JP2011209348A - 光学要素の退避機構 - Google Patents

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Abstract

【課題】撮影位置と退避位置とに直進移動可能な光学要素(退避光学要素)を有する退避機構において、さらなる小型化(薄型化、スペース効率の向上)が可能な光学要素の退避機構を得る。
【解決手段】光軸と交わらずに直交する(光軸直交平面内にあって光軸と交わらない)直進ガイド軸に、該直進ガイド軸に沿う撮影位置と退避位置との間の相対直進動と、該直進ガイド軸を中心とする相対回動を可能にして退避光学要素を支持した支持枠を支持し、直進ガイド軸に沿って退避光学要素支持枠が撮影位置と退避位置との間を移動するとき、該支持枠の直進ガイド軸回りの回動位置を制御する回動ガイド機構を設けた光学要素の退避機構。
【選択図】図5

Description

本発明は、光学要素の退避機構に関する。
近年、カメラなどの光学装置で、光学系の光軸と直交する平面内でレンズや撮像素子などの光学要素(以下、振れ補正光学要素)を移動させるタイプの像振れ補正機構が多用されている。本出願人は、このタイプの像振れ補正機構において、像振れ補正に使う使用域(撮影位置)よりも振れ補正光学要素の可動範囲を大きく設定し、光学装置の非使用状態で光路外の退避位置(離脱位置)まで振れ補正光学要素を移動させる構成を提案した(特許文献1)。その具体的構成では、光学系の光軸と直交する面内で所定の方向に移動可能な第1の可動枠上に、これと異なる方向へ移動可能な第2の可動枠を支持し、第2の可動枠上に振れ補正光学要素である撮像素子が固定されている。像振れ補正は第1と第2の可動枠を移動させることによって行い、撮像素子を退避位置へ移動させるときには第1の可動枠を移動させている。
この構成によると、光路外に離脱させた振れ補正光学要素(撮像素子)と、光路上に残る他の光学要素(レンズ群など)を同じ光軸直交面内に配置させ、光学装置の非使用状態で光学系を光軸方向に薄型化することができる。そして、振れ補正光学要素の支持構造に関しては、像振れ補正用と光路外への離脱用の案内機構を共用にして、構造の簡略化を図ることができる。
特開2006−154674号公報
本発明は、撮影位置と退避位置とに直進移動可能な光学要素(退避光学要素)を有する退避機構において、さらなる小型化(薄型化、スペース効率の向上)が可能な光学要素の退避機構を得ることを目的とする。
本発明は、光学要素を撮影位置と退避位置との間で直進移動させる際に、直進移動動作と同時に直進ガイド軸を中心とする回動動作を交えれば、一層の小型化(薄型化、スペース効率の向上)が可能になるとの着眼に基づいてなされたものである。
本発明による光学要素の退避機構は、光軸と交わらずに直交する(光軸直交平面内にあって光軸と交わらない)直進ガイド軸に、該直進ガイド軸に沿う撮影位置と退避位置との間の相対直進動と、該直進ガイド軸を中心とする相対回動を可能にして退避光学要素を支持した支持枠を支持し、直進ガイド軸に沿って退避光学要素支持枠が撮影位置と退避位置との間を移動するとき、該支持枠を直進ガイド軸回りに所定量回動させる回動ガイド機構を設けたことを特徴としている。
本発明の一実施形態では、退避光学要素は、例えば撮影光学系の一部を構成するレンズとすることができる。
また、レンズは、シャッタに隣接するレンズとし、回動ガイド機構は、撮影位置ではシャッタ開口に接近する(あるいはレンズの一部がシャッタ開口の中に入り込む)ように直進ガイド軸を中心に回動させ、退避位置では、シャッタ開口から離間する方向に回動させる。
回動ガイド機構は、具体的には例えば、退避光学要素支持枠の直進ガイド軸から離れた端部に形成したフォロアと、該退避光学要素支持枠に対して相対移動する相対移動部材に形成した、該フォロアと係合するカムから構成することができる。
