JP2011204645A - Light-emitting device - Google Patents

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organic
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Hiroyuki Sasaki
博之 佐々木
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Panasonic Electric Works Co Ltd
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    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light-emitting device capable of efficiently radiating heat generated from an organic EL element.SOLUTION: The light-emitting device includes a light-transmitting substrate 10, the organic EL element 20 formed on one surface side of the light-transmitting substrate 10, a sealing member 50 arranged by separating from one surface rather than the organic EL element 20 on one surface side of the light-transmitting substrate 10, and an inert liquid 90 intervened between the sealing member 50 and the organic EL element 20. The organic EL element 20 has a laminated structure of an anode (first electrode) 22, an organic EL layer 23 containing a light-emitting layer, and a cathode (second electrode) 24, and prepares an uneven structure section 24b for expanding a heat-radiating area on the surface side of the cathode 24 opposite to a light-emitting layer side rather than when the surface is set up to be a plane.

Description

本発明は、発光装置に関するものである。   The present invention relates to a light emitting device.

従来から、有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、有機EL素子と略称する)を利用した発光装置が各所で研究開発されている。   Conventionally, light emitting devices using organic electroluminescence elements (hereinafter abbreviated as organic EL elements) have been researched and developed in various places.

有機EL素子としては、例えば、透光性基板(透明基板)の一表面側に、陽極となる透明電極、ホール輸送層、発光層(有機発光層)、電子注入層、陰極となる電極の積層構造を備えたものが知られている。この種の有機EL素子では、陽極と陰極との間に電圧を印加することによって発光層で発光した光が、透明電極および透光性基板を通して取り出される。   As an organic EL element, for example, a transparent electrode serving as an anode, a hole transport layer, a light emitting layer (organic light emitting layer), an electron injecting layer, and an electrode serving as a cathode are laminated on one surface side of a translucent substrate (transparent substrate). Those with a structure are known. In this type of organic EL element, light emitted from the light emitting layer by applying a voltage between the anode and the cathode is taken out through the transparent electrode and the translucent substrate.

有機EL素子は、自発光型の発光素子であること、比較的高効率の発光特性を示すこと、各種の色調で発光可能であること、などの特徴を有するものであり、表示装置(例えば、フラットパネルディスプレイなどの発光体など)や、光源(例えば、液晶表示機器のバックライトや照明光源など)としての適用が期待されており、一部では既に実用化されている。   The organic EL element is a self-luminous light emitting element, has a relatively high light emission characteristic, and can emit light in various colors, and has a feature such as a display device (for example, Applications such as light emitters such as flat panel displays) and light sources (for example, backlights of liquid crystal display devices and illumination light sources) are expected, and some have already been put into practical use.

しかしながら、これらの用途に有機EL素子を応用展開するために、より高効率・長寿命・高輝度の有機EL素子の開発が望まれている。   However, in order to apply and deploy organic EL elements for these uses, development of organic EL elements with higher efficiency, longer life, and higher brightness is desired.

ここで、有機EL素子の発熱による有機EL素子の特性の悪化を抑制することができる発光装置として、有機EL素子が形成された素子基板と、素子基板に固着され当該素子基板との間において封止空間を形成する対向基板と、この封止空間内に設けられ有機EL素子の熱を対向基板に伝える熱伝導体とを備え、熱伝導体として不活性液体を用いたものが提案されている。   Here, as a light-emitting device that can suppress deterioration of the characteristics of the organic EL element due to heat generation of the organic EL element, the element substrate on which the organic EL element is formed and the element substrate that is fixed to the element substrate and sealed. A counter substrate that forms a stop space and a heat conductor that is provided in the sealed space and transmits heat of the organic EL element to the counter substrate, and using an inert liquid as the heat conductor has been proposed. .

特開2006−179218号公報JP 2006-179218 A

しかしながら、特許文献1に開示された発光装置においても、放熱性のより一層の向上が望まれている
本発明は上記事由に鑑みて為されたものであり、その目的は、有機EL素子で発生した熱をより効率良く放熱させることが可能な発光装置を提供することにある。
However, even in the light emitting device disclosed in Patent Document 1, further improvement in heat dissipation is desired. The present invention has been made in view of the above reasons, and its purpose is generated in an organic EL element. An object of the present invention is to provide a light emitting device that can dissipate the generated heat more efficiently.

本発明の発光装置は、透光性基板と、前記透光性基板の一表面側に形成されてなり前記一表面に近い側の第1の電極と前記一表面から遠い側の第2の電極との間に発光層を有する有機EL素子と、前記透光性基板の前記一表面側において前記有機EL素子よりも前記一表面から離れて配置された封止部材と、前記封止部材と前記有機EL素子との間に介在する不活性液体とを備え、前記有機EL素子は、前記第2の電極において前記発光層側とは反対の表面側に、前記表面を平面とするときよりも放熱面積を拡大させる凹凸構造部を設けてなることを特徴とする。   The light-emitting device of the present invention includes a translucent substrate, a first electrode that is formed on one surface side of the translucent substrate and that is closer to the one surface, and a second electrode that is far from the one surface. An organic EL element having a light emitting layer therebetween, a sealing member disposed on the one surface side of the light-transmitting substrate at a distance from the one surface than the organic EL element, the sealing member, and the And an inert liquid interposed between the organic EL element and the organic EL element, on the surface of the second electrode opposite to the light emitting layer side, dissipates heat more than when the surface is flat. The present invention is characterized in that an uneven structure part for expanding the area is provided.

この発光装置において、前記第2の電極は、少なくとも前記表面側の部分が黒色であることが好ましい。   In this light emitting device, it is preferable that at least the surface side portion of the second electrode is black.

この発光装置において、前記凹凸構造部からなる第1の凹凸構造部とは別に、前記透光性基板の他表面側に設けられ前記有機EL素子から放射された光の前記他表面での反射を抑制する第2の凹凸構造部と、前記透光性基板の前記他表面側に配置されたパッケージ用基板と、前記封止部材と前記パッケージ用基板との間に介在する枠状のスペーサ部とを備え、前記透光性基板がプラスチックフィルムにより構成され、前記パッケージ用基板が第1のガラス基板により構成されるとともに、前記封止部材が第1のガラス基板により構成され、前記スペーサ部がフリットガラスからなり、前記パッケージ用基板と前記封止部材と前記スペーサ部とで囲まれた空間に前記不活性液体が充填されてなり、前記第2の凹凸構造部と前記パッケージ用基板との間に空間が存在することが好ましい。   In this light emitting device, the light emitted from the organic EL element provided on the other surface side of the translucent substrate is reflected on the other surface separately from the first uneven structure portion including the uneven structure portion. A second concavo-convex structure portion to be suppressed, a package substrate disposed on the other surface side of the translucent substrate, a frame-like spacer portion interposed between the sealing member and the package substrate, The translucent substrate is composed of a plastic film, the package substrate is composed of a first glass substrate, the sealing member is composed of a first glass substrate, and the spacer portion is a frit. The second concavo-convex structure portion and the package substrate are made of glass and filled with the inert liquid in a space surrounded by the package substrate, the sealing member, and the spacer portion. It is preferred that there is space to between.

本発明の発光装置においては、有機EL素子で発生した熱をより効率良く放熱させることが可能となる。   In the light emitting device of the present invention, it is possible to dissipate the heat generated in the organic EL element more efficiently.

実施形態の発光装置の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the light-emitting device of embodiment.

以下、本実施形態の発光装置について、図1に基づいて説明する。   Hereinafter, the light emitting device of this embodiment will be described with reference to FIG.

本実施形態の発光装置は、透光性基板10と、透光性基板10の一表面側に形成された有機EL素子20と、透光性基板10の上記一表面側において有機EL素子20よりも上記一表面から離れて配置された封止部材50とを備えている。また、発光装置は、封止部材50と有機EL素子20との間に介在する不活性液体90を備えている。   The light emitting device of the present embodiment includes a translucent substrate 10, an organic EL element 20 formed on one surface side of the translucent substrate 10, and the organic EL element 20 on the one surface side of the translucent substrate 10. And a sealing member 50 arranged away from the one surface. In addition, the light emitting device includes an inert liquid 90 interposed between the sealing member 50 and the organic EL element 20.

ここにおいて、有機EL素子20は、陰極24において陽極22側とは反対の表面側に、当該表面を平面とするときよりも放熱面積を拡大させる放熱用の凹凸構造部(以下、第1の凹凸構造部と称する)24bを設けてある。   Here, the organic EL element 20 has an uneven structure portion for heat dissipation (hereinafter referred to as first unevenness) on the surface of the cathode 24 opposite to the anode 22 side, which expands the heat dissipation area than when the surface is flat. 24b) is provided.

また、発光装置は、透光性基板10の他表面側に設けられ有機EL素子20から放射された光の上記他表面での反射を抑制する反射抑制用の凹凸構造部(以下、第2の凹凸構造部と称する)30を備えている。また、発光装置は、透光性基板10の上記他表面側に配置されたパッケージ用基板40と、封止部材50とパッケージ用基板40との間に介在する枠状のスペーサ部80とを備え、第2の凹凸構造部30とパッケージ用基板40との間に空間70が存在している。   In addition, the light emitting device is provided on the other surface side of the light-transmitting substrate 10 and has a concavo-convex structure portion for suppressing reflection (hereinafter referred to as a second structure) that suppresses reflection of light emitted from the organic EL element 20 on the other surface. 30). In addition, the light emitting device includes a package substrate 40 disposed on the other surface side of the translucent substrate 10, and a frame-shaped spacer portion 80 interposed between the sealing member 50 and the package substrate 40. A space 70 exists between the second concavo-convex structure portion 30 and the package substrate 40.

