CN113050341B - 相机模块 - Google Patents

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Abstract

相机模块包括：承载部，支承在壳体上并且可在光轴方向上移动；框架，支承在承载部上并且可相对于承载部在垂直于光轴方向的第一方向上移动；以及透镜模块，支承在框架上并且可相对于框架在垂直于光轴方向的第二方向上移动。框架和透镜模块中的一个被支承成使得吸引力在第一方向和第二方向中的一个方向上起作用。

Description

相机模块
相关申请的交叉引用。
本申请要求于2019年12月10日提交至韩国知识产权局的第10-2019-0164032号韩国专利申请的优先权权益，上述韩国专利申请的全部公开内容出于所有目的通过引用并入本申请。
技术领域
本申请涉及相机模块。
背景技术
超小型相机模块在诸如智能电话、平板PC、膝上型计算机等的移动通信终端中的使用已经增加。
随着移动通信终端的小型化，由这样的终端获得的图像质量可能会降低，因为这样的终端经常在拍摄图像的同时用手握持。为了在即使存在由于握持终端的手的无意抖动而在图像中引入不稳定性的情况下也能获得清晰的图像，需要补偿抖动效果的技术。
用于光学图像防抖(OIS)的致动器可以用于补偿由于握持终端的手的不稳定而引入的无意识抖动。OIS致动器可以在垂直于光轴方向的方向上移动透镜模块，以补偿无意识抖动。
已经实现了包括广角相机和长焦相机的多个相机邻近移动终端安装的结构，以改善相机模块的性能。
然而，当为了小型化和驱动中的精确化而采用使用磁体和线圈的OIS致动器时，性能由于彼此相邻的相机模块之间的自干扰而恶化。
发明内容
提供本发明内容部分旨在以简要的形式介绍对发明构思的选择，而在下面的具体实施方式部分中将进一步描述这些发明构思。本发明内容部分目的不在于确认所要求保护的主题的关键特征或必要特征，也不籍此帮助确定所要求保护的主题的范围。
一种致动器，具有设置有磁体和线圈的结构。
一种结构，其能够在采用用于小型化和精确驱动的使用磁场和线圈的致动器的同时显着地减少磁场的泄漏。
一种相机模块，其显著降低自干扰，使得即使在多个相机模块彼此相邻地设置时也可以自由地布置多个相机模块。
在一个总的方面中，相机模块包括：承载部，支承在壳体上并且可在光轴方向上移动；框架，支承在承载部上并且可相对于承载部在垂直于光轴方向的第一方向上移动；以及透镜模块，支承在框架上并且可相对于框架在垂直于光轴方向的第二方向上移动。框架和透镜模块中的一个被支承成使得吸引力在第一方向和第二方向中的一个方向上起作用。
框架和透镜模块中的另一个可布置成使得吸引力在第一方向和第二方向中的一个方向上不在相关构件和框架之间起作用。
框架和透镜模块中的另一个可布置成使得吸引力在光轴方向上在相关构件和框架之间起作用。
框架和透镜模块中的另一个可包括驱动磁体，以及驱动磁体可布置成在光轴方向上与设置在相关构件上的轭具有间隔。
壳体可包括侧表面，框架和透镜模块中的一个支承在侧表面上，并且由配置成防止磁场泄漏的材料形成的轭设置在侧表面上。
框架可被支承成使得吸引力在第一方向和第二方向中的一个方向上相对于承载部起作用，以及透镜模块可被支承成使得吸引力在光轴方向上相对于框架起作用。
框架可包括第一磁体，壳体可包括第一轭，并且第一磁体和第一轭可布置成在第二方向上具有间隔。
框架可包括第一磁体，并且第一磁体可沿与承载部相对的表面在第一方向和第二方向中的一个方向上磁化成具有至少N极和S极。
透镜模块可包括第二磁体，并且第二磁体的与承载部相对的表面可被磁化成单极或多极。
框架可包括第一磁体，并且透镜模块可包括第二磁体，第一磁体可通过与第一线圈的相互作用产生力，使得框架在平行于与承载部相对的表面的方向上相对移动，以及第二磁体可通过与第二线圈的相互作用产生力，使得透镜模块在垂直于与框架相对的表面的方向上相对移动。
第一磁体和第二磁体可设置成关于光轴彼此相对。
透镜模块可包括：第二磁体，以产生力来移动透镜模块；以及独立于第二磁体的第三磁体和第三轭中的一者，并且框架可包括第三磁体和第三轭中的另一者，以在光轴方向上与第三磁体或第三轭相对。
相机模块可包括在光轴方向上设置在透镜模块和框架的表面之间的三个滚动构件，以及第二磁体可设置在三个滚动构件中的两个滚动构件之间，并且第三磁体或第三轭可设置成最靠近三个滚动构件中的除两个滚动构件之外的另一个滚动构件。
三个滚动构件可设置成大致形成直角三角形。