相対移動部材に形成するカムは、例えば、光軸方向の前後位置及び厚さを変化させるカムリブとし、フォロアは、該カムリブを挟着する挟着フォロアとすることができる。
本発明の一実施形態では、退避光学要素は、防振動作をする。防振機構では直進ガイド軸とカムは、該直進ガイド軸の延長方向と直交する方向に移動可能な移動部材上に設ける。すなわち、移動部材及び退避光学要素支持枠は、撮影位置において、カメラに加わる振れ情報に基づいて、電磁アクチュエータにより駆動制御することで、防振動作を与えることができる。
本発明の光学要素の退避機構は、光軸と交わらずに直交する(光軸直交平面内にあって光軸と交わらない)ガイド軸に、退避光学要素を支持した支持枠を摺動及び回動可能に支持し、該ガイド軸に沿って退避光学要素支持枠が撮影位置と退避位置との間を移動する際に、該支持枠の回動位置を制御する回動ガイド機構を設けたので、回動動作によって、退避光学要素を光軸方向に移動させることができる。このため、構成を複雑化することなく、退避光学要素を必要な光軸方向の位置に移動させ、小型化(薄型化、スペース効率の向上)を図ることができる。
本発明による光学要素の退避機構を適用したズームレンズ鏡筒の一実施形態を示す収納(沈胴)状態の断面図である。 同ズームレンズ鏡筒がズーム域のワイド端にある状態での断面図である。 同ズームレンズ鏡筒がズーム域のテレ端にある状態での断面図である。 本発明による光学要素の退避機構の要部を後方から見た分解斜視図である。 (A)は本発明による光学要素の退避機構の撮影状態における正面図、(B)は、(A)のB−B線に沿う断面図である。 (A)は本発明による光学要素の退避機構の退避状態における正面図、(B)は、(A)のB−B線に沿う断面図である。 (A)は本発明による光学要素の退避機構の撮影状態における断面図、(B)は退避状態における断面図である。 (A)は本発明による光学要素の退避機構の要部を前方から見た組立(撮影)状態における斜視図、(B)は分解状態の斜視図である。 本発明による光学要素退避機構の退避光学要素を支持した支持枠と、この支持枠を直進ガイド軸回りに所定量回動させる回動ガイド機構(カム機構)の要部を示す斜視図である。
最初に、本発明による光学要素の退避機構を備えた沈胴式ズームレンズ鏡筒10の全体構成を図1から図3により説明する。この沈胴式ズームレンズ鏡筒10は、図2、図3の撮影状態では、物体(被写体)側から順に第1レンズ群LG1、シャッタS、第2レンズ群(光学要素)LG2、第3レンズ群(第2の光学要素)LG3、ローパスフィルタ11及び撮像素子12が配された撮像光学系を有する。この撮像光学系は焦点距離可変のズーム光学系であり、第1レンズ群LG1と第2レンズ群LG2を光学系の撮影光軸Oに沿って所定の軌跡で進退させることによってズーミングを行う。また、撮影光軸Oに沿って第3レンズ群LG3を移動させることでフォーカシングを行う。以下の説明中で光軸方向とは、撮像光学系の撮影光軸Oと平行な方向を意味し、前方とは光軸方向の前方(被写体側)、後方とは光軸方向の後方(像面側)を意味する。
ズームレンズ鏡筒10は、固定部材として筒状のハウジング14を備える。ハウジング14の後部に撮像素子ホルダ15が固定され、撮像素子ホルダ15の前面にローパスフィルタ11と撮像素子12が支持される。
第3レンズ群LG3は、3群レンズ枠13のレンズ保持筒部13aに保持されている。3群レンズ枠13はレンズ保持筒部13aから外径方向に突出する一対のガイド腕(不図示)を有し、各ガイド腕の先端に設けたガイド孔(不図示)が光軸方向に延びるガイドシャフト(不図示)に対して摺動可能に嵌ることで、ハウジング14に対して光軸方向に移動可能に支持されている。
