認する。
【解決手段】一方の面に蛍光材料を含有する撥液材料から成る撥液材料層３４を有するフィルム３２と一方の面に凸部１７を有する基板３７とを、撥液材料層３４と凸部１７と面接触するように対向配置する第１の工程と、基板３７に対してフィルム３２を相対的に加圧して撥液材料層３４を凸部１７に転写することにより、凸部１７の上面に撥液層３６を形成する第２の工程と、基板３７の一方の面に紫外線５を照射して撥液層３６に含有される蛍光材料を蛍光させ、蛍光６を撮像して取得した画像を検査して撥液層３６の欠陥情報を得る第３の工程と、を有することを特徴とする薄膜形成用基板３７の製造方法。
【選択図】図４

Description

本発明は、薄膜形成用基板の製造方法、薄膜形成用基板の製造装置、及び有機ＥＬ装置の製造方法に関する。

有機ＥＬ装置等の薄型表示装置の製造過程において、対象となる基板すなわち薄膜形成用基板に対して液材（液体材料）を微細なノズル（孔）から吐出（滴下）した後、該液材を乾燥硬化させて薄膜パターンとするＩＪ法（インクジェット法）が多用されている。かかる場合、薄膜形成用基板上に隔壁を形成し、該隔壁で囲まれた凹部内に液材をＩＪ法により吐出することが多い。
かかる製造方法により薄膜パターンを形成する場合、例えば特許文献１に示すように、該隔壁の上面に撥液層を形成する製造方法が提示されている。該撥液層は、別の基板あるいはフィルム等に形成された撥液材料層を加圧することにより上述の隔壁上に転写して形成されている。かかる製造方法であれば、上述の凹部内に吐出された液材が隔壁を乗り越えて隣り合う凹部内に進入する現象を低減でき、高品質の薄膜パターンを形成できる。

特開２００２−３０５０７７号公報

ここで、撥液層は透明でありかつ極めて薄い膜層であるため、光学的手段による観察が困難である。したがって上述の従来の製造方法では、撥液層の検査は、隔壁で囲まれた凹部内に薄膜パターンの形成が良好に行われたか否かにより事後的に確認する手法が採られている。そのため、撥液層に欠陥等が生じていた場合、次工程（薄膜パターンを形成する工程）に費やしたコストが無駄となる可能性があった。

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。

［適用例１］本適用例にかかる薄膜形成用基板の製造方法は、一方の面に蛍光材料を含有する撥液材料から成る撥液材料層を有するフィルムと一方の面に凸部を有する基板とを、上記撥液材料層と上記凸部とが面接触するように対向配置する第１の工程と、上記基板に対して上記フィルムを相対的に加圧して上記撥液材料層を上記凸部に転写することにより、上記凸部の上面に撥液層を形成する第２の工程と、上記基板の上記一方の面に紫外線を照射して上記撥液層に含有される蛍光材料を蛍光させ、該蛍光を撮像して取得した画像を検査して上記撥液層の欠陥情報を得る第３の工程と、を有することを特徴とする薄膜形成用基板の製造方法。

このような製造方法であれば、上記凸部の上面に形成された撥液層における欠陥の有無あるいは欠陥の程度を短時間かつ容易に確認等できる。したがって、上述の欠陥が規格を超えた基板が次工程（ＩＪ法により液材を吐出する工程）に流れることを低減でき、該薄膜形成用基板の製造コストを低減できる。

［適用例２］本適用例にかかる薄膜形成用基板の製造方法は、一方の面に蛍光材料を含有する撥水材料から成る撥液材料層を有するフィルムと一方の面に凸部を有する基板とを、上記撥液材料層と上記凸部と面接触するように対向配置する第１の工程と、上記基板に対して上記フィルムを相対的に加圧して上記撥液材料層を上記凸部に転写することにより、上記凸部の上面に撥液層を形成する第２の工程と、上記フィルムの上記一方の面に紫外線を照射して上記撥液材料層に含有される蛍光材料を蛍光させ、該蛍光を撮像して取得した画像を検査して上記撥液材料層の欠陥情報を得る第３の工程と、を有することを特徴とする薄膜形成用基板の製造方法。

このような製造方法であれば、上記凸部の上面に形成された撥液層における欠陥の有無あるいは欠陥の程度を、上述の基板を直接検査することなく確認等できる。したがって、撥液層の検査と薄膜形成用基板の形成に要する次工程及びそれより後の工程とを並行して実施でき、該薄膜形成用基板の製品製造コストを低減できる。

［適用例３］上述の薄膜形成用基板の製造方法であって、上記撥液材料層は蛍光材料と撥液材料とが略１対９９の比率で混合された材料からなることを特徴とする薄膜形成用基板の製造方法。

このような混合比であれば撥液性を損ねず、かつ充分な蛍光が得られる。したがって、撥液層の態様を確実に検査できると共に、検査の結果が規格を満たした薄膜形成用基板に対してＩＪ法により良好な薄膜を形成できる。

［適用例４］上述の薄膜形成用基板の製造方法であって、上記蛍光材料はルブレン又はクマリン誘導体であることを特徴とする薄膜形成用基板の製造方法。

上述の蛍光材料であれば充分な蛍光が得られるため、紫外線の照射により撥液層の態様をより一層確実に検査できる。したがって、撥液層が充分に形成されていない基板が次工程に流れることを低減でき、該薄膜形成用基板の製品製造コストを低減できる。

［適用例５］上述の薄膜形成用基板の製造方法で得られた薄膜形成用基板を用いることを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。

このような製造方法であれば、規格を満たしている撥液層を有する薄膜形成用基板を用いてＩＪ法により薄膜を形成できるため、有機ＥＬ装置の製造コストを低減できる。

［適用例６］上述の薄膜形成用基板の製造方法で得られた薄膜形成用基板を用いることを特徴とするカラーフィルター基板の製造方法。

このような製造方法であれば、規格を満たしている撥液層を有する薄膜形成用基板を用いてＩＪ法により薄膜を形成できるため、カラーフィルター基板の製造コストを低減できる。

［適用例７］本適用例にかかる薄膜形成用基板の製造装置は、一方の面に凸部を有する基板を搬送可能な搬送手段と、表面に蛍光材料を含有する撥液材料層を有するフィルムを上記基板の上記一方の面に対向配置させることが可能なフィルム供給手段と、上記基板に対向配置された上記フィルムを上記基板に対して加圧して上記撥液材料層を上記凸部に転写させることが可能な加圧手段と、上記フィルムの上記撥液材料層が形成されている側の面に紫外線を照射できる紫外線照射手段と、上記紫外線の照射により上記蛍光材料から生じる蛍光を撮像して画像を形成できる撮像手段と、上記画像を検査して、上記凸部に上記撥液材料層が充分に転写されたか否かを判定可能な判定手段と、を備えることを特徴とする薄膜形成用基板の製造装置。