透光性基板10としては、無アルカリガラス基板やソーダライムガラス基板などの安価なガラス基板に比べて更に安価であり、且つ、当該ガラス基板よりも屈折率が大きなプラスチック基板の一種であるポリエチレンテレフタラート(PET)フィルムを用いている。プラスチックフィルムのプラスチック材料としては、PETに限らず、例えば、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルサルフォン(PES)、ポリカーボネート(PC)などを採用してもよく、所望の用途や、屈折率、耐熱温度などに応じて適宜選択すればよい。また、透光性基板10は、プラスチックフィルムに限らず、上述の無アルカリガラス基板やソーダライムガラス基板、高屈折率ガラス基板などのガラス基板を用いてもよい。   The translucent substrate 10 is a polyethylene terephthalate that is a kind of plastic substrate that is cheaper than an inexpensive glass substrate such as an alkali-free glass substrate or a soda-lime glass substrate and has a higher refractive index than the glass substrate. Talate (PET) film is used. The plastic material of the plastic film is not limited to PET, and for example, polyethylene naphthalate (PEN), polyethersulfone (PES), polycarbonate (PC), etc. may be adopted. What is necessary is just to select suitably according to heat-resistant temperature etc. The translucent substrate 10 is not limited to a plastic film, and may be a glass substrate such as the above-described non-alkali glass substrate, soda lime glass substrate, or high refractive index glass substrate.

ただし、透光性基板10としてガラス基板を用いる場合には、透光性基板10の上記一表面の凹凸が有機EL素子20のリーク電流などの発生原因となることがある(有機EL素子20の劣化原因となることがある)。このため、透光性基板10としてガラス基板を用いる場合には、上記一表面の表面粗さが小さくなるように高精度に研磨された素子形成用のガラス基板を用意する必要があり、コストが高くなってしまう。なお、透光性基板10の上記一表面の表面粗さについては、JIS B 0601−2001(ISO 4287−1997)で規定されている算術平均粗さRaを、数nm以下にすることが好ましい。   However, when a glass substrate is used as the translucent substrate 10, the unevenness on the one surface of the translucent substrate 10 may cause a leakage current of the organic EL element 20 (the organic EL element 20). May cause deterioration). For this reason, when a glass substrate is used as the translucent substrate 10, it is necessary to prepare a glass substrate for forming an element that is polished with high precision so that the surface roughness of the one surface is reduced, and the cost is reduced. It will be high. In addition, about the surface roughness of the said one surface of the translucent board | substrate 10, it is preferable to make arithmetic mean roughness Ra prescribed | regulated by JISB0601-2001 (ISO 4287-1997) below several nm.

これに対して、透光性基板10としてプラスチックフィルムを用いれば、特に高精度な研磨を行わなくても、上記一表面の算術平均粗さRaが数nm以下のものを低コストで得ることができるという利点がある。   On the other hand, if a plastic film is used as the translucent substrate 10, an arithmetic average roughness Ra of the one surface of several nanometers or less can be obtained at a low cost without performing highly accurate polishing. There is an advantage that you can.

また、透光性基板10は、少なくとも一部(有機EL素子20の発光領域に重なる部位)が透光性材料(例えば、上述のプラスチック材料や、無アルカリガラス、ソーダライムガラスなどのガラス材料)により形成されていればよい。   The translucent substrate 10 has a translucent material (for example, a glass material such as the above-described plastic material, alkali-free glass, or soda lime glass) at least partially (a portion that overlaps the light emitting region of the organic EL element 20). It is sufficient if it is formed by.

また、透光性基板10の平面視形状は、矩形状としてあるが、矩形状に限らず、例えば、円形状、三角形状、五角形状、六角形状などでもよい。   Moreover, although the planar view shape of the translucent board | substrate 10 is made into the rectangular shape, it is not restricted to a rectangular shape, For example, circular shape, triangular shape, pentagon shape, hexagonal shape, etc. may be sufficient.

有機EL素子20は、陽極22と陰極24との間に介在する有機EL層23が、陽極22側から順に、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層を備えている。ここにおいて、有機EL素子20は、陽極22を透光性基板10の上記一表面側に積層してあり、陽極22における透光性基板10側とは反対側で、陰極24が陽極22に対向している。   In the organic EL element 20, the organic EL layer 23 interposed between the anode 22 and the cathode 24 includes a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer in this order from the anode 22 side. Here, in the organic EL element 20, the anode 22 is laminated on the one surface side of the translucent substrate 10, and the cathode 24 faces the anode 22 on the side opposite to the translucent substrate 10 side of the anode 22. is doing.

有機EL素子20は、陽極22を透明電極により構成するとともに、陰極24を発光層からの光を反射する電極で構成してある。ここで、陰極24を透明電極により構成するとともに陽極24を発光層からの光を反射する電極で構成して、陰極24と陽極22との位置関係を逆にしてもよい。要するに、有機EL素子20は、陽極22と陰極24との2つの電極のうち、光を取り出す側の電極からなる第1の電極が透光性基板10上に形成され、他方の電極からなる第2の電極が第1に電極に対向していればよい。   In the organic EL element 20, the anode 22 is composed of a transparent electrode, and the cathode 24 is composed of an electrode that reflects light from the light emitting layer. Here, the cathode 24 may be formed of a transparent electrode, and the anode 24 may be formed of an electrode that reflects light from the light emitting layer, so that the positional relationship between the cathode 24 and the anode 22 may be reversed. In short, the organic EL element 20 includes a first electrode formed on the translucent substrate 10 of the two electrodes, ie, the anode 22 and the cathode 24, on the light transmitting side, and the second electrode formed of the other electrode. It is only necessary that the two electrodes are opposed to the first electrode.

上述の有機EL層23の積層構造は、上述の例に限らず、例えば、発光層の単層構造や、ホール輸送層と発光層と電子輸送層との積層構造や、ホール輸送層と発光層との積層構造や、発光層と電子輸送層との積層構造などでもよい。また、陽極とホール輸送層との間にホール注入層を介在させてもよい。また、発光層は、単層構造でも多層構造でもよく、例えば、所望の発光色が白色の場合には、発光層中に赤色、緑色、青色の3種類のドーパント色素をドーピングするようにしてもよいし、青色正孔輸送性発光層と緑色電子輸送性発光層と赤色電子輸送性発光層との積層構造を採用してもよいし、青色電子輸送性発光層と緑色電子輸送性発光層と赤色電子輸送性発光層との積層構造を採用してもよい。   The stacked structure of the organic EL layer 23 is not limited to the above-described example, and for example, a single layer structure of a light emitting layer, a stacked structure of a hole transport layer, a light emitting layer, and an electron transport layer, a hole transport layer, and a light emitting layer. Or a stacked structure of a light emitting layer and an electron transport layer. A hole injection layer may be interposed between the anode and the hole transport layer. Further, the light emitting layer may have a single layer structure or a multilayer structure. For example, when the desired light emission color is white, the light emission layer may be doped with three types of dopant dyes of red, green, and blue. Alternatively, a laminated structure of a blue hole transporting light emitting layer, a green electron transporting light emitting layer and a red electron transporting light emitting layer may be adopted, or a blue electron transporting light emitting layer and a green electron transporting light emitting layer may be employed. A laminated structure with a red electron transporting light emitting layer may be adopted.

陽極22は、発光層中にホールを注入するための電極であり、仕事関数の大きい金属、合金、電気伝導性化合物、あるいはこれらの混合物からなる電極材料を用いることが好ましく、HOMO(Highest Occupied Molecular Orbital)準位との差が大きくなりすぎないように仕事関数が4eV以上6eV以下のものを用いるのが好ましい。陽極22の電極材料としては、例えば、ITO、IZO、酸化スズ、酸化亜鉛など、PEDOT、ポリアニリンなどの導電性高分子および任意のアクセプタなどでドープした導電性高分子、カーボンナノチューブなどの導電性光透過性材料を挙げることができる。ここにおいて、陽極22は、透光性基板10の上記一表面側に、スパッタ法、真空蒸着法、塗布法などによって薄膜として形成すればよい。   The anode 22 is an electrode for injecting holes into the light emitting layer, and it is preferable to use an electrode material made of a metal, an alloy, an electrically conductive compound, or a mixture thereof having a high work function, and HOMO (Highest Occupied Molecular). Orbital) It is preferable to use a work function of 4 eV or more and 6 eV or less so that the difference from the level does not become too large. Examples of the electrode material for the anode 22 include ITO, IZO, tin oxide, and zinc oxide, conductive polymers such as PEDOT and polyaniline, and conductive polymers doped with any acceptor, and conductive light such as carbon nanotubes. Mention may be made of permeable materials. Here, the anode 22 may be formed as a thin film on the one surface side of the translucent substrate 10 by a sputtering method, a vacuum evaporation method, a coating method, or the like.

