JP2011216538A

JP2011216538A - 保持部材およびそれを用いたホルダ

Info

Publication number: JP2011216538A
Application number: JP2010080811A
Authority: JP
Inventors: Tetsuya Inoue; 徹彌井上
Original assignee: Kyocera Corp
Current assignee: Kyocera Corp
Priority date: 2010-03-31
Filing date: 2010-03-31
Publication date: 2011-10-27

Abstract

【課題】対象物の設置作業が比較的簡単であり、かつより確実に対象物を保持することができる保持部材を用いたホルダを提供する。
【解決手段】ホルダは、支持部と、該支持部に設けられた当接体と、支持部に設けられて、当接体に対象物を押し当てることにより、当接体との間で前記対象物を挟んで保持する保持部材とを有する。保持部材は、対象物に接触する接触部と、押し当て方向に垂直な方向において接触部の両側の位置で支持部に固定される複数の固定部と、接触部と複数の固定部とをそれぞれ接続し、押し当て方向に伸縮可能な複数の伸縮部とを有する。
【選択図】図１

Description

本発明は、対象物を保持するための保持部材およびそれを用いたホルダに関する。

半導体素子の製造工程において、半導体ウェハなどの試料（対象物）は、半導体製造装置内や半導体検査装置内で搬送され、支持台上に載置される。これらの搬送や載置は、自動で行われ、取り扱うことができる試料の大きさが決まっていることも多い。例えば、特許文献１には、自動搬送機構を備えた蛍光Ｘ線分析装置において搬送可能な試料ホルダが提案されている。この試料ホルダは、円板状の台座と、台座上に固定されて、小径試料の外周を保持するホルダとを備えており、破片や小径の標準試料を大径の試料と同様に取り扱えるとされている。

特開２０００−９６６５号公報

しかしながら、従来の試料ホルダにおいて、環状の保持リングを用いて試料の外周全体を保持する形態では、試料の外周全体を保持リングに合わせて設置する必要があることから、試料を保持させる作業が煩雑であるという問題がある。また、試料の外周の一部を保持する形態では、設置作業は簡単になるが、保持力が小さくなるという問題がある。

よって、対象物の設置作業が比較的簡単であり、かつより確実に対象物を保持することができる保持部材およびそれを用いたホルダが求められている。

本発明の一態様に係るホルダは、支持部と、該支持部に設けられた当接体と、前記支持部に設けられて、前記当接体に対象物を押し当てることにより、前記当接体との間で前記対象物を挟んで保持する保持部材とを有するホルダであって、前記保持部材は、前記対象物に接触する接触部と、前記押し当て方向に垂直な方向において前記接触部の両側の位置で前記支持部に固定される複数の固定部と、前記接触部と前記複数の固定部とをそれぞれ接続し、前記押し当て方向に伸縮可能な複数の伸縮部とを有する。

本発明の一態様に係る保持部材は、支持部に設けられ、該支持部に設けられた当接体に対象物を押し当てることにより、前記当接体との間で前記対象物を挟んで保持する保持部材であって、前記対象物に接触する接触部と、前記押し当て方向に垂直な方向において前記接触部の両側の位置で前記支持部に固定される複数の固定部と、前記接触部と前記複数の固定部とをそれぞれ接続し、前記押し当て方向に伸縮可能な複数の伸縮部とを有する。