在另一个总的方面中，相机模块包括：承载部，支承在壳体上并且可在光轴方向上移动；框架，支承在承载部上并且包括第一磁体，框架可相对于承载部在垂直于光轴方向的第一方向上移动；以及透镜模块，支承在框架上并且包括第二磁体，透镜模块可相对于框架在垂直于光轴方向的第二方向上移动。第一磁体和第二磁体中的一个沿着与相关构件相对的表面在第一方向和第二方向中的一个方向上磁化成具有至少N极和S极。第一磁体和第二磁体中的另一个被磁化成使得与相关构件相对的表面具有单极或多极。
在另一个总的方面中，相机模块包括：自动对焦部，包括设置在壳体上以可在光轴方向上移动的承载部；抖动校正部，包括透镜模块，透镜模块可相对于承载部在垂直于光轴方向的方向上移动；以及自动对焦线圈，向自动对焦部提供驱动力；以及第一抖动校正线圈和第二抖动校正线圈，向抖动校正部提供驱动力。自动对焦线圈以及第一抖动校正线圈和第二抖动校正线圈各自设置在壳体的设置成平行于光轴方向的表面上。壳体包括多个轭，多个轭分别覆盖第一抖动校正线圈和第二抖动校正线圈中的一个和自动对焦线圈以防止磁场泄漏。
在另一个总的方面中，相机模块包括：框架，包括第一磁体，第一磁体产生力以沿着垂直于光轴的第一方向移动框架；透镜支架，联接到框架并且包括第二磁体，第二磁体产生力以相对于框架沿着垂直于光轴的第二方向移动透镜支架，第二磁体设置成跨过光轴与第一磁体相对；以及透镜镜筒，固定到透镜支架以通过框架的移动而沿着第一方向移动并且通过透镜支架相对于框架的移动而沿着第二方向移动。
第一磁体和第二磁体中的一者可以是极化磁体，且第一磁体和第二磁体中的另一者可以是单极磁体。
相机模块可包括：第一线圈，设置为沿着第一方向面向第一磁体；以及第二线圈，设置为沿着第一方向面向第二磁体。
相机模块可包括：第一轭，设置成沿着第一方向与第一磁体相对，使得第一线圈插置在第一轭和第一磁体之间；以及第二轭，设置成在平行于光轴的方向上与第二磁体相对。
根据下面的具体实施方式、附图和所附权利要求，其它特征和方面将变得显而易见。
附图说明
图1是根据示例的相机模块的组装立体图。
图2是根据示例的相机模块的分解立体图。
图3是根据示例的壳体和承载部的分解立体图。
图4是根据示例的壳体、承载部、框架和透镜模块的分解立体图。
图5是根据示例的壳体、承载部、框架和透镜模块的组装立体图。
图6是当从上方观察时根据示例的壳体、承载部、框架和透镜支架的分解立体图。
图7是当从下方观察时根据示例的壳体、承载部、框架和透镜支架的分解立体图。
在整个附图和具体实施方式中，相同的附图标记指代相同的元件。出于清楚、说明和方便的目的，附图可能未按照比例绘制，并且附图中元件的相对尺寸、比例和描绘可能被夸大。
具体实施方式
提供以下具体实施方式以帮助读者获得对本申请中所描述的方法、装置和/或系统的全面理解。然而，本申请中所描述的方法、装置和/或系统的各种改变、修改和等同对本领域的普通技术人员将是显而易见的。本申请中所描述的操作的顺序仅仅是示例，并且除了必须以特定顺序发生的操作之外，不限于在本申请中所阐述的顺序，而是可以改变的，这对于本领域的普通技术人员将是显而易见的。另外，为了更加清楚和简洁，可省略对本领域的普通技术人员将公知的功能和构造的描述。
本申请中所描述的特征可以以不同的形式实施，而不应被理解为受限于本申请中所描述的示例。更确切地，提供本申请所描述的示例使得本公开将是透彻且完整的，并且将向本领域的普通技术人员充分传达本公开的范围。
应注意，在本申请中，相对于示例或实施方式使用措辞“可以”，例如关于示例或实施方式可以包括或实现的内容，意味着存在其中包括或实现这样的特征的至少一个示例或实施方式，而所有示例和实施方式不限于此。
在整个说明书中，当诸如层、区域或基板的元件被描述为位于另一元件“上”、“连接到”或“联接到”另一元件时，该元件可直接位于该另一元件“上”、直接“连接到”或直接“联接到”另一元件，或者可存在介于该元件与该另一元件之间的一个或多个其它元件。相反地，当元件被描述为“直接位于”另一元件“上”、“直接连接到”或“直接联接到”另一元件时，则可不存在介于该元件与该另一元件之间的其它元件。
如本申请中所使用的，措辞“和/或”包括相关联的所列项目中的任何一项以及任何两项或更多项的任何组合。
尽管在本申请中可以使用诸如“第一”、“第二”和“第三”的措辞来描述各种构件、部件、区域、层或部分，但是这些构件、部件、区域、层或部分不受这些措辞的限制。更确切地，这些措辞仅用于将一个构件、部件、区域、层或部分与另一个构件、部件、区域、层或部分区分开。因此，在不背离本申请中所描述的示例的教导的情况下，这些示例中提及的第一构件、第一部件、第一区域、第一层或第一部分也可以被称作第二构件、第二部件、第二区域、第二层或第二部分。
