JP2011242177A5 - - Google Patents

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上記課題を解決するため、本発明の一態様は、
光干渉断層法を用いて被検査物の断層画像を取得するための撮像装置であって、
源から出射された光を参照光と測定光とに分割する第1の光分割手段と、
前記参照光を第1の参照光と第2の参照光とに分割する第2の光分割手段と、
前記測定光を照射した被検査物からの戻り光と前記第1の参照光とを干渉させた干渉光が入射される第1の検出領域と、前記第2の参照光が入射される第2の検出領域とを有する検出手段と、
前記第2の検出領域で検出された第2の検出信号を用いて前記第1の検出領域で検出された第1の検出信号を補正する補正手段と、を備える


Claims (24)

  1. 光干渉断層法を用いて被検査物の断層画像を取得するための撮像装置であって、
    源から出射された光を参照光と測定光とに分割する第1の光分割手段と、
    前記参照光を第1の参照光と第2の参照光とに分割する第2の光分割手段と、
    前記測定光を照射した被検査物からの戻り光と前記第1の参照光とを干渉させた干渉光が入射される第1の検出領域と、前記第2の参照光が入射される第2の検出領域とを有する検出手段と、
    前記第2の検出領域で検出された第2の検出信号を用いて前記第1の検出領域で検出された第1の検出信号を補正する補正手段と、を備えることを特徴とする撮像装置。
  2. 前記第1および第2の検出信号はそれぞれ周波数成分毎の強度分布を示し、
    前記補正手段は、前記第2の検出信号を前記第1の検出領域で検出された前記第1の検出信号から減算することにより前記第1の検出信号を補正し、前記第1の参照光に対応するノイズ成分を低減することを特徴とする請求項1に記載の撮像装置。
  3. 前記補正手段により補正された第1の検出信号に基づいて前記被検査物の断層画像を生成する生成手段を更に備えることを特徴とする請求項1または2に記載の撮像装置。
  4. 前記第1の検出領域において検出される前記第1の参照光の光量と前記第2の検出領域において検出される前記第2の参照光の光量とが一致するように前記第2の参照光の光量を調整する光量調整手段を更に備えることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の撮像装置。
  5. 前記光量調整手段は、可変アッテネーターを含み、入射された前記第2の参照光の光量を減衰させて出力することを特徴とする請求項4に記載の撮像装置。
  6. 記測定光の光路を遮断する遮断手段と、
    前記遮断手段により前記測定光の光路が遮断されている状態において、前記第1の検出領域で検出された前記第1の参照光の検出信号と、前記第2の検出領域で検出された前記第2の参照光の検出信号とに基づいて前記光量調整手段のための調整値を算出する調整値算出手段と、を更に備えることを特徴とする請求項4または5に記載の撮像装置。
  7. 前記干渉光を波長にしたがって分光して前記第1の検出領域へ導き、前記第2の参照光を波長にしたがって分光して前記第2の検出領域へ導く分光手段を更に備え、
    前記補正手段は、さらに、前記分光手段と前記第1の検出領域と前記第2の検出領域との位置関係により生じる、前記第1の検出信号と前記第2の検出信号との間の波長間隔に対する画素間隔の相違を補正することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の撮像装置。
  8. 前記測定光の光路を遮断する遮断手段と、
    前記遮断手段により前記測定光の光路が遮断れている状態において、前記第1の検出領域で検出された前記第1の参照光の検出信号と、前記第2の検出領域で検出された前記第2の参照光の検出信号とに基づいて前記波長間隔に対する画素間隔の相違を補正するための補正値を算出する補正値算出手段と、を更に備えることを特徴とする請求項7に記載の撮像装置。
  9. 前記分光手段は、前記干渉光と前記第2の参照光をそれぞれ前記第1の検出領域と前記第2の検出領域に照射するための単一の回折格子を備え、
    前記相違は、前記単一の回折格子への前記干渉光と前記第2の参照光の入射角度の違いに起因することを特徴とする請求項7または8に記載の撮像装置。
  10. 前記干渉光と前記第2の参照光をそれぞれ前記第1の検出領域と前記第2の検出領域に照射するための単一の回折格子を備え、
    前記回折格子と、前記干渉光と前記第2の参照光のそれぞれの前記単一の回折格子への照射部とが、前記干渉光と前記第2の参照光の前記単一の回折格子への入射角度が同じになるように配置されていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の撮像装置。