このような製造装置であれば、薄膜形成用基板の一方の面に撥液材料層を転写させた後、上述の転写が旅行に行われたか否かの検査と該薄膜形成用基板の次工程への流動とを並行して実施できる。したがって、該薄膜形成用基板の生産性を向上でき該薄膜形成用基板を構成要素として用いる有機ＥＬ装置等の製造コストを低減できる。

［適用例８］本適用例にかかるフィルムは、画素間で機能層を形成するための液剤を分離するための凸部の上面を処理するためのフィルムであって、上記フィルムは、ベースフィルムと上記ベースフィルムの少なくとも一方の面に積層されている機能材料層とを有し、上記機能材料層の材料は、蛍光材料を含むことを特徴とするフィルム。

このような構成のフィルムであれば、凸部の上面に、蛍光材料が混入された機能材料層を転写できる。そして、該蛍光材料により、機能材料層の転写性の良否を容易に確認できる。

［適用例９］上述のフィルムであって、上記機能材料層は、撥液性を有する材料で構成されていることを特徴とするフィルム。

このような構成のフィルムであれば、凸部の上面に、蛍光材料が混入された撥液層を転写できる。そして、該蛍光材料により撥液層の転写性の良否を、液滴等を滴下することなく確認できる。

［適用例１０］上述のフィルムであって、上記機能材料層の厚さは、可視光波長の１／１０以下であることを特徴とするフィルム。

このような構成のフィルムであれば、目視では確認できない厚さの機能材料層を形成できる。したがって、薄膜形成用基板の外観等に対する影響が低減された機能材料層を形成できる。

有機ＥＬ装置の回路構成を示す図。 有機ＥＬ装置の画像表示領域内における模式断面図。 カラーフィルターを有する有機ＥＬ装置の画像表示領域内における模式断面図。 第１の実施形態の薄膜形成用基板の製造方法を示す工程断面図。 第２の実施形態の薄膜形成用基板の製造方法を示す工程断面図。 紫外線の照射により生じた蛍光を撮像して得られた画像を示す図。 第３の実施形態かかる薄膜形成用基板の製造装置の構成を模式的に示す図。 第４の実施形態かかる有機ＥＬ装置の製造方法を模式的に示す工程断面図。 第５の実施形態にかかるカラーフィルターの製造方法を模式的に示す工程断面図。

以下、本発明の実施形態にかかる薄膜形成用基板の製造方法等について、図面を参照しつつ述べる。なお、以下の各図においては、各層や各部位を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部位の縮尺を実際とは異ならしめてある。

（第１の実施形態）
上述したように、本発明の製造方法は薄型表示装置を対象としている。そして、本実施形態及び後述する各実施形態においては、有機ＥＬ装置とその構成要素を対象としている。そこで、本実施形態にかかる薄膜形成用基板の製造方法を説明する前に、有機ＥＬ装置の概略構成について述べる。

図１は、本実施形態の製造方法により得られる薄膜形成用基板を有する有機ＥＬ装置１の回路構成を示す図である。有機ＥＬ装置１は、規則的に配置された複数の有機ＥＬ素子の発光を個別に制御して、画像表示領域１００にカラー画像を形成するアクティブマトリクス型の有機ＥＬ装置である。画像表示領域１００には、複数の走査線１０２と該走査線と直交する複数の信号線１０４と該信号線に対して平行に延在する複数の電源供給線１０６が形成されている。そして、上記３種類の配線で囲まれる区画毎に、画素１１６が形成されている。

各々の画素１１６は、走査線１０２を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）１０８と、スイッチング用ＴＦＴ１０８を介して信号線１０４から供給される画素信号を保持する保持容量１１０と、保持容量１１０によって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用ＴＦＴ１１２と、駆動用ＴＦＴ１１２を介して電源供給線１０６から駆動電流が供給される有機ＥＬ素子１１８と、で構成されている。

画素１１６は、赤色光を射出する赤色画素１１６Ｒと緑色光を射出する緑色画素１１６Ｇと青色光を射出する青色画素１１６Ｂの計３種類がある。有機ＥＬ装置１においては、かかる発光色の差異が、後述する発光機能層７６（図２参照）を発光色に合せて形成することで得られている。なお、以下の記載において「画素１１６（Ｒ，Ｇ，Ｂ）」と表記した場合、上述の３種類の画素の総称を意味するものとする。他の構成要素についても同様である。

画像表示領域１００の周辺には、走査線駆動回路１２０、及び信号線駆動回路１３０が形成されている。走査線１０２には、走査線駆動回路１２０から、図示しない外部回路より供給される各種信号に応じて走査信号が順次供給される。そして、信号線１０４には信号線駆動回路１３０から画像信号が供給され、電源供給線１０６には図示しない外部回路から画素駆動電流が供給される。なお、走査線駆動回路１２０の動作と信号線駆動回路１３０の動作とは、同期信号線１４０を介して外部回路から供給される同期信号により相互に同期が図られている。

走査線１０２が駆動されスイッチング用ＴＦＴ１０８がオン状態になると、その時点の信号線１０４の電位が保持容量１１０に保持され、保持容量１１０の状態に応じて駆動用ＴＦＴ１１２のレベルが決まる。そして、駆動用ＴＦＴ１１２を介して電源供給線１０６から画素１１６に駆動電流が供給される。そして個々の画素１１６（Ｒ，Ｇ，Ｂ）は、該駆動電流の大きさに応じて光を射出する。夫々の画素１１６（Ｒ，Ｇ，Ｂ）が任意の強度で発光を射出することで、画像表示領域１００にカラー画像が形成される。
なお、以下の記載において、画素１１６等の符号の後の「（Ｒ，Ｇ，Ｂ）」の表記は、一部省略している。

図２は、有機ＥＬ装置１の画像表示領域１００（図１参照）内における模式断面図であり、上述の３種類の画素１１６の断面を示す図である。ただし、スイッチング用ＴＦＴ１０８と保持容量１１０については図示を省略している。図示するように有機ＥＬ装置１は、対向配置された素子基板１０と対向基板１１の一対の基板、及び該一対の基板間に形成された有機ＥＬ素子１１８等を有している。素子基板１０は、ガラスあるいはプラスチック等からなる。有機ＥＬ装置１は、対向基板１１側に光を射出するトップエミッション型の有機ＥＬ装置である。したがって、素子基板１０は透明性を要しない。一方対向基板１１は透明性が必要であり、有機ＥＬ装置１においてはガラスで形成されている。

素子基板１０の対向基板１１側の面上には、駆動用ＴＦＴ（以下、単に「ＴＦＴ」と称する）１１２が規則的に形成されている。ＴＦＴ１１２は、ポリ（多結晶）シリコンからなる半導体層及びゲート電極等で構成されており、公知の技術を用いて形成されている。そのため、詳細の記述は省略する。なお、以下の記載において、素子基板１０から見て対向基板１１側となる面あるいは方向を「上面」、「上方」あるいは「上側」と称する。

