JP2011210712A - 画像処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】収束し短パルス化させたイオンビームまたはレーザービーム(一次ビーム)を試料表面へ位置を変えながら照射し、飛行時間型二次イオン質量分析計により取得した質量スペクトルから質量/電荷比ごとに信号強度を二次元表示した質量分析顕微鏡像の画像処理方法において、試料表面に到達する一次ビームの形状を理論的に、または実験的に求め、これをボケ関数として表現し、該ボケ関数を用いて画像を復元することである。
【選択図】図1A
Description
試料表面に到達する一次ビームの形状を理論的に、または実験的に求め、これをボケ関数として表現する。
該ボケ関数を用いて画像を復元する。
ボケ関数は、像ボケを生むメカニズムから求められ、TOF検出器を用いたSIMSでは、特有のものが存在する。ボケ関数は、一次イオンビームの広がりを実験的に直接または間接的に求める。このうち、間接的に求める方法として、平滑なシリコン基板に照射した一次イオンパルスのスパッタリングにより生成したクレータの形状を計測し、該形状を反映させたボケ関数を利用する。ボケ関数を求める別の方法として、一次イオンビームの広がりを数値計算により求めることができる。
図18には、試料面に到達する1000個の一次イオンビームの形状を示した。一次イオンビームの条件は、図10と同様である。この図は、明るい程イオン数が多いことを示し、幅は1.3μm×1.3μmである。
Claims (5)
- 収束し短パルス化させた一次ビームを試料表面へ位置を変えながら照射し、飛行時間型二次イオン質量分析計により取得した質量スペクトルから質量/電荷比ごとに信号強度を二次元表示した質量分析顕微鏡像の画像処理方法において、
試料表面に到達する一次ビームの形状に基づくボケ関数を演算する工程;及び
該ボケ関数に基づいて質量分析顕微鏡像を復元する工程を特徴とする質量分析顕微鏡像の画像処理方法。 - 前記ボケ関数を演算する工程において、前記一次ビームを照射することにより生じたクレータの光学顕微鏡像に基づいて、前記試料表面に到達する一次ビームの形状を演算することを特徴とする請求項1に記載の質量分析顕微鏡像の画像処理方法。
- 前記一次ビームがイオンビームであることを特徴とする請求項1に記載の質量分析顕微鏡像の画像処理方法。
- 前記一次ビームがレーザービームであることを特徴とする請求項1に記載の質量分析顕微鏡像の画像処理方法。
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