TWM545928U - 雙鏡頭攝像模組 - Google Patents

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TWM545928U
TWM545928U TW105217580U TW105217580U TWM545928U TW M545928 U TWM545928 U TW M545928U TW 105217580 U TW105217580 U TW 105217580U TW 105217580 U TW105217580 U TW 105217580U TW M545928 U TWM545928 U TW M545928U
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TW
Taiwan
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lens
module
dual
camera module
sets
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TW105217580U
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English (en)
Inventor
Ying-Chun Huang
Yu-Chia Chen
Shih-Chan Wen
Hsieh-Jen Chuang
Te-Pao Ho
Original Assignee
Powergate Optical Inc
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雙鏡頭攝像模組
本創作是關於一種雙鏡頭攝像模組,尤指一種運用雙鏡頭做為光學取景的來源並透過電磁的方式達到光學變焦或對焦以及防手震功能的雙鏡頭電磁驅動模組。
由於科技的進步,使得數位相機的體積日益縮小,而目前眾多小型電子裝置,如行動電話,幾乎都建置有數位攝像之功能,這些都歸功於鏡頭模組之微小化。然而,現今所採用的微型鏡頭普遍被使用最多的是音圈馬達(VCM),其利用線圈、磁鐵以及彈片的組合,以承載一鏡頭於攝像光軸方向進行前後移動,以達到自動對焦或變焦的功能,且對於攝像品質及功能的要求也逐漸提高,例如:千萬畫素、防手震等功能,更以區隔高階相機與低階的不同。
在一個由鏡頭模組以及影像補償模組所構成的光學系統中,例如相機或攝影機等之光學系統,常會因為外力因素或是手持相機或攝影機時的抖動,而造成光路徑的震動偏移並使得影像補償模組上的成像不穩定,進而導致所拍攝到的影像模糊不清。最常見的解決方式,就是對此類因震動所造成的影像模糊現象提供一補償機制,來使所擷取到的影像清晰化,而此種補償機制可以是數位補償機制或是光學補償機制。
所謂的數位補償機制,就是對影像補償模組所擷取到的數位影像資料進行分析與處理,以獲得較為清晰的數位影像,這樣的方式也常被稱為數位防震機制。至於光學補償機制,則通常是在光學透鏡組或是影像補償模組上設置震動補償裝置而這樣的方式也常被稱為光學防震機制。 然而,目前已知的光學防震機制內所利用之電磁線圈、或是音圈馬達(VCM)中所包含的線圈,都必須透過焊接的方式與彈性元件或是軟性(或硬性)電路板相互電性連接。
因此,目前市面上雙鏡頭模組在防手震驅動模組上常會遇到因為兩鏡頭模組設置距離太近,導致兩鏡頭模組各別具有的電磁驅動模組相互產生磁力干擾。而若無法將兩鏡頭模組緊密排列,也就無法有效運用空間。如何在設計上減少相互電磁干擾,使兩鏡頭模組能緊密貼合,就成為業者所要研發改良的重點。
本創作的主要目的是在於提供一種雙鏡頭攝像模組,其第一、第二鏡頭模組之電磁驅動模組之線圈的設置範圍不會同時設置涵蓋至兩者之連接面端以避免電磁干擾。
為達上述之目的,本創作之雙鏡頭攝像模組,係包括有:一第一鏡頭模組、以及一第二鏡頭模組,其各別具有一攝像光軸。該第一鏡頭模組係包括:一殼體、一彈性元件、一鏡頭、一電磁驅動模組、以及一底座所構成;其中,該彈性元件係將該鏡頭彈性固定於該殼體與該底座所結合構成之一容置空間中,透過設置於該容置空間內之該電磁驅動模組控制該鏡頭進行軸向運動或是傾斜角調整運動。該第二鏡頭模組係包括:一殼體、一彈性元件、一鏡頭、一電磁驅動模組、以及一底座所構成;其中,該彈性元件係將該鏡頭彈性固定於該殼體與該底座所結合構成之一容置空間中,透過設置於該容置空間內之該電磁驅動模組控制該鏡頭模組進行軸向運動或是傾斜角調整運動。該第一、第二鏡頭模組係相連接且具有一連接面,其特徵在於:各別之該第一、第二鏡頭模組之該電磁驅動模組之設置範圍不能同時設置涵蓋至該連接面端以避免電磁干擾。
1、1a、1b、1c、1d、1e、1f、2、3‧‧‧雙鏡頭攝像模組
11、11b‧‧‧第一鏡頭模組
12‧‧‧第二鏡頭模組
11a‧‧‧第一鏡頭模組(自動對焦馬達AF)
111‧‧‧殼體
1111‧‧‧穿孔
112‧‧‧彈性元件
1121‧‧‧彈性固定端
113‧‧‧鏡頭
1131‧‧‧透鏡組
1132‧‧‧鏡頭承載座
11321‧‧‧固定凸塊
11322‧‧‧固定槽
114‧‧‧電磁驅動模組