ＴＦＴ１１２の上面には、アクリル系の樹脂成分を主体とする層間絶縁膜８０が形成されている。そして、該層間絶縁膜の上面には、画素電極（陽極）７４が規則的に形成されている。なお、層間絶縁膜８０は、酸化シリコン等の無機材料を主体とする第１層間絶縁膜とアクリル系の樹脂成分を主体とする第２層間絶縁膜とを積層した構成とすることもできる。画素電極７４とＴＦＴ１１２とは、層間絶縁膜８０を局所的に除去して形成されたコンタクトホール８２を介して電気的に接続されている。

画素電極７４はＡｌ（アルミニウム）等の金属あるいはＩＴＯ（酸化インジウム・錫合金）で形成されており、画素１１６毎に島状にパターニングされている。なお、画素電極７４がＩＴＯで形成されている場合、該画素電極と素子基板１０の間に、素子基板１０側に向かう発光を対向基板１１側に反射させる反射層を形成する必要がある。

画素電極７４の上面には、例えば後述する、発光機能層等の機能層を形成するための液材１８を隣の画素間で分離してそれぞれの画素において所望の発光機能層を形成するための凸部としての隔壁１５が形成されている。隔壁１５は感光性のアクリル樹脂からなり、平面視で画素電極７４を囲むようにパターニングされている。なお画素電極７４は、外縁部において隔壁１５と重なっている。すなわち、画素電極７４の外縁部には、隔壁１５と該画素電極とが重なる環状の領域が形成されている。

上述したように画素電極７４は島状にパターニングされているため、隔壁１５は平面視で網状となる。そして、隔壁１５の上面には撥液層３６が形成されている。かかる撥液層３６は、後述するように、発光機能層７６（Ｒ，Ｇ，Ｂ）をＩＪ法で形成する際に、該発光機能層の形成材料が隔壁１５を乗り越えて隣り合う画素電極７４上に流出することを抑制する機能を果たしている。上面に撥液層３６を有する凸部が形成された基板が薄膜形成用基板である。したがって、有機ＥＬ装置１においては素子基板１０が薄膜形成用基板であり、発光機能層７６（Ｒ，Ｇ，Ｂ）が薄膜（薄膜パターン）である。

隔壁１５を側面として画素電極７４を底面とする凹部内には、発光機能層７６（Ｒ，Ｇ，Ｂ）が形成されている。そして該発光機能層及び撥液層３６等の上面には、陰極７８が形成されている。画素電極７４と発光機能層７６と陰極７８との積層体が有機ＥＬ素子１１８である。陰極７８は、ＩＴＯ、又はＡｌ、又はＡｇＭｇ（銀−マグネシウム合金）等の材料からなり、透明導電性を有している。したがって、発光機能層７６内で生じた発光は、該陰極を介して対向基板１１側から図中の矢印の方向に射出される。

発光機能層７６は、素子基板１０側から順に、正孔注入層と、正孔輸送層と、通電によりすなわち正孔と電子の結合により発光する有機ＥＬ層と、電子輸送層と、電子注入層と、の計５層が積層されて形成されている。有機ＥＬ層を除く４層は上述の３種類の画素１１６間で共通である。有機ＥＬ層のみが、発光色に合せて３種類の画素１１６間で夫々異なる材料で形成されている。

陰極７８の上面には、封止接着層８８が、少なくとも画像表示領域１００の全域に渡って形成されている。そして、該封止接着層により対向基板１１が貼り合されている。封止接着層８８は素子基板１０側から順に封止層と接着層が積層されて形成されており、封止層はさらに素子基板１０側から順に電極保護層と緩衝層とガスバリア層とが積層されて形成されている。

図３は、有機ＥＬ装置１とは異なる型の有機ＥＬ装置２の模式断面図である。有機ＥＬ装置２は、上述の有機ＥＬ装置１と同様の、カラー画像を表示可能なトップエミッション型の有機ＥＬ装置であり、回路構成も共通している。そこで、上述の図１に相当する図は省略すると共に、共通する構成要素には同一の符号を付与して説明の記載は省略する。

有機ＥＬ装置２は、３原色の射出光を対向基板１１の素子基板１０側に形成されたカラーフィルター８４（Ｒ，Ｇ，Ｂ）によって得ている。発光機能層７６は白色光を発光する有機ＥＬ層を含む層であり、３種類の画素１１６（Ｒ，Ｇ，Ｂ）間で共通である。そして発光機能層７６は、ＩＪ法ではなく蒸着法等で少なくとも画像表示領域１００の全域に形成されている。したがって、有機ＥＬ装置２は素子基板１０側の隔壁１５の上面には、撥液層３６（図２参照）を有していない。

機能層としてのカラーフィルター８４（Ｒ，Ｇ，Ｂ）は、着色顔料を含有するアクリル等の透明樹脂材料で形成されている。カラーフィルター８４Ｒは赤色光に相当する波長範囲の光を透過させ他の波長範囲の光は吸収する顔料を含有し、カラーフィルター８４Ｇは緑色光に相当する波長範囲の光を透過させ他の波長範囲の光は吸収する顔料を含有し、カラーフィルター８４Ｂは青色光に相当する波長範囲の光を透過させ他の波長範囲の光は吸収する顔料を含有している。

カラーフィルター８４（Ｒ，Ｇ，Ｂ）は、上述の着色顔料を含有する透明樹脂材料を溶媒に分散させてなる液材をブラックマトリクス１６で囲まれた凹部内にＩＪ法で供給した後、該溶媒を乾燥除去する方法で形成されている。したがって、有機ＥＬ装置２においては対向基板１１が薄膜形成用基板であり、カラーフィルター８４（Ｒ，Ｇ，Ｂ）が薄膜に相当する。そして、ブラックマトリクス１６が後述する凸部１７（図４等参照）に相当する。したがって、ブラックマトリクス１６の上面（素子基板１０側の面）には撥液層３６が形成されており、ＩＪ法でカラーフィルター８４（Ｒ，Ｇ，Ｂ）を形成する際に上述の液材が隣り合う凹部内に流出する現象を低減している。

ブラックマトリクス１６は、カーボンブラックが混入された感光性のアクリル樹脂をフォトリソグラフィー法でパターニングする方法で形成されている。そして、ブラックマトリクス１６及びカラーフィルター８４の上面（素子基板１０側）には、保護層としてのオーバーコート層８６が形成されている。発光機能層７６内で生じた白色光はカラーフィルター８４（Ｒ，Ｇ，Ｂ）透過することで３原色光の何れかの光となって、図中の矢印の方向に射出される。