诸如“在……之上”、“较上”、“在……之下”和“较下”的空间相对措辞可以在本申请中为了描述便利而使用，以描述如附图中所示的一个元件相对于另一个元件的关系。除了涵盖附图中所描绘的定向之外，这些空间相对措辞旨在还涵盖设备在使用或操作中的不同的定向。例如，如果附图中的设备翻转，则描述为位于另一元件“之上”或相对于另一元件“较上”的元件将位于该另一元件“之下”或相对于该另一元件“较下”。因此，根据设备的空间定向，措辞“在……之上”涵盖“在......之上”和“在......之下”的两个定向。该设备还可以以其它方式定向(例如，旋转90度或在其它定向上)，并且本申请中使用的空间相对措辞应被相应地解释。
本申请中使用的术语仅用于描述各种示例，而不用于限制本公开。除非上下文另有明确指示，否则冠词“一”、“一个”和“该”旨在也包括复数形式。措辞“包括”、“包含”和“具有”说明存在所述特征、数字、操作、构件、元件和/或它们的组合，但不排除一个或多个其它特征、数字、操作、构件、元件和/或它们的组合的存在或添加。
由于制造技术和/或公差，可出现附图中所示形状的变化。因此，本申请中描述的示例不限于附图中所示的具体形状，而是包括在制造期间出现的形状变化。
可以以在理解本申请的公开内容之后将显而易见的各种方式组合本申请中描述的示例的特征。此外，尽管本申请中描述的示例具有多种配置，但是在理解本申请的公开内容之后将显而易见的其它配置也是可行的。
在下文中，虽然将参考附图详细描述本公开的示例，但是应当注意，示例不限于本公开的示例。
本公开涉及相机模块，并且可以应用于如移动通信终端、智能电话、平板PC等的便携式电子设备。
相机模块是用于拍摄静止图像或移动图像的光学设备。相机模块可以包括折射从对象反射的光的透镜和透镜驱动设备，透镜驱动设备移动透镜以在拍摄图像时调整焦距或补偿相机模块的抖动。
图1是根据示例的相机模块的组装立体图，图2是根据示例的相机模块的分解立体图。
参照图1和图2，相机模块1000可以包括壳体1100、包括容纳在壳体1100中的透镜镜筒1510的透镜模块1500、移动透镜模块1500的透镜驱动设备以及将通过透镜镜筒1510入射的光转换为电信号的图像传感器单元1150。相机模块1000还可以包括从上方覆盖壳体1100的外壳1110或上盖1301。
透镜镜筒1510可以是允许用于拍摄对象的多个透镜容纳在其中的中空圆柱形形状(该配置不限于此，并且透镜镜筒1510可以具有部分切割的外部，并且透镜镜筒1510的内部可以设置有圆形透镜或D形切割透镜、具有一个部分切割侧的透镜)，并且多个透镜安装在透镜镜筒1510中。以与根据透镜镜筒1510的设计所需的量一样大的量来布置多个透镜，并且多个透镜中的每一个具有相同或不同的诸如折射率等的光学特性。
透镜驱动设备在光轴方向或垂直于光轴方向的方向上移动透镜镜筒1510。
作为示例，透镜驱动设备可以在光轴方向(Z轴方向)上移动透镜镜筒1510以调整焦距，并且可以在垂直于光轴方向(Z轴方向)的X轴方向和Y轴方向上移动透镜镜筒1510以在拍摄图像时校正抖动。
透镜驱动设备包括对焦单元(自动对焦部)和抖动校正单元(抖动校正部)。
图像传感器单元1150将通过透镜镜筒1510入射的光转换为电信号。
作为示例，图像传感器单元1150可以包括图像传感器1151和连接到图像传感器1151的印刷电路板(PCB)1153，并且还可以包括红外滤光片。
透镜驱动设备和包括透镜镜筒1510的透镜模块1500容纳在壳体1100中。
例如，壳体1100具有顶部和底部敞开的形状，并且透镜模块1500和透镜驱动设备可以容纳在壳体1100的内部空间中。图像传感器单元1150设置在壳体1100下方。
外壳1110联接到壳体1100以围绕壳体1100的外表面，并用于保护相机模块1000的内部部件。外壳1110可用于屏蔽电磁波。
作为示例，外壳1110可以屏蔽由相机模块1000产生的电磁波，使得电磁波不影响便携式电子设备中的其它电子部件。
由于除相机模块1000之外便携式电子设备还配备有各种电子部件，因此外壳1110可以屏蔽由这写电子部件产生的电磁波，使得电磁波不影响相机模块1000。
参照图2和图3，示出了根据示例的透镜驱动设备的对焦单元。