114a‧‧‧電磁驅動模組(自動對焦馬達)
1141、1141a、1141b‧‧‧主磁石
1142、1142b‧‧‧副磁石
1143、1143a、1143b‧‧‧驅動線圈
11431‧‧‧印刷電路板
11432‧‧‧穿孔
11433‧‧‧線圈
11434‧‧‧盲孔
115‧‧‧底座
1151‧‧‧容置空間
1152‧‧‧固定端
1153‧‧‧嵌槽
20‧‧‧第一鏡頭模組
21‧‧‧上蓋板
22‧‧‧上彈性元件
23‧‧‧鏡頭
231‧‧‧透鏡組
232‧‧‧鏡頭承載座
2321‧‧‧嵌槽
24‧‧‧下彈性元件
25、35‧‧‧電磁驅動模組
251、351‧‧‧磁石
252、352‧‧‧驅動線圈
26‧‧‧底座
261‧‧‧容置空間
262‧‧‧固定槽
27‧‧‧下蓋板
41‧‧‧感測器
42‧‧‧VCM基座
421‧‧‧貫孔
5‧‧‧影像感測元件
6‧‧‧外部電路
7‧‧‧軟性電路板
71‧‧‧導電接腳
8‧‧‧配重件
91、92‧‧‧攝像光軸
100‧‧‧連接面
圖一A係為本創作雙鏡頭攝像模組之電磁驅動模組配置第一較佳 實施例示意圖。
圖一B係為本創作雙鏡頭攝像模組之電磁驅動模組配置第二較佳實施例示意圖。
圖一C係為本創作雙鏡頭攝像模組之電磁驅動模組配置第三較佳實施例示意圖。
圖二係為本創作雙鏡頭攝像模組之俯視示意圖。
圖三係為本創作雙鏡頭攝像模組之A-A剖面示意圖。
圖四係為本創作雙鏡頭攝像模組之立體分解示意圖。
圖五A係為本創作雙鏡頭攝像模組之鏡頭承載座與主、副磁石第一較佳實施例之側視配置示意圖。
圖五B係為本創作雙鏡頭攝像模組之鏡頭承載座與主、副磁石第二較佳實施例之側視配置示意圖。
圖五C係為本創作雙鏡頭攝像模組之鏡頭承載座與主磁石第三較佳實施例之側視配置示意圖。
圖六A係為本創作雙鏡頭攝像模組之驅動線圈第一較佳實施例立體分解示意圖。
圖六B係為本創作雙鏡頭攝像模組之驅動線圈第二較佳實施例立體分解示意圖。
圖六C係為本創作雙鏡頭攝像模組之驅動線圈第三較佳實施例立體分解示意圖。
圖七A係為本創作雙鏡頭攝像模組之驅動線圈以及軟性電路板與底座之立體分解示意圖。
圖七B係為本創作雙鏡頭攝像模組之驅動線圈以及軟性電路板與底座之立體組合示意圖。
圖八係為本創作雙鏡頭攝像模組第一較佳實施例其中之第一鏡頭模組之立體分解透視示意圖。
圖九係為本創作雙鏡頭攝像模組第二較佳實施例其中之第一鏡頭模組之立體分解透視示意圖。
圖十A係為本創作雙鏡頭攝像模組第三較佳實施例其中之第一鏡頭模組之立體分解示意圖。
圖十B係為本創作雙鏡頭攝像模組第三較佳實施例之電磁驅動模組配置示意圖。
圖十一A係為本創作雙鏡頭攝像模組第四較佳實施例其中之第一鏡頭模組之立體分解示意圖。
圖十一B係為本創作雙鏡頭攝像模組第四較佳實施例其中之第一鏡頭模組之剖面示意圖。
圖十二A係為本創作雙鏡頭攝像模組第五較佳實施例其中之第一鏡頭模組之立體分解示意圖。
圖十二B係為本創作雙鏡頭攝像模組第五較佳實施例其中之第一鏡頭模組之剖面示意圖。
圖十三A係為本創作雙鏡頭攝像模組第六較佳實施例其中之第一鏡頭模組之立體分解示意圖。
圖十三B係為本創作雙鏡頭攝像模組第六較佳實施例其中之第一鏡頭模組之剖面示意圖。
圖十四係為本創作雙鏡頭攝像模組第七較佳實施例之電磁驅動模組配置示意圖。
圖十五A為本創作雙鏡頭攝像模組第八較佳實施例其中之第一鏡頭模組之立體分解示意圖。
圖十五B為本創作雙鏡頭攝像模組第八較佳實施例其中之第一鏡頭模組之剖面示意圖。
圖十五C為本創作雙鏡頭攝像模組第八較佳實施例其中之第一鏡頭模組之電磁驅動模組立體分解示意圖。
圖十六A為測試兩組平移式動圈防手震鏡頭模組(OIS)的相互影響之傾角變化圖。
圖十六B為測試兩組平移式動圈防手震鏡頭模組(OIS)的相互影響之光軸中心偏移圖。
圖十七A為測試一般動圈式自動對焦馬達(AF)與平移式動圈防手震鏡頭模組(OIS)的相互影響之傾角變化圖。
圖十七B為測試一般動圈式自動對焦馬達(AF)與平移式動圈防手震鏡頭模組(OIS)的相互影響之光軸中心偏移圖。
圖十八A為本創作雙鏡頭攝像模組第三較佳實施例其中之第一鏡頭模組設計配置一(AF)與平移式動圈防手震鏡頭模組(OIS)的相互影響之傾角變化圖。
圖十八B為本創作雙鏡頭攝像模組第三較佳實施例其中之第一鏡頭模組設計配置一(AF)與平移式動圈防手震鏡頭模組(OIS)的相互影響之光軸中心偏移圖。
圖十九A為平移式動圈防手震鏡頭模組(OIS)對本創作雙鏡頭攝像模組第三較佳實施例其中之第一鏡頭模組設計配置二(AF)之傾角變化圖。
圖十九B為平移式動圈防手震鏡頭模組(OIS)對本創作雙鏡頭攝像模組第三較佳實施例其中之第一鏡頭模組設計配置二(AF)之光軸中心偏移圖。
圖二十A為平移式動圈防手震鏡頭模組(OIS)對本創作雙鏡頭攝像模組第八較佳實施例其中之第一鏡頭模組設計配置三(AF)之傾角變化圖。
圖二十B為平移式動圈防手震鏡頭模組(OIS)對本創作雙鏡頭攝像模組第八較佳實施例其中之第一鏡頭模組設計配置三(AF)之光軸中心偏移圖。
為了能更清楚地描述本創作所提出之雙鏡頭攝像模組,以下將配合圖式詳細說明之。