ハウジング14の内側にはヘリコイド環16が支持されている。ヘリコイド環16の外周面には不図示のズームギヤと噛み合う周面ギヤ16aが形成されており、ズームギヤがズームモータによって回転駆動されるとヘリコイド環16が回転する。図1の収納(沈胴)状態から図2のワイド端になる直前までの間、ハウジング14とヘリコイド環16はヘリコイド結合されており、ズームモータを駆動させると、ハウジング14の内面ヘリコイド14aの案内によってヘリコイド環16が回転しながら光軸方向に移動する。一方、ワイド端とテレ端の間の撮影状態にあるときには、ヘリコイド結合が解除され、代わりにハウジング14の内周面に形成した周方向溝14bに対してヘリコイド環16の外面に設けた回転案内突起16b(図2、図3)が係合し、ズームモータの駆動に応じてヘリコイド環16が光軸方向に移動せずに定位置で回転される。ヘリコイド環16の前部には、該ヘリコイド環16と共に回転及び光軸方向移動を行う第1繰出筒17が結合されている。
第1繰出筒17とヘリコイド環16の内側には、第1直進案内環20が支持されている。第1直進案内環20は、ハウジング14の内周面に形成した直線溝14c(図2)と直進案内突起20aとの係合関係により光軸方向に直進案内されており、第1繰出筒17とヘリコイド環16に対しては、相対回転は可能で光軸方向に共に移動するように係合している。
第1直進案内環20には、内周面と外周面を貫通する貫通ガイド溝20bが形成されている。貫通ガイド溝20bは、撮影光軸Oに対して斜行するリード溝部分と、撮影光軸Oを中心とする周方向溝部分とを有していて、カム環21の外周面に設けた外径突起21aが摺動可能に嵌まっている。外径突起21aはさらに、第1繰出筒17の内周面に形成した撮影光軸Oと平行な回転伝達溝17aに係合しており、カム環21は第1繰出筒17と共に回転される。カム環21は、貫通ガイド溝20bのリード溝部分に外径突起21aが係合するときには、このリード溝部分の案内を受けて回転しながら第1繰出筒17(ヘリコイド環16)及び第1直進案内環20に対して光軸方向に進退され、貫通ガイド溝20bの周方向溝部分に外径突起21aが係合するときには、第1繰出筒17(ヘリコイド環16)及び第1直進案内環20に対して光軸方向に相対移動せずに定位置で回転する。ヘリコイド環16や第1繰出筒17と同様に、収納状態と撮影状態の間ではカム環21が回転しながら光軸方向に進退移動され、ワイド端とテレ端の間の撮影状態ではカム環21が定位置回転される。
第1直進案内環20の内周面には撮影光軸Oと平行な直線溝20cが形成されている。直線溝20cに対して、第2直進案内環22の直進案内突起22aと、第2繰出筒23の直進案内突起23aが摺動自在に係合し、これらの係合関係によって、第2直進案内環22と第2繰出筒23はそれぞれ光軸方向に直進案内されている。なお、図中では直進案内突起22aと直進案内突起23aが共通の直線溝20cに係合するように描かれているが、直進案内突起22aと直進案内突起23aが係合する直線溝を第1直進案内環20の内周面上に別々に形成してもよい。カム環21は、第2直進案内環22と第2繰出筒23のそれぞれに対して相対回転可能かつ光軸方向に一体に移動するように支持されている。
第2直進案内環22は、周方向に位置を異ならせて設けた3つの直進案内キー22bを、2群レンズ移動環(支持部材)25の直線溝(不図示)に摺動自在に係合させて、該2群レンズ移動環25を光軸方向に直進案内する。2群レンズ移動環25の内部には、防振ユニット26を介して第2レンズ群LG2が支持されている。防振ユニット26は、第2レンズ群LG2を撮影光軸Oと略直交する平面に沿って移動可能に支持している。すなわち、防振ユニット26中の第2レンズ群LG2は、図1の収納状態では撮影光軸Oから離脱した下方に位置し、図2、図3の撮影状態では撮影光軸O上に位置している。2群レンズ移動環25内にはまた、シャッタSを内蔵したシャッタユニット27が防振ユニット26の前部に固定されている。シャッタユニット27の中央部にはシャッタSによって開閉されるシャッタ開口27aが形成されている。
