CN216351589U - 相机模块 - Google Patents

Abstract

相机模块包括：壳体；承载部，设置在壳体内且可在光轴方向上移动；框架，设置在承载部上；以及透镜模块，设置在承载部内并且可在垂直于光轴方向的方向上移动，并且配置成实现光学图像防抖。透镜模块包括透镜镜筒和透镜支架，透镜支架设置在框架上。框架配置成由插置在框架和承载部之间的第一球构件支撑在承载部的平行于光轴方向的侧表面上。

Description

相机模块

相关申请的交叉引用

本申请要求分别于2020年11月18日和2021年2月15日在韩国知识产权局提交的第10-2020-0154294号和第10-2021-0020121号韩国专利申请的优先权的权益，上述韩国专利申请的全部公开内容通过引用并入本文中以用于所有目的。

技术领域

以下描述涉及相机模块。

背景技术

微型相机模块正在采用于诸如平板PC、膝上型计算机等的移动通信终端以及智能电话中。随着移动通信终端变得更小，因为在捕获运动图像时对不稳定的光学图像的影响更大，因此图像质量恶化。因此，可以采用光学图像防抖技术来获得清晰的图像。

当光学图像在图像捕获期间不稳定时，可以使用应用光学图像防抖(OIS)技术的OIS致动器来使不稳定的光学图像稳定。OIS致动器可以在垂直于光轴的方向上移动透镜模块，以使不稳定的图像稳定。

为了实现改进的OIS并由此改进相机性能，期望这样一种结构，在该结构中，透镜模块在垂直于光轴的方向上移动以具有更长的行程。然而，在使用磁体和线圈的OIS致动器被用来进行小型化和精确驱动的情况下，当透镜模块的行程变长时，磁体和线圈之间的间隙增大，使得可能难以驱动致动器。

实用新型内容

提供本实用新型内容部分旨在以简要的形式介绍对发明构思的选择，而在下面的具体实施方式部分中将进一步描述这些发明构思。本实用新型内容部分目的不在于确认所要求保护的主题的关键特征或必要特征，也不籍此帮助确定所要求保护的主题的范围。

在一个总的方面，相机模块包括：壳体；承载部，设置在壳体内并且可在光轴方向上移动；框架，设置在承载部上；以及透镜模块，设置在承载部内并且可在垂直于光轴方向的方向上移动，并且配置成实现光学图像防抖。透镜模块包括透镜镜筒和透镜支架，透镜支架设置在框架上。框架配置成由插置在框架和承载部之间的第一球构件支撑在承载部的平行于光轴方向的侧表面上。

在驱动光学图像防抖致动器期间，可以连续地保持承载部的侧表面和框架的与承载部的侧表面相对的侧表面之间的间隙的尺寸。

框架可以相对于承载部在垂直于光轴方向的第一方向上移动。

相机模块还可以包括第一磁体，第一磁体设置在框架的与承载部的侧表面相对的侧表面上。

第一磁体可以被磁化成在第一方向上具有N极和S极。

相机模块还可以包括设置在壳体中以与第一磁体相对的第一线圈。

第一线圈可以包括在第一方向上顺序设置的至少两个第一线圈。

第一磁体可以包括至少两对N极和S极。至少两个第一线圈中的每一个可以设置成与至少两对N极和S极之中的相应的一对N极和S极相对。

相机模块还可以包括设置在壳体中的第一磁轭，使得与第一磁体的吸引力作用在第一线圈的与第一磁体相对的后表面上。

透镜支架可以由第二球构件支撑，第二球构件插置在透镜支架和框架在光轴方向上的相对表面之间。

承载部可以由第三球构件支撑，第三球构件插置在承载部和壳体的平行于光轴方向的侧表面之间。

第一球构件和第三球构件可以设置在相对于光轴的相对位置。

相机模块还可以包括设置在承载部的另一侧表面上的第三磁体以及设置在壳体中以与第三磁体相对的第三线圈。

第三磁体可以被磁化，使得与第三线圈相对的表面在光轴方向上具有N极和S极。

在另一个总的方面，相机模块包括：盒形壳体；承载部，设置在盒形壳体内并且可在光轴方向上移动；框架，设置在承载部上；透镜模块，设置在承载部内并且可在垂直于光轴方向的方向上移动，透镜模块包括透镜镜筒和透镜支架，透镜支架设置在框架上；第一线圈和第三线圈，分别设置在相对于光轴的第一相对侧和第三相对侧上；第二线圈和第四线圈，分别设置在相对于光轴的第二相对侧和第四相对侧上；第一磁轭，设置在第一线圈的后表面上，使得通过与承载部上的、与第一线圈相对的第一磁体的吸引力而将承载部支撑在盒形壳体的侧表面上；以及第三磁轭，设置在第三线圈的后表面上，使得通过与框架上的、与第三线圈相对的第三磁体的吸引力而将框架支撑在承载部的侧表面上。球构件分别插置在承载部和盒形壳体之间以及框架和承载部之间。透镜支架包括分别与第二线圈和第四线圈相对的第二磁体和第四磁体。

第一磁体可以被磁化成在光轴方向上具有N极和S极。第三磁体可以被磁化成在垂直于光轴的第一方向上具有N极和S极。第二磁体和第四磁体可以被磁化成在垂直于光轴和第一方向两者的第二方向上具有N极和S极。

第一线圈和第三线圈可以分别设置在壳体的第一相对侧表面和第三相对侧表面上，并且第二线圈和第四线圈可以分别设置在壳体的第二相对侧表面和第四相对侧表面上。

第一线圈和第一磁体可以配置成彼此相互作用以在光轴方向上移动承载部。

第二线圈和第二磁体可以配置成彼此相互作用以在垂直于光轴的方向之中的第一方向上移动透镜模块。第三线圈和第三磁体可以配置成彼此相互作用以在垂直于光轴的方向之中的第二方向上移动透镜模块。第四线圈和第四磁体可以配置成彼此相互作用以在第一方向上移动透镜模块。