なお、陽極22のシート抵抗は数百Ω/□以下とすることが好ましく、特に好ましくは100Ω/□以下がよい。ここで、陽極22の膜厚は、陽極22の光透過率、シート抵抗などにより異なるが、500nm以下、好ましくは10nm〜200nmの範囲で設定するのがよい。   The sheet resistance of the anode 22 is preferably several hundred Ω / □ or less, particularly preferably 100 Ω / □ or less. Here, the film thickness of the anode 22 varies depending on the light transmittance of the anode 22, sheet resistance, and the like, but is set to 500 nm or less, preferably in the range of 10 nm to 200 nm.

また、陰極24は、発光層中に電子を注入するための電極であり、上述の金属電極の材料として、仕事関数の小さい金属、合金、電気伝導性化合物およびこれらの混合物からなる電極材料を用いることが好ましく、LUMO(Lowest Unoccupied Molecular Orbital)準位との差が大きくなりすぎないように仕事関数が1.9eV以上5eV以下のものを用いるのが好ましい。陰極24の電極材料としては、例えば、アルミニウム、銀、マグネシウムなど、およびこれらと他の金属との合金、例えばマグネシウム−銀混合物、マグネシウム−インジウム混合物、アルミニウム−リチウム合金を例として挙げることができる。また、金属の導電材料、金属酸化物など、およびこれらと他の金属との混合物、例えば、酸化アルミニウムからなる極薄膜(ここでは、トンネル注入により電子を流すことが可能な1nm以下の薄膜)とアルミニウムからなる薄膜との積層膜なども使用可能である。なお、陰極24側から光を取り出す場合には、例えば、ITO、IZOなどを採用すればよい。   The cathode 24 is an electrode for injecting electrons into the light emitting layer, and an electrode material made of a metal, an alloy, an electrically conductive compound, or a mixture thereof having a low work function is used as the material of the metal electrode. The work function is preferably 1.9 eV or more and 5 eV or less so that the difference from the LUMO (Lowest Unoccupied Molecular Orbital) level does not become too large. Examples of the electrode material of the cathode 24 include aluminum, silver, magnesium, and alloys of these with other metals, such as magnesium-silver mixtures, magnesium-indium mixtures, and aluminum-lithium alloys. Also, a metal conductive material, a metal oxide, etc., and a mixture of these and other metals, for example, an ultrathin film made of aluminum oxide (here, a thin film of 1 nm or less capable of flowing electrons by tunnel injection) A laminated film with a thin film made of aluminum can also be used. In the case where light is extracted from the cathode 24 side, for example, ITO, IZO or the like may be employed.

また、第2の電極を構成する陰極24は、発光層からの光を反射する電極に限らず、黒色電極により構成してもよい。黒色電極の材料としては、例えば、カーボン、酸化マンガン、酸化チタン、金黒などの黒色化した電極材料(黒色電極材料)を採用すればよい。また、陰極24は、金属膜の表面側を黒色酸化処理(黒色処理)することにより形成してもよい。   Further, the cathode 24 constituting the second electrode is not limited to an electrode that reflects light from the light emitting layer, and may be constituted by a black electrode. As a material for the black electrode, for example, a blackened electrode material (black electrode material) such as carbon, manganese oxide, titanium oxide, or gold black may be employed. The cathode 24 may be formed by performing black oxidation treatment (black treatment) on the surface side of the metal film.

ここで、陰極24を黒色電極により構成することにより、陰極24の放射率が高くなって放熱性が向上し、有機EL素子20の温度上昇を抑制することができ、入力電力を大きくして高輝度化を図った場合の長寿命化を図れる。ただし、陰極24での光の吸収損失や陰極24の抵抗値の増大による光取り出し効率の低下を抑制するには、黒色電極のみにより構成するよりも、黒色電極と当該黒色電極と有機EL層23との間に介在し発光層からの光を反射する反射電極とで構成することが好ましい。   Here, by forming the cathode 24 with a black electrode, the emissivity of the cathode 24 is increased, the heat dissipation is improved, the temperature rise of the organic EL element 20 can be suppressed, and the input power is increased and increased. It is possible to extend the life when brightness is increased. However, in order to suppress a decrease in light extraction efficiency due to an absorption loss of light at the cathode 24 and an increase in the resistance value of the cathode 24, the black electrode, the black electrode, and the organic EL layer 23 are configured rather than the black electrode alone. And a reflective electrode that reflects light from the light emitting layer.

発光層の材料としては、有機EL素子用の材料として知られる任意の材料が使用可能である。例えばアントラセン、ナフタレン、ピレン、テトラセン、コロネン、ペリレン、フタロペリレン、ナフタロペリレン、ジフェニルブタジエン、テトラフェニルブタジエン、クマリン、オキサジアゾール、ビスベンゾキサゾリン、ビススチリル、シクロペンタジエン、キノリン金属錯体、トリス(8−ヒドロキシキノリナート)アルミニウム錯体、トリス(4−メチル−8−キノリナート)アルミニウム錯体、トリス(5−フェニル−8−キノリナート)アルミニウム錯体、アミノキノリン金属錯体、ベンゾキノリン金属錯体、トリ−(p−ターフェニル−4−イル)アミン、1−アリール−2,5−ジ(2−チエニル)ピロール誘導体、ピラン、キナクリドン、ルブレン、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、ジスチリルアミン誘導体および各種蛍光色素など、上述の材料系およびその誘導体を始めとするものが挙げられるが、これらに限定するものではない。また、これらの化合物のうちから選択される発光材料を適宜混合して用いることも好ましい。また、上記化合物に代表される蛍光発光を生じる化合物のみならず、スピン多重項からの発光を示す材料系、例えば燐光発光を生じる燐光発光材料、およびそれらからなる部位を分子内の一部に有する化合物も好適に用いることができる。また、これらの材料からなる発光層は、蒸着法、転写法などの乾式プロセスによって成膜しても良いし、スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法、グラビア印刷法など、湿式プロセスによって成膜するものであってもよい。   As a material for the light emitting layer, any material known as a material for an organic EL element can be used. For example, anthracene, naphthalene, pyrene, tetracene, coronene, perylene, phthaloperylene, naphthaloperylene, diphenylbutadiene, tetraphenylbutadiene, coumarin, oxadiazole, bisbenzoxazoline, bisstyryl, cyclopentadiene, quinoline metal complex, tris (8-hydroxyxyl) Norinato) aluminum complex, tris (4-methyl-8-quinolinato) aluminum complex, tris (5-phenyl-8-quinolinato) aluminum complex, aminoquinoline metal complex, benzoquinoline metal complex, tri- (p-terphenyl- 4-yl) amine, 1-aryl-2,5-di (2-thienyl) pyrrole derivative, pyran, quinacridone, rubrene, distyrylbenzene derivative, distyrylarylene derivative, distili And amine derivatives, and various fluorescent pigments, but include those including a material system and its derivatives described above, not limited to these. In addition, it is also preferable to use a mixture of light emitting materials selected from these compounds as appropriate. Further, not only a compound that emits fluorescence, typified by the above compound, but also a material system that emits light from a spin multiplet, for example, a phosphorescent material that emits phosphorescence, and a part thereof are included in a part of the molecule. A compound can also be used suitably. The light emitting layer made of these materials may be formed by a dry process such as vapor deposition or transfer, or by a wet process such as spin coating, spray coating, die coating, or gravure printing. You may do.

上述のホール注入層に用いられる材料は、ホール注入性の有機材料、金属酸化物、いわゆるアクセプタ系の有機材料あるいは無機材料、p−ドープ層などを用いて形成することができる。ホール注入性の有機材料とは、ホール輸送性を有し、また仕事関数が5.0〜6.0eV程度であり、陽極22との強固な密着性を示す材料などがその例であり、例えば、CuPc、スターバーストアミンなどがその例である。また、ホール注入性の金属酸化物とは、例えば、モリブデン、レニウム、タングステン、バナジウム、亜鉛、インジウム、スズ、ガリウム、チタン、アルミニウムのいずれかを含有する金属酸化物である。また、1種の金属のみの酸化物ではなく、例えばインジウムとスズ、インジウムと亜鉛、アルミニウムとガリウム、ガリウムと亜鉛、チタンとニオブなど、上記のいずれかの金属を含有する複数の金属の酸化物であっても良い。また、これらの材料からなるホール注入層は、蒸着法、転写法などの乾式プロセスによって成膜しても良いし、スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法、グラビア印刷法などの湿式プロセスによって成膜するものであってもよい。   The material used for the hole injection layer can be formed using a hole injection organic material, a metal oxide, a so-called acceptor organic material or inorganic material, a p-doped layer, or the like. Examples of the hole injecting organic material include a material having a hole transport property, a work function of about 5.0 to 6.0 eV, and a strong adhesion to the anode 22, for example. Examples thereof include CuPc and starburst amine. The hole-injecting metal oxide is a metal oxide containing any of molybdenum, rhenium, tungsten, vanadium, zinc, indium, tin, gallium, titanium, and aluminum, for example. In addition, an oxide of a plurality of metals containing any one of the above metals, such as indium and tin, indium and zinc, aluminum and gallium, gallium and zinc, titanium and niobium, etc. It may be. The hole injection layer made of these materials may be formed by a dry process such as vapor deposition or transfer, or by a wet process such as spin coating, spray coating, die coating, or gravure printing. It may be a film.

