JP2011233812A - 表面加工装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】表面加工装置1は、被処理物10を支持する支持台21と、支持台21に支持された被処理物10の被処理面101の各部の温度を独立して制御する温度制御手段9と、支持台21に対して移動可能に設けられ、支持台21に支持された被処理物10の被処理面101に対してエッチング液を送出する送出口4aおよび送出口4aから送出されたエッチング液を吸引する吸引口4bを有するノズル4とを有している。温度制御手段9は、被処理面101の各部を、エッチング液が供給される前は所定温度に保ち、エッチング液が供給され吸引口4bから吸引された後に所定温度よりも低い温度に冷却するよう構成されている。
【選択図】図1
Description
[適用例1]
本発明の表面加工装置は、被処理物の被処理面にエッチング液を供給することにより前記被処理面を加工する表面加工装置であって、
前記被処理物を支持する支持台と、
前記支持台に支持された前記被処理物の前記被処理面の各部位の温度を独立して制御する温度制御手段と、
前記支持台に対して移動可能に設けられ、前記支持台に支持された前記被処理物の前記被処理面に対して前記エッチング液を送出する送出口および前記送出口から送出された前記エッチング液を吸引する吸引口を有するノズルとを有し、
前記温度制御手段は、前記被処理面の前記各部位を、前記エッチング液が供給される前は所定温度に保ち、前記エッチング液が供給され前記吸引口から吸引された後に前記所定温度よりも低い温度に冷却するよう構成されていることを特徴とする。
これにより、被処理物に対して所望のエッチング処理を行うことができる表面加工装置を提供することができる。
本発明の表面加工装置では、前記温度制御手段は、前記被処理面の前記エッチング液が供給される前の領域内を等しい温度に維持するよう構成されていることが好ましい。
これにより、被処理物に対して高精度なエッチング処理を行うことができる。
[適用例3]
本発明の表面加工装置では、前記温度制御手段は、前記被処理面の前記エッチング液が供給される前の領域内を30°以上80°以下の一定温度とすることが好ましい。
これにより、エッチング液を被処理面の各部位に正確に供給することができるとともに、被処理面の各部位を比較的高いエッチングレートにてエッチング処理することができる。そのため、被処理物に対して、迅速かつ高精度なエッチング処理を施すことができる。
本発明の表面加工装置では、前記温度制御手段は、前記被処理面の前記エッチング液が供給される前の領域内を前記エッチング液の温度と等しい温度とすることが好ましい。
これにより、被処理面とエッチング液の温度差を実質的に0(ゼロ)とすることができるため、エッチング液が供給されることによって被処理面の表面温度が変化するのを確実に防止することができる。そのため、所定のエッチングレートで被処理面をエッチングすることができ、被処理物に対してより高精度なエッチング処理を施すことができる。
本発明の表面加工装置では、前記温度制御手段は、前記被処理面の前記エッチング液が供給され前記吸引口から吸引された領域内を25°以下に冷却することが好ましい。
これにより、被処理面に対するエッチング液のエッチングレートを実質的に0(ゼロ)とすることができるため、所望のエッチング処理が施された部位が、その部位に残存するエッチング液によって、さらにエッチング処理されてしまうのを確実に防止することができる。
本発明の表面加工装置では、前記温度制御手段は、前記支持台に設けられた複数の加熱・冷却素子を有していることが好ましい。
これにより、支持台に固定された被処理物の被処理面を迅速かつ効率的に加熱または冷却することができる。
本発明の表面加工装置では、前記複数の加熱・冷却素子は、前記被処理面に対する前記ノズルの移動方向に沿って並んで設けられていることが好ましい。
これにより、被処理面のエッチングが終了した部位を順次、その部位に対応する加熱・冷却素子によって冷却することができる。そのため、被処理面のエッチングが終了した部位を速やかに冷却することができ、被処理面から除去されずに残存したエッチング液による不本意なエッチングをより効果的に防止することができる。
本発明の表面加工装置では、1つの前記加熱・冷却素子によって温調される前記被処理面の各部位の前記ノズルの移動方向に直交する方向における長さは、所定時刻に前記被処理面に供給された前記エッチング液の前記ノズルの移動方向に直交する方向における長さと等しいかまたはそれよりも短いことが好ましい。