根据所附权利要求、附图和下面的具体实施方式，其它特征和方面将变得显而易见。

附图说明

图1是根据实施方式的处于组装状态的相机模块的立体图。

图2是根据实施方式的相机模块的分解立体图。

图3是根据实施方式的壳体和承载部的分解立体图。

图4是根据实施方式的图3的壳体、承载部、框架和透镜模块的分解立体图。

图5是根据实施方式的从上方观察的图4的壳体、承载部、框架和透镜支架的分解立体图。

图6是根据实施方式的图5的壳体、承载部、框架和透镜支架的分解立体图。

图7是示出根据实施方式的在承载部内驱动图5的框架和透镜支架的视图。

图8是根据实施方式的相机模块的分解立体图。

图9是根据实施方式的壳体和承载部的分解立体图。

图10是根据实施方式的图9的壳体、承载部、框架和透镜模块的分解立体图。

图11是根据实施方式的从上方观察的图10的壳体、承载部、框架和透镜支架的分解立体图。

图12是根据实施方式的从底部观察的图10的壳体、承载部、框架和透镜支架的分解立体图。

图13是示出根据实施方式的在承载部内驱动图10的框架和透镜支架的视图。

在整个附图和具体实施方式中，相同的附图标记指代相同的元件。出于清楚、说明和方便的目的，附图可能未按照比例绘制，并且附图中元件的相对尺寸、比例和描绘可能被夸大。

具体实施方式

提供以下具体实施方式以帮助读者获得对本文中所描述的方法、装置和/或系统的全面理解。然而，在理解本申请的公开内容之后，本文中所描述的方法、装置和/或系统的各种改变、修改和等同将是显而易见的。例如，本文中所描述的操作的顺序仅仅是示例，并且除了必须以特定顺序发生的操作之外，不限于在本文中所阐述的顺序，而是可以如在理解本申请的公开之后将显而易见的那样进行改变。此外，为了更加清楚和简洁，可以省略对本领域中已知的特征的描述。

本文中所描述的特征可以以不同的形式实施，并且不应被理解为受限于本文中所描述的示例。更确切地，本文中所描述的示例仅被提供来说明在理解本申请的公开内容之后将显而易见的实施在本文中描述的方法、装置和/或系统的许多可能的方式中的一些。

应当注意，在本文中，相对于实施方式或示例使用措辞“可以”(例如，关于实施方式或示例可以包括或实现的内容)意味着存在其中包括或实现这样的特征的至少一个实施方式或示例，而所有的实施方式和示例并不限制于此。

在整个说明书中，当诸如层、区域或基板的元件被描述为位于另一元件“上”、“连接到”或“联接到”另一元件时，该元件可直接位于该另一元件“上”、直接“连接到”或直接“联接到”另一元件，或者可存在介于该元件与该另一元件之间的一个或多个其它元件。相反地，当元件被描述为“直接位于”另一元件“上”、“直接连接到”或“直接联接到”另一元件时，则不存在介于该元件与该另一元件之间的其它元件。

如本文中所使用的，措辞“和/或”包括相关联的所列项目中的任何一项以及任何两项或更多项的任何组合。

尽管在本文中可以使用诸如“第一”、“第二”和“第三”的措辞来描述各种构件、部件、区域、层或部分，但是这些构件、部件、区域、层或部分不受这些措辞的限制。更确切地，这些措辞仅用于将一个构件、部件、区域、层或部分与另一个构件、部件、区域、层或部分区分开。因此，在不背离本文中所描述的示例的教导的情况下，这些示例中提及的第一构件、第一部件、第一区域、第一层或第一部分也可以被称作第二构件、第二部件、第二区域、第二层或第二部分。

诸如“在……之上”、“较上”、“在……之下”和“较下”的空间相对措辞可以在本文中为了描述便利而使用，以描述如附图中所示的一个元件相对于另一个元件的关系。除了涵盖附图中所描绘的定向之外，这些空间相对措辞旨在还涵盖设备在使用或操作中的不同的定向。例如，如果附图中的设备翻转，则描述为位于另一元件“之上”或相对于另一元件“较上”的元件将位于该另一元件“之下”或相对于该另一元件“较下”。因此，根据设备的空间定向，措辞“在……之上”涵盖“在......之上”和“在......之下”的两个定向。该设备还可以以其它方式定向(例如，旋转90度或在其它定向上)，并且本文中使用的空间相对措辞应被相应地解释。

本文中使用的术语仅用于描述各种示例，而不用于限制本公开。除非上下文另有明确指示，否则冠词“一”、“一个”和“该”旨在也包括复数形式。措辞“包括”、“包含”和“具有”说明存在所述特征、数字、操作、构件、元件和/或它们的组合，但不排除一个或多个其它特征、数字、操作、构件、元件和/或它们的组合的存在或添加。

由于制造技术和/或公差，可出现附图中所示形状的变化。因此，本文中描述的示例不限于附图中所示的具体形状，而是包括在制造期间出现的形状变化。

可以以在理解本申请的公开内容之后将显而易见的各种方式组合本文中描述的示例的特征。此外，尽管本文中描述的示例具有多种配置，但是在理解本申请的公开内容之后将显而易见的其它配置也是可行的。

本文的描述涉及相机模块，其例如可应用于诸如移动通信终端、智能电话、平板PC等的便携式电子设备。

相机模块例如是用于拍摄静止图画或运动图画的光学设备，并且包括配置成折射从对象反射的光的透镜以及配置成移动透镜以调节焦点或校正抖动的透镜驱动设备。

图1是根据实施方式的处于组装状态的相机模块1000和2000的立体图。图2是根据实施方式的相机模块1000的分解立体图。图8是根据实施方式的相机模块2000的分解立体图。

参照图1、图2和图8，相机模块1000和2000可以包括壳体1100、透镜模块1500、透镜驱动设备1200和图像传感器单元1150，透镜模块1500包括容纳在壳体1100中的透镜支架1700和透镜镜筒1510，透镜驱动设备1200配置成移动透镜模块1500，图像传感器单元1150配置成将通过透镜镜筒1510入射的光转换为电信号。此外，相机模块1000和2000还可以包括外壳1110和从顶部覆盖壳体1100的上盖1301。