また、ホール輸送層に用いる材料は、例えば、ホール輸送性を有する化合物の群から選定することができる。この種の化合物としては、例えば、4,4’−ビス[N−(ナフチル)−N−フェニル−アミノ]ビフェニル(α−NPD)、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミン(TPD)、2−TNATA、4,4’,4”−トリス(N−(3−メチルフェニル)N−フェニルアミノ)トリフェニルアミン(MTDATA)、4,4’−N,N’−ジカルバゾールビフェニル(CBP)、スピロ−NPD、スピロ−TPD、スピロ−TAD、TNBなどを代表例とする、アリールアミン系化合物、カルバゾール基を含むアミン化合物、フルオレン誘導体を含むアミン化合物などを挙げることができるが、一般に知られる任意のホール輸送材料を用いることが可能である。   The material used for the hole transport layer can be selected from, for example, a group of compounds having hole transport properties. Examples of this type of compound include 4,4′-bis [N- (naphthyl) -N-phenyl-amino] biphenyl (α-NPD), N, N′-bis (3-methylphenyl)-(1 , 1′-biphenyl) -4,4′-diamine (TPD), 2-TNATA, 4,4 ′, 4 ″ -tris (N- (3-methylphenyl) N-phenylamino) triphenylamine (MTDATA) 4,4′-N, N′-dicarbazole biphenyl (CBP), spiro-NPD, spiro-TPD, spiro-TAD, TNB, and the like, arylamine compounds, amine compounds containing a carbazole group, An amine compound containing a fluorene derivative can be exemplified, and any generally known hole transporting material can be used.

また、電子輸送層に用いる材料は、電子輸送性を有する化合物の群から選定することができる。この種の化合物としては、Alq等の電子輸送性材料として知られる金属錯体や、フェナントロリン誘導体、ピリジン誘導体、テトラジン誘導体、オキサジアゾール誘導体などのヘテロ環を有する化合物などが挙げられるが、この限りではなく、一般に知られる任意の電子輸送材料を用いることが可能である。 The material used for the electron transport layer can be selected from the group of compounds having electron transport properties. Examples of this type of compound include metal complexes known as electron transporting materials such as Alq 3 and compounds having a heterocyclic ring such as phenanthroline derivatives, pyridine derivatives, tetrazine derivatives, and oxadiazole derivatives. Instead, any generally known electron transport material can be used.

また、電子注入層の材料は、例えば、フッ化リチウムやフッ化マグネシウムなどの金属フッ化物、塩化ナトリウム、塩化マグネシウムなどに代表される金属塩化物などの金属ハロゲン化物や、アルミニウム、コバルト、ジルコニウム、チタン、バナジウム、ニオブ、クロム、タンタル、タングステン、マンガン、モリブデン、ルテニウム、鉄、ニッケル、銅、ガリウム、亜鉛、シリコンなどの各種金属の酸化物、窒化物、炭化物、酸化窒化物など、例えば、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化鉄、窒化アルミニウム、窒化シリコン、炭化シリコン、酸窒化シリコン、窒化ホウ素などの絶縁物となるものや、酸化シリコンなどをはじめとする珪素化合物、炭素化合物などから任意に選択して用いることができる。これらの材料は、真空蒸着法やスパッタ法などにより形成することで薄膜状に形成することができる。   The material of the electron injection layer is, for example, a metal fluoride such as lithium fluoride or magnesium fluoride, a metal halide such as sodium chloride or magnesium chloride, aluminum, cobalt, zirconium, Titanium, vanadium, niobium, chromium, tantalum, tungsten, manganese, molybdenum, ruthenium, iron, nickel, copper, gallium, zinc, silicon oxides, nitrides, carbides, oxynitrides, etc., for example, oxidation Arbitrarily selected from insulators such as aluminum, magnesium oxide, iron oxide, aluminum nitride, silicon nitride, silicon carbide, silicon oxynitride, boron nitride, silicon compounds such as silicon oxide, carbon compounds, etc. Can be used. These materials can be formed into a thin film by being formed by a vacuum deposition method or a sputtering method.

パッケージ用基板40としては、高屈折率ガラス基板に比べて安価なガラス基板である無アルカリガラス基板を用いているが、これに限らず、例えば、ソーダライムガラス基板、青ソーダガラス基板などを用いてもよい。また、パッケージ用基板40で用いるガラス基板(以下、第1のガラス基板と称する)については、有機EL素子20を形成するためのものではないので、算術平均粗さRaが数100nm以上のガラス基板を用いることができる。   As the package substrate 40, an alkali-free glass substrate which is a cheaper glass substrate than a high refractive index glass substrate is used, but not limited thereto, for example, a soda lime glass substrate, a blue soda glass substrate, or the like is used. May be. Further, a glass substrate (hereinafter referred to as a first glass substrate) used in the package substrate 40 is not for forming the organic EL element 20, and therefore has a mathematical average roughness Ra of several hundred nm or more. Can be used.

上述の有機EL素子20が形成された透光性基板10は、当該透光性基板10の周部を全周に亘ってパッケージ用基板40と接合してある。ここにおいて、透光性基板10とパッケージ用基板40とを接合する接合部29は、例えば、接着用フィルム、熱硬化樹脂、紫外線硬化樹脂、接着剤(例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂など)などにより構成すればよい。   The translucent substrate 10 on which the organic EL element 20 is formed is bonded to the package substrate 40 over the entire circumference of the translucent substrate 10. Here, the joint portion 29 that joins the translucent substrate 10 and the package substrate 40 is, for example, an adhesive film, a thermosetting resin, an ultraviolet curable resin, an adhesive (for example, an epoxy resin, an acrylic resin, a silicone resin, or the like). ) Or the like.

また、発光装置は、有機EL素子20および有機EL素子20の陽極22に電気的に接続された第1の配線層25、陰極24に電気的に接続された第2の配線層27が透明な透光性基板10の上記一表面側に形成されており、有機EL素子20と透光性基板10とで有機EL素子ユニット1を構成している。なお、第1の配線層25および第2の配線層27それぞれの数は特に限定するものではない。   In the light emitting device, the organic EL element 20 and the first wiring layer 25 electrically connected to the anode 22 of the organic EL element 20 and the second wiring layer 27 electrically connected to the cathode 24 are transparent. It is formed on the one surface side of the translucent substrate 10, and the organic EL element unit 1 is composed of the organic EL element 20 and the translucent substrate 10. The numbers of the first wiring layer 25 and the second wiring layer 27 are not particularly limited.

有機EL素子ユニット1は、第1の配線層25の材料を陽極22と同じ材料とし、第1の配線層25を陽極22と同時に形成してある。しかして、異種材料により別々に形成する場合に比べて、製造プロセスの簡略化、材料コストの低減などによる低コスト化を図れる。また、第2の配線層27の材料を陰極24と同じ材料としてあり、第2の配線層27を陰極24と同時に形成してある。しかして、異種材料により別々に形成する場合に比べて、製造プロセスの簡略化、材料コストの低減などによる低コスト化を図れる。ただし、各配線層25,27は、それぞれ陽極22、陰極24とは異なる材料により形成してもよい。また、各配線層25,37は、単層構造に限らず、多層構造でもよい。   In the organic EL element unit 1, the first wiring layer 25 is made of the same material as that of the anode 22, and the first wiring layer 25 is formed simultaneously with the anode 22. Therefore, compared with the case of forming different materials separately, the manufacturing process can be simplified and the cost can be reduced by reducing the material cost. The material of the second wiring layer 27 is the same as that of the cathode 24, and the second wiring layer 27 is formed simultaneously with the cathode 24. Therefore, compared with the case of forming different materials separately, the manufacturing process can be simplified and the cost can be reduced by reducing the material cost. However, the wiring layers 25 and 27 may be formed of a material different from that of the anode 22 and the cathode 24, respectively. The wiring layers 25 and 37 are not limited to a single layer structure, and may have a multilayer structure.

また、発光装置は、パッケージ用基板40において透光性基板10に対向する一面側に、有機EL素子20の各配線層25,27それぞれと電気的に接続される導体パターン42,44が形成されている。ここで、各配線層25,27と各導体パターン42,44とは、ボンディングワイヤ(例えば、金線、アルミニウム線、銅線などの金属線)からなる接続部132,134を介して電気的に接続される。この接続部132,134は、ボンディングワイヤに限らず、導電性ペースト(例えば、銀ペーストなど)や、金属膜などにより構成してもよい。   In the light emitting device, conductor patterns 42 and 44 that are electrically connected to the wiring layers 25 and 27 of the organic EL element 20 are formed on one side of the package substrate 40 facing the translucent substrate 10. ing. Here, the wiring layers 25 and 27 and the conductor patterns 42 and 44 are electrically connected via connecting portions 132 and 134 made of bonding wires (for example, metal wires such as gold wires, aluminum wires, and copper wires). Connected. The connecting portions 132 and 134 are not limited to bonding wires, and may be formed of a conductive paste (for example, silver paste) or a metal film.