透镜驱动设备包括：对焦单元，对焦单元沿光轴方向移动承载部1300以执行自动对焦；以及抖动校正单元，抖动校正单元沿垂直于光轴方向的方向移动设置在承载部1300内部的透镜模块1500以执行抖动校正。
对焦单元具有产生驱动力以在光轴方向(Z轴方向)上移动容纳透镜模块1500的承载部1300的结构。
对焦单元的驱动部分包括磁体1320和线圈1330。磁体1320安装在承载部1300上。作为示例，磁体1320可以安装在承载部1300的一个表面上。
线圈1330安装在壳体1100中。作为示例，线圈1330可以通过基板1130安装在壳体1100中。线圈1330可以固定到基板1130，并且基板1130可以在随后描述的抖动校正单元的固定驱动线圈也被一起固定的状态下固定到壳体1100。
磁体1320是安装在承载部1300上的可移动构件，以与承载部1300一起在光轴方向(Z轴方向)上移动，且线圈1330是固定到壳体1100的固定部件。然而，该配置不限于此，并且磁体1320和线圈1330的位置可彼此互换。
当向线圈1330供电时，承载部1300可以通过磁体1320和线圈1330之间的电磁相互作用在光轴方向(Z轴方向)上移动。
由于透镜镜筒1510容纳在承载部1300中，因此透镜镜筒1510也通过承载部1300的移动在光轴方向(Z轴方向)上移动。
滚动构件1370设置在承载部1300和壳体1100之间，以在承载部1300移动时减小承载部1300和壳体1100之间的摩擦。滚动构件1370可以具有球形形状。滚动构件1370可以设置在磁体1320的两侧上。
轭1350设置在壳体1100中。例如，轭1350设置成与磁体1320相对，且线圈1330插在轭1350与磁体1320之间。例如，线圈1330和磁体1320设置成彼此相对，并且轭1350设置在线圈1330的后表面上，使得承载部1300紧密地支承在壳体1100上，并且滚动构件1370插置在承载部1300与壳体1100之间。
吸引力在垂直于光轴方向(Z轴方向)的方向上作用在轭1350和磁体1320之间。因此，滚动构件1370可以通过轭1350和磁体1320之间的吸引力而保持在与承载部1300和壳体1100接触的状态。
轭1350还可以用于聚集磁体1320的磁力，并且可以防止磁通量向外泄漏。
示例使用检测并反馈透镜镜筒1510(更具体地，承载部1300)的位置的闭环控制方法。
因此，需要位置传感器1360来进行闭环控制。位置传感器1360可以是霍尔传感器。
位置传感器1360设置在线圈1330的内部或外部。位置传感器1360可以安装在其上安装有线圈1330的基板1130上。
可以另外设置磁体和线圈以在对焦期间确保足够的驱动力。当安装有磁体的区域随着相机模块的减薄的趋势而减小时，磁体的尺寸减小，并且因此不能确保对焦所需的足够驱动力。
根据本示例，尽管未示出，但是磁体可以分别附接到承载部1300的不同表面，并且线圈可以分别设置在壳体1100的不同表面上以与磁体相对。因此，即使在相机模块变薄时也可以确保用于对焦的足够的驱动力。
参照图2至图7，示出了根据示例的透镜驱动设备的抖动校正单元。
透镜驱动设备包括对焦单元和抖动校正单元，其中，对焦单元在光轴方向上移动承载部1300以执行对焦，抖动校正单元在垂直于光轴方向的方向上移动设置在承载部1300内部的透镜模块1500以执行抖动校正。
抖动校正单元具有产生驱动力以在垂直于光轴方向(Z轴方向)的第一方向(X轴方向)和第二方向(Y轴方向)上移动容纳在承载部1300中的透镜模块1500的结构。第一方向和第二方向彼此垂直。
抖动校正单元用于校正在拍摄图像或视频时由用户手抖动等引起的图像模糊或视频抖动。例如，当在拍摄图像时由于用户手抖动等而发生抖动时，对应于抖动的相对位移被提供给透镜镜筒1510以校正抖动。作为示例，抖动校正单元通过在垂直于光轴(Z轴)的方向上移动透镜镜筒1510来校正抖动。
抖动校正单元包括依次设置在承载部1300中的框架1400和透镜模块1500。透镜模块1500包括供透镜镜筒1510联接的透镜支架1700。承载部1300可以包括在框架1400和透镜模块1500设置在承载部1300的内部时从上方覆盖框架1400和透镜模块1500的上盖1301。
根据该示例的抖动校正单元可以实现透镜镜筒1510可随着框架1400和透镜支架1700分别在第二方向(Y轴方向)和第一方向(X轴方向)上移动而移动的结构。