透镜镜筒1510可以具有中空的圆柱形形状，使得用于对对象进行成像的多个透镜可以容纳在其中，但是本公开不限于这种配置。例如，透镜镜筒1510可以具有部分切掉的外部，并且圆形透镜或一个侧表面被部分切除的D形切割透镜可以设置在透镜镜筒1510内，并且多个透镜可以沿着光轴安装在透镜镜筒1510中。根据透镜镜筒1510的设计，可以根据需要设置多个透镜，并且透镜中的每个可以具有诸如相同或不同折射率的光学特性。

透镜驱动设备1200是配置成在光轴方向或垂直于光轴方向的方向上移动透镜镜筒1510的设备。

例如，透镜驱动设备1200可以通过在光轴(Z轴)方向上移动透镜镜筒1510来调节焦点，并且可以通过在垂直于光轴(Z轴)的方向上移动透镜模块1500来在成像期间校正抖动。

透镜驱动设备1200包括配置成调节焦点的焦点调节单元(自动焦点调节单元)和配置成使光学图像稳定的抖动校正单元(光学图像防抖单元)。

图像传感器单元1150是配置成将通过透镜镜筒1510入射的光转换为电信号的设备。

例如，图像传感器单元1150可以包括图像传感器1151和连接到图像传感器1151的印刷电路板1153，并且还可以包括红外滤波器。

包括透镜镜筒1510的透镜模块1500和透镜驱动设备1200容纳在壳体1100中。

例如，壳体1100具有敞开的上部部分和下部部分，并且透镜模块1500和透镜驱动设备1200可以设置在壳体1100中。图像传感器单元1150可以联接到壳体1100的下部部分。

外壳1110联接到壳体1100以围绕壳体1100的外表面，并保护相机模块1000/2000的内部部件。此外，外壳1110可以屏蔽电磁波。

例如，外壳1110可以屏蔽电磁波，使得由相机模块1000/2000产生的电磁波不影响安装有相机模块1000/2000的便携式电子设备中的其它电子部件。

此外，由于除了相机模块1000/2000之外，各种电子部件安装在便携式电子设备中，所以外壳1110可以屏蔽电磁波，使得由这些电子部件产生的电磁波不影响相机模块1000/2000。

透镜驱动设备1200可以包括焦点调节单元和光学图像防抖单元，焦点调节单元配置成通过在光轴方向上移动承载部1300来执行自动焦点调节，光学图像防抖单元配置成通过在垂直于光轴方向的方向上移动设置在承载部1300内的透镜模块1500来执行光学图像防抖。

焦点调节单元可以包括配置成产生驱动力以在透镜模块1500容纳在承载部1300中的情况下在光轴(Z轴)方向上移动承载部1300的结构。然而，尽管未示出，但修改实施方式的相机模块包括设置在壳体1100中的透镜模块1500，但不包括单独的承载部。在这样的实施方式中，透镜模块1500可以在壳体1100内仅执行光学图像防抖而不调节焦点。

焦点调节单元的驱动单元可以包括磁体1320和焦点调节驱动线圈1330。磁体1320可以安装在承载部1300上。例如，磁体1320可以安装在承载部1300的一个表面上。磁体1320和焦点调节驱动线圈1330可以设置成在垂直于光轴方向的方向上彼此面对。此外，磁体1320可以被磁化，使得与焦点调节驱动线圈1330相对的表面在光轴方向上具有N极和S极。

焦点调节驱动线圈1330可以安装在壳体1100的一个侧表面上。例如，壳体1100可以具有包括四个侧表面的矩形盒形状，并且焦点调节驱动线圈1330可以设置在平行于光轴方向的四个侧表面中的一个上。

例如，焦点调节驱动线圈1330可以通过基板1130安装在壳体1100上。焦点调节驱动线圈1330可以固定到基板1130，并且在下面将要描述的光学图像防抖单元的驱动线圈也固定到基板1130的状态下基板1130可以被固定到壳体1100。

磁体1320可以是安装在承载部1300上的可移动构件，以与承载部1300一起在光轴(Z轴)方向上移动，并且焦点调节驱动线圈1330可以是固定到壳体1100上的固定构件。然而，本公开不限于这种配置，并且可以更换磁体1320和焦点调节驱动线圈1330的位置。

当向焦点调节驱动线圈1330施加电力时，承载部1300可以通过磁体1320和焦点调节驱动线圈1330之间在光轴(Z轴)方向上的电磁力而在光轴(Z轴)方向上移动。因此，焦点调节驱动线圈1330可以被磁化成在光轴方向上具有N极和S极。

由于透镜镜筒1510容纳在承载部1300中，因此透镜镜筒1510也通过承载部1300的移动而在光轴(Z轴)方向上移动。

球构件1370设置在承载部1300和壳体1100在垂直于光轴方向的方向上的相对表面之间。当承载部1300移动时，球构件1370通过在承载部1300和壳体1100之间滑动或滚动来减小摩擦。球构件1370可具有球形形状。球构件1370可以设置在磁体1320的两侧上。也就是说，两个球构件1370可以分别设置在磁体1320的两侧上。

磁轭1350设置在壳体1100中。例如，磁轭1350可以设置成面对磁体1320，其中焦点调节驱动线圈1330插置在磁轭1350与磁体1320之间。换句话说，焦点调节驱动线圈1330和磁体1320可以设置成彼此相对，并且磁轭1350可以设置在焦点调节驱动线圈1330的后表面上，使得可以通过与磁体1320的吸引力而由球构件1370将承载部1300紧密地支撑在壳体1100中。

吸引力在垂直于光轴(Z轴)的方向上作用在磁轭1350和磁体1320之间。因此，球构件1370可以通过磁轭1350和磁体1320之间的吸引力保持与承载部1300和壳体1100接触。