図４は、第１の実施形態の薄膜形成用基板３７の製造方法を示す工程断面図である。上述したように、薄膜形成用基板３７は上面に撥液層３６を有する凸部１７が基板面に形成された基板である。なお、薄膜形成用基板３７は有機ＥＬ装置１の素子基板１０あるいは有機ＥＬ装置２の対向基板１１等の総称であるため、符号を別途付与している。同様に、凸部１７は有機ＥＬ装置１の隔壁１５あるいは有機ＥＬ装置２のブラックマトリクス１６の総称であり、符号を別途付与している。以下、工程順に説明する。なお、以下の記載においては、撥液層３６が形成される前の段階の基板に対しても、「薄膜形成用基板」の名称を使用する。

まず、図４（ａ）に示すように、一方の面に凸部１７が形成された薄膜形成用基板３７に対してラミネートフィルム３２を対向配置する。かかる工程が第１の工程である。本図では、双方の要素が若干の間隔を有するように図示しているが、双方の要素を完全に密着すなわち面接触させても良い。

ラミネートフィルム３２は、薄膜形成用基板３７を処理する毎に使い捨てされるフィルムである。具体的には、本工程が実施される度に、新しいラミネートフィルム３２がフィルム供給ローラー２２から供給される。そして、使用後のラミネートフィルム３２は、フィルム巻き取りローラー２４で巻き取られる。

本実施形態（及び後述する各実施形態）で用いるラミネートフィルム３２は、ベースフィルム３３上に撥液材料層３４が形成されたフィルム、すなわち、ベースフィルム３３と撥液材料層３４とが積層されたフィルムである。ベースフィルム３３は、厚さが略１６μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）からなる。撥液材料層３４は、フッ素系撥液材である住友３Ｍ製のノベックＥＧＣ−１７２０に蛍光材料を分散させた材料からなり、層厚は略１０〜２０ｎｍである。蛍光材料としてはクマリン誘導体あるいはルブレン等を用いており、分散濃度は０．８％以上１．０％未満である。

上記のように撥液材料層３４の膜厚は１０〜２０ｎｍであり、可視光波長の１／１０以下であるので、後述するように凸部１７に当該撥液材料層３４が形成されているかどうかを通常の光学測定を用いて測定することは困難である。しかし、蛍光材料を含んだ撥液材料を用いることにより、後述するように、紫外線を凸部１７に照射することにより、当該撥液材料層３４が凸部１７に形成されているか否かを検査することができる。

次に、図４（ｂ）に示すように、第２の工程として、ラミネートフィルム３２を薄膜形成用基板３７に対して加圧する。そして、凸部１７の上面に撥液材料層３４を転写させる。本実施形態において、加圧は、加圧ローラー２６をラミネートフィルム３２に押し当てつつ、一方の端部からもう一方の端部まで移動させることで行う。

転写の方法は、かかる方法に限定されるものではない。平板型の加圧部材を用いて、ラミネートフィルム３２を薄膜形成用基板３７に対して全面的に加圧しても良い。また、加圧ではなく、ラミネートフィルム３２と薄膜形成用基板３７とを面接触させつつ加熱することで、撥液材料層３４を転写させることもできる。さらには、加圧ローラー２６を加熱して、熱と圧力を併用して転写させても良い。

図４（ｃ）は、凸部１７の上面に撥液層３６が形成された状態を示す図である。なお、撥液層３６は撥液材料層３４と同一の材料からなる層であるが、平面視形状等が異なるため別途符号を付与している。図示するように、撥液材料層３４は凸部１７の上面にのみ転写されて撥液層３６を構成しており、凸部１７の側面及び凸部１７で囲まれた凹部１４内には転写されていない。

次に、図４（ｄ）に示すように、第３の工程として薄膜形成用基板３７の凸部１７が形成されている面に対して紫外線５を照射する。そして、該照射により生じた蛍光６を検査して、撥液層３６の態様、すなわち凸部１７の上面に充分に撥液層３６が形成されているか否かを検査する。

紫外線５は、図示するように薄膜形成用基板３７の全面に同時に照射しても良い。また、帯状の照射領域を薄膜形成用基板３７の一方の端部からもう一方の端部まで走査させても良い。撥液層３６には蛍光材料が含有されているため、該照射により蛍光６が生じる。一方、凹部１４内には撥液層３６が形成されていないため、薄膜形成用基板３７の全面に紫外線が照射されても蛍光６は生じない。そのため、かかる蛍光６を撮像して画像を形成し、上述の転写が完全に行われた場合の画像と比較することで、撥液層３６の態様を検査することができる。検査の結果、撥液層３６の態様、すなわち転写の出来具合が規格に満たない場合は、該薄膜形成用基板を不良として廃棄する。規格を満たしている場合は、該薄膜形成用基板を次工程すなわち発光機能層７６等を形成する工程へ移送する。

図６は、紫外線の照射により生じた蛍光６を撮像して得られた画像を示す図である。図６（ａ）は、本実施形態における、ラミネートフィルム３２の撥液材料層３４が、凸部１７の上面に完全に転写された場合の撥液層３６を示す平面図である。図６（ｂ）は、後述する第２の実施形態において、ラミネートフィルム３２の撥液材料層３４が凸部１７の上面に完全に転写された後の、該ラミネートフィルムに残る撥液材料層３４を示す平面図である。

上述したように、図６（ａ）は転写が完全（完璧）に実施された場合の撥液層３６等の画像を示す図である。実際の工程においては、蛍光６が生じる領域すなわちハッチングが施された領域が一部欠ける態様となることが起り得る。かかる欠けた領域の位置、面積等を検査して、薄膜形成用基板３７を良品として次工程に移送するか否かを決定するまでが第３の工程である。

撥液層３６がどの程度欠けたものまでを良品とするかの規格は、目的に合せて任意に定めることができる。目的とは、ＩＪ法により発光機能層７６等を形成する工程において、吐出された液材１８（図８参照）が隣り合う凹部１４内に流出する現象が充分に低減されることである。例えば、隣り合う凹部１４間における蛍光６が生じる領域（撥液層３６が形成された領域）の幅の最低値を定め、かかる幅を満たすだけの撥液層３６が全域で形成されていた場合は良品とすることもできる。また、蛍光６が生じる領域に切れ目が存在しなければ良品とすることもできる。

また、本工程では、凸部１７の上面における撥液層３６の態様だけではなく、凹部１４内に撥液材料層３４が転写されているか否かも検査する。そして転写されていた場合、その程度等を確認する。凹部１４内は液材１８が吐出される領域であるから親液性であることが好ましく、所定の規格を超えて転写されていた場合は、該薄膜形成用基板を不良と判定する必要がある。なお、かかる規格も、目的に合せて任意に定めることができる。