また、発光装置は、接続部132,134を封止材料(例えば、シリコーン樹脂など)からなる被覆部150により覆ってある。しかして、接続部132,134を被覆部150により覆ってあることにより、接続部132,134を構成するボンディングワイヤや当該ボンディングワイヤと配線層25,27や導体パターン42,44との結線部から金属などの不純物が不活性液体90中へ溶出して信頼性が低下するのを防止することができ、信頼性が向上する。また、発光装置は、被覆部150が透光性基板10の周部を全周に亘って覆うように形成してある(つまり、被覆部150の平面視形状は枠状である)ので、第2の凹凸構造部30とパッケージ用基板40との間の空間70へ不活性液体90が漏れるのをより確実に防止することが可能となる。   In the light emitting device, the connection parts 132 and 134 are covered with a covering part 150 made of a sealing material (for example, silicone resin). Thus, since the connection portions 132 and 134 are covered with the covering portion 150, the bonding wires constituting the connection portions 132 and 134 and the connection portions between the bonding wires and the wiring layers 25 and 27 and the conductor patterns 42 and 44 are used. It is possible to prevent impurities such as metals from leaching into the inert liquid 90 and lowering the reliability, thereby improving the reliability. The light emitting device is formed so that the covering portion 150 covers the entire periphery of the translucent substrate 10 (that is, the shape of the covering portion 150 in plan view is a frame shape). It is possible to more reliably prevent the inert liquid 90 from leaking into the space 70 between the two uneven structure portions 30 and the package substrate 40.

封止部材50は、第2のガラス基板により構成してあり、パッケージ用基板40に対してフリットガラスからなるスペーサ部80を介して封着されている。要するに、発光装置は、パッケージ用基板40が第1のガラス基板からなるとともに、封止部材50が第2のガラス基板からなり、第2のガラス基板における第1のガラス基板との対向面の周部の全周が、フリットガラスからなるスペーサ部80により第1のガラス基板側に封着されているので、スペーサ部80がエポキシ樹脂などの有機材料からなる接着剤により構成されている場合に比べて、耐湿性を向上できる。   The sealing member 50 is composed of a second glass substrate, and is sealed to the package substrate 40 via a spacer portion 80 made of frit glass. In short, in the light emitting device, the package substrate 40 is made of the first glass substrate, the sealing member 50 is made of the second glass substrate, and the periphery of the surface of the second glass substrate facing the first glass substrate. Since the entire circumference of the part is sealed to the first glass substrate side by the spacer part 80 made of frit glass, the spacer part 80 is made of an adhesive made of an organic material such as epoxy resin. Thus, moisture resistance can be improved.

また、封止部材50を構成する第2のガラス基板として、パッケージ用基板40の第1のガラス基板と同じガラス材料のガラス基板(例えば、無アルカリガラス基板、ソーダライムガラス基板、青ソーダガラス基板など)を用いて、第2のガラス基板と第1のガラス基板との線膨張係数を同じにすれば、パッケージ用基板40と封止部材50との線膨張係数差に起因したパッケージ用基板40の反りを防止することができて、パッケージ用基板40の反りに起因した光学特性のばらつきを低減できるとともに、スペーサ部80とパッケージ用基板40および封止部材50それぞれとの接合部位の信頼性を高めることができる。   Moreover, as a 2nd glass substrate which comprises the sealing member 50, the glass substrate (For example, a non-alkali glass substrate, a soda-lime glass substrate, a blue soda glass substrate) of the same glass material as the 1st glass substrate of the substrate 40 for packages If the linear expansion coefficients of the second glass substrate and the first glass substrate are the same, the package substrate 40 resulting from the difference in linear expansion coefficient between the package substrate 40 and the sealing member 50 is used. Can be prevented, variation in optical characteristics due to warpage of the package substrate 40 can be reduced, and reliability of the joint portion between the spacer portion 80 and the package substrate 40 and the sealing member 50 can be improved. Can be increased.

上述のパッケージ用基板40の平面サイズは、有機EL素子ユニット1の平面サイズよりも大きなサイズに設定してあり、各導体パターン22,24の一部が有機EL素子ユニット1の投影領域の外側で、スペーサ部80よりも外側に位置している。各導体パターン22,24は、スパッタ法や蒸着法などのドライプロセスで成膜することが好ましい。   The planar size of the package substrate 40 described above is set to be larger than the planar size of the organic EL element unit 1, and a part of each conductor pattern 22, 24 is outside the projection area of the organic EL element unit 1. , Located outside the spacer portion 80. The conductor patterns 22 and 24 are preferably formed by a dry process such as sputtering or vapor deposition.

パッケージ用基板40および封止部材50は、平面視形状を矩形状としてあるが、矩形状に限らず、これに限らず、例えば、有機EL素子ユニット1の平面形状に応じて適宜変更してもよく、円形状、三角形状、五角形状、六角形状などでもよい。   The package substrate 40 and the sealing member 50 have a rectangular shape in plan view. However, the shape is not limited to the rectangular shape, and the package substrate 40 and the sealing member 50 may be appropriately changed according to the planar shape of the organic EL element unit 1, for example. It may be a circular shape, a triangular shape, a pentagonal shape, a hexagonal shape, or the like.

封止部材50の平面サイズは、有機EL素子ユニット1の平面サイズよりも大きく且つパッケージ用基板40の平面サイズよりも小さなサイズに設定してあり、パッケージ用基板40の上記一面側から見て各導体パターン22,24の上記一部を視認できるようになっている。要するに、各導体パターン22,24の一部が封止部材50の投影領域の外側に位置している。したがって、各導体パターン22,24の上記一部が外部接続電極を構成している。   The planar size of the sealing member 50 is set to be larger than the planar size of the organic EL element unit 1 and smaller than the planar size of the package substrate 40. Part of the conductor patterns 22 and 24 can be visually recognized. In short, a part of each conductor pattern 22, 24 is located outside the projection area of the sealing member 50. Therefore, a part of the conductor patterns 22 and 24 constitutes an external connection electrode.

スペーサ部80は、封止部材50の外周縁に沿った枠状に形成することが好ましく、本実施形態では、矩形枠状に形成してある。なお、封止部材50と有機EL素子ユニット1との平面視形状が相違する場合には、いずれか一方の外周線に沿った形状としてもよい。   The spacer portion 80 is preferably formed in a frame shape along the outer peripheral edge of the sealing member 50. In the present embodiment, the spacer portion 80 is formed in a rectangular frame shape. In addition, when the planar view shape of the sealing member 50 and the organic EL element unit 1 is different, it is good also as a shape along any one outer periphery line.

スペーサ部80は、フリットガラスを用いて形成してある。ここで、発光装置の製造時には、パッケージ用基板40上にスペーサ部60を配置し、封止部材50とパッケージ用基板40とでスペーサ部80を挟みこんでから、スペーサ部80をレーザ光などにより加熱して封止部材50およびパッケージ用基板40それぞれと接合すればよい。この場合、フリットガラスがレーザ光により加熱されやすいように適宜の不純物をフリットガラスに添加しておいてもよい。なお、加熱は、レーザ光に限らず、例えば、赤外線により行ってもよい。本実施形態の発光装置では、封止代を1mm程度にしながらも気密性を確保することができる。また、レーザ光の光源としては、例えば、YAGレーザなどを用いればよい。   The spacer portion 80 is formed using frit glass. Here, at the time of manufacturing the light emitting device, the spacer portion 60 is disposed on the package substrate 40, the spacer portion 80 is sandwiched between the sealing member 50 and the package substrate 40, and then the spacer portion 80 is moved by laser light or the like. What is necessary is just to join to each of the sealing member 50 and the package substrate 40 by heating. In this case, an appropriate impurity may be added to the frit glass so that the frit glass is easily heated by the laser beam. In addition, you may perform a heating not only with a laser beam but with infrared rays, for example. In the light emitting device of this embodiment, airtightness can be ensured while the sealing margin is about 1 mm. Further, as a laser light source, for example, a YAG laser or the like may be used.

