JP2011217902A - 粒子線治療計画装置及び治療計画方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】粒子線を照射する標的となる標的領域を入力する標的領域入力手段302と、標的領域を包含するように設定された照射領域の内部において粒子線を照射する照射スポットを決定する演算装置305を備え、演算装置305が照射領域の輪郭上に前記照射スポットを配置し、かつ、隣り合う照射スポットの間隔が予め定められた設定値以下となるように、照射スポットを決定する。このように粒子線の停止位置近辺の標的領域形状を抽出し、この形状内に一様な高線量領域が形成されるようにスポット間隔を領域内の位置に依存して変化させることで、標的領域での粒子線の照射線量が一様となる高線量領域と標的領域との乖離を抑制することが可能となる。
【選択図】 図2
Description
スキャニング法の場合、分布を腫瘍形状に成型するためのコリメータ等の患者固有の器具が基本的に必要ない。また、様々な分布を形成できる利点がある。
特許文献2のような手法では、ビーム径の切り替えのための装置が必要となり、構成や制御が複雑となってしまう。
本実施例の好適な一実施例である治療計画装置を、図1及び図2を用いて説明する。本実施例の治療計画装置は、スキャニング照射法による粒子線治療の治療計画を立案する。
図1は、本実施例の治療計画装置を用いた場合の治療計画立案の流れを示す図である。図2は、本実施例の治療計画装置の処理の流れを示す図である。図3は、治療計画装置の全体構成を示す図である。
治療計画装置301は、ネットワークを介してデータサーバ307と接続されている。具体的には、治療計画装置301の通信装置306が、ネットワークを介してデータサーバ307に接続されてデータのやりとりをする。
Dy=(Ymax−Ymin)/[(Ymax−Ymin)/D] …(式1)
Dx=(Xmax−Xmin)/[(Xmax−Xmin)/D] …(式2)
本実施例の演算装置305は、標的領域を包含するような照射領域の輪郭上に前記照射スポットを配置し、かつ、隣り合う照射スポットの間隔が予め定められた設定値D以下となるように、走査ラインごとに照射スポットを決定する。このように粒子線の停止位置近辺の標的領域形状を抽出し、この標的領域内に一様な高線量領域が形成するようなスポット間隔を、照射領域内の位置に依存して変化させることで、標的領域での粒子線の照射線量が一様となる高線量領域と標的領域との乖離を抑制することが可能となる。
302 入力装置
303 表示装置
304 メモリ
305 演算処理装置
306 通信装置
307 データサーバ
401 CTデータのスライス
402 標的領域
501 アイソセンタ
502 線源
503 ビーム進行方向に垂直な面
504,601 面503を分割したピクセルの一つ
505 点502と504の中心位置を結ぶ直線
602 点502と601の中心位置を結ぶ直線
603 直線602上でビーム停止位置に相当する点
701 ビーム停止位置が標的領域内である領域
702 ビーム停止位置が標的領域外である領域
801 領域701を拡大した領域(照射領域)
802 領域801内で最もY座標が大きい点
803 領域801内で最もY座標が小さい点
901 X軸に平行なスポットを配置する直線
902 直線901上で最もX座標が大きい点
903 直線901上で最もX座標が小さい点
Claims (9)
- 粒子線を照射する標的となる標的領域を入力する標的領域入力手段と、
前記標的領域を包含するように設定された照射領域内において、前記粒子線を照射する照射スポットを決定する演算装置を備え、
前記演算装置は、
前記照射領域の輪郭上に前記照射スポットを配置し、かつ、隣り合う前記照射スポットの間隔が予め定められた設定値以下となるように、前記照射スポットを決定することを特徴とする治療計画装置。 - 前記演算装置は、
前記粒子線の走査方向に垂直な方向の前記照射領域の幅及び予め定められた前記設定値に基づいて、前記粒子線を走査するラインを決定し、
前記走査ラインのそれぞれに対して、前記照射スポット間隔が前記設定値以下となるように前記照射スポットを決定することを特徴とする請求項1に記載の治療計画装置。 - 前記標的領域入力手段で入力した前記標的領域及び前記照射スポットを表示する表示装置を備えることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の治療計画装置。
- 前記演算装置は、
前記照射スポットの各々に対する目標照射線量値を決定し、
前記表示装置は、さらに前記演算装置で決定した前記目標照射線量値の情報を表示することを特徴とする請求項3に記載の治療計画装置。 - 前記演算装置は、
前記照射スポットの各々に対する目標照射線量値を決定し、前記目標照射線量で照射した場合の前記標的への線量分布を算出し、
前記表示装置は、さらに前記演算装置で算出した前記線量分布を表示することを特徴とする請求項3に記載の治療計画装置。 - 前記演算装置は、
前記標的への線量分布が許容範囲内となるように、前記照射スポットの各々に対する前記目標照射線量値を求めることを特徴とする請求項5に記載の治療計画装置。 - 粒子線照射システムに用いる治療計画情報を作成する治療計画装置における治療計画方法であって、前記治療計画装置は、粒子線を照射する標的となる標的領域内において、前記粒子線を照射する照射スポットを決定する演算装置を備え、
前記演算装置は、前記粒子線を照射する標的の標的領域を包含する照射領域の輪郭上に、前記粒子線を照射する照射スポットを配置し、かつ、隣り合う前記照射スポットの間隔が予め定められた設定値以下となるように、前記照射スポットを決定することを特徴とする治療計画方法。 - 前記演算装置は、
前記粒子線の走査方向に垂直な方向の前記照射領域の幅及び予め定められた前記設定値に基づいて、前記粒子線を走査するラインを決定し、
前記走査ラインのそれぞれに対して、前記照射スポット間隔が前記設定値以下となるように前記照射スポットを決定することを特徴とする請求項7に記載の治療計画方法。 - 前記演算装置は、
前記照射スポットの各々に対する目標照射線量値を決定し、
決定した前記目標照射線量値の情報を表示装置に表示することを特徴とする請求項8に記載の治療計画方法。
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