本実施形態にかかる製造方法によれば、凸部１７の上面に形成された撥液層３６の状態を、次工程を実施する以前に把握できる。従来の製造方法であれば、撥液層３６を形成後、該撥液層を上面に有する凸部１７で囲まれた凹部１４内にＩＪ法で液材１８を吐出し、該液材を硬化させる工程が終了するまで、撥液層３６の状態を把握できなかった。そして、かかる撥液層３６の状態は、上述の液材１８を硬化させて得られる発光機能層７６等が良好に形成されたか否かによって判定されていた。したがって、撥液層３６が良好に形成されず、その結果発光機能層７６等が良好に形成されなかった薄膜形成用基板３７は廃棄処分とせざるを得なかった。

本実施形態の製造方法であれば、薄膜形成用基板３７に撥液層３６を形成した後に該撥液層の状態を直ちに判定できる。そして、撥液層３６の状態が規格に満たない場合、その時点で該薄膜形成用基板を次工程に移送せずに廃棄等できる。あるいは、該薄膜形成用基板に対して、撥液層３６を形成する工程を再度実施することもできる。したがって、本実施形態の製造方法によれば、ＩＪ法に用いるインクジェット装置等の製造装置を効率的に利用でき、また発光機能層７６等の薄膜パターンの形成材料も節減できる。そのため、薄膜形成用基板３７及び該薄膜形成用基板を構成要素とする有機ＥＬ装置の製造コストを低減できる。

（第２の実施形態）
次に、第２の実施形態にかかる薄膜形成用基板の製造方法等について、図面を参照しつつ述べる。図５は、第２の実施形態の薄膜形成用基板３７の製造方法を示す工程断面図である。本実施形態にかかる製造方法の対象物は、上述の第１の実施形態の対象物と同様の薄膜形成用基板３７すなわち図２に示す素子基板１０あるいは図３に示す対向基板１１である。また、製造工程自体も、第１の実施形態の製造工程と一部共通している。そこで、上述の図４に示す要素と共通する要素には同一の符号を付して説明の記載は省略する。以下、工程順に説明する。

まず第１の工程として、図５（ａ）に示すように、薄膜形成用基板３７に対してベースフィルム３３と撥液材料層３４とが積層されてなるラミネートフィルム３２を対向配置する。次に、第２の工程として、図５（ｂ）に示すように、ラミネートフィルム３２を薄膜形成用基板３７に対して加圧する。そして、凸部１７の上面に撥液材料層３４を転写させる。
ここまでの工程は上述の第１の実施形態にかかる製造方法と同一である。したがって、ベースフィルム３３及び撥液材料層３４との形成材料等は上述の第１の実施形態で用いたものと同一である。撥液材料層３４に分散（混入）されている蛍光材料も同一である。ラミネートフィルム３２の供給方法及び加圧方法も同一である。

図５（ｃ）は、第１の工程及び第２の工程が実施された後の、ラミネートフィルム３２及び薄膜形成用基板３７を示す図である。薄膜形成用基板３７の凸部１７の上面には、撥液材料層３４が転写されて撥液層３６が形成されている。一方、ラミネートフィルム３２の凸部１７と対向しなかった領域には、撥液材料層３４が転写されずに残留している。

次に、図５（ｄ）に示すように、第３の工程として、ラミネートフィルム３２の撥液材料層３４が残留している面に紫外線５を照射する。そして、該照射により撥液材料層３４に含有される蛍光材料が励起されて生じる蛍光６を検査する。紫外線５は、ラミネートフィルム３２の全面に同時に照射しても良く、また、幅の狭い帯状の照射領域を形成し、該照射領域をラミネートフィルム３２の一方の端部からもう一方の端部まで走査させても良い。

本実施形態の第３の工程において紫外線５が照射される対象は、薄膜形成用基板３７の凸部１７に撥液材料層３４の一部が転写された後のラミネートフィルム３２である。したがって、本工程で蛍光６が生じる領域の分布は、第１の実施形態の第３の工程で得られるパターンとは逆のパターンとなる。撥液材料層３４のうち、上述の第２の工程の実施後にベースフィルム３３上に残留していない部分は薄膜形成用基板３７に転写されたものと考えることができる。したがって、第２の工程の実施後にラミネートフィルム３２に紫外線５を照射して撥液材料層３４が残留している領域を把握することにより、薄膜形成用基板３７の凸部１７の上面に形成された撥液層３６の態様（すなわち出来具合）を間接的に確認できる。また、第２の工程において目的でない領域、すなわち凹部１４内に撥液材料層３４が転写されていた場合にも、その態様を把握できる。

図６（ｂ）は、上述の転写が完全（完璧）に行われた場合におけるラミネートフィルム３２に残留した撥液材料層３４のパターン、すなわち本実施形態の第３の工程において蛍光６が生じる領域の分布を示す図である。凸部１７のパターンは平面視で網状であるため、本工程において蛍光６が生じる領域はマトリクス状に配置された島状のパターンとなる。かかる島状のパターン以外の部分で蛍光６が生じている場合は、凸部１７の上面に撥液層３６が形成されなかった領域が存在することを意味している。また、かかる島状のパターン内に蛍光６が生じない部分が存在する場合は、撥液層３６を形成すべきでない領域である凹部１４内に撥液材料層３４が転写されたことを意味している。

本工程では、個々の薄膜形成用基板３７を処理する毎にラミネートフィルム３２に紫外線５を照射して蛍光６が生じる領域、すなわち撥液材料層３４が転写され撥液層３６が形成された領域を確認する。そして、上述の図６（ｂ）に示すパターンと比較して、撥液層３６の態様、すなわち転写の出来具合が規格に満たない場合は、該当する薄膜形成用基板３７を不良として廃棄する。規格を満たしている場合は、該当する薄膜形成用基板３７を次工程すなわち発光機能層７６等を形成する工程へ移送する。

本実施形態にかかる薄膜形成用基板の製造方法は、凸部１７の上面に形成された撥液層３６の態様を紫外線５の照射により検査して確認する点で、上述の第１の実施形態の製造方法と共通している。しかし、本実施形態の製造方法は紫外線５の照射を薄膜形成用基板３７ではなくラミネートフィルム３２に対して行う点で、第１の実施形態の製造方法と異なっている。薄膜形成用基板３７に形成された撥液層３６の態様をラミネートフィルム３２を介して間接的に検査するため、該検査を行いつつ、薄膜形成用基板３７は次工程に移送できる。そして、検査の結果が撥液層３６の態様が規格を満たしていると判定された場合は直ちに次工程すなわちＩＪ法による薄膜形成工程を実施できる。したがって、本実施形態の製造方法であれば、撥液層３６の形成から発光機能層７６等の薄膜を形成するまでに要する時間を短縮でき、生産性を向上できる。

（第３の実施形態）
次に第３の実施形態として、薄膜形成用基板の製造装置について説明する。図７は、本実施形態にかかる薄膜形成用基板の製造装置の構成を模式的に示す図である。