第2繰出筒23の内周面には撮影光軸Oと平行な直線溝23bが形成され、該直線溝23bに対して第3繰出筒28の直進案内突起28aが摺動自在に係合しており、第3繰出筒28も光軸方向へ直進案内されている。第3繰出筒28の内部には、1群レンズ枠29を介して第1レンズ群LG1が支持されている。
カム環21の内周面に形成した2群制御カム溝21bに対し、2群レンズ移動環25の外周面に設けた2群用カムフォロア25bが係合している。2群レンズ移動環25は第2直進案内環22を介して光軸方向に直進案内されているため、カム環21が回転すると、2群制御カム溝21bの形状に従って、2群レンズ移動環25すなわち第2レンズ群LG2が光軸方向へ所定の軌跡で移動する。
第3繰出筒28は内径方向に突出する1群用カムフォロア28bを有し、この1群用カムフォロア28bが、カム環21の外周面に形成した1群制御カム溝21cに摺動可能に嵌合している。第3繰出筒28は第2繰出筒23を介して光軸方向に直進案内されているため、カム環21が回転すると、1群制御カム溝21cの形状に従って、第3繰出筒28すなわち第1レンズ群LG1が光軸方向へ所定の軌跡で移動する。
以上の構造からなるズームレンズ鏡筒10は次のように動作する。図1に示す鏡筒収納状態において、ズームレンズ鏡筒10が搭載される撮像装置に設けたメインスイッチがオンされると、ズームモータが鏡筒繰出方向に駆動されてズームギヤが回転し、ヘリコイド環16と第1繰出筒17がハウジング14の内面ヘリコイド14aにガイドされて前方へ回転繰出される。第1直進案内環20は、ヘリコイド環16及び第1繰出筒17と共に前方に直進移動する。このとき、第1繰出筒17から回転力が付与されるカム環21は、第1直進案内環20の前方への直進移動分と、該第1直進案内環20との間に設けたリード構造(貫通ガイド溝20bのリード溝部分と外径突起21a)による繰出分との合成移動を行う。ヘリコイド環16とカム環21が前方の所定位置まで繰り出されると、それぞれの回転繰出構造(ヘリコイド、リード)の機能が解除されて、光軸方向の定位置で回転のみ行うようになる。
カム環21が回転すると、その内側では、第2直進案内環22を介して直進案内された2群レンズ移動環25が、2群用カムフォロア25bと2群制御カム溝21bの関係によって光軸方向に所定の軌跡で移動される。また、カム環21が回転すると、該カム環21の外側では、第2繰出筒23を介して直進案内された第3繰出筒28が、1群用カムフォロア28bと1群制御カム溝21cの関係によって光軸方向に所定の軌跡で移動される。
すなわち、鏡筒収納状態からの第1レンズ群LG1と第2レンズ群LG2の繰出量はそれぞれ、前者が、ハウジング14に対するカム環21の前方移動量と、該カム環21に対する第3繰出筒28のカム繰出量との合算値として決まり、後者が、ハウジング14に対するカム環21の前方移動量と、該カム環21に対する2群レンズ移動環25のカム繰出量との合算値として決まる。ズーミングは、この第1レンズ群LG1と第2レンズ群LG2が互いの空気間隔を変化させながら撮影光軸O上を移動することにより行われる。図1の収納状態から鏡筒繰出を行うと、まず図2に示すワイド端の繰出状態になり、さらにズームモータ62を鏡筒繰出方向に駆動させると、図3に示すテレ端の繰出状態となる。テレ端とワイド端の間のズーム領域では、ヘリコイド環16、第1繰出筒17及びカム環21は、前述の定位置回転のみを行い、光軸方向へは進退しない。メインスイッチをオフすると、ズームモータが鏡筒収納方向に駆動され、ズームレンズ鏡筒10は上記の繰出動作とは逆の収納動作を行い、図1の収納状態になる。