  11. 前記光源とは別の光源から出射された光を第2の測定光と第3の参照光とに分割する第3の光分割手段と、
    第1の撮像モードと第2の撮像モードとのいずれかを設定する設定手段と、
    前記第1の撮像モードが設定されている場合には前記第2の測定光により得られる第2の戻り光と前記第3の参照光とを干渉させた第2の干渉光前記第2の検出領域に入射、前記第2の撮像モードが設定されている場合に前記第2の参照光前記第2の検出領域に入射するように光路を切り換える切替手段とを更に備えることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の撮像装置。
  12. 前記第1の撮像モードが設定されている場合、前記第1の検出領域で検出された前記干渉光の検出信号と、前記第2の検出領域で検出された前記第2の干渉光の検出信号のそれぞれから前記被検査物の断層画像を生成し、前記第2の撮像モードが設定されている場合、前記補正手段により補正された検出信号を用いて前記被検査物の断層画像を生成する生成手段を更に備えることを特徴とする請求項11に記載の撮像装置。
  13. 光干渉断層法を用いて被検査物の断層画像を取得するための撮像装置であって、
    源から出射された光を参照光と第1の測定光とに分割する第1の光分割手段と、
    前記参照光を第1の参照光と第2の参照光とに分割する第2の光分割手段と、
    前記第1の測定光戻り光と前記第1の参照光とを干渉させた第1の干渉光を検出する検出手段と、
    前記光源とは別の光源から出射された光を第2の測定光と第3の参照光とに分割する第3の光分割手段と、
    第1の撮像モードと第2の撮像モードとのいずれかを設定する設定手段と、
    前記第1の撮像モードが設定されている場合には前記第2の測定光により得られる第2の戻り光と前記第3の参照光とを干渉させた第2の干渉光検出され、前記第2の撮像モードが設定されている場合に前記第2の参照光検出されるように光路を切り換える切替手段と、を備えることを特徴とする撮像装置。
  14. 前記被検査物は被検眼であることを特徴とする請求項1乃至13のいずれか1項に記載の撮像装置。
  15. 光干渉断層法を用いて被検査物の断層画像を取得する撮像装置の撮像方法であって、
    源から出射された光を参照光と測定光とに分割し
    記参照光を第1の参照光と第2の参照光とに分割し
    記測定光を照射した被検査物からの戻り光と前記第1の参照光とを干渉させた干渉光を検出手段の第1の検出領域に入射し、前記第2の参照光を前記検出手段の前記第1の検出領域とは異なる第2の検出領域へ入射し、
    記第2の検出領域で検出された第2の検出信号を用いて前記第1の検出領域で検出された第1の検出信号を補正することを特徴とする撮像方法。
  16. 前記第1および第2の検出信号はそれぞれ周波数成分毎の強度分布を示し、
    前記第1の検出信号の補正では、前記第2の検出信号を前記第1の検出領域で検出された前記第1の検出信号から減算することにより、前記第1の参照光に対応するノイズ成分を低減することを特徴とする請求項15に記載の撮像方法。
  17. 前記補正された検出信号に基づいて前記被検査物の断層画像を生成することを特徴とする請求項15または16に記載の撮像方法。
  18. 前記第1の検出領域において検出される前記第1の参照光の光量と前記第2の検出領域において検出される前記第2の参照光の光量とが一致するように前記第2の参照光の光量を調整することを特徴とする請求項15乃至17のいずれか1項に記載の撮像方法。
  19. 前記干渉光は分光手段により波長にしたがって分光されて前記第1の検出領域へ導かれ、前記第2の参照光は分光手段により波長にしたがって分光されて前記第2の検出領域へ導かれ、
    前記分光手段と前記第1の検出領域と前記第2の検出領域との位置関係により生じる、前記第1の検出信号と前記第2の検出信号との間の波長間隔に対する画素間隔の相違を補正することを特徴とする請求項15乃至18のいずれか1項に記載の撮像方法。
  20. 前記光源とは別の光源から出射された光を第2の測定光と第3の参照光とに分割し、
    第1の撮像モードが設定されている場合は、前記第2の測定光により得られる第2の戻り光と前記第3の参照光とを干渉させた第2の干渉光が前記第2の検出領域に入射し、前記第2の撮像モードが設定されている場合は、前記第2の参照光が前記第2の検出領域に入射する用に光路を切り替えることを特徴とする請求項15乃至19のいずれか1項に記載の撮像方法。