スペーサ部80は、フリットガラスのみを用いて形成する場合に限らず、例えば、合金からなる枠部材と、当該枠部材におけるパッケージ用基板40および封止部材50それぞれとの対向面に形成されたフリットガラスとを用いて形成してもよい。ここにおいて、枠部材の材料である合金としては、熱膨張係数がパッケージ用基板40および封止部材50の熱膨張係数に近いコバール(Kovar)を用いることが好ましいが、コバールに限らず、例えば、42合金などを用いてもよい。コバールは、鉄にニッケル、コバルトを配合した合金であり、常温付近での熱膨張係数が、金属の中で低いものの一つで、無アルカリガラス、青ソーダガラス、硼珪酸ガラスなどの熱膨張係数に近い値を有している。コバールの成分比の一例は、重量%で、ニッケル:29重量%、コバルト:17重量%、シリコン:0.2重量%、マンガン:0.3重量%、鉄:53.5重量%である。コバールの成分比は、特に限定するものではなく、コバールの熱膨張係数が、パッケージ用基板40および封止部材50の熱膨張係数に揃うように適宜成分比のものを採用すればよい。また、この場合のフリットガラスとしては、熱膨張係数を合金の熱膨張係数に揃えることができる材料を採用することが好ましい。ここで、合金がコバールの場合には、フリットガラスの材料として、コバールガラスを用いることが好ましい。また、スペーサ部80の形成にあたっては、例えば、コバールなどの合金からなる板材の厚み方向の両面に、フリットガラスを所定パターン(本実施形態では、矩形枠状のパターン)となるように塗布し、乾燥、焼成後、プレス抜き加工を行うことにより、スペーサ部80を形成することができる。   The spacer portion 80 is not limited to being formed using only frit glass. For example, the frit formed on the opposing surface of the frame member made of an alloy and the package substrate 40 and the sealing member 50 in the frame member. You may form using glass. Here, as the alloy that is the material of the frame member, it is preferable to use Kovar whose thermal expansion coefficient is close to the thermal expansion coefficient of the package substrate 40 and the sealing member 50, but is not limited to Kovar. For example, 42 alloy may be used. Kovar is an alloy in which nickel and cobalt are blended with iron and has a low coefficient of thermal expansion near normal temperatures. Among these metals, the coefficient of thermal expansion of alkali-free glass, blue soda glass, borosilicate glass, etc. It has a value close to. An example of the component ratio of Kovar is wt%, nickel: 29 wt%, cobalt: 17 wt%, silicon: 0.2 wt%, manganese: 0.3 wt%, iron: 53.5 wt%. The component ratio of Kovar is not particularly limited, and an appropriate component ratio may be adopted so that the thermal expansion coefficients of Kovar are aligned with the thermal expansion coefficients of the package substrate 40 and the sealing member 50. In addition, as the frit glass in this case, it is preferable to employ a material capable of aligning the thermal expansion coefficient with the thermal expansion coefficient of the alloy. Here, when the alloy is Kovar, it is preferable to use Kovar glass as the material of the frit glass. In forming the spacer portion 80, for example, frit glass is applied to both surfaces in the thickness direction of a plate made of an alloy such as Kovar so as to form a predetermined pattern (in this embodiment, a rectangular frame pattern) The spacer part 80 can be formed by performing a punching process after drying and baking.

上述の説明から分かるように、発光装置は、パッケージ用基板40と封止部材50とスペーサ部80との線膨張係数を揃えてある。ここにおいて、熱膨張係数を揃えるとは、完全に一致させることに限らず、略同一であることを意味し、熱膨張係数差ができるだけ小さくなるように材料を選択することを趣旨としている。   As can be seen from the above description, in the light emitting device, the linear expansion coefficients of the package substrate 40, the sealing member 50, and the spacer portion 80 are aligned. Here, to make the thermal expansion coefficients uniform is not limited to completely matching, but means that they are substantially the same, and the purpose is to select materials so that the difference in thermal expansion coefficients is as small as possible.

スペーサ部80として、上述の枠部材を備えたものを用いれば、フリットガラスが溶融した時もパッケージ用基板40と封止部材50との間隔を安定して保つことができて気密封止することができるから、パッケージ用基板40と封止部材50とスペーサ部80とで構成されるパッケージの気密性を高めることが可能となり、有機EL素子20の発光部の大面積化を図りながらも有機EL素子20の長寿命化を図れる。また、スペーサ部80として、上述の枠部材を備えたものを用いれば、パッケージ用基板40と封止部材50との間の距離の設計自由度が高くなるとともに、有機EL素子20と封止部材50との間の距離の精度が向上し、製品間の放熱性のばらつきを低減することが可能となる。なお、枠部材は、断面矩形状に限らず、断面環状のものを用いてもよい。   If the spacer member 80 is provided with the above-mentioned frame member, the space between the package substrate 40 and the sealing member 50 can be stably maintained even when the frit glass is melted and hermetically sealed. Therefore, it is possible to improve the airtightness of the package constituted by the package substrate 40, the sealing member 50, and the spacer portion 80, and the organic EL while increasing the area of the light emitting portion of the organic EL element 20 The lifetime of the element 20 can be extended. If the spacer member 80 is provided with the above-described frame member, the design freedom of the distance between the package substrate 40 and the sealing member 50 is increased, and the organic EL element 20 and the sealing member are also provided. The accuracy of the distance to 50 is improved, and it is possible to reduce the variation in heat dissipation between products. Note that the frame member is not limited to a rectangular cross section, and a ring member having a circular cross section may be used.

また、発光装置は、パッケージ用基板40と封止部材50とスペーサ部80とで構成されるパッケージの内部空間に、有機EL素子20の封止用の媒体として、上述の不活性液体90を封入してある。ここで、不活性液体90としては、例えば、シリコーンオイル、パラフィンオイル、フッ素系オイル(例えば、パーフルオロアルカン、パーフルオロアミン、パーフルオロエーテル)などの、不活性な液体で且つ不活性ガス(例えば、Nガス、Arガスなど)に比べて熱伝導率の高い液体を用いればよい。しかして、発光装置は、外部からの有機EL素子20への水分の到達を抑制することができて信頼性が向上するとともに、有機EL素子20で発生した熱を、不活性液体90を介して効率よく放熱させることが可能となるから、有機EL素子20の温度上昇を抑制することができて長寿命化を図れ、しかも、有機EL素子20へ流す電流を大きくできて高輝度化を図れる。なお、不活性液体90を封入するために、封止部材50には、不活性液体90の注入孔(図示せず)と、空気抜き孔(図示せず)とが形成されている。注入孔および空気抜き孔は、パッケージの内部空間に不活性液体90を封入した後に接着剤などにより封止すればよい。 In the light emitting device, the above-described inert liquid 90 is sealed as a medium for sealing the organic EL element 20 in the internal space of the package formed by the package substrate 40, the sealing member 50, and the spacer portion 80. It is. Here, as the inert liquid 90, for example, an inert liquid such as silicone oil, paraffin oil, fluorine oil (for example, perfluoroalkane, perfluoroamine, perfluoroether) and an inert gas (for example, , N 2 gas, Ar gas, or the like) may be used. Thus, the light emitting device can suppress the arrival of moisture from the outside to the organic EL element 20 and improve the reliability, and the heat generated in the organic EL element 20 is transmitted through the inert liquid 90. Since it is possible to efficiently dissipate heat, the temperature rise of the organic EL element 20 can be suppressed, the life can be extended, and the current flowing to the organic EL element 20 can be increased to increase the luminance. In order to enclose the inert liquid 90, the sealing member 50 is formed with an injection hole (not shown) for the inert liquid 90 and an air vent hole (not shown). The injection hole and the air vent hole may be sealed with an adhesive or the like after the inert liquid 90 is sealed in the internal space of the package.

ところで、有機EL素子20の発光層および透光性基板10それぞれの屈折率は、光が取り出される外部雰囲気である空気の屈折率に比べて大きい。したがって、第2の凹凸構造部30が設けられずに透光性基板10とパッケージ用基板40との間の空間が空気雰囲気となっている場合には、透光性基板10からなる第1の媒質と空気からなる第2の媒質との界面で全反射が生じ、全反射角以上の角度で当該界面に入射する光は反射される。そして、第1の媒質と第2の媒質との界面で反射された光が有機EL層23または透光性基板10内部において多重反射し、外部に取り出されずに減衰するので、光取出し効率が低下する。また、第1の媒質と第2の媒質との界面に全反射角未満の角度で入射した光についても、フレネル反射が発生するため、さらに光取り出し効率が低下する。   By the way, the refractive index of each of the light emitting layer of the organic EL element 20 and the translucent substrate 10 is larger than the refractive index of air that is an external atmosphere from which light is extracted. Therefore, when the space between the translucent substrate 10 and the package substrate 40 is an air atmosphere without the second concavo-convex structure portion 30 being provided, the first translucent substrate 10 is formed. Total reflection occurs at the interface between the medium and the second medium made of air, and light incident on the interface is reflected at an angle greater than the total reflection angle. Then, the light reflected at the interface between the first medium and the second medium is multiple-reflected inside the organic EL layer 23 or the translucent substrate 10 and attenuated without being extracted outside, so that the light extraction efficiency is lowered. To do. Also, light extraction efficiency is further reduced because Fresnel reflection occurs for light incident on the interface between the first medium and the second medium at an angle less than the total reflection angle.

これに対して、本実施形態の発光装置においては、有機EL素子20を上記一表面側に形成する透光性基板10の上記他表面側に第2の凹凸構造部30を設けてあるので、有機EL素子ユニット1の外部への光取り出し効率を向上させることができる。   On the other hand, in the light emitting device of this embodiment, the second concavo-convex structure portion 30 is provided on the other surface side of the translucent substrate 10 that forms the organic EL element 20 on the one surface side. The light extraction efficiency to the outside of the organic EL element unit 1 can be improved.

第2の凹凸構造部30は、多数の突起31が透光性基板10の上記一表面に平行な2次元面内で周期的に配列された2次元周期構造を有している。図1に示した例では、突起31を四角錐状の形状としてあるが、突起31の形状は、四角錐状以外の錐状(例えば、三角錐状、六角錐状、円錐状など)でもよいし、半球状でもよいし、これら以外の形状でもよい。   The second concavo-convex structure portion 30 has a two-dimensional periodic structure in which a large number of protrusions 31 are periodically arranged in a two-dimensional plane parallel to the one surface of the translucent substrate 10. In the example shown in FIG. 1, the protrusion 31 has a quadrangular pyramid shape, but the shape of the protrusion 31 may be a cone shape other than the quadrangular pyramid shape (for example, a triangular pyramid shape, a hexagonal pyramid shape, a conical shape, etc.). However, it may be hemispherical or other shapes.

