JP2011221431A5 - - Google Patents

Description

上記課題を解決するために、本発明に係る液晶装置は、表示領域に、第１画素電極と、基板本体と前記第１画素電極との間に設けられた第１配線層と、該第１配線層と前記第１画素電極との間に設けられた第１遮光層と、前記表示領域の外側領域に、前記第１画素電極と同一層に設けられた第２画素電極と、前記基板本体と前記第２画素電極との間に設けられた第２配線層と、該第２配線層と前記第２画素電極との間に設けられた第２遮光層とを備え、前記表示領域及び前記表示領域の外側領域において、前記第１配線層と前記第１遮光層との間及び前記第２配線層と前記第２遮光層との間に設けられた第１層間絶縁膜と、前記第１遮光層と前記第１画素電極との間及び前記第２遮光層と前記第２画素電極との間に設けられた第２層間絶縁膜と、前記第１層間絶縁膜の前記表示領域に位置する部分に設けられた複数の表示領域側第１スルーホールと、前記第１層間絶縁膜の前記表示領域の外側領域に位置する部分に、前記表示領域側第１スルーホールと同等の開口密度をもって設けられた複数の周辺領域側第１スルーホールと、前記第２層間絶縁膜の前記表示領域に位置する部分に設けられた複数の表示領域側第２スルーホールと、前記第２層間絶縁膜の前記表示領域の外側領域に位置する部分に、前記表示領域側第２スルーホールと同等の開口密度をもって設けられた複数の周辺領域側第２スルーホールと、を有していることを特徴とする。

本発明に係る液晶装置において、第１層間絶縁膜の表面では、表示領域の表示領域側第１スルーホールと表示領域の外側領域（周辺領域）の周辺領域側第１スルーホールとが同等の密度で開口しているため、第１層間絶縁膜の表面を研磨する際、表示領域と表示領域の外側領域（周辺領域）とでは第１層間絶縁膜の研磨速度が同等である。従って、第１層間絶縁膜の表面を研磨した際、表示領域と表示領域の外側領域（周辺領域）との間に段差が発生しない。また、第２層間絶縁膜の表面では、表示領域の表示領域側第２スルーホールと表示領域の外側領域（周辺領域）の周辺領域側第２スルーホールとが同等の密度で開口しているため、第２層間絶縁膜の表面を研磨する際、表示領域と表示領域の外側領域（周辺領域）とでは第２層間絶縁膜の研磨速度が同等である。従って、第２層間絶縁膜の表面を研磨した際、表示領域と表示領域の外側領域（周辺領域）との間に段差が発生しない。それ故、表示領域の第１画素電極の表面と表示領域の外側領域（周辺領域）の第２画素電極の表面とが同一の平面上に位置するので、表示領域と表示領域の外側領域（周辺領域）とにおける黒表示の均一性を向上させることができる。

本発明において、前記第１層間絶縁膜の表面は、前記表示領域と前記表示領域の外側領域とにおいて連続した平坦面であり、前記第２層間絶縁膜の表面は、前記表示領域と前記表示領域の外側領域とにおいて連続した平坦面であることが好ましい。このように構成すると、表示領域の第１画素電極の表面と表示領域の外側領域（周辺領域）の第２画素電極の表面とは、完全に同一の平面上に位置するので、表示領域と表示領域の外側領域（周辺領域）とにおける黒表示の均一性を向上させることができる。

本発明において、前記第１層間絶縁膜は、前記周辺領域表示領域側第１スルーホールの配置密度が相対的に疎な領域と密な領域とを備えている構成を採用してもよい。このように構成すると、周辺領域側第１スルーホールについては、遮光層と異なる電位が印加される配線層と重ならない位置に配置した結果、表示領域の外側領域（周辺領域）に第１層間絶縁膜に表示領域側第１スルーホールの配置密度が疎な領域が発生しても、第１層間絶縁膜のある程度広い範囲でみれば、第１層間絶縁膜の表面で開口するスルーホールの密度を表示領域と同等とすることができる。また、本発明において、前記第１画素電極および前記第２画素電極は、反射性導電膜からなる構成を採用することができる。かかる構成によれば、液晶装置を反射型として構成することができる。また、液晶装置を反射型として構成する場合、遮光膜を反射性導電膜により形成し、第１画素電極および第２画素電極を透光性導電膜により形成した構成を採用してもよい。

Claims (8)

1. 表示領域に、
   第１画素電極と、
   基板本体と前記第１画素電極との間に設けられた第１配線層と、
   該第１配線層と前記第１画素電極との間に設けられた第１遮光層と、
   前記表示領域の外側領域に、
   前記第１画素電極と同一層に設けられた第２画素電極と、
   前記基板本体と前記第２画素電極との間に設けられた第２配線層と、
   該第２配線層と前記第２画素電極との間に設けられた第２遮光層とを備え、
   前記表示領域及び前記表示領域の外側領域において、
   前記第１配線層と前記第１遮光層との間及び前記第２配線層と前記第２遮光層との間に設けられた第１層間絶縁膜と、
   前記第１遮光層と前記第１画素電極との間及び前記第２遮光層と前記第２画素電極との間に設けられた第２層間絶縁膜と、
   前記第１層間絶縁膜の前記表示領域に位置する部分に設けられた複数の表示領域側第１スルーホールと、
   前記第１層間絶縁膜の前記表示領域の外側領域に位置する部分に、前記表示領域側第１スルーホールと同等の開口密度をもって設けられた複数の周辺領域側第１スルーホールと、
   前記第２層間絶縁膜の前記表示領域に位置する部分に設けられた複数の表示領域側第２スルーホールと、
   前記第２層間絶縁膜の前記表示領域の外側領域に位置する部分に、前記表示領域側第２スルーホールと同等の開口密度をもって設けられた複数の周辺領域側第２スルーホールと、
   を有していることを特徴とする液晶装置。
2. 前記第１層間絶縁膜の表面は、前記表示領域と前記表示領域の外側領域とにおいて連続した平坦面であり、
   前記第２層間絶縁膜の表面は、前記表示領域と前記表示領域の外側領域とにおいて連続した平坦面であることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
3. 前記表示領域側第１スルーホールおよび前記表示領域側第２スルーホールは各々、前記第１画素電極と同数形成され、
   前記周辺領域側第１スルーホールおよび前記周辺領域側第２スルーホールは各々、前記第２画素電極と同数形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の液晶装置。
4. 前記複数の周辺領域側第１スルーホールのうち、一部の周辺領域側第１スルーホールは前記周辺領域側第２スルーホールと平面的に重なり、他の周辺領域側第１スルーホールは前記周辺領域側第２スルーホールと平面的に重なっていないことを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の液晶装置。
5. 前記第１層間絶縁膜は、前記周辺表示領域側第１スルーホールの配置密度が相対的に疎な領域と密な領域とを備えていることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の液晶装置。
6. 前記第１画素電極および前記第２画素電極は、反射性導電膜からなることを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項に記載の液晶装置。
7. 請求項１乃至６の何れか一項に記載の液晶装置を備えていることを特徴とする電子機器。
8. 前記液晶装置に光を供給する光源部と、前記液晶装置によって光変調された光を投射する投射光学系と、を有していることを特徴とする請求項７に記載の電子機器。