本発明の一態様によるホルダによれば、対象物の設置作業が比較的簡単であり、かつ対象物をより確実に保持することができる。

本発明の一態様による保持部材によれば、対象物の設置作業が比較的簡単であり、かつ対象物をより確実に保持することができる。

（ａ）は対象物を本発明の一実施形態に係るホルダで固定した状態を示す上面図であり、（ｂ）は（ａ）の破線で囲まれた領域Ａ１の部分拡大図である。（ａ）は対象物を本発明の一実施形態に係るホルダによって固定した状態を示す上面図、（ｂ）は（ａ）のＸ−Ｘ線部における断面図、（ｃ）は（ｂ）の破線で囲まれた領域Ａ２の部分拡大図である。吸着台、対象物、および本発明の一実施形態に係るホルダをそれぞれ離間させた状態で示した斜視図である。（ａ）は保持部材の平面図、（ｂ）は（ａ）の矢印Ｄ方向からみたときの側面図（下側面図）、（ｃ）は（ａ）の矢印Ｅ方向からみたときの側面図（右側面図）である。（ａ），（ｂ）は保持部材の詳細な構成を説明するための平面図である。（ａ），（ｂ）は対象部の端部と保持部材の対象物との接触面との位置関係を示す断面図である。対象物を本発明の他の実施形態に係るホルダで固定した状態を示す上面図である。（ａ）−（ｄ）は、保持部材のバリエーションを示す平面図である。（ａ）は保持部材の平面図、（ｂ）は（ａ）の矢印Ｄ方向からみたときの側面図（下側面図）、（ｃ）は（ａ）の矢印Ｅ方向からみたときの側面図（右側面図）である。（ａ），（ｂ）は、保持部材の詳細な構成を説明するための平面図である。

以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について詳細に説明する。

（第１の実施形態）
図１−図３に示すように、本実施形態によるホルダ１は、基板２と、基板２上に設けられた当接体３と、基板２上に設けられた保持部材４とを有する。保持部材４は、対象物Ｔを当接体３に押し当てることにより、当接体３と保持部材４との間で対象物Ｔを挟んで保持する。対象物Ｔは、例えばシリコンウェハであり、基板２は、例えばシリコンウェハを搬送する搬送装置に載置される支持基板である。以下では、基板２を搬送装置に載置される支持基板として説明する。

支持基板２は、例えば、図２に示すように、搬送装置に設けられた吸着台５に載置され、吸着および保持される。この場合、支持基板２は、対象物Ｔが載置される吸着領域６と、吸着領域６の外周に設けられた非吸着領域８とを有する。支持基板２は、吸着領域６において貫通孔１０を有する。対象物Ｔは、吸着台５が貫通孔１０を通して気体を排気することによって生じる吸引力により、支持基板２とともに吸着台５の吸着面上に吸着される。

なお、吸着台５は、気体を排気するための複数の排気孔１１を有する。支持基板２の非吸着領域８は、複数の排気孔１１の一部を覆い、排気孔１１による排気を遮断する。よって、支持基板２の吸着領域６および非吸着領域８は、搬送する対象物Ｔの形状および大きさに合わせて、その形状および大きさを設定することができる。

基板２は、その表面が凹状である部位（以下、「凹状部位」ともいう。）１２を有する。凹状部位１２は、対象物Ｔが配置される部位と、保持部材４が配置される部位とを有する。なお、吸着領域６は、凹状部位１２の対象物Ｔが配置される部位に対応している。

当接体３および保持部材４は、凹状部位１２に設けられる。これにより、当接体３および保持部材４の基板２からの突出量を低減することができる。

保持部材４は、図５（ａ）に示すように、対象物Ｔに接触する接触部４ａと、押し当て方向に垂直な方向において接触部４ａの両側に位置する複数の固定部４ｂと、接触部４ａと複数の固定部４ｂとをそれぞれ接続し、押し当て方向に伸縮可能な複数の伸縮部４ｃとを有する。図５（ａ）に示した保持部材４では、接触部４ａは、矩形状である。伸縮部４ｃは、接触部４ａの長手方向における端部と固定部４ｂとを接続する。伸縮部４ｃは、固定部４ｂと接触部４ａとの間で屈曲部を有し、押し当て方向（Ｙ方向）に沿って伸縮可能である。具体的に、伸縮部４ｃは、固定部４ｂに接続された端部（以下、「第１端部」ともいう。）から押し当て方向に垂直な方向（Ｘ方向）に沿って延在し、Ｕ字状に屈曲し、再びＸ方向に沿って延在する。これをＵ字状部位とすると、Ｕ字状部位は、固定部４ｂに接続される端部とは異なる端部（以下、「第２端部」ともいう。）が、Ｙ方向に沿って延在する部位（以下、「接続部」）を介して、接触部４ａの端部に接続される。これにより、伸縮部４ｃは、Ｙ方向に伸縮するばねのように作用する。なお、以下では、第１端部から屈曲する部位までＸ方向に延在する部位を「第１延在部」、屈曲した部位から第２端部までＸ方向に延在する部位を「第２延在部」ともいう。