例如，固定有透镜镜筒1510的透镜支架1700随着框架1400在第二方向(Y轴方向)上移动而移动或者透镜支架1700在第一方向(X轴方向)上移动。例如，由于透镜镜筒1510固定到透镜支架1700，所以透镜镜筒1510与透镜支架1700的移动一起移动，并且透镜镜筒1510是在透镜支架1700支承在框架1400上时移动的构件。因此，即使当框架1400移动时，透镜镜筒1510自然也与框架1400一起移动。
由于上述结构，当框架1400在第二方向(Y轴方向)上移动或者透镜支架1700在第一方向(X轴方向)上移动时，透镜镜筒1510一起移动以校正抖动。
抖动校正单元的驱动部分包括驱动框架1400的第一驱动部分和驱动透镜支架1700的第二驱动部分。框架1400在紧密地支承在承载部1300的设置成平行于光轴方向的表面上的同时被驱动，并且透镜支架1700在紧密地支承在框架1400的垂直于光轴方向的表面上的同时被驱动。例如，在与相关构件的关系中，只有框架1400在垂直于光轴方向的方向上被紧密地支承，并且透镜支架1700可以不在垂直于光轴方向的方向上被紧密地支承，而是可以被紧密地支承在设置成平行于光轴方向的表面上。
框架1400包括第一磁体1420。第一磁体1420设置成在垂直于光轴方向的第一方向(X轴方向)上与设置在壳体1100中的第一线圈1430相对。
此外，第一磁体1420被磁化成沿着与第一线圈1430相对的表面在垂直于光轴方向的第二方向(Y轴方向)上具有至少N极和S极(例如，第一磁体1420被磁化成使得与第一线圈1430相对的表面在垂直于光轴的方向上具有至少N极和S极)。因此，当电源施加至第一线圈1430时，根据第一磁体1420和第一线圈1430的电磁相互作用产生力以在第二方向(Y轴方向)上移动框架1400。
透镜支架1700设置有第二磁体1720。第二磁体1720设置成在垂直于光轴方向的第一方向(X轴方向)上与设置在壳体1100中的第二线圈1730相对。例如，第一磁体1420和第二磁体1720设置成基本上彼此平行。因此，第一磁体1420和第二磁体1720可以设置成关于光轴彼此相对。
第二磁体1720可以被磁化，使得与第二线圈1730相对的表面具有N极或S极的单极或包括N极和S极的多极。当电源施加到第二线圈1730时，根据第二磁体1720和第二线圈1730的电磁相互作用产生力以通过在彼此相反的方向上推动或拉动第二磁体1720和第二线圈1730的力在第一方向(X轴方向)上移动透镜支架1700。
第一线圈1430和第二线圈1730与对焦单元的驱动线圈1330一起固定到基板1130，并且基板1130固定到壳体1100。
框架1400紧密地支承在承载部1300的侧壁上，例如，设置成平行于光轴方向的表面，并且透镜支架1700在光轴方向上紧密地支承在框架1400的表面上，例如，垂直于光轴方向的表面。
框架1400通过与设置在壳体1100中的第一轭1450的吸引力而支承在承载部1300的侧壁上。由于第一轭1450可以是用于屏蔽磁场的金属或非金属磁性材料，因此可以防止由线圈、磁体或其相互作用产生的磁通量从相机模块1000向外泄漏。
透镜支架1700通过与设置在框架1400中的第二轭1750的吸引力而在光轴方向上支承在框架1400的上表面(底部)上。
第一轭1450设置成在垂直于光轴方向的方向上与第一磁体1420相对，且第一线圈1430插置于第一轭1450与第一磁体1420之间，并且第二轭1750设置成在光轴方向上与第二磁体1720相对。
第一轭1450可以设置在第一线圈1430的后表面上，并且可以通过与第一磁体1420的吸引力而允许框架1400在垂直于光轴方向的方向上紧密地支承在承载部1300的内壁上。
第二轭1750可以通过与第二磁体1720的吸引力而允许透镜支架1700在光轴方向上紧密地支承在框架1400的上表面(底表面)上。由于第二轭1750和第二磁体1720仅设置在基于框架1400的周围的部分上，所以透镜支架1700可能偏心地支承在框架1400上。因此，可以选择性地将第三轭1650和第三磁体1620分别设置在透镜支架1700和框架1400上以在光轴方向上彼此相对。
框架1400可以包括在承载部1300的内壁表面(设置成平行于光轴方向的表面)和框架1400之间的第一滚动构件1470，以易于在承载部1300的内壁上以滑动或滚动运动的方式移动。透镜支架1700可以包括在框架1400的垂直于光轴方向的表面和透镜支架1700之间的第二滚动构件1770，以容易地在框架1400的上表面上以滑动或滚动运动的方式移动。