此外，磁轭1350还执行聚焦磁体1320的磁力的功能，并且因此，可以防止磁通量向外泄漏。

在本文的公开中，使用用于检测透镜镜筒1510(更具体地，承载部1300)的位置以反馈透镜镜筒1510的位置的闭环控制方法。

因此，设置位置传感器1360以用于闭环控制。位置传感器1360可以是磁传感器，例如霍尔传感器等。

位置传感器1360可以设置在焦点调节驱动线圈1330的内部或外部，并且位置传感器1360可以安装在其上安装有焦点调节驱动线圈1330的基板1130上。

参照图2和图4至图6，公开了根据实施方式的透镜驱动设备1200中的光学图像防抖单元。

透镜驱动设备1200可以包括焦点调节单元和光学图像防抖单元，焦点调节单元配置成在光轴方向上移动承载部1300以执行自动焦点调节，光学图像防抖单元配置成在与光轴方向交叉(垂直)的方向上移动设置在承载部1300内的透镜模块1500以执行光学图像防抖。

光学图像防抖单元包括配置成产生驱动力以在垂直于光轴(Z轴)的第一方向(X轴方向)和第二方向(Y轴方向)上移动容纳在承载部1300中的透镜模块1500的结构。这里，第一方向和第二方向可以彼此垂直。

光学图像防抖单元用于校正在捕获图像或视频时由于诸如用户的手抖动的因素而引起的图像的模糊或者视频抖动。例如，当由于用户的手抖动等而在图像捕获期间发生抖动时，光学图像防抖单元通过将对应于抖动的相对位移赋予透镜镜筒1510来使光学图像稳定。例如，光学图像防抖单元通过在垂直于光轴(Z轴)的方向上移动透镜镜筒1510来校正抖动。

光学图像防抖单元可以包括框架1400和透镜支架1700，透镜镜筒1510联接到透镜支架1700。框架1400和透镜支架1700顺序地设置在承载部1300中。承载部1300可以包括上盖1301，上盖1301在框架1400和透镜模块1500设置在承载部1300中的状态下从顶部封闭。

在本实施方式的光学图像防抖单元中，在附图所示的状态下，由于框架1400和透镜支架1700分别在第一方向(X轴方向)和第二方向(Y轴方向)上移动，因此透镜镜筒1510根据框架1400和透镜支架1700的移动而移动，以实现光学图像防抖。

当框架1400在第一方向(X轴方向)上移动或者透镜支架1700在第二方向(Y轴方向)上移动时，透镜镜筒1510固定到其上的透镜支架1700与透镜镜筒1510一起移动。也就是说，由于透镜镜筒1510固定到透镜支架1700，所以透镜镜筒1510自然地随着透镜支架1700的移动而移动。由于透镜镜筒1510在透镜支架1700由框架1400支撑的状态下移动，因此，即使在框架1400移动时，透镜镜筒1510也与框架1400一起移动。

由于上述框架1400、透镜支架1700和透镜镜筒1510的结构，当框架1400在第一方向(X轴方向)上移动或透镜支架1700在第二方向(Y轴方向)上移动时，透镜镜筒1510与框架1400或透镜支架1700一起移动，并且可以校正抖动。

光学图像防抖单元的驱动单元包括配置成驱动框架1400的第一驱动单元和配置成驱动透镜支架1700的第二驱动单元。

承载部1300、框架1400和透镜支架1700在光轴方向上顺序安装。框架1400配置成可相对于承载部1300在垂直于光轴方向的第一方向(X轴方向)上移动，并且透镜支架1700配置成可相对于框架1400在垂直于光轴方向的第二方向(Y轴方向)上移动。

因此，至少三个第一球构件1470和至少三个第二球构件1770可以分别设置在承载部1300与框架1400的相对表面和框架1400与透镜支架1700的相对表面之间，用于滚动或滑动移动，以便于框架1400和透镜支架1700的移动。即，至少三个第一球构件1470可以设置在承载部1300和框架1400在光轴方向上的相对表面之间，并且至少三个第二球构件1770可以设置在框架1400和透镜支架1700在光轴方向上的相对表面之间。

在光轴方向上顺序设置的承载部1300、框架1400和透镜支架1700可以在光轴方向上保持彼此紧密接触。为此，分别在承载部1300和框架1400在光轴方向上的相对表面上以及框架1400和透镜支架1700在光轴方向上的相对表面上设置上部磁性材料和下部磁性材料，以分别彼此面对，使得可以形成在光轴方向上作用的吸引力。

例如，上部磁性材料和下部磁性材料都可以是磁体，使得吸引力起作用，或者上部磁性材料和下部磁性材料中的一个可以是磁体，并且上部磁性材料和下部磁性材料中的另一个可以是具有磁性的磁轭。

在这种情况下，上部磁性材料可以是第一磁体1420和第二磁体1720，用于驱动设置在框架1400或透镜支架1700中的光学图像防抖单元，并且在这种情况下，可以在承载部1300上设置磁轭1421以在光轴方向上面对第一磁体1420，并且可以在框架1400上设置磁轭1721以在光轴方向上面对第二磁体1720。

框架1400包括第一磁体1420，并且第一磁体1420设置成在垂直于光轴方向的第二方向(Y轴方向)上面对设置在壳体1100中的第一线圈1430。第一线圈1430可以安装在壳体1100的侧表面上。例如，第一线圈1430可以安装成在与安装焦点调节驱动线圈1330的一个侧部相对的侧部上面对焦点调节驱动线圈1330。

例如，壳体1100可以是具有四个侧表面的方形盒的形状，并且焦点调节驱动线圈1330可以设置在壳体1100的平行于光轴方向的一个侧表面上，并且第一线圈1430可以安装在壳体1100的平行于光轴方向并且位于所述一个侧表面的相对侧部上的另一侧表面上。

第一磁体1420被磁化成在与第一线圈1430在垂直于光轴方向的方向上相对的表面上沿第一方向(X轴方向)具有至少N极和S极。因此，当电力施加至第一线圈1430时，框架1400根据第一磁体1420和第一线圈1430之间的电磁相互作用产生在第一方向(X轴方向)上移动的力。

一个或两个或更多个第一线圈1430可以设置在壳体1100的侧表面上，并且相应地，一个或两个或更多个第一磁体1420可以设置成面对一个或两个或多个第一线圈1430。