請參閱圖一A、圖一B、圖一C、圖二、圖三、圖四所示,其中,圖一A係為本創作雙鏡頭攝像模組之電磁驅動模組配置第一較佳實施例示意圖。圖一B係為本創作雙鏡頭攝像模組之電磁驅動模組配置第二較佳實施例示意圖。圖一C係為本創作雙鏡頭攝像模組之電磁驅動模組配置第三較佳實施例示意圖。圖二係為本創作雙鏡頭攝像模組之俯視示意圖。圖三係為本創作雙鏡頭攝像模組之A-A剖面示意圖。圖四係為本創作雙鏡頭攝像模組之立體分解示意圖。
於本實施例中,本創作雙鏡頭攝像模組1是由大小、結構與電路均完全相同之一第一鏡頭模組11以及一第二鏡頭模組12兩者所並排組合構成;其中,該第一、第二鏡頭模組11、12係分別各具有一攝像光軸91、92。該第一鏡頭模組11係包括:一殼體111、一彈性元件112、一鏡頭113、一電磁驅動模組114、以及一底座115所構成。該第二鏡頭模組12之結構係與該第一鏡頭模組11的結構相同,故此就不再詳加贅述(於圖四僅詳述第一鏡頭模組分解示意圖)。該彈性元件112係將該鏡頭113彈性固定於該殼體111與該底座115所結合構成之一容置空間1151中,透過設置於該容置空間1151內之該電磁驅動模組114控制該鏡頭113進行沿該攝像光軸91前後軸向位移及/或偏擺傾斜(Tilt)之運動。由於該第一及第二鏡頭模組11、12兩者是並排組合在一起,所以,該第一鏡頭模組11與該第二鏡頭模組12兩者鄰靠的面就稱為連接面100。於圖一A所示之第一較佳實施例中,藉由將該第二鏡頭模組12旋轉180度與該第一鏡頭模組11相互連接,使各別之該第一、第二鏡頭模組11、12之該電磁驅動模組114之設置範圍不能同時設置涵蓋至該連接面100端,以避免電磁干擾。
也就是說,如圖一A所示,該第一鏡頭模組11之電磁驅動模組114與該第二鏡頭模組12之電磁驅動模組114兩者所設置範圍都沒有涵蓋至該連接面100端,所以,至少在該第一鏡頭模組11的該連接面100處並未設置任何線圈或磁石,因此,該第一鏡頭模組11與該第二鏡頭模組12在鄰接的該連接面100處相互不會產生電磁干擾。
如圖一B所示,該第一鏡頭模組11與該第二鏡頭12模組之該連接面100端僅有該第二鏡頭模組12之該電磁驅動模組114有被設置,而該第一鏡頭模組11則無設置任何線圈或磁石在該連接面100處。換句話說,該第二鏡頭模組12之該電磁驅動模組114之設置範圍有涵蓋至該連接面100端,而第一鏡頭模組11之該電磁驅動模組114之設置範圍則沒有涵蓋至該連接面100端,故該第一鏡頭模組11與該第二鏡頭12模組兩者的電磁驅動模組114在該連接面100處也不會相互產生電磁干擾。
如圖一C所示,該第一鏡頭模組11與該第二鏡頭12模組之該連接面100端僅有該第二鏡頭模組12之該電磁驅動模組114設置覆蓋,而該第一鏡頭模組12則無,換句話說,該第二鏡頭模組12之該電磁驅動模組114 之設置範圍有涵蓋至該連接面100端,而第一鏡頭模組11之該電磁驅動模組114之設置範圍則沒有涵蓋至該連接面100端,故相互也不會產生電磁干擾。
如圖四所示,該殼體111係具有一穿孔1111。該底座115係提供該殼體111結合於該底座115之上,並於中央處形成一容置空間1151。也就是說,該底座115係為一框體,並於該底座115四個角落上分別設有一固定端1152用以分別卡合固定該彈性元件112。
該彈性元件112係可以是金屬材質且呈一鏤空薄片狀(簧片狀)結構之彈性片體,透過機械沖壓成形或蝕刻的方式製成。該彈性元件112於週緣平均延伸有四個彈性固定端1121,且分別提供該底座115四個角落上的該固定端1152進行卡合固定,進而將該鏡頭113中央彈性固定於該容置空間1151之中。
該鏡頭113係設置於該容置空間1151內,並保持於該攝像光軸91之上,且懸吊於該殼體111與該底座115所形成之該容置空間1151內而可在底座115內沿該攝像光軸91方向前後移動,並透過該殼體111上之該穿孔1111沿著該攝像光軸91對外進行攝像之擷取。
該鏡頭113更包括有:一透鏡組1131、以及一鏡頭承載座1132。該攝像光軸91就是透鏡組1131的聚焦光軸。其中,於該透鏡組1131係設置於該鏡頭承載座1132中央處,並與該鏡頭承載座1132呈同步位移。該鏡頭承載座1132外圍更包括一固定凸塊11321用以固定該彈性元件112,可將該彈性元件112固定於該鏡頭承載座1132外圍,且使彈性元件112在攝像光軸91方向上大致位於鏡頭承載座1132的中間位置附近。
請參閱圖五A~圖五C所示,圖五A係為本創作雙鏡頭攝像模組之鏡頭承載座與主、副磁石第一較佳實施例之側視配置示意圖。圖五B係為本創作雙鏡頭攝像模組之鏡頭承載座與主、副磁石第二較佳實施例之側視配置示意圖。圖五C係為本創作雙鏡頭攝像模組之鏡頭承載座與主磁石第三較佳實施例之側視配置示意圖。
該電磁驅動模組114係分別包括兩組上、下對稱的主磁石1141、至少一組相鄰之副磁石1142、以及三組驅動線圈1143。兩組上、下對稱的主磁石1141以及相鄰之副磁石1142係嵌附於該鏡頭承載座1132連續三個90度相鄰之表面週緣之一固定槽11322上,而分別對應設置於該底座115 三個嵌槽1153內之該三組驅動線圈。本創作雙鏡頭攝像模組1之該第一、第二鏡頭模組11、12的該電磁驅動模組114之分別兩組上、下對稱的主磁石1141其極性相反為N/S或S/N。值得注意的是,特別針對該第一鏡頭模組11來說,其在該連接面100處是沒有設置任何主磁石、副磁石、或驅動線圈的。因此,當將第一與第二鏡頭模組11、12兩者並排組合後,該第一鏡頭模組11的電磁驅動模組114,由於在其連接面100處是沒有設置任何主磁石、副磁石、或驅動線圈,所以在進行鏡頭113之變焦、對焦或是防手震操作時,該第一鏡頭模組11的電磁驅動模組114都不會對第二鏡頭模組12的電磁驅動模組114的運作產生任何干擾。