在框架1400和承载部1300的内壁彼此相对的表面上可以设置有第一引导槽1475，第一引导槽1475形成为在第二方向(Y轴方向)上伸长，使得第一滚动构件1470容易地在表面中的至少一个表面上以滑动或滚动运动的方式移动。透镜支架1700和框架1400彼此相对的表面可以设置有第二引导槽1775，第二引导槽1775形成为在第一方向(X轴方向)上伸长，使得第二滚动构件1770容易地在表面中的至少一个表面上以滑动或滚动运动的方式移动。
第一滚动构件1470可以在第一磁体1420的两个端部的外侧上分别设置一个或两个滚动构件，以形成三角形或四边形。每个第一滚动构件1470可以在每个第一引导槽1475中设置有至少一个滚动构件。
第二滚动构件1770设置有包括分别设置在第二磁体1720的两侧上的一个或两个滚动构件的共三个或四个滚动构件，以形成三角形或四边形。每个第二滚动构件1770可以在每个第二引导槽1775中设置至少一个滚动构件。当设置三个第二滚动构件1770以形成三角形时，它们可以布置成形成近似直角三角形。第二磁体1720可以设置在三个第二滚动构件1770中的两个第二滚动构件1770之间，以平衡在光轴方向上的吸力，并且第三磁体1620或第三轭1650可以设置成最靠近其余的一个第二滚动构件1770。
包括第一驱动单元和第二驱动单元的抖动校正单元的第一磁体1420和第二磁体1720分别安装在框架1400和透镜支架1700上。分别与第一磁体1420和第二磁体1720相对的第一线圈1430和第二线圈1730安装在壳体1100中。为了便于描述，在附图的一部分中，第一线圈1430和第二线圈1730被示出为设置在承载部1300的一侧上。然而，参考图2，第一线圈1430和第二线圈1730两者都可以安装在壳体1100中。
第一磁体1420和第二磁体1720是与透镜模块1500一起在垂直于光轴(Z轴)的方向上移动的可移动构件，并且第一线圈1430和第二线圈1730是固定到壳体1100的固定部件。然而，该配置不限于此，并且第一磁体1420和第二磁体1720以及第一线圈1430和第二线圈1730的位置是可以彼此互换的。
抖动校正单元可以使用连续地感测框架1400和透镜支架1700的位置并将其反映在驱动上的闭环控制方法。因此，框架1400和透镜支架1700可以包括分别与第一磁体1420和第二磁体1720相对的第一位置传感器1460和第二位置传感器1760，以感测框架1400和透镜支架1700的位置。在这种情况下，第一位置传感器1460和第二位置传感器1760可以设置在基板1130的第一线圈1430和第二线圈1730的内部或设置在基板1130的第一线圈1430和第二线圈1730旁边。
该示例包括设置与分别设置在框架1400和透镜支架1700上的第一磁体1420和第二磁体1720相对的一个或两个或更多个第一线圈1430和第二线圈1730的所有结构。当设置两个或多个第一线圈1430和第二线圈1730时，可以调整磁通量的量以更有效地防止磁通量的泄漏。
在根据该示例的相机模块1000中，使用了利用磁体和线圈的VCM致动器的壳体1100的侧表面可以全部用轭完成，能够防止磁通量的泄漏。结果，可以有效地防止磁场的泄漏。
根据该示例的相机模块1000具有这样的结构，在该结构中，壳体1100、承载部1300、框架1400和透镜模块1500在光轴方向上依次设置，承载部1300在光轴方向上移动以实现自动对焦(AF)功能，并且框架1400和透镜模块1500从承载部1300的上部在垂直于光轴的第一方向和第二方向上移动以实现光学图像防抖(OIS)。
为了实现光学图像防抖(OIS)，框架1400在支承在承载部1300的平行于光轴方向的侧壁上的同时在垂直于光轴的第二方向(Y轴方向)上移动，并且透镜模块1500(更具体地，透镜镜筒1510或透镜支架1700)在支承在框架1400的垂直于光轴方向的底表面上的同时在垂直于光轴方向的第一方向(X轴方向)上移动。
然而，该配置不限于此。为了实现根据另一示例的光学图像防抖(OIS)，框架1400和透镜模块1500的方向或表面是彼此可互换的。
例如，为了实现根据另一示例的光学图像防抖(OIS)，框架1400可以在支承在作为承载部1300的垂直于光轴方向的表面的底表面上的同时在垂直于光轴的第二方向(Y轴方向)上移动，并且透镜模块1500(更具体地，透镜镜筒1510或透镜支架1700)可以在支承在框架1400的平行于光轴方向的侧壁上的同时在垂直于光轴的第一方向(X轴方向)上移动。