此外，透镜支架1700包括第二磁体1720，并且第二磁体1720设置成在垂直于光轴方向的第一方向(X轴方向)上面对第二线圈1730。第二线圈1730可以安装在壳体1100的另外两个侧表面上。例如，第二线圈1730可以安装在焦点调节驱动线圈1330和第一线圈1430分别安装在其上的一个侧表面和另一个侧表面之间的所有另外的侧表面上。也就是说，第二线圈1730可以成对地彼此面对地安装在彼此面对的另外的侧表面上。

例如，壳体1100可以是具有四个侧表面的方形盒的形状，并且焦点调节驱动线圈1330可以设置在壳体1100的平行于光轴方向的一个侧表面上，第一线圈1430可以设置在壳体1100的平行于光轴方向并且与一个侧表面相对定位的另一侧表面上，以及第二线圈1730分别可以安装在壳体1100的彼此相对设置的两个剩余侧表面上。

第二磁体1720被磁化成在与第二线圈1730在垂直于光轴方向的方向上相对的表面上沿第二方向(Y轴方向)具有至少N极和S极。因此，当电力施加至第二线圈1730时，透镜支架1700根据第二磁体1720和第二线圈1730之间的电磁相互作用产生在第二方向(Y轴方向)上移动的力。第一方向(X轴方向)和第二方向(Y轴方向)可以彼此垂直。

一个或两个或更多个第二线圈1730可以设置在壳体1100的剩余侧表面中的每个上，并且相应地，一个或两个或更多个第二磁体1720也可以设置成面对一个或两个或更多个第二线圈1730。

第一线圈1430和第二线圈1730可以与焦点调节单元的焦点调节驱动线圈1330一起固定到基板1130，并且基板1130可以固定到壳体1100。因此，基板1130可以设置成围绕壳体1100的四个侧表面。

框架1400可以设置有第一球构件1470，第一球构件1470设置在框架1400和承载部1300在光轴方向上的相对表面之间，以便在承载部1300的上部部分上容易地滑动或滚动，并且可以设置有第二球构件1770，第二球构件1770设置在框架1400和透镜支架1700的垂直于光轴方向的表面之间，以便在框架1400的上表面上容易地滑动或滚动。

形成为在第一方向(X轴方向)上伸长使得第一球构件1470容易地滑动或滚动的第一引导槽1475可以设置在框架1400和承载部1300在光轴方向上的相对表面中的至少一个上。因此，框架1400可以在第一方向(X轴方向)上移动，同时限制框架1400在第二方向(Y轴方向)上的移动。

然而，当框架1400移动时，设置在框架1400内的透镜支架1700也移动，使得透镜支架1700在第一方向(X轴方向)上的位置可以改变。

此外，形成为在第二方向(Y轴方向)上伸长使得第二球构件1770容易地滑动或滚动的第二引导槽1775可以设置在透镜支架1700和框架1400在光轴方向上面对的相对表面中的至少一个上。因此，透镜支架1700可以在限制透镜支架1700在框架1400内在第一方向(X轴方向)上的移动的状态下在第二方向(Y轴方向)上移动。

因此，分别设置在透镜支架1700和壳体1100中的第二磁体1720和第二线圈1730可以在第二方向(Y轴方向)上相对于彼此移动，同时相对表面之间的距离连续改变。这是因为设置在承载部1300中的框架1400在第一方向(X轴方向)上连续地或间歇地移动，用于光学图像防抖。

当第二磁体1720和第二线圈1730仅设置在壳体1100的另外两个侧表面中的一个上时，第二磁体1720和第二线圈1730的驱动力可能不能正常工作。

因此，如图7所示，在第一磁体1420和第一线圈1430的相对表面之间在第一方向(X轴方向)上形成驱动力的间隙G1可以保持相同，在第二磁体1720和第二线圈1730的相对表面之间在第二方向(Y轴方向)上形成驱动力的间隙G2或G3可以有意地改变，并且替代地，可以在透镜支架1700的两个相对侧上分别设置第二磁体1720和第二线圈1730，以补偿驱动力。

即，第二线圈1730设置在壳体1100的彼此相对的剩余两个侧表面上，并且两个第二磁体1720分别设置在透镜支架1700的相对表面上以分别面对第二线圈1730，使得即使两个第二磁体1720移动为偏向任何一侧，也可以在第二方向(Y轴方向)上同时使用两侧上的任一个或两个驱动单元，以确保足够的光学图像防抖驱动力。

包括第一驱动单元和第二驱动单元的光学图像防抖驱动单元的第一磁体1420和第二磁体1720分别安装在框架1400和透镜支架1700上，并且分别面对第一磁体1420和第二磁体1720的第一线圈1430和第二线圈1730安装在壳体1100上。在一些附图中，为了便于说明，第一线圈1430和第二线圈1730被示出为设置在承载部1300上，但是参照图2，第一线圈1430和第二线圈1730都可以安装在壳体1100上。

此外，第一磁体1420和第二磁体1720是与透镜模块1500一起在垂直于光轴(Z轴)的方向上移动的可移动磁体，并且第一线圈1430和第二线圈1730是固定到壳体1100的固定构件。然而，本公开不限于上述示例，并且第一磁体1420和第二磁体1720与第一线圈1430和第二线圈1730的位置可以彼此改变。

此外，在光学图像防抖驱动单元中可以使用闭环控制，其在驱动中连续地感测框架1400和透镜支架1700的位置并反映框架1400和透镜支架1700的位置。因此，可以设置分别面对第一磁体1420和第二磁体1720的第一位置传感器1460和第二位置传感器1760，以感测框架1400和透镜支架1700的位置。在这种情况下，第一位置传感器1460和第二位置传感器1760可以设置在基板1130的第一线圈1430和第二线圈1730内或与基板1130的第一线圈1430和第二线圈1730嵌套。第一位置传感器1460和第二位置传感器1760可以是磁传感器，例如霍尔传感器等。

此外，包括如下两个结构：其中分别设置在框架1400和透镜支架1700中的第一磁体1420和第二磁体1720与彼此相对的第一线圈1430和第二线圈1730分别设置在一个或两个或更多个结构中。

相机模块1000具有这样的结构，在该结构中，壳体1100、承载部1300、框架1400和透镜模块1500在光轴方向上顺序设置。在相机模块1000中，承载部1300可以在光轴方向上移动以实现自动焦点调节(AF)，并且框架1400和透镜模块1500可以在垂直于光轴的第一方向和第二方向从承载部1300上方移动以实现光学图像防抖(OIS)。