如圖五A所示,其中,位於該副磁石1142的對邊,也就是在該鏡頭承載座1132上對應於該副磁石1142的對邊處設置有一配重件8,用以使該鏡頭承載座1132配重均勻懸吊於該底座115之該容置空間1151內。如圖五B所示,其中,該第一、第二鏡頭模組11、12之該電磁驅動模組114係包括兩組上、下對稱的副磁石1142設置於該鏡頭承載座1132之該固定槽11322上。如圖五C所示,該第一、第二鏡頭模組11、12之該電磁驅動模組114之該主磁石1141也可以是單顆雙極性之磁石。
圖六A係為本創作雙鏡頭攝像模組之驅動線圈第一較佳實施例立體分解示意圖。圖六B係為本創作雙鏡頭攝像模組之驅動線圈第二較佳實施例立體分解示意圖。圖六C係為本創作雙鏡頭攝像模組之驅動線圈第三較佳實施例立體分解示意圖。
如圖六A所示,其中,該三組驅動線圈1143係分別可以是一印刷電路板11431以一穿孔11432埋入一線圈11433並電性連接所構成、或是如圖六B所示,該印刷電路板11431以一盲孔11434埋入該線圈11433並電性連接所構成、又或是如圖六C所示,該印刷電路板11431將該線圈11433直接貼合並電性連接所構成其中之一。
圖七A係為本創作雙鏡頭攝像模組之驅動線圈以及軟性電路板與底座之立體分解示意圖。圖七B係為本創作雙鏡頭攝像模組之驅動線圈以及軟性電路板與底座之立體組合示意圖。
如圖七A~圖七B所示,其中,該三組驅動線圈1143係分別焊接固定於一軟性電路板7(FPCB)上並相互電性連接,而該軟性電路板7 上具有複數個導電接腳71,當該三組驅動線圈1143分別崁入於該底座115之三個嵌槽1153中時,進一步該軟性電路板7則固定於該底座115外緣之上,且令該複數個導電接腳71可與具有一影像感測元件5之一外部電路6進行電性連接,並透過該影像感測元件5經由該鏡頭113對外界擷取影像,且藉由該外部電路6分別控制三組該驅動線圈1143電流大小或方向;其中,該外部電路6可以是手機、平板電腦、筆記型電腦等等...外部控制電路其中之一。
對於圖四來說,該雙鏡頭攝像模組1係定義有相互垂直之一X軸、一Y軸以及一Z軸方向,且該Z軸係平行於該攝像光軸91。倘若該鏡頭113於X軸上有傾斜角偏差,可各別針對X軸所對應之磁石,也就是該上、下端主磁石1141以及另一端所對應之該上、下端主磁石1141透過所分別對應之兩驅動線圈1143經輸入電流並帶動該鏡頭承載座1132於X軸方向進行傾斜角修正,達到抗手震補償誤差之目的;相對地,倘若該鏡頭113於Y軸上有傾斜角偏差,可各別針對Y軸所對應之副磁石1142,透過所分別對應之驅動線圈1143經由輸入電流並帶動該鏡頭承載座1132於Y軸方向進行傾斜角修正,同樣可達到修正手震補償誤差之目的。
此外,藉由輸入電流方向大小控制該第一鏡頭模組11之該兩組相對應的驅動線圈1143可驅動二組對應之上、下端主磁石1141帶動該鏡頭承載座1132受到該彈性元件112所限制呈Z軸方向彈性活動於該容置空間1151之中,也就是藉由該彈性元件112本身之彈力可提供該鏡頭承載座1132於該容置空間1151內沿著該攝像光軸91方向前後移動一預設距離,並透過控制輸入電流就可以達到令該鏡頭113連續對焦或變焦的目的。
以下所述之本創作其他較佳實施例中,因大部份的元件係相同或類似於前述實施例,故相同之元件與結構以下將不再贅述,且相同之元件將直接給予相同之名稱及編號,並對於類似之元件則給予相同名稱但在原編號後另增加一英文字母以資區別且不予贅述,合先敘明。
請參閱圖八所示,圖八係為本創作雙鏡頭攝像模組第一較佳實施例其中之第一鏡頭模組之立體分解透視示意圖。本創作之第一較佳實施例的雙鏡頭攝像模組與前述實施例之不同點在於,本創作第一較佳實施例之雙鏡頭攝像模組2之該第一鏡頭模組20係包括:一上蓋板21、一上彈性元件22、一鏡頭23、一下彈性元件24、一電磁驅動模組25、一底座26、以 及下蓋板27所構成。該鏡頭23更包括:一透鏡組231以及一鏡頭承載座232。該電磁驅動模組25更包括:至少三組磁石251、以及至少三組驅動線圈252。
其中,該上蓋板21與該下蓋板27係分別將該上彈性元件22以及該下彈性元件24彈性固定於該底座26之上、下兩端面上,且進一步令該上彈性元件22以及該下彈性元件24中央處所夾合固定之該鏡頭承載座232懸吊於該底座26中央之一容置空間261內。三組磁石251係分別為雙極磁石且分別嵌附於該底座26連續三個90度相鄰之表面週緣之一固定槽262上,而分別對應設置於該鏡頭承載座232外圍所對應之至少三個嵌槽2321內之該三組驅動線圈252,經由分別針對該三組驅動線圈252輸入電流並帶動該鏡頭承載座232於進行傾斜角修正或是連續對焦的目的。