在这种情况下，设置在框架1400中的第一磁体1420可以磁化成单极磁体的N极或S极，或者磁化成包括N极和S极的多极，并且可以允许在设置在壳体1100中的第一线圈1430和第一磁体1420之间在彼此相反的方向上产生吸引力或排斥力。因此，可产生力以在第一方向(X轴方向)上移动框架1400，设置在透镜模块1500中的第二磁体1720可使用磁化成在垂直于光轴方向的方向上包括N极和S极的多极的磁体，并且透镜模块1500可沿框架1400的与设置在壳体1100中的第二线圈1730相对的表面在垂直于光轴方向的第二方向(Y轴方向)上移动。
在这种情况下，壳体1100可以设置有覆盖第二线圈1730的轭，并且设置在透镜模块1500中的第二磁体1720可以通过与轭的吸引力而紧密地支承在框架1400的侧壁上，例如设置成平行于光轴方向的表面。然而，由于框架1400应该在与框架1400被紧密支承的方向平行的方向上可移动，所以第一磁体1420和第一线圈1430之间的相互作用可能需要显著大于透镜模块1500和框架1400之间的吸引力的力。替代地，可以在框架1400上设置作为可移动构件的轭，而不设置壳体1100，以防止轭和第二磁体1720之间的吸引力影响框架1400的移动。
此外，框架1400可以设置有插置于承载部1300和框架1400的垂直于光轴方向的表面之间的滚动构件，并且透镜模块1500可以设置有插置于框架1400和透镜支架1700的垂直于光轴方向的表面之间的滚动构件。
在示例性实施方式中，第一磁体1420和第二磁体1720中的一者可以是极化磁体，并且第一磁体1420和第二磁体1720中的另一者可以是单极磁体。
省略了对其它示例的详细描述，但是可以参考相机模块1000的结构构思来修改相机模块的整体结构。
如上所述，当采用使用磁体和线圈的致动器时，可以显着地减少磁场的泄漏。因此，可以实现相机模块的驱动的小型化和精确性。
此外，即使当相机模块被布置成彼此相邻时，也可以显著降低磁场干扰。因此，相机模块可以自由地布置。
虽然本公开包括具体示例，但是在理解本申请的公开内容之后将显而易见的是，在不背离权利要求及其等同方案的精神和范围的情况下，可对这些示例作出形式和细节上的各种改变。本申请中所描述的示例仅以描述性的意义进行理解，而非出于限制的目的。对每个示例中的特征或方面的描述应被认为是可适用于其它示例中的相似的特征或方面。如果以不同的顺序执行所描述的技术，和/或如果以不同的方式组合和/或通过其它部件或它们的等同件替换或补充所描述的系统、架构、设备或电路中的部件，则仍可实现适当的结果。因此，本公开的范围不由具体实施方式限定，而是由权利要求及其等同方案限定，且在权利要求及其等同方案的范围之内的所有变型应被理解为包括在本公开中。

Claims (19)

1.相机模块，包括：
承载部，支承在壳体上且能够在光轴方向上移动；
框架，支承在所述承载部上并且能够相对于所述承载部在垂直于所述光轴方向的第一方向上移动；
透镜模块，支承在所述框架上并且能够相对于所述框架在垂直于所述光轴方向的第二方向上移动；以及
图像传感器单元，配置成将入射至所述透镜模块的光转换成电信号，
其中，所述框架和所述透镜模块中的一个被支承成使得吸引力在所述第一方向和所述第二方向中的一个方向上起作用，以及其中，所述框架和所述透镜模块中的另一个布置成使得吸引力在所述第一方向和所述第二方向中的一个方向上不在相关构件和所述框架之间起作用。
2.根据权利要求1所述的相机模块，其中，所述框架和所述透镜模块中的另一个布置成使得吸引力在所述光轴方向上在相关构件和所述框架之间起作用。
3.根据权利要求2所述的相机模块，其中，所述框架和所述透镜模块中的另一个包括驱动磁体，以及
所述驱动磁体布置成在所述光轴方向上与轭具有间隔，所述轭设置在所述相关构件上。
4.根据权利要求1所述的相机模块，其中，所述壳体包括侧表面，所述框架和所述透镜模块中的一个支承在所述侧表面上，并且由配置成防止磁场泄漏的材料形成的轭设置在所述侧表面上。
5.根据权利要求1所述的相机模块，其中，所述框架被支承成使得吸引力在所述第一方向和所述第二方向中的一个方向上相对于所述承载部起作用，以及
所述透镜模块被支承成使得吸引力在所述光轴方向上相对于所述框架起作用。
6.根据权利要求5所述的相机模块，其中，
所述框架包括第一磁体，
所述壳体包括第一轭，以及
所述第一磁体和所述第一轭布置成在所述第二方向上具有间隔。
7.根据权利要求5所述的相机模块，其中，
所述框架包括第一磁体，以及
所述第一磁体沿与所述承载部相对的表面在所述第一方向和所述第二方向中的一个方向上磁化成具有至少N极和S极。