固定部４ｂは、支持基板２、具体的には凹状部位１２の内壁面に固定されている。接触部４ａは、Ｘ方向に沿って２つの固定部４ｂの間に位置し、Ｙ方向に沿って２つの固定部４ｂから等距離にある。接触部４ａは、伸縮部４ｃの伸縮によって、Ｙ方向に移動可能である。そこで、まず、力を加えて、接触部４ａをＹ方向に沿って外側（吸着領域６から離れるように）に変位させ、吸着領域６内に対象物Ｔを配置する。その後、接触部４ａに加えていた力を減少させ若しくは除去して、接触部４ａが元の位置に戻ろうとする力を利用して、接触部４ａをＹ方向に沿って内側に変位させる。そして、接触部４ａを対象物Ｔに接触させて、対象物Ｔを当接体３ａ，３ｂに押し当てる。以上のようにして、保持部材４は、対象物Ｔを当接体３ａ，３ｂに押し当てて保持することができる。

上記構成によれば、対象物Ｔの径方向の寸法がばらついていても、対象物Ｔは、保持部材４および当接体３によって安定的に保持され、吸着領域６内で回転することが抑制される。よって、より確実に対象物を保持することができる。また、上記構成によれば、対象物Ｔを高い位置精度で配置することができる。

また、本実施形態による保持部材によれば、保持部材をＹ方向に移動させるだけで、対象物を保持したり、取り外したりすることが可能であるため、対象物の設置作業が比較的簡単である。

なお、保持部材４は、接触部４ａをＹ方向に移動させるために、接触部４ａに接続された引っ張り部４ｄを有する。引っ張り部４ｄは、Ｘ方向における２つの固定部４ｂの間において、接触部４ａに接続される。また、引っ張り部４ｄは、孔部４１を有する。この孔部４１に、例えばピン状の引っ掛け部材の先端を挿入して引っ張り部４ｄをＹ方向に引っ張ることにより、接触部4ａをＹ方向に沿って外側に変位させることができる。また、引
っ張り部４ｄに加えていた力を減少させ若しくは除去して、引っ張り部４ｄおよび接触部４ａをＹ方向に沿って内側に変位させることができる。まお、引っ張り部４ｂは、図４および図５に示すように、Ｙ方向において、接触部４ａと固定部４ｂとの間に位置することが好ましい。この構成であれば、保持部材４をより小型化することができる。

孔部４１は、その中心が、Ｙ方向に沿って、上記第２延在部の第１延在部側の外縁から接触部４ａ側に位置することが好ましい。孔部４１をそのような位置に設けると、孔部４１に引っ掛け部材の先端を挿入してＹ方向外側に接触部４ａを引っ張った場合に、接触部
４ａが浮いてしまうこと、すなわちＸ方向およびＹ方向に垂直な方向（Ｚ方向）に移動することを効果的に抑制することができる。より好ましくは、孔部４１は、接触部４ａに設けるか、若しくは引っ張り部４ｄにおいてＹ方向に沿って接触部４ａにより近い位置に設けるとよい。そのような位置に設けると、孔部４１に引っ掛け部材の先端を挿入してＹ方向外側に接触部４ａを引っ張った場合に、接触部４ａが浮いてしまうことをより効果的に抑制することができる。しかし、接触部４ａは、対象物Ｔに接触する部位であるため、剛性等の問題から、Ｙ方向の距離（幅）を小さくする場合も考えられる。その場合は、接触部４ａに孔部４１を設けること自体が困難であるため、引っ張り部４ｄに設けても差し支えない。また、引っ張り部４ｄも、上述の剛性等の問題から、接触部４ａに近い部位は、Ｘ方向における幅を小さくしなければならない場合がある。その場合は、引っ張り部４ｄにおいて、孔部４１を設けても保持部材４１の動作に問題ない部位に設ければよい。