請參閱圖九所示,圖九係為本創作雙鏡頭攝像模組第二較佳實施例其中之第一鏡頭模組之立體分解透視示意圖。本創作之第二較佳實施例的雙鏡頭攝像模組與前述圖八第一較佳實施例之不同點在於,本創作第二較佳實施例之雙鏡頭攝像模組3,其中,該電磁驅動模組35更包括:至少三組磁石351、以及至少三組驅動線圈352。於本創作第二較佳實施例中,該電磁驅動模組35之該驅動線圈352係為內含有一線圈之印刷電路板(PCB),且該三組磁石351係分別為雙極磁石。
請參閱圖十A、圖十B所示,圖十A係為本創作雙鏡頭攝像模組第三較佳實施例其中之第一鏡頭模組之立體分解示意圖。圖十B係為本創作雙鏡頭攝像模組第三較佳實施例之電磁驅動模組配置示意圖。本創作之第三較佳實施例的雙鏡頭攝像模組與前述圖四之實施例不同點在於,圖四係為開放式迴路(無霍爾元件”Hall Sensor”)之雙鏡頭攝像模組,而本創作第三較佳實施例之雙鏡頭攝像模組1a係為封閉式迴路(含霍爾元件”Hall Sensor”),其中,於本實施例中該第一鏡頭模組11a係為僅具有自動對焦或變焦功能、但不具有防手震功能之鏡頭模組,且該第一鏡頭模組11a之該電磁驅動模組114a是一自動對焦馬達(AF),其係包括:兩組上、下對稱的主磁石1141a、以及二組驅動線圈1143a;其中,兩組上、下對稱的主磁石1141a係嵌附於該鏡頭承載座1132相對應之表面週緣之一固定槽11322上,而分別對應設置於該底座115二個嵌槽1153內之該二組驅動線圈1143a。
而本創作第三較佳實施例之雙鏡頭攝像模組1a之該第一鏡 頭模組11a(自動對焦馬達AF)其更包括:一感測器41(Hall Sensor)、一VCM基座42、一影像感測元件5、以及一外部電路6。其中,該影像感測元件5係設置於該外部電路6之上並與該外部電路6做電性連接,而該VCM基座42則覆蓋於該影像感測元件5之上,該影像感測元件5透過該VCM基座42上之一貫孔421經由該鏡頭113對外進行影像之擷取。該感測器41(霍爾元件”Hall Sensor”)則設置於該驅動線圈1143a之該印刷電路板11431之上,並與該印刷電路板11431電性連接(參考圖六C所示)。該第一鏡頭模組11a(自動對焦馬達AF)可搭配任何動磁式或動圈式的該第二鏡頭模組12組合成雙鏡頭攝像模組1a。換句話說,該第一鏡頭模組11a(自動對焦馬達AF)係可以是包含該感測器41之一封閉式迴路、或是不包含該感測器41之一開放式迴路其中之一。
請參閱圖十一A、圖十一B所示,圖十一A係為本創作雙鏡頭攝像模組第四較佳實施例其中之第一鏡頭模組之立體分解示意圖。圖十一B係為本創作雙鏡頭攝像模組第四較佳實施例其中之第一鏡頭模組之剖面示意圖。本創作之第四較佳實施例的雙鏡頭攝像模組與前述圖十A、圖十B之第三較佳實施例不同點在於,本創作第四較佳實施例之雙鏡頭攝像模組1b係為封閉式迴路I,該第一鏡頭模組11b之該電磁驅動模組114b係分別包括兩組上、下對稱的主磁石1141b、至少一組相鄰之副磁石1142b、以及三組驅動線圈1143b。該感測器41(Hall Sensor)同樣設置於該驅動線圈1143b之該印刷電路板11431之上,並與該印刷電路板11431相互電性連接。
請參閱圖十二A、圖十二B所示,圖十二A係為本創作雙鏡頭攝像模組第五較佳實施例其中之第一鏡頭模組之立體分解示意圖。圖十二B係為本創作雙鏡頭攝像模組第五較佳實施例其中之第一鏡頭模組之剖面示意圖。本創作之第五較佳實施例的雙鏡頭攝像模組與前述圖十一A、圖十一B之第四較佳實施例不同點在於,本創作第五較佳實施例之雙鏡頭攝像模組1c係為封閉式迴路II,其中,該感測器41(Hall Sensor)係設置於該VCM基座42上,並與該VCM基座42相互電性連接。
請參閱圖十三A、圖十三B所示,圖十三A係為本創作雙鏡頭攝像模組第六較佳實施例其中之第一鏡頭模組之立體分解示意圖。圖十三B係為本創作雙鏡頭攝像模組第六較佳實施例其中之第一鏡頭模組之剖 面示意圖。本創作之第六較佳實施例的雙鏡頭攝像模組與前述圖十二A、圖十二B之第五較佳實施例不同點在於,本創作第六較佳實施例之雙鏡頭攝像模組1d係為封閉式迴路Ⅲ,其中,該感測器41(Hall Sensor)係直立或平放設置於該外部電路6之上,並與該外部電路6相互電性連接。
請參閱圖十四所示,圖十四係為本創作雙鏡頭攝像模組第七較佳實施例之電磁驅動模組配置示意圖。本創作之第七較佳實施例的雙鏡頭攝像模組與前述圖四之實施例不同點在於,本創作第七較佳實施例之雙鏡頭攝像模組1e之該第二鏡頭模組12係可以設定為任一防手震結構,包括結構相同的第一鏡頭模組11、或是一動磁式防手震鏡頭模組、或是一動圈式防手震鏡頭模組其中之一。也就是說,該第一鏡頭模組11與該第二鏡頭模組12之該連接面100端最多被該第二鏡頭模組12之該電磁驅動模組114所覆蓋,而該第一鏡頭模組11之該電磁驅動模組114則無,故該第二鏡頭模組12無論換成任何形式之防手震鏡頭模組也均與該第一鏡頭模組11相互不會產生電磁干擾。
請參閱圖十五A、圖十五B、圖十五C所示,圖十五A為本創作雙鏡頭攝像模組第八較佳實施例其中之第一鏡頭模組之立體分解示意圖。圖十五B為本創作雙鏡頭攝像模組第八較佳實施例其中之第一鏡頭模組之剖面示意圖。圖十五C為本創作雙鏡頭攝像模組第八較佳實施例其中之第一鏡頭模組之電磁驅動模組立體分解示意圖。本創作之第八較佳實施例的雙鏡頭攝像模組與前述圖十A、圖十B之第三較佳實施例不同點在於,本創作第八較佳實施例之雙鏡頭攝像模組1f之該電磁驅動模組114a之主磁石1141a係可以是單極磁石或是雙極磁石其中之一。