これにより、被処理面のエッチングが終了した部位のみを、より確実に、エッチング終了後速やかに冷却することができる。そのため、被処理面から除去されずに残存したエッチング液による不本意なエッチングをさらに効果的に防止することができる。
本発明の表面加工装置では、前記複数の加熱・冷却素子は、それぞれ、ペルチェ素子であることが好ましい。
1つの素子で、被処理物の被処理面の加熱、冷却を共に行うことができるので、温度制御手段の構成が簡単となる。また、電流の印加に対する応答性にも優れており、より迅速かつ正確に被処理面を所定温度とすることができる。
<第1実施形態>
図1は、本発明の表面加工装置の第1実施形態の概略構成を示す図、図2は、図1に示す表面加工装置が有する温度制御部の構成を示す図、図3は、図1に示す表面加工装置が有する制御部のブロック図、図4は、図1に示す表面加工装置が有するノズルの移動を説明する平面図、図5は、図1に示す表面加工装置が有する温度制御装置の概略構成を示す図、図6は、図5に示す温度制御装置が有する複数のペルチェ素子とノズルの移動ルートとの関係を示す平面図、図7は、ワークの被処理面を示す平面図である。なお、以下の説明では、図1中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
エッチング処理が施されるワーク10の構成材料は、特に限定されず、例えば、石英ガラス、無アルカリガラス等の各種ガラス、水晶等の結晶性材料、アルミナ、シリカ、チタニア等の各種セラミックス、シリコン、ガリウム−ヒ素等の各種半導体材料、ダイヤモンド、黒鉛等の炭素系材料、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、液晶ポリマー、フェノール樹脂、アクリル樹脂等各種プラスチック(樹脂材料)のような誘電体材料で構成されたもの、その他、例えば、アルミニウム、銅、鉄系金属のような各種金属材料が挙げられる。
また、ワーク10の形状は、特に限定されず、例えば、板状、ブロック状等であってもよい。また、ワーク10の平面視形状も特に限定されず、例えば、正方形、長方形、円形等であってもよい。なお、以下では、説明の便宜上、ワーク10として、平面視形状が矩形の板状のものについて代表して説明する。
[支持装置]
図1に示すように、支持装置2は、チャッキングプレート(支持台)21と、固定手段22とを有している。
チャッキングプレート21は、ワーク10を支持する機能を有する。このような機能を有するチャッキングプレート21は、本実施形態では、板状をなしている。ただし、チャッキングプレート21の形状は、ワーク10を支持することができれば、特に限定されず、板状でなくてもよい。
このようなチャッキングプレート21には、複数のペルチェ素子91が設けられている。これら複数のペルチェ素子91は、温度制御装置9の構成要素であるため、後述する温度制御装置9の説明中にて詳しく述べる。
固定手段22は、チャッキング面211にワーク10を固定する機能を有する。ワーク10をチャッキング面211に固定することにより、チャッキングプレート21に対するワーク10の姿勢および位置をエッチング処理中一定に保つことができるため、ワーク10に対して所望のエッチング処理を行うことができる。特に、本実施形態のような表面加工装置1では、ワーク10をチャッキングプレート21に吊り下げるように支持するため、固定手段22により、ワーク10のチャッキングプレート21からの落下を防止することができる。
エッチング液供給装置3は、チャッキングプレート21に固定されたワーク10の被処理面101にエッチング液を供給する機能を有する。図1に示すように、エッチング液供給装置3は、ワーク10の被処理面101に沿って移動可能に設けられたノズル4と、ノズル4の駆動を制御する制御部6と、エッチング液をノズル4から送出し、回収するエッチング液循環装置7とを有している。
図1に示すように、ノズル4は、チャッキングプレート21に固定されたワーク10(被処理面101)の下方に位置するように設けられている。また、ノズル4は、外管41と、外管41の内側に設けられた内管42とを有している。なお、外管41および内管42の横断面形状は、特に限定されず、例えば、三角形、正方形、円形等とすることができる。本実施形態では、外管41および内管42の横断面形状は円形である。
エッチング液循環装置7は、エッチング液をノズル4の送出口4aから送出する送出管71と、エッチング液をノズル4の吸引口4bから回収する回収管72と、エッチング液を貯留する貯留タンク73と、貯留タンク73から送出管71へエッチング液を送出する送液ポンプ74と、送出管71へ送出するエッチング液の流量を調節する流量調節バルブ75および流量計76と、ワーク10の被処理面101に付着したエッチング液(エッチング処理の用に供されたエッチング液)を吸引して回収するための吸引ポンプ77と、ノズル4から送出するエッチング液の温度を調節する温度制御部78とを有している。