图8至图13示出了根据实施方式的相机模块2000。相机模块1000和相机模块2000对于其大多数结构包括相同的附图标记，因为大多数结构是相同的。然而，其中框架1400被支撑在具有结构差异的承载部1300上的一些结构部分将用不同的附图标记来描述。

相机模块1000具有这样的结构，在该结构中，在光轴方向上顺序设置的承载部1300、框架1400和透镜支架1700在光轴方向上保持彼此紧密接触。另一方面，在相机模块2000中，承载部1300、框架1400和透镜支架1700在光轴方向上顺序设置的结构和透镜支架1700在光轴方向上被支撑在框架1400的相对表面上的结构彼此相同，但存在不同之处，即框架1400被支撑在承载部1300的平行于光轴方向的表面上。在下文中，将主要描述相机模块2000和相机模块1000之间的差异。

参照图8和图9，相机模块2000包括透镜驱动设备1200中的焦点调节单元。由于相机模块2000的焦点调节单元的对应结构与参考图2和图3在相机模块1000中描述的结构相同，因此将省略对其的详细描述。

参照图8和图10至图12，相机模块2000包括透镜驱动设备1200的光学图像防抖单元。由于该结构与参考图2和图4至图6所描述的结构几乎相同，因此省略了对整个详细结构的描述，并且将主要描述框架1400的、相对于承载部1300支撑在平行于光轴方向的平面上的结构，该结构在结构上是不同的。

透镜驱动设备1200包括焦点调节单元和光学图像防抖单元。透镜驱动设备1200的基础部分与相机模块1000中所描述的那些基本相同。

光学图像防抖单元包括配置成产生驱动力以在垂直于光轴(Z轴)的第一方向(X轴方向)和第二方向(Y轴方向)上移动容纳在承载部1300中的透镜模块1500的结构。这里，第一方向和第二方向可以彼此垂直。

在相机模块2000中，在抖动校正单元的结构之中的、承载部1300通过其支撑框架1400以在第一方向(X轴方向)上移动的结构与相机模块1000中的对应结构不同。

光学图像防抖单元包括在光轴方向上顺序地设置在承载部1300内的框架1400和透镜模块1500，透镜模块1500包括透镜支架1700和透镜镜筒1510。透镜镜筒1510联接到透镜支架1700。

在相机模块2000的光学图像防抖单元中，在附图所示的状态下，当框架1400和透镜支架1700分别在第一方向(X轴方向)和第二方向(Y轴方向)上移动时，透镜镜筒1510可以根据框架1400和透镜支架1700的移动与框架1400和透镜支架1700一起移动，从而可以实现光学图像防抖。通过这种结构，当框架1400在第一方向(X轴方向)上移动或者透镜支架1700在第二方向(Y轴方向)上移动时，透镜镜筒1510可以与框架1400或透镜支架1700一起移动，并且可以校正抖动。

光学图像防抖单元的驱动单元包括配置成驱动框架1400的第一驱动单元和配置成驱动透镜支架1700的第二驱动单元。

承载部1300、框架1400和透镜支架1700顺序布置，框架1400安装成可相对于承载部1300在垂直于光轴方向的第一方向(X轴方向)上移动，并且透镜支架1700安装成可相对于框架1400在垂直于光轴方向的第二方向(Y轴方向)上移动。

因此，至少三个第三球构件1470a可以设置在承载部1300和框架1400的垂直于光轴方向的相对表面之间，并且至少三个第二球构件1770可以设置在框架1400和透镜支架1700在光轴方向上的相对表面之间。

更详细地，第三球构件1470a可以设置在相对于光轴与用于焦点调节的球构件1370相对的位置处。换句话说，设置在承载部1300和壳体1100之间并用作用于焦点调节驱动的滚动单元的球构件1370可以设置在与设置有第三球构件1470a的一侧相对于光轴相对的一侧上。

可以在承载部1300和框架1400上施加吸引力以保持承载部1300和框架1400在垂直于光轴方向的方向上紧密接触，并且可以在框架1400和透镜支架1700上施加吸引力以保持框架1400和透镜支架1700在光轴方向上彼此紧密接触。为此，承载部1300在第一线圈1430的后表面上设置有第一磁轭1450，使得吸引力可以在垂直于光轴方向的方向上施加至设置在框架1400中的第一磁体1420。

此外，上部磁性材料和下部磁性材料可以设置在框架1400和透镜支架1700的在光轴方向上的相对表面上，以相互面对，使得可以在光轴方向上形成吸引力。

例如，上部磁性材料和下部磁性材料都可以是磁体，使得吸引力起作用，或者上部磁性材料和下部磁性材料中的一个可以是磁体，并且另一个可以是具有磁性的磁轭。在这种情况下，上部磁性材料可以是设置在透镜支架1700中的用于驱动光学图像防抖单元的第二磁体1720。在这种情况下，第二磁轭1721可以设置到框架1400以在光轴方向上面对第二磁体1720。

框架1400包括第一磁体1420，并且第一磁体1420设置为在垂直于光轴方向的第二方向(Y轴方向)上面对设置在壳体1100中的第一线圈1430。第一线圈1430可以安装在壳体1100的侧表面上。更详细地，第一线圈1430可以安装在与其上安装有焦点调节驱动线圈1330的一个侧表面相对的侧表面上，以面对焦点调节驱动线圈1330。

例如，壳体1100可以是具有四个侧表面的方形盒的形状，并且焦点调节驱动线圈1330可以设置在壳体1100的平行于光轴方向的一个侧表面上，并且第一线圈1430可以安装在壳体1100的平行于光轴方向并与壳体1100的所述一个侧表面相对定位的另一侧表面上。

第一磁体1420被磁化成在与第一线圈1430在垂直于光轴方向的方向上相对的表面上沿第一方向(X轴方向)具有至少N极和S极。因此，当电力施加至第一线圈1430时，框架1400根据第一磁体1420和第一线圈1430之间的电磁相互作用产生在第一方向(X轴方向)上移动的力。