其中,當該電磁驅動模組114a之主磁石1141a係為兩組上、下對稱的單極磁石時,同樣位於上側相對應之兩主磁石1141a朝向線圈11433側之磁極係為相反N/S極性,相同的,位於下方相對應之另兩主磁石1141a朝向線圈11433側之極性也為之相反S/N排列;此外,位於如圖十五A所示之同一左側邊的上、下兩主磁石1141a朝向線圈11433側之磁極也是相反N/S極性,且位於如圖十五A所示之同一右側邊的上、下兩主磁石1141a朝向線圈11433側之磁極也是相反S/N極性。
同理,當該電磁驅動模組114a之主磁石1141a係為兩雙極磁 石時,該兩相對應主磁石1141a位於上方的磁極於朝向線圈11433側設為相反,為一側為N極、一側為S極,另,其下方磁極朝向線圈11433側設為一側為S極、一側為N極所以也是相反。
一般市售常見的光學防手震鏡頭模組有兩種結構方式,也就是動磁式或動圈式。較常見的為磁體固定的動圈結構,而動圈式之磁體皆固定於外側,多為雙極平板磁石及雙極四邊角落磁石的配置,每組電磁驅動系統的磁極方向都相同,位於上方磁石極性均為同一極性(N極或S極),且位於下方磁極方向也一致。由於雙鏡頭攝像模組必須靠近取相,因此磁場會過於靠近產生相互的干擾。
以下將進一步分析雙鏡頭光學防手震鏡頭模組彼此傾角變化及光軸中心位移的影響,採用的防手震鏡頭模組為平板磁石動圈式結構,測試模擬數據如以下所示:請參閱圖十六A、圖十六B所示,圖十六A為測試兩組市售習知之平移式動圈防手震鏡頭模組(OIS)的相互影響之傾角變化圖。圖十六B為測試兩組市售習知之平移式動圈防手震鏡頭模組(OIS)的相互影響之光軸中心偏移圖。於圖十六A中,橫軸(X軸)的數值是兩個鏡頭模組之間的間距值(單位為mm),當間距為0時表示兩個鏡頭模的側面是貼靠在一起;而縱軸(Y軸)的數值是其中之一鏡頭模組的鏡頭會因為另一鏡頭模組之磁石的磁力而被拉或推所導致的鏡頭傾角(Tilt)的角度變化,單位為「分」。於圖十六B中,橫軸(X軸)的數值與圖十六A相同;而縱軸(Y軸)的數值是其中之一鏡頭模組的鏡頭會因為另一鏡頭模組之磁石的磁力而被拉或推所導致的鏡頭光軸中心平移的距離變化,單位為μm。測試結果:無論在傾角變化或是光軸位移的表現上影響的數值相當大。兩顆防手震鏡頭模組間距離4.0mm位置有10分的角度;光軸也因此位移了88um。兩顆防手震鏡頭模組距離越近磁干擾的相互影響十分劇烈,放大間距到8mm位置,仍有干擾存在。在距離3mm處曲線變化開始轉折,表示機構已干涉達模組的空間極限。兩防手震鏡頭模組緊靠距離為零時,若非機構干涉傾角變化必定大於26分,光軸中心偏移也會超過180um。所以可知,市售習知之平移式動圈防手震鏡頭模組(OIS)並不適於被直接使用在雙鏡頭攝像模組上。
請參閱圖十七A、圖十七B所示,圖十七A為測試一般市售 習知動圈式自動對焦馬達(AF)鏡頭模組與市售習知平移式動圈防手震鏡頭模組(OIS)的相互影響之傾角變化圖。圖十七B為測試一般市售習知動圈式自動對焦馬達(AF)鏡頭模組與市售習知平移式動圈防手震鏡頭模組(OIS)的相互影響之光軸中心偏移圖。圖十七A、圖十七B的X軸於Y軸的定義分別與圖十六A、圖十六B相同。自動對焦馬達鏡頭模組的磁場結構(AF)設計為四個角落磁石結構,而平移式動圈防手震鏡頭模組(OIS)為四邊設計的平板磁石結構。兩鏡頭模組在相對距離6mm左右才得以避掉磁場干擾。兩鏡頭模組緊靠距離為零時,傾角變化4分,光軸中心因2mm處因機構干涉偏移160um,在沒有機構干涉下必定偏移量更大。因此,這樣的配置雖然有改善磁干擾現象,但兩鏡頭模組的間距必須相隔3mm以上,仍無法將兩鏡頭模組直接貼靠在一起使用。
有鑒於雙鏡頭攝像模組設計結構的習知案例技術,必定要增加磁場距離,改變磁場的大小、方向來避免干擾,故利用如圖十A所示之本創作雙鏡頭攝像模組第三較佳實施例之第一鏡頭模組設計做為如上述之自動對焦馬達鏡頭模組(AF)進行測試分析如下:請參閱十八A、圖十八B所示,圖十八A為本創作如圖十A所示之雙鏡頭攝像模組第三較佳實施例其中之第一鏡頭模組來當作如上述之自動對焦馬達鏡頭模組(AF)設計配置一,與市售習知之平移式動圈防手震鏡頭模組(OIS)的相互影響之傾角變化圖。圖十八B為本創作如圖十A所示之雙鏡頭攝像模組第三較佳實施例其中之第一鏡頭模組來當作如上述之自動對焦馬達鏡頭模組(AF)設計配置一,與市售習知之平移式動圈防手震鏡頭模組(OIS)的相互影響之光軸中心偏移圖。圖十八A、圖十八B的X軸於Y軸的定義分別與圖十六A、圖十六B相同。
測試結果:磁場設計配置一對於平移式動圈防手震鏡頭模組(OIS)干擾極低。兩鏡頭模組緊靠距離為零時,OIS光軸中心完全不受磁場影響,平移式動圈防手震鏡頭模組(OIS)受磁干擾傾角表現也降低至1分以下。但反觀本創作雙鏡頭攝像模組第三較佳實施例其中之第一鏡頭模組(亦即,AF)設計配置一被OIS影響12分的傾角。此配置平移式動圈防手震鏡頭模組(OIS)被干擾程度已大幅改善,只需再一步降低AF被干擾的程度。