温度検知素子781としては、貯留タンク73内のエッチング液の温度を検知することができれば特に限定されず、例えば、白金測温抵抗体やサーミスタのような接触式の温度センサーや、放射温度計(サーモパイル)のような非接触式の温度センサーを用いることができる。
図3に示すように、制御部6は、ノズル4を平面内(被処理面101上)で移動させるノズル移動装置61と、加工前および目標とする加工後のワーク10の表面のプロファイルを記憶する記憶部62と、これら2つのプロファイルおよびエッチング液の単位時間当たりのエッチング量(エッチング深さ)から、ノズル4の移動速度を算出する演算部63と、その演算結果に基づきノズル4の移動速度を制御するとともにノズル4とワーク10の離間距離を一定に保つようにノズル移動装置61を制御する移動制御部64とを有している。
温度制御装置9は、チャッキングプレート21に固定されたワーク10の被処理面101の温度を制御(調節)する機能を有している。図5(a)、(b)に示すように、温度制御装置9は、複数のペルチェ素子(加熱・冷却素子)91および各ペルチェ素子91の駆動を独立して制御する駆動制御部92を有している。
特に、本実施形態では、ペルチェ素子91がチャッキングプレート21にマトリックス状に配置されているため、図6に示すように、複数のペルチェ素子91が移動ルートRに沿って並ぶこととなる。これにより、被処理面101のエッチングが終了した部位を順次、その部位に対応するペルチェ素子91によって冷却することができる。そのため、被処理面101のエッチングが終了した部位を速やかに冷却することができ、被処理面101から除去されずに残存したエッチング液による不本意なエッチングをより効果的に防止することができる。
また、各ペルチェ素子91のノズル4の移動方向における長さは、特に限定されないが、短いほど好ましい。具体的には、所定時刻に被処理面101に供給されたエッチング液のノズル4の移動方向における長さと等しいかそれ以下であるのが好ましい。これにより、被処理面101のエッチングが終了した部位を、エッチング終了後より速やかに冷却することができる。
以上、表面加工装置1について説明した。
[テスト工程]
まず、表面加工装置1を使用する前に、予備実験として、ワーク10と同じ材料から成る試料(テストピース)をチャッキングプレート21に固定する。次いで、駆動制御部92によって、各ペルチェ素子91を面911が放熱面となるように駆動し、試料の被処理面を所定温度とする。次いで、ノズル4(送出口4a)から所定温度かつ所定流量に維持されたエッチング液を試料表面に送出し、その場合の単位時間当たりのエッチング量(エッチング深さ)を実験的に求めておく。また、このエッチング深さの測定をノズル4を一定の速度で移動させながら行う。この測定を複数の速度で行うことにより、ノズル4の移動速度とエッチング深さの関係を求めることができる。ワーク10の被処理面101上の各点におけるエッチングすべき加工深さが決まれば、ここで求めたノズル4の移動速度と加工深さの関係から、ノズル4の移動速度を定めることができる。
次に、ワーク10の被処理面101の加工前のプロファイルを測定する。この測定は、既存の表面形状測定装置や表面粗さ測定装置等を用いて行うことができる。得られた測定結果を制御部6の記憶部62に記憶させる。次に、演算部63は、記憶部62に記憶されたワーク10の被処理面101の加工前および目標とする加工後のワーク10の被処理面101のプロファイルとの差から、ワーク10の被処理面101上の各位置において加工すべきエッチング深さを算出する。演算部63は、更に、前述のノズル4の移動速度とエッチング深さの関係から、被処理面101上の各位置におけるノズル4の移動速度を算出する。また、演算部63は、記憶部62に記憶された被処理面101の平面視形状とノズル4の移動ルート(前述したルートR)および移動速度とから、被処理面101の各部位(各ペルチェ素子91に対応する部位)について、エッチング処理が終了する時刻(言い換えれば、ノズル4が下方を通過する時刻または供給されたエッチング液が吸引される時刻)を算出する。
まず、温度制御装置9の駆動制御部92によって制御された各ペルチェ素子91によってワーク10の被処理面101を所定温度に加熱し、被処理面101の全域を等しい温度に維持する。次いで、移動制御部64により制御されたノズル移動装置61によって、ノズル4をルートRのエッチング開始地点に位置させる。
これにより、ワーク10の被処理面101の各点において、前述の算出された加工すべき深さにエッチングがなされ、所望のプロファイルが得られる。