また、ワイド端からテレ端までの撮影可能状態にあるとき、測距手段によって得られた被写体距離情報に応じてAFモータを駆動することにより、第3レンズ群LG3を支持する3群レンズ枠13が撮影光軸Oに沿って移動してフォーカシングが実行される。
本実施形態による光学要素の退避機構は、以上のズームレンズ鏡筒10における第2レンズ群LG2の退避機構に適用されている。第2レンズ群LG2は、上述のように、図1の収納(沈胴)状態では撮影光軸Oから離脱した下方に位置し、図2、図3の撮影状態では撮影光軸O上に位置している。しかも、第2レンズ群LG2は、撮影状態では、その前端部がシャッタユニット27のシャッタ開口27a中に僅かに入り込んでいる(図2、図3、図7(A)参照)のに対し、収納状態では、撮影状態のときのシャッタユニット27に対する位置より僅かに撮影光軸Oと平行な後方に位置している(図1、図7(B)参照)。このように、第2レンズ群LG2(退避光学要素)を撮影位置と収納位置とで、光軸方向に移動させることにより、他の部材との干渉を防ぎながら、レンズ鏡筒の小型化(薄型化、スペース効率の向上)を図ることができる。
この第2レンズ群LG2は、XジャイロセンサとYジャイロセンサで検出されるズームレンズ鏡筒10に加わる振れ情報に基づいて、撮影光軸Oと直交する面内で駆動されものであり、像振れ補正装置の構成要素である。この像振れ補正装置を、図4以下で説明する。図4ないし図9に示すように、防振ユニット26は、第1ステージ(第1の移動部材、相対移動部材)30と第2ステージ(第2の移動部材、退避光学要素支持枠)31を備える。第2レンズ群LG2は、この第2ステージ31のレンズ保持筒部31aに固定されている。第1ステージ30は、2群レンズ移動環25内に固定されたXガイドシャフト(第1の直進ガイド軸)32に対して摺動可能に支持され、第2ステージ31は第1ステージ30上に固定されたYガイドシャフト(第2の直進ガイド軸)33に対して摺動可能に支持されている。Xガイドシャフト32は撮影光軸Oと直交する平面内で左右方向に軸線を向けており、以下ではこのXガイドシャフト32の延設方向である第1ステージ30の移動方向をX方向(第1の方向)またはX軸と呼ぶ。Yガイドシャフト33は、撮影光軸Oと直交する平面内でXガイドシャフト32と直交する上下方向に軸線を向けており、以下ではこのYガイドシャフト33の延設方向である第2ステージ31の移動方向をY方向(第2の方向)またはY軸と呼ぶ。Xガイドシャフト32とYガイドシャフト33は、撮影光軸Oと直交する平面内にあって、該撮影光軸Oとは交わらず、かつ互いに直交している。
第1ステージ30は、Y方向に離間しX方向に延設された上辺部(第1方向辺部)30a及び下方に凸に湾曲した湾曲下辺部(第1方向辺部)30bと、X方向に離間しY方向に延設された側辺部(第2方向辺部)30c及び側辺部(第2方向辺部)30dとを有し、これら各辺に囲まれる中央部を開口30eとした四角枠形状をなす。
この第1ステージ30の側辺部30cと30dは、Yガイドシャフト33と平行であり、Yガイドシャフト33との距離が遠い側辺部30cには、その延長方向に沿ってカムリブ30fが形成されている。カムリブ30fは、図5(B)、図6(B)に示すように、上方に位置する左右方向から見て幅広の(前後方向厚の厚い)撮影領域(防振領域)リブ30f1と、下方に位置する、撮影領域リブ30f1より光軸方向後方に位置する幅狭の退避領域リブ30f2と、この撮影領域リブ30f1と退避領域リブ30f2とを結ぶ移動領域リブ(移行領域リブ)30f3とを有している。第2ステージ31は、第1ステージ30に対して相対移動する相対移動部材である。