一个或两个或更多个第一线圈1430可以设置在壳体1100的侧表面上，并且相应地，一个或两个或更多个第一磁体1420可以设置成面对一个或两个或更多个第一线圈1430。

此外，透镜支架1700包括第二磁体1720，并且第二磁体1720可以设置成在垂直于光轴方向的第一方向(X轴方向)上面对设置在壳体1100中的第二线圈1730。第二线圈1730可以安装在壳体1100的所有剩余的两个侧表面上。例如，第二线圈1730可以安装在安装有焦点调节驱动线圈1330和第一线圈1430的一个侧表面和另一个侧表面之间的所有另外的侧表面上。也就是说，第二线圈1730可以成对地彼此相对地安装在彼此相对的剩余的侧表面上。

例如，壳体1100可以是具有四个侧表面的方形盒的形状，并且焦点调节驱动线圈1330可以设置在壳体1100的平行于光轴方向的一个侧表面上，第一线圈1430可以设置在壳体1100的平行于光轴方向并与所述一个侧表面相对的另一侧表面上，并且第二线圈1730可以分别安装在壳体1100的彼此相对设置的两个剩余侧表面上。

第二磁体1720被磁化成在与第二线圈1730在垂直于光轴方向的方向上相对的表面上沿第二方向(Y轴方向)具有至少N极和S极。因此，当电力施加至第二线圈1730时，透镜支架1700根据第二磁体1720和第二线圈1730之间的电磁相互作用产生在第二方向(Y轴方向)上移动的力。第一方向(X轴方向)和第二方向(Y轴方向)可以彼此垂直。

一个或两个或更多个第二线圈1730可以分别设置在壳体1100的剩余侧表面中的每个上，并且相应地，一个或两个或更多个第二磁体1720也可以设置成面对一个或两个或更多个第二线圈1730。

第一线圈1430和第二线圈1730可以与焦点调节单元的焦点调节驱动线圈1330一起被固定到基板1130，并且基板1130可以被固定到壳体1100。因此，基板1130可以配置成围绕壳体1100的四个侧表面。

框架1400可以设置有第三球构件1470a，该第三球构件1470a设置在承载部1300和框架1400在垂直于光轴方向的方向上的相对表面之间，以在承载部1300的侧表面上容易地滑动或滚动，并且透镜支架1700可以设置有第二球构件1770，该第二球构件1770设置在框架1400和透镜支架1700的垂直于光轴方向的表面之间，以在框架1400的上表面上容易地滑动或滚动。

形成为在第一方向(X轴方向)上伸长使得第三球构件1470a在垂直于光轴方向的方向上容易地滑动或滚动的第三引导槽1475a可设置在框架1400和承载部1300的相对表面中的至少一个上。因此，框架1400可以在限制第二方向(Y轴方向)上的移动的状态下在第一方向(X轴方向)上移动。

因此，框架1400在垂直于光轴方向的方向上由承载部1300紧密地支撑，其中第三球构件1470a通过第一磁体1420和第一磁轭1450之间的吸引力插置在框架1400和承载部1300之间。因此，分别设置在框架1400和壳体1100中的第一磁体1420和第一线圈1430可以相对于相对表面在第一方向(X轴方向)上相对移动，同时保持第一磁体1420和第一线圈1430之间的相同距离。

然而，当框架1400移动时，由于设置在框架1400内的透镜支架1700也移动，因此透镜支架1700在第一方向(X轴方向)上的位置可能改变。

此外，形成为在第二方向(Y轴方向)上伸长使得第二球构件1770容易地滑动或滚动的第二引导槽1775可以设置在透镜支架1700和框架1400在光轴方向上彼此面对的相对表面中的至少一个上。因此，透镜支架1700可以在限制其在第一方向(X轴方向)上的移动的状态下在第二方向(Y轴方向)上移动。

因此，分别设置在透镜支架1700和壳体1100中的第二磁体1720和第二线圈1730可以在第二方向(Y轴方向)上相对彼此移动，同时第二磁体1720和第二线圈1730的相对表面之间的间隙连续地改变。这是因为设置在承载部1300中的框架1400在第一方向(X轴方向)上连续地或间歇地移动，用于光学图像防抖。

如果第二磁体1720和第二线圈1730仅设置在壳体1100的另外两个侧表面中的一个上，则第二磁体1720和第二线圈1730的驱动力根据第二磁体1720和第二线圈1730的相对表面的间隙的连续变化可能不能适当地起作用。

因此，如图13所示，在该实施方式中，在第一磁体1420和第一线圈1430的、在第一方向(X轴方向)上形成驱动力的相对表面之间的间隙G1保持相同，在第二磁体1720和第二线圈1730的、在第二方向(Y轴方向)上形成驱动力的相对表面之间的间隙G2或G3可以有意地改变。因此，可以在透镜支架1700的两侧分别设置第二磁体1720和第二线圈1730，以补偿驱动力。

也就是说，第二线圈1730分别设置在壳体1100的彼此相对的剩余两个侧表面上，并且两个第二磁体1720分别设置在透镜支架1700的相对表面上，以分别面对第二线圈1730。即使透镜支架1700移动为偏向壳体1100的任一侧，也可以通过同时使用两侧的驱动单元或两侧的驱动单元中的任一个来充分确保在第二方向(Y轴方向)上的抖动补偿驱动力。

如上所述，根据本文所公开的实施方式，提供了具有包括磁体和线圈的新颖结构的致动器。

此外，根据本文所公开的实施方式，通过采用使用磁体和线圈的致动器，可以通过长行程来充分地实现光学图像防抖。

虽然本公开包括具体的示例，但是在理解本申请的公开内容之后将显而易见的是，在不背离权利要求及其等同方案的精神和范围的情况下，可对这些示例作出形式和细节上的各种改变。本文中所描述的示例仅以描述性的意义进行理解，而非出于限制的目的。对每个示例中的特征或方面的描述应被认为是可适用于其它示例中的相似的特征或方面。如果以不同的顺序执行所描述的技术，和/或如果以不同的方式组合和/或通过其它部件或它们的等同件替换或补充所描述的系统、架构、设备或电路中的部件，则仍可实现适当的结果。因此，本公开的范围不由具体实施方式限定，而是由权利要求及其等同方案限定，且在权利要求及其等同方案的范围之内的所有变型应被理解为包括在本公开中。