さらに、保持部材４は、図５（ｂ）に示すように、接触部４ａの長さをＬ、接触部のＹ方向における距離（幅）をＷとすると、例えば、Ｗ／Ｌが０．０５以上０．０７以下であることが好ましい。この関係にあると、引っ張り部４ｄに対してＹ方向に力を加えたときに、接触部４ａが引っ張り部４ｄに追従してＹ方向に変位しやすくなる。

また、Ｗ／Ｌが小さすぎると、接触部４ａによって対象物Ｔに働く押圧力が小さくなって対象物Ｔを精度よく保持することが困難になり、Ｗ／Ｌが大きすぎると、接触部４ａによって対象物Ｔに働く押圧力が大きくなり、対象物Ｔの変形又は破損を招く場合がある。よって、Ｗ／Ｌは、０．０５以上０．０７以下であることが好ましい。

また、伸縮部４ｃの接続部の幅をＢとすると、Ｗ／Ｂは、０．５以上２以下であることが好ましい。Ｗ／Ｂが小さすぎると、接触部４ａの変位量が小さくなり、接触部４ａによって対象物Ｔに働く押圧力が小さくなるため、対象物Ｔを精度良く保持することが困難となる。また、Ｗ／Ｂが大きすぎると、伸縮部４ｃの変形が大きくなりすぎて、伸縮部４ｃがＹ方向以外の方向にぶれてしまい、対象物ＴにＹ方向に沿って押圧力を加えることが困難になる。その結果、対象物Ｔを精度良く保持することが困難となる。よって、Ｗ／Ｂは、０．５以上２以下であることが好ましい。

保持部材４は、対象物Ｔを損傷しないように、対象物Ｔよりも硬度の低い材質からなることが好ましい。硬度は、例えば、ビッカース硬度である。ビッカース硬度は、ＪＩＳ
（日本工業規格）Z 2244:2009に基づいて測定される。

また、保持部材４は、半導体材料からなってよく、樹脂または酸化ジルコニウムセラミックスからなってもよい。保持部材４の材質が半導体材料であると、この保持部材４によって静電気を逃がすことができる。これは、保持部材４を露光装置内に搬送する可能性がある場合に、特に有用である。また、保持部材４の材質が樹脂または酸化ジルコニウムセラミックスであると、対象物Ｔがシリコンウェハの場合、保持部材４が対象物Ｔに接触して摩耗したとしても、その磨耗屑は金属ではないため、対象物Ｔに悪影響が及ぶことを抑制できる。特に、酸化ジルコニウムセラミックスは摩耗しにくいため、対象物Ｔに摩耗物が付着することを抑制することができる。さらに、保持部材４は、熱伝導率がよい材質からなることが好ましい。

対象物Ｔがシリコンウェハの場合に、上記条件を満たす材質は、例えば、対象物Ｔがシリコンウェハの場合、ポリカーボネイト樹脂等がある。

当接体３は、凹状部位１２の内側に、対象物Ｔが吸着領域６に配置された場合に対象物Ｔの側面が当接されるように設けられている。当接体３の個数及び形状は限定されないが、本実施の形態によるホルダ１では、円柱状の凸部からなる当接体３ａおよび矩形状の凸
部（当て板）からなる当接体３ｂが１つずつ設けられている（特に区別しないときは、単に「当接体３」という。）。ホルダ１においては、当接体３ｂを矩形状とし、その平坦な側面に対象物Ｔの側面を当接させるようにしたことから、対象物Ｔをより正確に、かつより安定的に支持基板２に保持することができる。当接体３は、支持基板２に固定されていることが好ましく、支持基板２と一体的に形成されていることがより好ましい。