第2レンズ群LG2を保持する第2ステージ31は、レンズ保持筒部31a(第2レンズ群LG2)を中心に斜め上方へ延びる一対の支持腕部31b、31cを有し、支持腕部31bにはYガイドシャフト33が相対摺動及び相対回動自在に嵌まっている。また、支持腕部31cには、第1ステージ30のカムリブ30fを光軸方向の前後から挟着するフォロア突起(挟着突起)31f、31gが形成されている。フォロア突起31fと31gは、第1ステージ30のカムリブ30fの撮影領域リブ30f1とは、最小隙間で係合して第2ステージ31の円滑な摺動を可能とし、移動領域リブ30f3とは最大隙間を持って係合して第2ステージ31のYガイドシャフト33を中心とする揺動を可能とし、退避領域リブ30f2とは両者の中間の隙間を持って係合して、撮影状態から収納状態への移行を可能とする。すなわち、第2ステージ31が図5に示す上方の撮影状態にあるときと、図6に示す下方の収納状態にあるときを比較すると、第2ステージ31は撮影状態にあっては相対的に前方に位置し、収納状態にあっては相対的に後方に位置する。そして、相対的に前方に位置する撮影状態では、図7(A)に示すように、第2レンズ群LG2がシャッタユニット27に接近して、さらにその先端凸面の一部がシャッタ開口27a内に進入し、相対的に後方に位置する収納状態では、同(B)に示すように、シャッタユニット27から離れて収納位置への移動を可能としている。図7(B)のdは、この第2レンズ群LG2の光軸方向への移動量を示している。図9は、第1ステージ30のカムリブ30fと、第2ステージ31のフォロア突起31f、31gの関係を別の角度から描いた図である。
図4に示すように、シャッタユニット27の後面には、シャッタ開口27aの周囲に中央円形凹部27bが形成されており、第2レンズ群LG2が撮影位置にあるとき、その前端部がシャッタ開口27aに進入する。中央円形凹部27b及び直線状凹部27cは、電磁アクチュエータ40による防振駆動位置での第2レンズ群LG2のX及びY方向の移動によってはレンズ保持筒部31aと干渉することがない大きさに形成されている。
次に第2ステージ31を撮影位置と収納位置との間で移動させる機構を説明する。第2ステージ31には、支持腕部31bから後方に向けて突出する位置制御ピン31h(図5ないし図7)が設けられている。この位置制御ピン31hは、支持軸52(図4ないし図6)によって2群レンズ移動環25内に軸支された挿脱制御レバー51の制御溝51bと係合し、該挿脱制御レバー51の挿入位置と離脱保持位置との間の揺動動作により、第2レンズ群LG2が撮影光軸O上に位置する撮影位置(図5)と、第2レンズ群LG2が撮影光軸Oから退避する退避位置(図6)との間を移動する。支持軸52は、挿脱制御レバー51に形成した軸孔51aに挿通され、その前端部が2群レンズ移動環25の支持穴25eに支持され、その後端部が2群レンズ移動環25に固定されるレバー押さえ部材53に支持されている。レバー付勢ばね54は、挿脱制御レバー51を挿入位置方向へ回動付勢している。
挿脱制御レバー51は、2群レンズ移動環25が光軸方向後方へ移動して撮像素子ホルダ15に接近するとき、撮像素子ホルダ15に光軸方向前方へ突出させて設けた離脱制御突起(不図示)に係合して、レバー付勢ばね54の付勢力に抗して挿脱制御レバー51を挿入位置から離脱保持位置へ回動される。