想要降低磁場影響,不外乎改變主磁石的大小及磁力,因 此,磁場設計配置二將調整設計配置一實施例的主磁石長度;也就是說,設計配置二係依據磁場設計並根據設計配置一的配置設計,將主磁石長度縮小30%來看整個磁場型態的變化。
請參閱十九A、圖十九B所示,圖十九A為平移式動圈防手震鏡頭模組(OIS)對本創作如圖十A所示之雙鏡頭攝像模組第三較佳實施例其中之第一鏡頭模組(亦即AF)設計配置二之傾角變化圖。圖十九B為平移式動圈防手震鏡頭模組(OIS)對本創作如圖十A所示之雙鏡頭攝像模組第三較佳實施例其中之第一鏡頭模組(亦即AF)設計配置二之光軸中心偏移圖。圖十九A、圖十九B的X軸於Y軸的定義分別與圖十六A、圖十六B相同。結果如同預期般,當雙鏡頭於距離為零時,設計配置二(AF)傾角下降到6分,其光軸中心完全不受OIS磁場影響,表示縮小主磁石是快速有效改善避磁干擾的方式。
雖然,以上測試成果代表著磁場設計配置及改善方式是有效的,但修改主磁石尺寸有其極限,過度修改會面臨特性上的改變,造成推力衰減、行程不足等缺陷。本創作雙鏡頭攝像模組第八較佳實施例其中之第一鏡頭模組設計配置三(AF),保持其配置二的主磁石之尺寸,另採用改變磁場方向的方式(如圖十五A至圖十五C所示之實施例),達到避磁干擾的目的。
請參閱二十A、圖二十B所示,圖二十A為平移式動圈防手震鏡頭模組(OIS)對本創作如圖十五A至圖十五C所示之雙鏡頭攝像模組第八較佳實施例其中之第一鏡頭模組設計配置三(亦即AF)之傾角變化圖。圖二十B為平移式動圈防手震鏡頭模組(OIS)對本創作如圖十五A至圖十五C所示之雙鏡頭攝像模組第八較佳實施例其中之第一鏡頭模組設計配置三(AF)之光軸中心偏移圖。圖二十A、圖二十B的X軸於Y軸的定義分別與圖十六A、圖十六B相同。測試分析結果如下:將其磁場的方向改變成如圖十五A至圖十五C所示之雙鏡頭攝像模組第八較佳實施例的磁場設計配置後,於相對距離零的位置(AF)受影響的傾角變化降到1.6分,光軸中心完全不受OIS磁場干擾。
也就是說,配置三(AF)係依照本創作如圖十A所示之雙鏡頭攝像模組第三較佳實施例其中之第一鏡頭模組的配置,修改其主磁石尺寸 及改變磁場方向的做法來降低雙鏡頭的磁干擾。其中,該磁場是一種向量場,磁場在空間裡的任意位置都具有方向和數值大小,磁石與磁石之間,通過各自產生的磁場,互相施加作用力和力矩於對方。所以,本創作如圖十五A至圖十五C所示之雙鏡頭攝像模組第八較佳實施例其中之第一鏡頭模組設計配置三(AF)則是利用磁場具大小及方向性的原理轉化磁場的作用方向。
具體而言,將該鏡頭承載座1132位於上方的兩個該主磁石1141a朝向線圈側之磁極設為相反,其一側為N極、另一側則為S極,另外將下方的兩個主磁石1141a朝向線圈側之磁極設為一側為S極、另一側則為N極;此外,位於如圖十五A與圖十五C所示之同一左側邊的上、下兩主磁石1141a朝向線圈11433側之磁極也是相反N/S極性,且位於如圖十五A與圖十五C所示之同一右側邊的上、下兩主磁石1141a朝向線圈11433側之磁極也是相反S/N極性。在此一磁場設計配置狀態下,磁場能量內斂一致,使該鏡頭承載座1132保持平衡,也改變受磁場影響旋轉運動的方向,達到避磁干擾之最佳狀態。
綜上所述,本創作一種雙鏡頭攝像模組1,其各別具有一攝像光軸91、92,係包括有:一第一鏡頭模組11、以及一第二鏡頭模組12。該第一鏡頭模組11係包括:一殼體111、一彈性元件112、一鏡頭113、一電磁驅動模組114、以及一底座115所構成;其中,該彈性元件112係將該鏡頭113彈性固定於該殼體111與該底座115所結合構成之一容置空間1151中,透過設置於該容置空間1151內之該電磁驅動模組114控制該鏡頭113進行軸向運動。該第二鏡頭模組12之結構係與該第一鏡頭模組11相同。該第一、第二鏡頭模組11、12係相連接且具有一連接面100,其特徵在於:各別之該第一、第二鏡頭模組11、12之該電磁驅動模組114之設置範圍不能同時設置涵蓋至該連接面端100以避免電磁干擾。
唯以上所述之實施例不應用於限制本創作之可應用範圍,本創作之保護範圍應以本創作之申請專利範圍內容所界定技術精神及其均等變化所含括之範圍為主者。即大凡依本創作申請專利範圍所做之均等變化及修飾,仍將不失本創作之要義所在,亦不脫離本創作之精神和範圍,故都應視為本創作的進一步實施狀況。
1‧‧‧雙鏡頭攝像模組
11‧‧‧第一鏡頭模組
111‧‧‧殼體
1111‧‧‧穿孔
112‧‧‧彈性元件
1121‧‧‧彈性固定端
113‧‧‧鏡頭
1131‧‧‧透鏡組
1132‧‧‧鏡頭承載座
11321‧‧‧固定凸塊
11322‧‧‧固定槽
114‧‧‧電磁驅動模組
1141‧‧‧主磁石
1142‧‧‧副磁石
1143‧‧‧驅動線圈
115‧‧‧底座
1151‧‧‧容置空間
1152‧‧‧固定端
1153‧‧‧嵌槽
91‧‧‧攝像光軸
100‧‧‧連接面

Claims (19)