図１−図３に示した支持基板２では、上面視したときに、吸着領域６が、略円形である。具体的には、吸着領域６は、中心点をＣ０とする円形の外周の一部が直線となった形状である。この直線となっている部分は、当接体３ａ，３ｂの側面に沿った部分である。ここで、当接体３ａの側面に沿った部分を第１直線部分１４ａ，当接体３ｂの側面に沿った部分を第２直線部分１４ｂとすると、第２の直線部分１４ｂは、第１の直線部分１４aよ
りも距離が長い。そして、円の中心点Ｃ０と第１の直線部分１４ａの中心点Ｃ１とを結ぶ直線、並びに円の中心点Ｃ０と第２の直線部分１４ｂの中心点Ｃ２とを結ぶ直線は直角をなしている。

また、第１の直線部分１４ａの中心点Ｃ１、円の中心点Ｃ０、および保持部材４のＸ方向における中心点のなす角度は、第２の直線部分１４ｂの中心点Ｃ２、円の中心点Ｃ０、および保持部材４のＸ方向における中心点のなす角度よりも小さいことが好ましい。これにより、第１の直線部分１４ａよりも長い第２の直線部分１４ｂにかかる力が大きくなるため、対象物Ｔをより安定して位置決めすることができる。その結果、保持部材４を用いて対象物Ｔを当接部３ａ，３ｂに対して繰り返し当接しても、支持基板２における対象物Ｔの位置が変動しにくい。この記構成は、支持基板２上に対象物Ｔを精度良く位置決めしたい場合に特に有効である。

また、接触部４ｂは、対象物Ｔに接触する接触面Ｓを有する。接触面Ｓは、図４（ｂ）に示すように、接触部４ｂをＹ方向に沿って下側からみたときの表面である。この接触面Ｓは、対象物Ｔと接触する部位において、例えば図６（ａ）に示すように、押し当て方向（Ｙ方向）に対して垂直である。

また、接触面Ｓは、押し当て方向（Ｙ方向）および該押し当て方向に垂直な方向（Ｘ方向）のいずれにも垂直な方向（Ｚ方向）に沿って傾斜していてもよい。例えば、図６（ｂ）に示した接触面Ｓは、押し当て方向（Ｙ方向）および該押し当て方向に垂直なＸ方向のいずれにも垂直な方向（Ｚ方向）において、支持基板２の表面から離れるにつれて対象物Ｔ側に突出するように傾斜している。接触面Ｓがこのように傾斜していると、接触面Ｓが対象物Ｔの端部に覆いかぶさるように位置することから、対象物Ｔが支持基板２から離れて浮いてしまうことを抑制し、対象物Ｔを精度良く位置決めすることができる。また、対象物Ｔがホルダ１から外れてしまうことを抑制することができる。一方、接触面Ｓの傾斜角度が大きくなりすぎると、接触面Ｓから対象物Ｔに対してＹ方向の押圧力が伝わりにくくなるため、この傾斜角度Ｐは、０度よりも大きく３０度以下であるとより好ましい。

以下では、対象物Ｔが支持基板２とともに吸着台５に吸着される場合について、その構成および動作を説明する。吸着領域６には、複数の突起１６が設けられている。複数の突起１６の高さは同じである。各突起１６は、支持基板２において表面が凹状でないその他の部位の表面と同じ高さになるように設けられる。対象物Ｔは、複数の突起１６の頂部に接触しながら吸着される。

また、支持基板２は、吸着領域６の外周に環状封止部６ａを有している。ここで、環状封止部６ａとは、環状壁である。そして、環状封止部６ａの高さは、好ましくは、吸着領域６に設けられた突起１６の高さと同じである。図１（ｃ）に示すように、環状封止部６ａは、突起１６とともに、対象物Ｔを支持する。環状封止部６ａは、対象物Ｔの一方主面
（支持基板２に対向する表面）の外周部と当接する。この構成により、対象物Ｔの一方主面、吸着領域６の表面（対象物Ｔに対向する表面）、および環状封止部６ａで囲まれる領域を閉ざされた空間にすることができる。よって、貫通孔１０を通して空間内に存在する気体を排気して吸引力を発生させ、その吸引力を効果的に対象物Ｔへ伝えることができる。なお、図１（ａ）のＸ−Ｘ線における断面において、本来貫通孔１０は存在しないが、支持基板２を平面透視したときに、環状封止部６ａの内側に貫通孔１０が存在することを示すために、図１（ｃ）に貫通孔１０を点線で示している。