また、当該2次元周期構造の周期Pは、発光層で発光する光の波長が300〜800nmの範囲内にある場合、媒質内の波長をλ(真空中の波長を媒質の屈折率で除した値)とすれば、波長λの1/4〜10倍の範囲で適宜設定することが望ましい。   Further, the period P of the two-dimensional periodic structure indicates that the wavelength in the medium is λ (the wavelength in vacuum is divided by the refractive index of the medium when the wavelength of light emitted from the light emitting layer is in the range of 300 to 800 nm. Value), it is desirable to set appropriately within a range of 1/4 to 10 times the wavelength λ.

周期Pを例えば5λ〜10λの範囲で設定した場合には、幾何光学的な効果、つまり、入射角が全反射角未満となる表面の広面積化により、光取り出し効率が向上する。また、周期Pを例えばλ〜5λの範囲で設定した場合には、回折光による全反射角以上の光を取り出す作用により、光の取り出し効率が向上する。また、周期Pをλ/4〜λの範囲で設定した場合には、第2の凹凸構造部30付近の有効屈折率が透光性基板10の上記一表面からの距離が大きくなるにつれて徐々に低下することとなり、透光性基板10と空間70との間に、第2の凹凸構造部30の媒質の屈折率と空間70の媒質の屈折率との中間の屈折率を有する薄膜層を介在させるのと同等となり、フレネル反射を低減させることが可能となる。要するに、周期Pをλ/4〜10λの範囲で設定すれば、反射(全反射あるいはフレネル反射)を抑制することができ、光取り出し効率が向上する。ただし、幾何光学的な効果による光取り出し効率の向上を図る際の周期Pの上限としては、1000λまで適用可能である。また、第2の凹凸構造部30は、必ずしも2次元周期構造などの周期構造を有している必要はなく、凹凸のサイズがランダムな凹凸構造や周期性のない凹凸構造でも光取り出し効率の向上を図れる。なお、異なるサイズの凹凸構造が混在する場合(例えば、周期Pが1λの凹凸構造と5λ以上の凹凸構造とが混在する場合)には、その中で最も第2の凹凸構造部30における占有率の大きい凹凸構造の光取り出し効果が支配的になる。また、多数の突起31の形状についても、複数も種類の形状が混在していてもよい。   When the period P is set in the range of 5λ to 10λ, for example, the light extraction efficiency is improved by the geometrical optical effect, that is, the area of the surface where the incident angle is less than the total reflection angle. Further, when the period P is set in a range of λ to 5λ, for example, the light extraction efficiency is improved by the action of extracting light having a total reflection angle or more by diffracted light. When the period P is set in the range of λ / 4 to λ, the effective refractive index near the second concavo-convex structure portion 30 gradually increases as the distance from the one surface of the translucent substrate 10 increases. A thin film layer having a refractive index intermediate between the refractive index of the medium of the second uneven structure portion 30 and the refractive index of the medium of the space 70 is interposed between the translucent substrate 10 and the space 70. As a result, the Fresnel reflection can be reduced. In short, if the period P is set in a range of λ / 4 to 10λ, reflection (total reflection or Fresnel reflection) can be suppressed, and light extraction efficiency is improved. However, the upper limit of the period P for improving the light extraction efficiency by the geometric optical effect is applicable up to 1000λ. Further, the second concavo-convex structure portion 30 does not necessarily have a periodic structure such as a two-dimensional periodic structure, and the light extraction efficiency is improved even in a concavo-convex structure having a random concavo-convex size or a non-periodic concavo-convex structure. Can be planned. When uneven structures of different sizes coexist (for example, when an uneven structure with a period P of 1λ and an uneven structure with a length of 5λ or more coexist), the occupancy ratio in the second uneven structure portion 30 is the most. The light extraction effect of the large uneven structure becomes dominant. In addition, as for the shapes of the many protrusions 31, a plurality of types of shapes may be mixed.

第2の凹凸構造部30は、プリズムシート(例えば、株式会社きもと製のライトアップ(登録商標)GM3のような光拡散フィルムなど)により構成してあるが、これに限るものではない。例えば、透光性基板10の上記他表面に第2の凹凸構造部30をインプリント法(ナノインプリント法)により形成してもよいし、透光性基板10を射出成形により形成するようにし、適宜の金型を用いて透光性基板10に第2の凹凸構造部30を直接形成してもよい。   Although the 2nd uneven | corrugated structure part 30 is comprised by the prism sheet (For example, light diffusion films, such as the light up (trademark) GM3 made from Kimoto Co., Ltd.), it is not restricted to this. For example, the second concavo-convex structure portion 30 may be formed on the other surface of the translucent substrate 10 by an imprint method (nanoimprint method), or the translucent substrate 10 may be formed by injection molding. Alternatively, the second concavo-convex structure portion 30 may be directly formed on the translucent substrate 10 using this mold.

第2の凹凸構造部30については、表面に傷が付くのを防止するためのハードコートを施すか、あるいは、硬度が十分に高いプリズムシートを用いるか、あるいは、硬化後の硬度が十分に高い透明材料を用いることが望ましい。ハードコートを施すためのハードコート剤としては、例えば、東洋インキ製のTYZシリーズ(〔平成21年12月22日検索〕、インターネット<URL:http://www.toyoink.co.jp/products/lioduras/index.html>)などの高屈折率タイプ(屈折率が1.63〜1.74程度)のハードコート剤を採用することができる。なお、TYZシリーズは、エポキシ樹脂などにフィラーとしてジルコニアを混入させた紫外線硬化型のハードコート剤である。   For the second concavo-convex structure portion 30, a hard coat is applied to prevent the surface from being scratched, or a prism sheet having a sufficiently high hardness is used, or the hardness after curing is sufficiently high. It is desirable to use a transparent material. As a hard coat agent for applying a hard coat, for example, TYZ series manufactured by Toyo Ink ([searched on December 22, 2009], Internet <URL: http://www.toyoink.co.jp/products/ lioduras / index.html>) and other high refractive index type (refractive index of about 1.63 to 1.74) hard coating agents can be employed. The TYZ series is an ultraviolet curable hard coat agent in which zirconia is mixed as a filler in an epoxy resin or the like.

本実施形態では、第2の凹凸構造部30の表面とパッケージ用基板40との間に空間70が存在することが重要である。仮に、第2の凹凸構造部30の表面が、当該第2の凹凸構造部30とパッケージ用基板40との界面であるとすると、パッケージ用基板40と外部の空気との屈折率界面が存在するため、当該屈折率界面で再び全反射が生じる。これに対して、本実施形態では、有機EL素子20の光を一旦、空間70へ取り出すことができるので、空間70の不活性ガスとパッケージ用基板40との界面、パッケージ用基板40と外部の空気との界面で全反射ロスが生じなくなる。   In the present embodiment, it is important that a space 70 exists between the surface of the second uneven structure portion 30 and the package substrate 40. If the surface of the second concavo-convex structure portion 30 is an interface between the second concavo-convex structure portion 30 and the package substrate 40, there is a refractive index interface between the package substrate 40 and external air. Therefore, total reflection occurs again at the refractive index interface. On the other hand, in this embodiment, since the light of the organic EL element 20 can be once extracted into the space 70, the interface between the inert gas in the space 70 and the package substrate 40, the package substrate 40, and the outside Total reflection loss does not occur at the interface with air.

ここで、インプリント法により、第2の凹凸構造部30を形成する方法の一例について簡単に説明する。   Here, an example of a method for forming the second concavo-convex structure portion 30 by the imprint method will be briefly described.

まず、PETフィルムからなる透光性基板10の上記他表面上に、第2の凹凸構造部30の基礎となる高屈折率の透明材料(例えば、酸化チタンのナノ粒子を混入させた熱硬化性樹脂)からなる転写層をスピンコート法により形成する。次に、第2の凹凸構造部30の形状に応じてパターン設計した凹凸パターンを形成したモールドを、転写層に押し付けて当該転写層を変形させ硬化させる(例えば、熱硬化させる)ことにより第2の凹凸構造部30を形成し、モールドを第2の凹凸構造部30から離す。ここにおいて、モールドとしては、例えば、周期が2μm、高さが2μmの錐状(例えば、四角錐状、円錐状など)の微細突起が2次元アレイ状にパターニングされたNiモールドを用いればよい。   First, on the other surface of the translucent substrate 10 made of a PET film, a thermosetting material in which a transparent material having a high refractive index serving as the basis of the second uneven structure portion 30 (for example, titanium oxide nanoparticles are mixed). A transfer layer made of a resin is formed by spin coating. Next, a mold having a concavo-convex pattern designed according to the shape of the second concavo-convex structure portion 30 is pressed against the transfer layer to deform and harden the transfer layer (for example, thermoset), thereby causing the second. The concavo-convex structure portion 30 is formed, and the mold is separated from the second concavo-convex structure portion 30. Here, as the mold, for example, a Ni mold in which microscopic projections having a period of 2 μm and a height of 2 μm (for example, a quadrangular pyramid or a cone) are patterned in a two-dimensional array may be used.