  1. 一種雙鏡頭攝像模組,包括有一第一鏡頭模組以及一第二鏡頭模組,該第一鏡頭模組與該第二鏡頭模組分別各具有一攝像光軸,並且,該第一鏡頭模組與該第二鏡頭模組係分別各包括有:一殼體、一彈性元件、一鏡頭、一電磁驅動模組、以及一底座;該彈性元件係將該鏡頭彈性固定於該殼體與該底座所結合構成之一容置空間中,透過設置於該容置空間內之該電磁驅動模組來驅動該鏡頭進行位移運動;其特徵在於:該第一、第二鏡頭模組係相連接且具有一連接面,各別之該第一、第二鏡頭模組之該電磁驅動模組之設置範圍不會同時設置涵蓋至該連接面處以避免電磁干擾。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之雙鏡頭攝像模組,其中,該鏡頭更包括有:一透鏡組、以及一鏡頭承載座;其中,於該透鏡組係設置於該鏡頭承載座中央處,並與該鏡頭承載座呈同步位移。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之雙鏡頭攝像模組,其中,該第一、第二鏡頭模組之該電磁驅動模組係分別包括兩組上、下對稱的主磁石、至少一組相鄰之副磁石、以及三組驅動線圈;其中,兩組上、下對稱的主磁石以及相鄰之副磁石係嵌附於該鏡頭承載座連續三個90度相鄰之表面週緣之一固定槽上,而分別對應設置於該底座三個嵌槽內之該三組驅動線圈。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之雙鏡頭攝像模組,其中,該第一、第二鏡頭模組之該電磁驅動模組之分別兩組上下對稱的主磁石其極性相反為N/S或S/N。
  5. 如申請專利範圍第3項所述之雙鏡頭攝像模組,其中,該第一鏡頭模組及該第二鏡頭模組兩者各別具有之該電磁驅動模組之設置範圍都沒有涵蓋至該連接面處。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之雙鏡頭攝像模組,其中,該第二鏡頭模組之該電磁驅動模組之設置範圍有涵蓋至連接面處,而該第一鏡頭模組之該電磁驅動模組之設置範圍則沒有涵蓋至連接面處。
  7. 如申請專利範圍第3項所述之雙鏡頭攝像模組,其中,位於該副磁石的對邊,也就是在鏡頭承載座上對應設置有一配重件,用以增加該鏡頭承載座配重均勻懸吊。
  8. 如申請專利範圍第3項所述之雙鏡頭攝像模組,其中,該第一、第二鏡頭模組之該電磁驅動模組係包括兩組上、下對稱的副磁石設置於該鏡頭承載座之該固定槽上。
  9. 如申請專利範圍第3項所述之雙鏡頭攝像模組,其中,該主磁石是單顆雙極性之磁石。
  10. 如申請專利範圍第3項所述之雙鏡頭攝像模組,其中,該三組驅動線圈係分別是一印刷電路板以一穿孔埋入一線圈並電性連接所構成、或是該印刷電路板以一盲孔埋入該線圈並電性連接所構成、又或是該印刷電路板將該線圈直接貼合並電性連接所構成其中之一。
  11. 如申請專利範圍第3項所述之雙鏡頭攝像模組,其中,該三組驅動線圈係分別焊接固定於一軟性電路板上並相互電性連接,而該軟性電路板上具有複數個導電接腳,當該三組驅動線圈分別崁入於該底座之三個嵌槽中時,進一步該軟性電路板則固定於該底座外緣之上。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之雙鏡頭攝像模組,其中,更包括具有一影像感測元件之一外部電路與該軟性電路板之複數個導電接腳電性連接,並透過該影像感測元件經由該鏡頭對外界擷取影像,且分別控制三組該驅動線圈電流大小或方向;其中,該外部電路可以是手機、平板電腦、以及筆記型電腦其中之一。
  13. 如申請專利範圍第2項所述之雙鏡頭攝像模組,其中,該第一鏡頭模組之該電磁驅動模組為一自動對焦馬達,且包括:兩組上、下對稱的主磁石、以及二組驅動線圈;其中,兩組上、下對稱的主磁石係分別嵌附於該鏡頭承載座相對應之兩表面週緣之一固定槽上,且分別對應設置於該底座二個嵌槽內之該二組驅動線圈。
  14. 如申請專利範圍第13項所述之雙鏡頭攝像模組,其中,該第一鏡頭模組更包括:一感測器、一基座、一影像感測元件、以及一外部電路;其中,該影像感測元件係設置於該外部電路之上並與該外部電路做電性連接,而該基座則覆蓋於該影像感測元件之上,該影像感測元件透過該基座上之一貫孔經由該鏡頭對外進行影像之擷取;該感測器則設置於該驅動線圈之一印刷電路板之上,並與該印刷電路板電性連接。
  15. 如申請專利範圍第13項所述之雙鏡頭攝像模組,其中,該第一鏡頭模 組是包含一感測器之一封閉式迴路、或是不包含該感測器之一開放式迴路其中之一。
  16. 如申請專利範圍第13項所述之雙鏡頭攝像模組,其中,該第一鏡頭模組可搭配任何動磁式或動圈式的該第二鏡頭模組來組合成該雙鏡頭攝像模組。
  17. 如申請專利範圍第13項所述之雙鏡頭攝像模組,其中,該電磁驅動模組之兩組該主磁石是單極磁石或是雙極磁石其中之一。
  18. 如申請專利範圍第17項所述之雙鏡頭攝像模組,其中,當該電磁驅動模組之兩組該主磁石係為兩組上、下對稱的單極磁石時,其中,同樣位於上側相對應之兩主磁石之磁極係為相反N/S極性,相同的,位於下方相對應之另兩主磁石之極性也為之相反S/N排列。
  19. 如申請專利範圍第17項所述之雙鏡頭攝像模組,其中,當該電磁驅動模組之兩組該主磁石係為兩雙極磁石時,位於上方的磁極設為相反,其一側上方磁極為N極、另一側上方磁極則為S極,另外,該兩雙極磁石位於下方的磁極也設為相反,一側下方磁極設為S極、另一側下方磁極則設為N極。
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