以上のように、対象物Ｔが支持基板２に保持され、支持基板２が吸着台５に吸着されることにより、対象物Ｔを搬送装置に保持して搬送することができる。

（第２の実施形態）
次に、本発明の第２の実施形態について説明する。本実施の形態によるホルダ２１は、保持しようとする対象物Ｔの形状が異なる。本実施形態によるホルダ２１では、保持しようとする対象物Ｔの形状は、四角形状であり、角部を有している。なお、ホルダ１と同様の構成には同じ符号を付し、説明を省略する。ここでは、特にホルダ１と異なる構成について説明する。

支持基板２の吸着領域６は、対象物Ｔの形状に合わせて四角形状となっている。また、保持部材４は、図７および図８（ｂ）に示すように、接触面Ｓの中央部に凹部４２を有する。この凹部４２は、対象物Ｔを当接体３に押し当てる際に、対象物Ｔの角部を収容する。また、保持部材４の弾性力により、対象物Ｔの角部は、凹部４２の側面によって押圧される。

凹部４２は、接触面Ｓの一部を切り欠いたものであり、その形状は、収容しようとする対象物Ｔの角部の形状に合わせることが好ましい。例えば、本実施形態によるホルダ２１では、保持しようとする対象物Ｔが四角形状であるため、保持部材４を平面視したときに凹部４２の形状は、三角形の頂点が丸みを帯びた形状をしている。凹部４２がこのような形状をしていると、対象物Ｔの角部をより確実に押圧することができる。さらに、ホルダ２１では、保持しようとする対象物Ｔがほぼ正方形であるため、上記三角形は二等辺三角形であることが好ましい。すなわち、図１０（ｂ）に示すように、保持部材４を平面視したときに、凹部４２の側面のなす角度Ｆは９０°であることが好ましい。この場合、対象物Ｔの角部と、凹部４２の形状がより近いものとなり、凹部４２が対象物Ｔの角部をより確実に押圧することができる。

上述したように、保持部材４の接触面Ｓに凹部４２を設けることにより、対象物Ｔの角部が凹部４２に収容され、凹部４２の側面によって対象物Ｔが押圧される。第１の実施形態によるホルダ１では、保持部材４の接触面Ｓは、対象物Ｔの曲面に接していたため、平面視したときに、接触面Ｓは１点で対象物Ｔを押圧する。しかし、本実施形態によるホルダ２１では、接触面Ｓは、少なくとも２点で対象物を押圧することができる。これにより、保持部材４は、対象物Ｔをより精度良く、より確実に保持することができる。

なお、上述の説明において、凹部４２は、三角形の頂点が丸みを帯びた形状をしていると説明したが、必ずしも丸みを帯びている必要はなく、通常の三角形の頂点のように角部を有していてもよい。しかし、三角形の頂点が丸みを帯びていると、対象物Ｔの角部が凹部４２の底部に接触することを抑制することができるため、対象物Ｔの損傷を抑制できる。また、三角形の頂点が丸みを帯びていると、凹部４２の変形の自由度があがるため、凹部４２の側面が対象物Ｔを押圧する押圧力をより大きくすることができ、好ましい。

また、上記効果を奏する凹部４２の形状は、次のように記載することもできる。すなわ
ち、凹部４２は、底部に位置する第１部分と、開口部から第１部分に向かって側面が傾斜している第２部分とを有し、第１部分の底面が曲面である。また、上記効果をより効果的にするために、凹部４２の形状は、例えば、図８（ｃ）に示すような形状であってよい。図８（ｃ）の凹部４２は、第１部分の底面が曲面であって、その曲率が図８（ｂ）よりもさらに大きい。