本実施形態にかかる薄膜形成用基板の製造装置（以下、「本製造装置」と称する。）は、薄膜形成用基板３７を搬送可能な搬送手段としてのステージ５０と、該ステージ上に薄膜形成用基板を移載可能なハンドリング機構（不図示）と、ステージ５０上に固定された薄膜形成用基板３７にラミネートフィルム３２を対向配置させることが可能なフィルム供給手段としてのフィルム供給ローラー２２及びフィルム巻き取りローラー２４と、薄膜形成用基板３７に対向配置されたラミネートフィルム３２を該薄膜形成用基板に対して加圧することが可能な加圧手段としての加圧ローラー２６と、平面視でステージ５０と重ならない領域まで巻き取られたラミネートフィルム３２に対して紫外線を照射可能な紫外線照射手段としてのＵＶ光源２８と、紫外線の照射によりラミネートフィルム３２から射出される蛍光を撮像可能な位置に設けられた撮像手段としての撮像カメラ３０と、撮像カメラ３０で得られた画像を評価可能であり、かつ、上述の構成要素を制御可能な判定手段としての制御部４０、等で構成されている。
なお、上述のラミネートフィルム３２は、上述の第１の実施形態及び第２の実施形態で用いた、ベースフィルム３３（図４参照）と撥液材料層３４（図４参照）とが積層されてなるフィルムである。撥液材料層３４には蛍光材料が混入されている。

本製造装置は、下記のように動作する。まず、図示しないハンドリング機構が、ステージ５０上に薄膜形成用基板３７を移載する。ハンドリング機構の動作も、制御部４０の指示に基づいて行われる。

次に、制御部４０が、ステージ制御部５４に、ステージ５０を転写位置（転写部）に移動させるよう指示を出す。ステージ制御部５４から供給される電力によりステージ駆動モーター５２が回転して、ステージ５０を上記位置まで移動させる。ここで、本図では図示を省略しているが、ステージ５０上に薄膜形成用基板３７が移載等される位置が移載位置（移載部）であり、ステージ５０上に載置された薄膜形成用基板３７がラミネートフィルム３２と対向する位置が転写位置である。ステージ５０は図示しない移動レール上において、上述の移載位置と転写位置との間を移動する。この時点で、上記位置には未使用のラミネートフィルム３２、すなわちステージ５０と対向する面の全面に撥液材料層３４（図４等参照）を有するラミネートフィルム３２が準備されている。そして、薄膜形成用基板３７とラミネートフィルム３２は、所定の間隔を持って対向配置される。

次に、制御部４０が、モータードライバー４８に、ラミネートフィルム３２をステージ５０上に載置された薄膜形成用基板３７に対して加圧するように指示を出す。モータードライバー４８は加圧ローラー駆動モーター４６を動作させて、加圧ローラー２６を薄膜形成用基板３７の一方の端部に押し当てる。上述したように薄膜形成用基板３７上にはラミネートフィルム３２が対向配置されている。したがって、加圧ローラー２６は、ラミネートフィルム３２を薄膜形成用基板３７の一方の端部領域に押し当てることとなる。

その後、モータードライバー４８は、加圧ローラー２６を回転させつつ薄膜形成用基板３７上を上述の一方の端部からもう一方の端部まで移動させる。そして、ベースフィルム３３に積層されていた撥液材料層３４を薄膜形成用基板３７の凸部１７（図４参照）に転写させる。

上述の転写をする工程が終了した後、本製造装置は、以下に記載する２つの処理を並行して実施する。まず、第１の処理として、薄膜形成用基板３７を次工程へ移送する。制御部４０がステージ制御部５４に、ステージ５０を移載位置に移動させるよう指示を出す。ステージ駆動モーター５２は、ステージ制御部５４から供給される電力により回転して、ステージ５０を上述の図示しない移動レール上において移載位置まで移動させる。処理後の薄膜形成用基板、すなわち撥液材料層３４が転写されて凸部１７の上面に撥液層３６（図４参照）が形成された薄膜形成用基板３７は、該移載位置において、図示しないハンドリング機構により次工程に移送される。そして、次に処理されるべき薄膜形成用基板３７が、該ハンドリング機構によりステージ５０上に載置される。

同時に、第２の処理として、使用後すなわち転写工程を経たラミネートフィルム３２を撮像する。そして、転写の良否判定すなわち、凸部１７の上面に撥液層３６が良好に形成されたか否かを間接的に検査する。

制御部４０が、モータードライバー４８に、ラミネートフィルム３２を巻き取るように指示を出す。モータードライバー４８はフィルム供給ローラー駆動モーター４２とフィルム巻き取りローラー駆動モーター４４に電力を供給して、双方のローラー（２２，２４）を回転させる。

同時に、制御部４０は、巻き取られる途中のラミネートフィルム３２を撮像するよう指示を出す。具体的には、ＵＶ光源２８に、巻き取られる途中のラミネートフィルム３２に対して紫外線５を照射させる。そして該紫外線により、凸部１７に転写されずにラミネートフィルム３２の表面に残留している撥液材料層３４に混入されている蛍光材料を励起させる。そして励起されて生じた蛍光６を、撮像カメラ３０に撮像させる。

ＵＶ光源２８は集光用の反射鏡２９を備えており、ラミネートフィルム３２が巻き取られる方向に直交する帯状の領域に紫外線５を照射できる。そして撮像カメラ３０は、焦点を、該帯状の領域を往復するように走査させることができる。ラミネートフィルム３２は、薄膜形成用基板３７に対して加圧された後、順次フィルム巻き取りローラー２４に巻き取られる。したがって撮像カメラ３０は、ラミネートフィルム３２の、薄膜形成用基板３７に対して加圧された領域の全てを撮像できる。

そして、制御部４０は撮像された画像を検査して、薄膜形成用基板３７に対する撥液材料層３４の転写が良好に行われたか否かを判定する。判定の基準となる画像は、図６（ｂ）に示されている画像である。上述したように、凸部１７は平面視で網状に形成されている。したがって、転写されずにラミネートフィルム３２に残留した撥液材料層３４は、転写が正確に行われた場合、図６（ｂ）に示されているような、島状の領域が規則的に（具体的にはマトリクス状に）配置された態様となる。制御部４０は、撮像された画像と図６（ｂ）に示されている画像を比較して、良否判定を行う。

転写が良好に行われている限り、すなわち転写が良好に行われているとの判定が続く限り、本製造装置の使用者は、本製造装置を用いて複数の薄膜形成用基板３７を連続して処理することができる。転写が良好に行われていないと判定された場合、本製造装置の使用者は、該当する薄膜形成用基板３７を、次工程の進展具合にかかわらず不良品として処分することとなる。