次に、第2レンズ群LG2(第2ステージ31)に防振動作を与える電磁アクチュエータについて説明する。第1ステージ30と第2ステージ31は、第2ステージ31(第2レンズ群LG2)が撮影位置にあるとき、第2ステージ31上に固定された2つの永久磁石41、42(図8参照)と、シャッタユニット27に固定された2つのコイル43、44(図4参照)を有する電磁アクチュエータ40により、防振駆動制御される。2つの永久磁石41、42の形状及び大きさは略同一であり、それぞれ細長矩形の薄板状をなし、短手方向の略中央を通り長手方向に向く磁極境界線で分割される半割領域の一方がN極で他方がS極となっている。第2ステージ31の支持腕部31bの前面には永久磁石41が嵌合支持されており、支持腕部31cの前面には永久磁石42が嵌合支持されている。この支持腕部31b、31cへの取り付け状態で永久磁石41と永久磁石42は、第2レンズ群LG2の中心Cを通りY方向に延びる離脱方向中心線に関して略対称の関係で配置される。つまり、永久磁石41と永久磁石42は互いの長手方向(磁極境界線)を略直交させる関係にある。
図4に示すように、コイル43、44はシャッタユニット27の光軸方向後面側に支持されている。2つのコイル43、44の形状及び大きさは略同一であり、略平行な一対の長辺部と該長辺部を接続する一対の湾曲部を有する空芯コイルである。コイル43はその長軸方向が永久磁石41の磁極境界線と略平行になるように配置され、コイル44はその長軸方向が永久磁石42の磁極境界線と略平行になるように配置されている。
シャッタユニット27の後面にはさらに、コイル43とシャッタ開口27aの間に位置センサ45が設けられ、コイル44とシャッタ開口27aの間に位置センサ46が設けられている。位置センサ45、46は磁界の強さを検出するセンサであり、位置センサ45、46を用いることで、永久磁石41、42と共に移動する第2レンズ群LG2のX方向及びY方向の位置を検出することができる。
コイル43、44と位置センサ45、46は、シャッタユニット27の後面に固定されるシャッタFPC47上のモジュールとして設けられている。シャッタFPC47は制御回路に接続し、制御回路によってコイル43、44に対する通電制御が行われる。また、位置センサ45と位置センサ46により検出された位置情報が制御回路に入力される。
以上の構成の電磁アクチュエータ40では、永久磁石41とコイル43が光軸方向に対向してコイル43が永久磁石41の磁界内に位置する状態で該コイル43に通電すると、撮影光軸Oと直交する平面内で磁極境界線及びコイル長軸方向線と略直交する方向への駆動力が作用する。また、永久磁石42とコイル44が光軸方向に対向してコイル44が永久磁石42の磁界内に位置する状態で該コイル44に通電すると、撮影光軸Oと直交する平面内で磁極境界線及びコイル長軸方向線と略直交する方向への駆動力が作用する。これら駆動力の作用方向はいずれもX方向とY方向の両方に対して約45度で交差する関係にあり、各コイル43、44への通電制御によって、第1ステージ30のX方向移動と第2ステージ31のY方向移動を任意に行わせることができる。従って、XジャイロセンサとYジャイロセンサで検出されるズームレンズ鏡筒10に加わる振れ情報に基づいて、以上の40により第2ステージ31(第2レンズ群LG2)を駆動制御することにより、撮像面上での像振れを抑制することができる。
以上の実施形態では、第2レンズ群LG2を退避光学要素としたが、他の光学要素、例えば第2レンズ群LG2以外のレンズ群や撮像素子を退避光学要素とした場合にも本発明は適用できる。また、第2レンズ群LG2(第2ステージ(退避光学要素支持枠)31)を撮影位置と収納位置との間で移動させる挿脱制御レバー51等を含む機構も一例を示すにすぎない。本発明は、具体的な移動機構を問わず、第2レンズ群LG2(第2ステージ(退避光学要素支持枠)31)が撮影位置と収納位置との間をYガイドシャフト(直進ガイド軸)33に沿って移動する機構一般に適用することができる。
また、以上は本発明を退避光学要素が光軸直交平面内で直交二方向に移動する防振機構を有するレンズ鏡筒に適用したものであるが、本発明は、単に退避光学要素が撮影位置と収納位置との間を移動するタイプのレンズ鏡筒にも適用できる。