  21. 前記第1の撮像モードが設定されている場合には、前記第1の検出領域で検出された前記干渉光の検出信号と、前記第2の検出領域で検出された前記第2の干渉光の検出信号のそれぞれから前記被検査物の断層画像を生成し、前記第2の撮像モードが設定されている場合には、前記補正された前記第1の検出領域で検出された検出信号を用いて前記被検査物の断層画像を生成することを特徴とする請求項20に記載の撮像方法。
  22. 光干渉断層法を用いて被検査物の断層画像を取得するための撮像方法であって、
    光源から出射された光を参照光と第1の測定光とに分割し、
    前記参照光を第1の参照光と第2の参照光とに分割し、
    前記第1の測定光の戻り光と前記第1の参照光とを干渉させた第1の干渉光を検出し、
    前記光源とは別の光源から出射された光を第2の測定光と第3の参照光とに分割し、
    第1の撮像モードと第2の撮像モードとのいずれかを設定し、
    前記第1の撮像モードが設定されている場合には前記第2の測定光により得られる第2の戻り光と前記第3の参照光とを干渉させた第2の干渉光が検出され、前記第2の撮像モードが設定されている場合には前記第2の参照光が検出されるように光路を切り換えることを特徴とする撮像方法。
  23. 前記被検査物は被検眼であることを特徴とする請求項15乃至22のいずれか1項に記載の撮像方法。
  24. コンピュータに、請求項15乃至23のいずれか1項に記載された撮像方法を実行させるためのプログラム。
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103578081B (zh) * 2012-08-08 2018-12-28 北京三星通信技术研究有限公司 用于提高图像质量的图像处理方法和系统
JP6039314B2 (ja) * 2012-08-30 2016-12-07 キヤノン株式会社 撮像装置および撮像方法
JP2015129730A (ja) * 2014-01-09 2015-07-16 住友電気工業株式会社 光学的測定方法
JP2016075585A (ja) 2014-10-07 2016-05-12 キヤノン株式会社 撮像装置、断層画像のノイズ低減方法、及びプログラム
JP2017173305A (ja) * 2016-02-10 2017-09-28 株式会社トーメーコーポレーション 波長符号化マルチビーム光コヒーレンストモグラフィ
JP2020518795A (ja) * 2017-05-02 2020-06-25 ノバルティス アーゲー 再構成可能な光干渉断層撮影(oct)システム
US11300452B2 (en) 2017-06-08 2022-04-12 Ushio Denki Kabushiki Kaisha Spectral measurement method, spectral measurement system, and broadband pulsed light source unit
US20220065615A1 (en) * 2018-12-20 2022-03-03 Nec Corporation Optical coherence tomography device
CN111493831B (zh) * 2020-04-24 2023-01-06 天津恒宇医疗科技有限公司 一种基于oct光干涉的自适应校准系统及工作方法
KR102420177B1 (ko) * 2021-12-24 2022-07-13 재단법인 구미전자정보기술원 다중 광원을 이용한 표면 형상 정보 획득 장치

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4494127B2 (ja) * 2004-08-18 2010-06-30 富士フイルム株式会社 断層画像観察装置、内視鏡装置、及び、それらに用いるプローブ
JP2006122649A (ja) * 2004-09-30 2006-05-18 Nidek Co Ltd 被検物体の測定方法、及び該方法を用いた眼科装置
US7742173B2 (en) * 2006-04-05 2010-06-22 The General Hospital Corporation Methods, arrangements and systems for polarization-sensitive optical frequency domain imaging of a sample
JP5306075B2 (ja) * 2008-07-07 2013-10-02 キヤノン株式会社 光干渉断層法を用いる撮像装置及び撮像方法

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