本製造装置は、ラミネートフィルム３２をフィルム供給ローラー２２から供給して薄膜形成用基板３７に対して加圧した後に、フィルム巻き取りローラー２４で回収するまでの一連の動作の間に、転写工程の良否を判定できる。したがって、本製造装置を用いれば、判定に要する工程等を別途定めることなく上述の良否判定を行うことができる。したがって、転写工程すなわち撥液層３６の形成工程の生産性を向上でき、有機ＥＬ装置の製造コストを低減できる。

また、薄膜形成用基板３７を直接検査することなく、間接的に上述の良否判定を行うことができるため、該薄膜形成用基板の取り扱いに伴う傷等の発生も低減できる。したがって、かかる観点においても生産性を向上でき、有機ＥＬ装置（１，２）の製造コストを低減できる。

（第４の実施形態）
次に第４の実施形態として、上述の第１の実施形態にかかる薄膜形成用基板の製造方法を利用した有機ＥＬ装置の製造方法について説明する。図８は、本実施形態にかかる有機ＥＬ装置の製造方法を模式的に示す工程断面図である。

本実施形態の対象となる有機ＥＬ装置は、上述の図２に示すカラー画像を表示可能なトップエミッション型の有機ＥＬ装置１である。有機ＥＬ装置１は、カラー画像の形成に必要な３原色光を、発光色に対応する発光機能層７６（Ｒ，Ｇ，Ｂ）を画素１１６毎に形成することで得ている。したがって、発光機能層７６（Ｒ，Ｇ，Ｂ）が薄膜であり、素子基板１０が図４等に示す薄膜形成用基板３７に該当する。そして、隔壁１５が図４等に示す凸部１７に該当する。以下、工程順に説明する。なお、有機ＥＬ装置１の各要素の説明は既になされているので、本実施形態においては、かかる説明の記載は一部省略する。

まず、図８（ａ）に示すように、素子基板１０の一方の面上にＴＦＴ１１２及び画素電極７４等を形成する。そして該画素電極を平面視で囲むように凸部としての隔壁１５を形成する。そして隔壁１５までが形成された素子基板１０に、ラミネートフィルム３２を対向配置する。ラミネートフィルム３２は上述したようにベースフィルム３３に撥液材料層３４が積層された構成である。そして撥液材料層３４は、撥液材に蛍光剤が混入された材料からなる。ラミネートフィルム３２は、図示するように隔壁１５の上面に対して若干の間隔を有するように配置しても良く、また、隔壁１５の上面に密着させても良い。

次に、図８（ｂ）に示すように、図示しない加圧手段によりラミネートフィルム３２を素子基板１０に対して加圧して、撥液材料層３４を隔壁１５の上面に転写する。隔壁１５の上面に撥液層３６が形成される。隔壁１５と対向していなかった部分の撥液材料層３４は、そのままラミネートフィルム３２に残留する。

次に、図８（ｃ）に示すように、ラミネートフィルム３２を取り除き、素子基板１０の全面に図示しないＵＶ光源２８を用いて紫外線５を照射する。そして、撥液層３６に含有される蛍光剤を励起させて蛍光６を得る。そして該蛍光を図示しない撮像手段により撮像して画像を形成する。そして、かかる画像を検査して、隔壁１５の上面に撥液層３６が充分に形成されているか否かを判定する。同時に、隔壁１５で囲まれた領域である凹部１４内に規格以上の撥液材料層３４が転写されているか否かを判定する。

判定の結果、規格内であると判断された素子基板１０は、次工程に流動する。そして、図８（ｄ）に示すように、凹部１４内に図示しないＩＪ装置が備えるインクジェットヘッド１９から発光機能層７６の形成材料を溶媒に分散させてなるである液材１８を吐出する。そして該液材を乾燥固化して発光機能層７６（図２参照）を形成する。以降、図２に示す陰極７８を形成し、封止接着層８８により対向基板１１を貼付して有機ＥＬ装置１を得る。

上述したように、発光機能層７６は、正孔注入層と、正孔輸送層と、有機ＥＬ層と、電子輸送層と、電子注入層と、の計５層が積層されて形成されている。したがって、かかる５層を全てＩＪ法で形成する場合は、図示するような液材１８の吐出と乾燥固化を５回繰り返す必要がある。一部の層を、素子基板１０の全面に、蒸着法あるいはスパッタ法等で形成することもできる。また、一部の層を、マスク成膜法で形成することもできる。

上述したように、本実施形態の製造方法であれば、図８（ｄ）に示す液材１８の吐出を行う前に撥液層３６の態様を把握できる。したがって、撥液層３６の形成が良好に行われなかった場合でも液材１８を無駄にすることが無く、また、ＩＪ装置を無駄に動作させることも回避される。したがって、薄膜すなわち発光機能層７６の形成工程の生産性を向上でき、有機ＥＬ装置１の製造コストを低減できる。

（第５の実施形態）
次に第５の実施形態として、上述の第１の実施形態にかかる薄膜形成用基板の製造方法を利用したカラーフィルターの製造方法について説明する。図９は、本実施形態にかかるカラーフィルターの製造方法を模式的に示す工程断面図である。

本実施形態の対象となるカラーフィルターは、上述の図３に示す有機ＥＬ装置２の対向基板１１に形成されているカラーフィルター８４である。したがって、カラーフィルター８４が薄膜であり、対向基板１１が図４等に示す薄膜形成用基板３７に該当している。そして、ブラックマトリクス１６が図４等に示す凸部１７に該当している。以下、工程順に説明する。なお、有機ＥＬ装置２の各要素の説明は既になされているので、本実施形態においては、かかる説明の記載は一部省略する。

まず、図９（ａ）に示すように、対向基板１１の一方の面にカーボンブラックが混入された感光性のアクリル樹脂層を形成するそしてフォトリソグラフィー法によりパターニングしてブラックマトリクス１６を形成する。そしてブラックマトリクス１６までが形成された対向基板１１に、ベースフィルム３３に蛍光剤が混入され撥液材料層３４が積層されてなるラミネートフィルム３２を対向配置する。上述の第４の実施形態と同様にラミネートフィルム３２は、ブラックマトリクス１６の上面に対して若干の間隔を有するように配置しても良く、また、ブラックマトリクス１６の上面に密着させても良い。

次に、図９（ｂ）に示すように、図示しない加圧手段によりラミネートフィルム３２を対向基板１１に対して加圧して、撥液材料層３４をブラックマトリクス１６の上面に転写する。ブラックマトリクス１６の上面に撥液層３６が形成される。ブラックマトリクス１６と対向していなかった部分の撥液材料層３４は、そのままラミネートフィルム３２に残留する。

次に、図９（ｃ）に示すように、ラミネートフィルム３２を取り除く。そして上述の第４の実施形態と同様に、対向基板１１の全面に紫外線５を照射して蛍光６を得る。そして該蛍光を図示しない撮像手段により撮像して画像を形成する。そして、かかる画像を検査して、隔壁１５の上面に撥液層３６が充分に形成されているか否かを判定する。同時に、隔壁１５で囲まれた領域である凹部１４内に規格以上の撥液材料層３４が転写されているか否かを判定する。