次に、本発明の表面加工装置の第2実施形態について説明する。
図8は、本願発明の第2実施形態にかかる表面加工装置が備える温度制御装置の概略構成を示す断面図、図9は、被処理物の温度分布の一例を示す平面図である。
以下、第2実施形態の表面加工装置について、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
図8に示すように、本実施形態の温度制御装置9Aは、チャッキングプレート21に配置された複数のペルチェ素子91と、各ペルチェ素子91の駆動を独立して制御する駆動制御部92と、チャッキングプレート21に固定されたワーク10の被処理面101の温度を検知する温度検知素子93とを有している。このような温度制御装置9は、駆動制御部92が温度検知素子93の検知結果に基づいて各ペルチェ素子91の駆動を制御するように構成されている。
以上のような第2実施形態によっても、第1実施形態と同様の効果を発揮することができる。
次に、本発明の表面加工装置の第3実施形態について説明する。
図10は、本願発明の第3実施形態にかかる表面加工装置が備えるノズルの平面図、図11は、図10に示すノズルの変形例を示す平面図、図12は、ペルチェ素子の配列を示す平面図である。
本発明の第3実施形態にかかる表面加工装置では、ノズル4Bの構成およびペルチェ素子91の配列が異なる以外は、前述した第1実施形態の表面加工装置1と同様である。なお、図9にて、前述した第1実施形態と同様の構成には、同一符号を付してある。
図10(b)に示すように、このようなノズル4Bは、被処理面101の平面視にて、制御部6の制御により送出口4aの配列方向に直交する方向(図10(b)中の矢印方向)に移動する。これにより、より短時間で被処理面101の全域へエッチング液を供給することができる。
以上のような第3実施形態によっても、第1実施形態と同様の効果を発揮することができる。
また、前述した実施形態では、加熱・冷却素子として、ペルチェ素子を用いた構成について説明したが、加熱・冷却素子としては、ワークの被処理面を加熱および冷却することができれば特に限定されず、例えば、内部を冷媒が循環する冷却管により被処理面を冷却し、マイクロヒーター等のヒーターにより被処理面を加熱するように構成してもよい。
Claims (9)
- 被処理物の被処理面にエッチング液を供給することにより前記被処理面を加工する表面加工装置であって、
前記被処理物を支持する支持台と、
前記支持台に支持された前記被処理物の前記被処理面の各部位の温度を独立して制御する温度制御手段と、
前記支持台に対して移動可能に設けられ、前記支持台に支持された前記被処理物の前記被処理面に対して前記エッチング液を送出する送出口および前記送出口から送出された前記エッチング液を吸引する吸引口を有するノズルとを有し、
前記温度制御手段は、前記被処理面の前記各部位を、前記エッチング液が供給される前は所定温度に保ち、前記エッチング液が供給され前記吸引口から吸引された後に前記所定温度よりも低い温度に冷却するよう構成されていることを特徴とする表面加工装置。 - 前記温度制御手段は、前記被処理面の前記エッチング液が供給される前の領域内を等しい温度に維持するよう構成されている請求項1に記載の表面加工装置。
- 前記温度制御手段は、前記被処理面の前記エッチング液が供給される前の領域内を30°以上80°以下の一定温度とする請求項1または2に記載の表面加工装置。
- 前記温度制御手段は、前記被処理面の前記エッチング液が供給される前の領域内を前記エッチング液の温度と等しい温度とする請求項1ないし3のいずれかに記載の表面加工装置。
- 前記温度制御手段は、前記被処理面の前記エッチング液が供給され前記吸引口から吸引された領域内を25°以下に冷却する請求項1ないし4のいずれかに記載の表面加工装置。
- 前記温度制御手段は、前記支持台に設けられた複数の加熱・冷却素子を有している請求項1ないし5のいずれかに記載の表面加工装置。
- 前記複数の加熱・冷却素子は、前記被処理面に対する前記ノズルの移動方向に沿って並んで設けられている請求項6に記載の表面加工装置。
- 1つの前記加熱・冷却素子によって温調される前記被処理面の各部位の前記ノズルの移動方向に直交する方向における長さは、所定時刻に前記被処理面に供給された前記エッチング液の前記ノズルの移動方向に直交する方向における長さと等しいかまたはそれよりも短い請求項6または7に記載の表面加工装置。
- 前記複数の加熱・冷却素子は、それぞれ、ペルチェ素子である請求項6ないし8のいずれかに記載の表面加工装置。
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