Claims (20)

1.相机模块，其特征在于，所述相机模块包括：

壳体；

承载部，设置在所述壳体内并且能够在光轴方向上移动；

框架，设置在所述承载部上；以及

透镜模块，设置在所述承载部内并且能够在垂直于所述光轴方向的方向上移动，

其中，所述透镜模块包括透镜镜筒和透镜支架，所述透镜支架设置在所述框架上，以及

其中，所述框架配置成由插置在所述框架与所述承载部之间的第一球构件支撑在所述承载部的平行于所述光轴方向的侧表面上。

2.根据权利要求1所述的相机模块，其特征在于，在驱动光学图像防抖致动器期间，连续地保持所述承载部的所述侧表面和所述框架的与所述承载部的所述侧表面相对的侧表面之间的间隙的尺寸。

3.根据权利要求1所述的相机模块，其特征在于，所述框架能够相对于所述承载部在垂直于所述光轴方向的第一方向上移动。

4.根据权利要求3所述的相机模块，其特征在于，所述相机模块还包括第一磁体，所述第一磁体设置在所述框架的与所述承载部的所述侧表面相对的侧表面上。

5.根据权利要求4所述的相机模块，其特征在于，所述第一磁体被磁化成在所述第一方向上具有N极和S极。

6.根据权利要求5所述的相机模块，其特征在于，所述相机模块还包括第一线圈，所述第一线圈设置在所述壳体中以与所述第一磁体相对。

7.根据权利要求6所述的相机模块，其特征在于，所述第一线圈包括在所述第一方向上顺序设置的至少两个第一线圈。

8.根据权利要求7所述的相机模块，其特征在于，所述第一磁体包括至少两对N极和S极，以及

其中，所述至少两个第一线圈中的每一个设置成与所述至少两对N极和S极之中的相应的一对N极和S极相对。

9.根据权利要求6所述的相机模块，其特征在于，所述相机模块还包括第一磁轭，所述第一磁轭设置在所述壳体中，使得与所述第一磁体的吸引力作用在所述第一线圈的与所述第一磁体相对的后表面上。

10.根据权利要求1所述的相机模块，其特征在于，所述透镜支架由第二球构件支撑，所述第二球构件插置在所述透镜支架和所述框架在所述光轴方向上的相对表面之间。

11.根据权利要求1所述的相机模块，其特征在于，第二磁体设置在所述透镜支架的侧表面上，并且第二线圈设置在所述壳体中以与所述第二磁体相对，以及

其中，所述第二磁体包括相对于光轴彼此相对设置的一对磁体，以及所述第二线圈包括相对于所述光轴彼此相对设置的一对线圈。

12.根据权利要求1所述的相机模块，其特征在于，所述承载部由第三球构件支撑，所述第三球构件插置在所述承载部和所述壳体的平行于所述光轴方向的侧表面之间。

13.根据权利要求12所述的相机模块，其特征在于，所述第一球构件和所述第三球构件设置在相对于光轴的相对位置。

14.根据权利要求12所述的相机模块，其特征在于，所述相机模块还包括设置在所述承载部的另一侧表面上的第三磁体以及设置在所述壳体中以与所述第三磁体相对的第三线圈。

15.根据权利要求14所述的相机模块，其特征在于，所述第三磁体被磁化，使得与所述第三线圈相对的表面在所述光轴方向上具有N极和S极。

16.相机模块，其特征在于，所述相机模块包括：

盒形壳体；

承载部，设置在所述盒形壳体内并且能够在光轴方向上移动；

框架，设置在所述承载部上；

透镜模块，设置在所述承载部内并且能够在垂直于所述光轴方向的方向上移动，所述透镜模块包括透镜镜筒和透镜支架，所述透镜支架设置在所述框架上；

第一线圈和第三线圈，分别设置在相对于光轴的第一相对侧和第三相对侧上；

第二线圈和第四线圈，分别设置在相对于所述光轴的第二相对侧和第四相对侧上；

第一磁轭，设置在所述第一线圈的后表面上，使得通过与所述承载部上的、与所述第一线圈相对的第一磁体的吸引力而将所述承载部支撑在所述盒形壳体的侧表面上；以及

第三磁轭，设置在所述第三线圈的后表面上，使得通过与所述框架上的、与所述第三线圈相对的第三磁体的吸引力而将所述框架支撑在所述承载部的侧表面上，

其中，球构件分别插置在所述承载部和所述盒形壳体之间以及所述框架和所述承载部之间，以及

其中，所述透镜支架包括分别与所述第二线圈和所述第四线圈相对的第二磁体和第四磁体。

17.根据权利要求16所述的相机模块，其特征在于，所述第一磁体被磁化成在所述光轴方向上具有N极和S极，所述第三磁体被磁化成在垂直于所述光轴的第一方向上具有N极和S极，以及所述第二磁体和所述第四磁体被磁成为在垂直于所述光轴和所述第一方向两者的第二方向上具有N极和S极。

18.根据权利要求16所述的相机模块，其特征在于，所述第一线圈和所述第三线圈分别设置在所述盒形壳体的第一相对侧表面和第三相对侧表面上，并且所述第二线圈和所述第四线圈分别设置在所述盒形壳体的第二相对侧表面和第四相对侧表面上。

19.根据权利要求16所述的相机模块，其特征在于，所述第一线圈和所述第一磁体配置成彼此相互作用，以在所述光轴方向上移动所述承载部。

20.根据权利要求16所述的相机模块，其特征在于，所述第二线圈和所述第二磁体配置成彼此相互作用，以在垂直于所述光轴的方向之中的第一方向上移动所述透镜模块，所述第三线圈和所述第三磁体配置成彼此相互作用，以在垂直于所述光轴的方向之中的第二方向上移动所述透镜模块，并且所述第四线圈和所述第四磁体配置成彼此相互作用，以在所述第一方向上移动所述透镜模块。

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