また、図１のホルダ１では、平面視したときに、保持部材４の接触面Ｓは１点で対象物Ｔを押圧しているが、図８（ｄ）に示すように、保持部材４の接触面Ｓを対象物Ｔの外周部の形状に沿って曲面にすれば、面全体で対象物Ｔを押圧することができ、より精度良く、より確実に対象物Ｔを保持することができる。

なお、本発明のホルダは、上述した実施形態に限られない。例えば、保持部材４の伸縮部４ｃは、Ｕ字状部位を必ずしも有している必要はなく、Ｙ方向に伸縮可能であれば任意の形状であってよい。また、伸縮部４ｃの屈曲する部位も１つであっても複数であってよい。

また、上述の説明では、保持部材４および当接体５を支持基板２上に設けたが、保持部材４および当接体５を取り付けることができれば、支持部の形態はどのようなものであってもよい。例えば、支持部が環状の部材であって、その環状部材の内周面に取り付けられた当接体５と該当接体５に対向する位置に取り付けられた保持部材４とで、対象物Ｔを挟んで保持する形態であってもよい。

なお、上述の説明では、保持部材４および当接体５を、支持基板２を含む支持部に設け
て、その支持部を搬送装置に載置する構成としたが、保持部材４および当接体５を搬送装置に直接取り付けて、対象物を直接搬送装置に載置することも可能である。

また、上述の説明では、保持部材およびホルダをシリコンウェハの保持に用いたが、液晶基板又はＬＥＤ基板等のその他の基板の保持、顕微鏡等のプレパラートの保持、並びに血液や試薬などのサンプリングの保持などにも利用可能である。

Ｔ：対象物
１，２１：ホルダ
２：基板
３，３ａ，３ｂ：当接体
４：保持部材
４ａ：接触部
４ｂ：固定部
４ｃ：伸縮部
４ｄ：引っ張り部
５：支持台
４１：孔部
４２：凹部

Claims

支持部と、該支持部に設けられた当接体と、前記支持部に設けられて、前記当接体に対象物を押し当てることにより、前記当接体との間で前記対象物を挟んで保持する保持部材とを有するホルダであって、前記保持部材は、前記対象物に接触する接触部と、前記押し当て方向に垂直な方向において前記接触部の両側の位置で前記支持部に固定される複数の固定部と、前記接触部と前記複数の固定部とをそれぞれ接続し、前記押し当て方向に伸縮可能な複数の伸縮部とを有するホルダ。
前記支持部は、前記対象物が載置される支持基板である請求項１に記載のホルダ。
前記接触部は、前記対象物に接触する接触面の中央部に凹部を有する請求項１又は２に記載のホルダ。
前記凹部は、その側面に傾斜した部位を有する請求項３に記載のホルダ。
前記凹部は、底部に位置する第１部分と、開口部から前記第１部分に向かって側面が傾斜している第２部分とを有し、前記第１部分の底面が曲面である請求項３又は請求項４に記載のホルダ。
前記伸縮部は、前記押し当て方向において前記接触部と前記固定部との間に屈曲部を有する請求項１から請求項５のいずれかに記載のホルダ。
前記屈曲部は、Ｕ字形状である請求項６に記載のホルダ。
少なくとも前記接触部は、半導体材料からなる請求項１から請求項７のいずれかに記載のホルダ。
前記接触部は、前記対象物に接触する接触面が、前記押し当て方向および該押し当て方向に垂直な方向のいずれにも垂直な方向において傾斜しており、その傾斜角度が０度よりも大きく３０度未満である請求項１から請求項８のいずれかに記載のホルダ。
支持部に設けられ、該支持部に設けられた当接体に対象物を押し当てることにより、前記当接体との間で前記対象物を挟んで保持する保持部材であって、前記対象物に接触する接触部と、前記押し当て方向に垂直な方向において前記接触部の両側の位置で前記支持部に固定される複数の固定部と、前記接触部と前記複数の固定部とをそれぞれ接続し、前記押し当て方向に伸縮可能な複数の伸縮部とを有する保持部材。