8.根据权利要求5所述的相机模块，其中，
所述透镜模块包括第二磁体，以及
所述第二磁体的与所述承载部相对的表面被磁化成单极或多极。
9.根据权利要求5所述的相机模块，其中，
所述框架包括第一磁体，并且所述透镜模块包括第二磁体，
所述第一磁体配置成通过与第一线圈的相互作用产生力，使得所述框架在平行于与所述承载部相对的表面的方向上相对移动，以及
所述第二磁体配置成通过与第二线圈的相互作用产生力，使得所述透镜模块在垂直于与所述框架相对的表面的方向上相对移动。
10.根据权利要求9所述的相机模块，其中，所述第一磁体和所述第二磁体设置成关于光轴彼此相对。
11.根据权利要求5所述的相机模块，其中，所述透镜模块包括：第二磁体，配置成产生力以移动所述透镜模块；以及独立于所述第二磁体的第三磁体和第三轭中的一者，以及
所述框架包括所述第三磁体和所述第三轭中的另一者，以在所述光轴方向上与所述第三磁体或所述第三轭相对。
12.根据权利要求11所述的相机模块，还包括在所述光轴方向上设置在所述透镜模块和所述框架的表面之间的三个滚动构件，以及
所述第二磁体设置在所述三个滚动构件中的两个滚动构件之间，并且所述第三磁体或所述第三轭设置成最靠近所述三个滚动构件中的除所述两个滚动构件之外的另一个滚动构件。
13.根据权利要求12所述的相机模块，其中，所述三个滚动构件设置成形成直角三角形。
14.相机模块，包括：
承载部，支承在壳体上且能够在光轴方向上移动；
框架，支承在所述承载部上并且包括第一磁体，所述框架配置成能够相对于所述承载部在垂直于所述光轴方向的第一方向上移动；
透镜模块，支承在所述框架上并且包括第二磁体，所述透镜模块配置成能够相对于所述框架在垂直于所述光轴方向的第二方向上移动；以及
图像传感器单元，配置成将入射至所述透镜模块的光转换成电信号，
其中，所述第一磁体和所述第二磁体设置成关于光轴彼此相对，
其中，所述第一磁体和所述第二磁体中的一个沿着与相关构件相对的表面在所述第一方向和所述第二方向中的一个方向上磁化成具有至少N极和S极，以及
所述第一磁体和所述第二磁体中的另一个被磁化成使得与所述相关构件相对的表面具有单极或多极。
15.相机模块，包括：
自动对焦部，包括设置在壳体上以能够在光轴方向上移动的承载部；
抖动校正部，包括框架和透镜模块，所述框架配置为能够相对于所述承载部在垂直于所述光轴方向的第一方向上移动并且包括第一磁体，以及所述透镜模块配置为能够相对于所述承载部在垂直于所述光轴方向和所述第一方向的第二方向上移动并且包括第二磁体；
自动对焦线圈，配置为向所述自动对焦部提供驱动力，以及第一抖动校正线圈和第二抖动校正线圈，配置为分别与所述第一磁体和所述第二磁体相互作用以向所述抖动校正部提供驱动力；以及
图像传感器单元，配置成将入射至所述透镜模块的光转换成电信号，
其中，所述第一磁体和所述第二磁体设置成关于光轴彼此相对，
其中，所述自动对焦线圈以及所述第一抖动校正线圈和所述第二抖动校正线圈各自设置在所述壳体的平行于所述光轴方向的表面上；以及
所述壳体包括多个轭，所述多个轭分别覆盖所述第一抖动校正线圈和所述第二抖动校正线圈中的一个和所述自动对焦线圈以防止磁场泄漏。
16.相机模块，包括：
框架，包括第一磁体，所述第一磁体配置为产生力以沿着垂直于光轴的第一方向移动所述框架；
透镜支架，联接到所述框架并且包括第二磁体，所述第二磁体配置为产生力以相对于所述框架沿着垂直于所述光轴的第二方向移动所述透镜支架，所述第二磁体设置成跨过所述光轴与所述第一磁体相对；
透镜镜筒，固定到所述透镜支架，并且配置成通过所述框架的移动而沿着所述第一方向移动并且通过所述透镜支架相对于所述框架的移动而沿着所述第二方向移动；以及
图像传感器单元，配置成将入射至透镜模块的光转换成电信号。
17.根据权利要求16所述的相机模块，其中，
所述第一磁体和所述第二磁体中的一者是极化磁体，并且所述第一磁体和所述第二磁体中的另一者是单极磁体。
18.根据权利要求17所述的相机模块，还包括：
第一线圈，设置为沿着所述第一方向面向所述第一磁体；以及
第二线圈，设置为沿着所述第一方向面向所述第二磁体。
19.根据权利要求18所述的相机模块，还包括：
第一轭，设置成沿着所述第一方向与所述第一磁体相对，使得所述第一线圈插置在所述第一轭和所述第一磁体之间；以及
第二轭，设置成在平行于所述光轴的方向上与所述第二磁体相对。
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