さらに、退避光学要素を直進ガイド軸に沿って撮影位置と収納位置との間を移動させる間に、該退避光学要素を回動させる回動ガイド機構は、カムリブ30fと挟着フォロア31f、31gで構成したが、より一般的なカム(例えばカム溝)とフォロア(フォロア突起)で構成することができる。カムは、端面カムとし、フォロア突起をばね力で端面カムに当接させてもよい。
10 ズームレンズ鏡筒
14 ハウジング
15 撮像素子ホルダ
16 ヘリコイド環
17 第1繰出筒
20 第1直進案内環
21 カム環
22 第2直進案内環
23 第2繰出筒
25 2群レンズ移動環(支持部材)
26 防振ユニット
27 シャッタユニット
27a シャッタ開口
28 第3繰出筒
29 1群レンズ枠
30 第1ステージ(相対移動部材、第1の移動部材)
30f カムリブ
30f1 撮影領域リブ
30f2 退避領域リブ
30f3 移動領域リブ
31 第2ステージ(退避光学要素支持枠、第2の移動部材)
31b 31c 支持腕部
31f 31g フォロア突起
31h 位置制御ピン
32 Xガイドシャフト(第1の直進ガイド軸)
33 Yガイドシャフト(第2の直進ガイド軸)
40 電磁アクチュエータ
41 42 永久磁石
43 44 コイル
45 46 位置センサ
51 挿脱制御レバー
51a 軸孔
51b 制御溝
52 支持軸
53 レバー押さえ部材
54 レバー付勢ばね
LG2 第2レンズ群(退避光学要素)
O 撮影光軸
S シャッタ

Claims (7)

  1. 光軸と交わらずに直交する直進ガイド軸;
    この直進ガイド軸に、該直進ガイド軸に沿う撮影位置と退避位置との間の相対直進動と、該直進ガイド軸を中心とする相対回動を可能にして支持された、退避光学要素を支持した支持枠;及び
    上記直進ガイド軸に沿って退避光学要素支持枠が撮影位置と退避位置との間を移動するとき、該支持枠を直進ガイド軸回りに所定量回動させる回動ガイド機構;
    を有することを特徴とする光学要素の退避機構。
  2. 請求項1記載の光学要素の退避機構において、上記退避光学要素は、撮影光学系の一部を構成するレンズである光学要素の退避機構。
  3. 請求項2記載の光学要素の退避機構において、上記レンズは、撮影状態においてシャッタに隣接するレンズであり、上記回動ガイド機構は、上記レンズを撮影位置では該シャッタの開口に接近させ、退避位置では該シャッタの開口から離間する方向に直進ガイド軸回りに回動させる光学要素の退避機構。
  4. 請求項1ないし3のいずれか1項記載の光学要素の退避機構において、上記回動ガイド機構は、上記退避光学要素支持枠の直進ガイド軸から離れた端部に形成したフォロアと、該退避光学要素支持枠に対して相対移動する相対移動部材に形成した、該フォロアと係合するカムからなっている光学要素の退避機構。
  5. 請求項4記載の光学要素の退避機構において、上記相対移動部材に形成したカムは、光軸方向の前後位置及び厚さを変化させるカムリブであり、上記フォロアは、該カムリブを挟着する挟着フォロアである光学要素の退避機構。
  6. 請求項4記載の光学要素の退避機構において、上記直進ガイド軸とカムは、該直進ガイド軸の延長方向と直交する方向に移動可能な移動部材上に設けられている光学要素の退避機構。
  7. 請求項1ないし6のいずれか1項記載の光学要素の退避機構において、上記移動部材及び退避光学要素支持枠は、撮影位置において、カメラに加わる振れ情報に基づいて、電磁アクチュエータにより駆動制御される光学要素の退避機構。
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