そして次に、判定の結果、規格内であると判断された対向基板１１に対して、図９（ｄ）に示すようにインクジェットヘッド１９から着色顔料が混入されたアクリル等の透明樹脂材料を溶媒に分散させてなる液材１８を吐出する。上述したように着色顔料は３原色に合せて３種類必要である。ただし、カラーフィルター８４は発光機能層７６とは異なり単一の層で構成されているため、液材１８の吐出を複数回繰り返す必要はない。

以下、吐出した液材１８を乾燥固化してカラーフィルター８４とする。そしてオーバーコート層８６（図３参照）を全面に形成する。かかるオーバーコート層８６までが形成された対向基板１１を、封止接着層８８（図３参照）を介して陰極７８（図３参照）までが形成された素子基板１０と貼り合せて図３に示す有機ＥＬ装置２を得ることができる。

上述の第４の実施形態と同様に、本実施形態の製造方法であれば、液材１８の吐出を行う前に、撥液層３６の態様を把握できる。したがって、撥液層３６の形成が良好に行われなかった場合でも液材１８を無駄にすることが無く、また、ＩＪ装置を無駄に動作させることも回避される。したがって、薄膜すなわちカラーフィルター８４の形成工程の生産性を向上でき、有機ＥＬ装置の製造コストも低減できる。

本発明の実施の形態は、上述の各実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。

（変形例）
上述の各実施形態においては、転写工程の良否判定を、薄膜形成用基板３７若しくはラミネートフィルム３２の全面を検査することで行う様に記載されている。しかし全面ではなく、一部の領域のみを検査することで判定を下す方法も実施可能である。実際の転写工程において、不良は、矩形である薄膜形成用基板３７に対して中心が一致するように描かれた、所定の幅を有する「＋（プラス）」の文字状の領域に発生し易いことが経験的に知られている。したがって、かかる「＋」の文字状の領域のみに紫外線５を照射して検査することで、生産性をより一層向上させることもできる。

１…有機ＥＬ装置、２…有機ＥＬ装置、５…紫外線、６…蛍光、１０…素子基板、１１…対向基板、１４…凹部、１５…凸部としての隔壁、１６…凸部としてのブラックマトリクス、１７…凸部、１８…液材、１９…インクジェットヘッド、２２…フィルム供給手段としてのフィルム供給ローラー、２４…フィルム供給手段としてのフィルム巻き取りローラー、２６…加圧手段としての加圧ローラー、２８…紫外線照射手段としてのＵＶ光源、２９…反射鏡、３０…撮像手段としての撮像カメラ、３２…ラミネートフィルム、３３…ベースフィルム、３４…撥液材料層、３６…撥液層、３７…薄膜形成用基板、４０…判定手段としての制御部、４２…フィルム供給ローラー駆動モーター、４４…フィルム巻き取りローラー駆動モーター、４６…加圧ローラー駆動モーター、４８…モータードライバー、５０…ステージ、５２…ステージ駆動モーター、５４…ステージ制御部、７４…画素電極、７６…発光機能層、７８…陰極、８０…層間絶縁膜、８２…コンタクトホール、８４…カラーフィルター、８６…オーバーコート層、８８…封止接着層、１１２…駆動用ＴＦＴ、１１６…画素、１１８…有機ＥＬ素子。

Claims (10)

1. 一方の面に蛍光材料を含有する撥液材料から成る撥液材料層を有するフィルムと一方の面に凸部を有する基板とを、前記撥液材料層と前記凸部とが面接触するように対向配置する第１の工程と、
   前記基板に対して前記フィルムを相対的に加圧して前記撥液材料層を前記凸部に転写することにより、前記凸部の上面に撥液層を形成する第２の工程と、
   前記基板の前記一方の面に紫外線を照射して前記撥液層に含有される蛍光材料を蛍光させ、該蛍光を撮像して取得した画像を検査して前記撥液層の欠陥情報を得る第３の工程と、
   を有することを特徴とする薄膜形成用基板の製造方法。
2. 一方の面に蛍光材料を含有する撥水材料から成る撥液材料層を有するフィルムと一方の面に凸部を有する基板とを、前記撥液材料層と前記凸部と面接触するように対向配置する第１の工程と、
   前記基板に対して前記フィルムを相対的に加圧して前記撥液材料層を前記凸部に転写することにより、前記凸部の上面に撥液層を形成する第２の工程と、
   前記フィルムの前記一方の面に紫外線を照射して前記撥液材料層に含有される蛍光材料を蛍光させ、該蛍光を撮像して取得した画像を検査して前記撥液材料層の欠陥情報を得る第３の工程と、
   を有することを特徴とする薄膜形成用基板の製造方法。
3. 請求項１又は２に記載の薄膜形成用基板の製造方法であって、前記撥液材料層は蛍光材料と撥液材料とが略１対９９の比率で混合された材料からなることを特徴とする薄膜形成用基板の製造方法。
4. 請求項３に記載の薄膜形成用基板の製造方法であって、前記蛍光材料はルブレン又はクマリン誘導体であることを特徴とする薄膜形成用基板の製造方法。
5. 請求項１〜４の何れか１項に記載の製造方法で得られた薄膜形成用基板を用いることを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。
6. 請求項１〜４の何れか１項に記載の製造方法で得られた薄膜形成用基板を用いることを特徴とするカラーフィルター基板の製造方法。
7. 一方の面に凸部を有する基板を搬送可能な搬送手段と、
   表面に蛍光材料を含有する撥液材料層を有するフィルムを前記基板の前記一方の面に対向配置させることが可能なフィルム供給手段と、
   前記基板に対向配置された前記フィルムを前記基板に対して加圧して前記撥液材料層を前記凸部に転写させることが可能な加圧手段と、
   前記フィルムの前記撥液材料層が形成されている側の面に紫外線を照射できる紫外線照射手段と、
   前記紫外線の照射により前記蛍光材料から生じる蛍光を撮像して画像を形成できる撮像手段と、
   前記画像を検査して、前記凸部に前記撥液材料層が充分に転写されたか否かを判定可能な判定手段と、
   を備えることを特徴とする薄膜形成用基板の製造装置。
8. 画素間で機能層を形成するための液剤を分離するための凸部の上面を処理するためのフィルムであって、
   前記フィルムは、ベースフィルムと前記ベースフィルムの少なくとも一方の面に積層されている機能材料層とを有し、前記機能材料層の材料は、蛍光材料を含むことを特徴とするフィルム。
9. 請求項８に記載のフィルムであって、
   前記機能材料層は、撥液性を有する材料で構成されていることを特徴とするフィルム。
10. 請求項８または９に記載のフィルムであって、
    前記機能材料層の厚さは、可視光波長の１／１０以下であることを特徴とするフィルム。

Images