JP2011214428A - 排ガス浄化フィルターおよび排ガス浄化装置 - Google Patents
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- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 106
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 103
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 claims abstract description 20
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims description 119
- 239000013618 particulate matter Substances 0.000 claims description 66
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 38
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 claims description 31
- 210000002421 cell wall Anatomy 0.000 claims description 25
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 22
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 8
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 8
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 8
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 8
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims description 7
- 229910000505 Al2TiO5 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 claims description 6
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 claims description 6
- AABBHSMFGKYLKE-SNAWJCMRSA-N propan-2-yl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OC(C)C AABBHSMFGKYLKE-SNAWJCMRSA-N 0.000 claims description 6
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 abstract description 32
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 abstract description 32
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 19
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 abstract 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 abstract 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 139
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000779 smoke Substances 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 5
- 230000004323 axial length Effects 0.000 description 4
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 238000007088 Archimedes method Methods 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical group [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000010531 catalytic reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000009063 long-term regulation Effects 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Chemical group 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Chemical group 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 239000002912 waste gas Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Processes For Solid Components From Exhaust (AREA)
- Filtering Materials (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
【解決手段】内燃機関の排気通路に設けられ、排ガス中の粒子状物質を捕集するための排ガス浄化フィルターであって、非窒化ケイ素質のメインフィルターと、窒化ケイ素質のサブフィルターとが直列に配置されており、窒化ケイ素質のサブフィルターは、非窒化ケイ素質のメインフィルターに対して、排ガスの流れる方向に沿って下流側に配置されている排ガス浄化フィルターおよびこれを含む排ガス浄化装置を用いる。
【選択図】図1
Description
本発明に係る排ガス浄化フィルターは、内燃機関の排気通路に設けられ、排ガス中の粒子状物質を捕集するための排ガス浄化フィルターとして用いられるものである。ここで、粒子状物質とは、PM(Particulate Matter)とも称され、内燃機関の排気ガスに含まれる粒子をいう。
ここで、窒化ケイ素質のサブフィルターとは、窒化ケイ素を主成分とするサブフィルターをいう。また、窒化ケイ素のケイ素と窒素の一部をそれぞれアルミニウムと酸素で置換したサイアロンも窒化ケイ素質に含まれる。
本発明で用いられる非窒化ケイ素質のメインフィルターは、非窒化ケイ素質の材料を主成分とするフィルターであれば特に限定されるものではない。ここで、非窒化ケイ素質の材料とは、窒化ケイ素質以外の多孔性材料であればよいが、多孔性のセラミック材料であることが好ましく、窒化ケイ素質以外の現行のDPF用材料であることがより好ましい。
前記非窒化ケイ素質のメインフィルターおよび窒化ケイ素質のサブフィルターは、ハニカム構造を有するウォールフロータイプのフィルターであることが好ましい。
前記非窒化ケイ素質のメインフィルターおよび窒化ケイ素質のサブフィルターは、ハニカム構造を有するウォールフロータイプのフィルターであることが好ましいが、メインフィルターのハニカム構造と、サブフィルターのハニカム構造とは、同一であってもよいし、異なっていてもよい。
本発明に係る排ガス浄化フィルターは、内燃機関の排気通路に設けられ、上記構成により、使用初期並びに再生中および再生直後においても優れた粒子状物質の捕集性能を有する。したがって、かかる排ガス浄化フィルターを含む排ガス浄化装置も本発明に含まれる。
炭化ケイ素を主成分とする排ガス浄化フィルターおよび窒化ケイ素を主成分とする排ガス浄化フィルターについて、使用初期の排ガス浄化フィルター出口におけるスモーク濃度の測定および圧力損失の測定を行った。
窒化ケイ素を主成分として用いた排ガス浄化フィルターとして円筒形のハニカム構造を有する排ガス浄化フィルターであるSiN(1)、SiN(2)およびSiN(3)を用いた。ハニカム構造の断面の直径は140mm、長さは150mm、セル数は250cpsi、セル壁厚は0.3mmであった。
炭化ケイ素を主成分として用いた排ガス浄化フィルターとしては、標準的な炭化ケイ素ハニカムフィルターを用いた。
得られた排ガス浄化フィルターを、ベンチ試験に供した。運転条件は、1680rpm、100%負荷であった。
また、得られた排ガス浄化フィルターによる圧力損失を測定した。圧力損失は、排ガス浄化フィルター前後の圧力を実測し、その圧力差(差圧)から算出した。
2 メインフィルター
3 サブフィルター
10 ハニカム構造を有するフィルター
11 セル
12 セル壁
13 目封じ部
Claims (6)
- 内燃機関の排気通路に設けられ、排ガス中の粒子状物質を捕集するための排ガス浄化フィルターであって、
非窒化ケイ素質のメインフィルターと、窒化ケイ素質のサブフィルターとが直列に配置されており、
窒化ケイ素質のサブフィルターは、非窒化ケイ素質のメインフィルターに対して、排ガスの流れる方向に沿って下流側に配置されていることを特徴とする排ガス浄化フィルター。 - 前記非窒化ケイ素質のメインフィルターは、炭化ケイ素、コージエライト、ムライト、アルミナ、チタン酸アルミニウム、または焼結金属を主成分とするフィルター、または、炭化ケイ素、コージエライト、ムライト、アルミナ、チタン酸アルミニウム、または焼結金属を主成分とする1種類以上のフィルターを複数個直列に配置したものであることを特徴とする請求項1に記載の排ガス浄化フィルター。
- 前記非窒化ケイ素質のメインフィルターおよび窒化ケイ素質のサブフィルターは、2つの端面間を連通する複数のセルを形成するように配置された多孔性のセル壁を備え、各セルはいずれかの端面において目封じされており、排気ガスをセル壁の細孔を通過させて隣接セルに流し、排気ガスに含まれる粒子状物質をセル壁で捕集するようになっているハニカム構造を有することを特徴とする請求項1または2に記載の排ガス浄化フィルター。
- 前記非窒化ケイ素質のメインフィルターの容積に対する、前記窒化ケイ素質のサブフィルターの容積の割合は5%以上80%以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の排ガス浄化フィルター。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載の排ガス浄化フィルターと、排気通路におけるその上流側に設けられた酸化触媒とを含むことを特徴とする排ガス浄化装置。
- さらに、排気通路において、前記排ガス浄化フィルターの下流側に設けられたNOx還元システムを含むことを特徴とする請求項5に記載の排ガス浄化装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010080587A JP5526388B2 (ja) | 2010-03-31 | 2010-03-31 | 排ガス浄化フィルターおよび排ガス浄化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011214428A true JP2011214428A (ja) | 2011-10-27 |
JP5526388B2 JP5526388B2 (ja) | 2014-06-18 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5526388B2 (ja) |
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