なお、インプリント法としては、上述のように熱硬化性樹脂を転写層の透明材料として用いる熱インプリント法(熱ナノインプリント法)に限らず、転写層の材料として光硬化性樹脂を用いる光インプリント法(光ナノインプリント法)を採用してもよい。この場合には、粘度の低い光硬化性樹脂層からなる転写層をモールドにより変形させて、その後に紫外線を照射して光硬化性樹脂を硬化させ、モールドを転写層から離すようにすればよい。インプリント法では、モールド用の金型さえ1度作れば、第2の凹凸構造部30を再現性良く形成することができ、低コスト化を図れる。   The imprinting method is not limited to the thermal imprinting method (thermal nanoimprinting method) using a thermosetting resin as a transparent material for the transfer layer as described above. A printing method (photo nanoimprint method) may be adopted. In this case, the transfer layer made of a low-viscosity photocurable resin layer is deformed by a mold, and thereafter, the photocurable resin is cured by irradiating with ultraviolet rays so that the mold is separated from the transfer layer. . In the imprint method, the second concavo-convex structure portion 30 can be formed with good reproducibility by making only a mold for molding once, and the cost can be reduced.

発光装置は、第2の凹凸構造部30の表面(凹凸面)とパッケージ用基板40との間に空間70が存在することが重要である。仮に、第2の凹凸構造部30の表面が、当該凹凸構造部30とパッケージ用基板40との界面であるとすると、パッケージ用基板40と外部の空気との屈折率界面が存在するため、当該屈折率界面で再び全反射が生じる。これに対して、有機EL素子20の光を一旦、空間70へ取り出すことができるので、空間70の媒質である空気とパッケージ用基板40との界面、パッケージ用基板40と外部の空気との界面で全反射ロスが生じなくなる。なお、第2の凹凸構造部30の各突起31それぞれが、透光性基板10とパッケージ用基板40との間に介在し透光性基板10とパッケージ用基板40との間の距離を所定距離に保つスペーサを兼ねるようにしてもよい。   In the light emitting device, it is important that a space 70 exists between the surface (uneven surface) of the second uneven structure portion 30 and the package substrate 40. If the surface of the second concavo-convex structure portion 30 is the interface between the concavo-convex structure portion 30 and the package substrate 40, there is a refractive index interface between the package substrate 40 and external air. Total reflection occurs again at the refractive index interface. On the other hand, since the light of the organic EL element 20 can be once extracted into the space 70, the interface between the air that is the medium of the space 70 and the package substrate 40, and the interface between the package substrate 40 and external air. Thus, total reflection loss does not occur. Each projection 31 of the second concavo-convex structure portion 30 is interposed between the translucent substrate 10 and the package substrate 40, and the distance between the translucent substrate 10 and the package substrate 40 is a predetermined distance. You may make it also serve as the spacer maintained.

本実施形態の発光装置においては、パッケージ用基板40を光が透過する際にフレネル反射による損失(フレネルロス)が生じるので、パッケージ用基板40を透過する際のフレネルロスを低減することが望ましい。フレネルロスを抑制する手段としては、例えば、パッケージ用基板40の厚み方向の少なくとも一面に、単層もしくは多層の誘電体膜からなるアンチリフレクションコート(anti-reflection coat:以下、AR膜と略称する)を設けることが考えられる。ここにおいて、AR膜を例えば屈折率nが1.38のフッ化マグネシウム膜により構成する場合には、設計波長λを550nmとすれば、AR膜の厚さをλ/4n=550/(4×1.38)=99.6nmとすればよい。同様に、AR膜を例えば屈折率nが1.58の酸化アルミニウム膜により構成する場合には、設計波長λを550nmとすれば、AR膜の厚さをλ/4n=550/(4×1.58)=87.0nmとすればよい。また、AR膜は、厚さが99.6nmのフッ化マグネシウム膜と厚さが87.0nmの酸化アルミニウム膜との積層膜(2層AR膜)としてもよい。なお、誘電体膜の材料は、フッ化マグネシウムや酸化アルミニウム以外の材料を採用してもよい。 In the light emitting device of the present embodiment, a loss due to Fresnel reflection (Fresnel loss) occurs when light passes through the package substrate 40. Therefore, it is desirable to reduce the Fresnel loss when transmitted through the package substrate 40. As a means for suppressing the Fresnel loss, for example, an anti-reflection coat (hereinafter, abbreviated as an AR film) made of a single-layer or multilayer dielectric film is provided on at least one surface in the thickness direction of the package substrate 40. It is conceivable to provide it. Here, when the AR film is formed of, for example, a magnesium fluoride film having a refractive index n of 1.38, if the design wavelength λ 0 is 550 nm, the thickness of the AR film is λ 0 / 4n = 550 / ( 4 × 1.38) = 99.6 nm. Similarly, when the AR film is composed of, for example, an aluminum oxide film having a refractive index n of 1.58, if the design wavelength λ 0 is 550 nm, the thickness of the AR film is λ 0 / 4n = 550 / (4 × 1.58) = 87.0 nm. The AR film may be a stacked film (two-layer AR film) of a magnesium fluoride film having a thickness of 99.6 nm and an aluminum oxide film having a thickness of 87.0 nm. Note that a material other than magnesium fluoride or aluminum oxide may be adopted as the material of the dielectric film.

本実施形態の発光装置では、パッケージ用基板40の厚み方向の少なくとも一面、好ましくは両面にAR膜を設けることにより、フレネルロスを低減でき、光取り出し効率の向上を図れる。   In the light emitting device of this embodiment, by providing an AR film on at least one surface, preferably both surfaces, in the thickness direction of the package substrate 40, Fresnel loss can be reduced and light extraction efficiency can be improved.

また、フレネルロスを抑制する他の手段としては、パッケージ用基板40の厚み方向の少なくとも一面側にモスアイ(蛾の目)構造を設けることが考えられる。モスアイ構造は、先細り状の微細突起が2次元アレイ状に配列されて2次元周期構造を有しており、多数の微細突起と隣り合う微細突起間に入り込んだ媒質(例えば、空気)とで反射防止部が構成されることとなる。ここにおいて、パッケージ用基板40をナノインプリント法により加工してモスアイ構造を形成した場合には、微細突起の屈折率がパッケージ用基板40の屈折率と同じとなる。この場合、反射防止部の有効屈折率は、当該反射防止部の厚さ方向においてパッケージ用基板40の屈折率(=1.51)と媒質の屈折率(=1)との間で連続的に変化し、フレネルロスの原因となる屈折率界面がなくなった状態が擬似的に得られる。したがって、モスアイ構造では、AR膜に比べて、波長や入射角に対する依存性を小さくでき、かつ、反射率も小さくすることができる。   As another means for suppressing the Fresnel loss, it is conceivable to provide a moth-eye structure on at least one surface side in the thickness direction of the package substrate 40. The moth-eye structure has a two-dimensional periodic structure in which tapered fine protrusions are arranged in a two-dimensional array, and is reflected by a medium (for example, air) that enters between the fine protrusions adjacent to each other. A prevention unit is configured. Here, when the moth-eye structure is formed by processing the package substrate 40 by the nanoimprint method, the refractive index of the fine protrusions is the same as the refractive index of the package substrate 40. In this case, the effective refractive index of the antireflection portion is continuously between the refractive index (= 1.51) of the package substrate 40 and the refractive index of the medium (= 1) in the thickness direction of the antireflection portion. A state in which the refractive index interface that changes and causes Fresnel loss disappears can be obtained in a pseudo manner. Therefore, in the moth-eye structure, the dependency on the wavelength and the incident angle can be reduced and the reflectance can be reduced as compared with the AR film.

モスアイ構造における微細突起の高さおよび微細突起の周期は、例えば、それぞれ200nm、100nmに設定すればよいが、これらの数値は一例であり、特に限定するものではない。   The height of the fine protrusions and the period of the fine protrusions in the moth-eye structure may be set to, for example, 200 nm and 100 nm, respectively, but these numerical values are examples and are not particularly limited.

上述のモスアイ構造は、例えば、ナノインプリント法により形成することができるが、ナノプリント法以外の方法(例えば、レーザ加工技術)で形成してもよい。また、モスアイ構造は、例えば、三菱レイヨン株式会社製のモスアイ型無反射フィルムにより構成してもよい。   The moth-eye structure described above can be formed by, for example, a nanoimprint method, but may be formed by a method other than the nanoprint method (for example, laser processing technology). Further, the moth-eye structure may be constituted by, for example, a moth-eye type non-reflective film manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.

ところで、上述の有機EL素子20の第2の電極である陰極24に設けた凹凸構造部24bは、複数の凸部24aを備えており、各凸部24aがフィンを構成している。このような凹凸構造部24bを備えた陰極24の形成にあたっては、例えば、蒸着法などにより陰極24を形成する際に、2種類のマスクを利用すればよい。すなわち、陰極24全体に対応する部位に第1の開孔部を有する第1のシャドーマスクを蒸発源と被処理基板(透光性基板10に陽極22、有機EL層23などを形成したもの)との間に配置して蒸着を行ってから、陰極24の各凸部24aに対応する部位に第2の開孔部を有する第2のシャドーマスクを蒸発源と非処理基板との間に配置して蒸着を行えばよい。また、陰極24に、カーボンフィルムや放熱用のシリコーンフィルム(例えば、サーコン(登録商標)など)などを、陰極24との間に空気が入らないように適宜貼り合わせることにより、さらに高い放熱効果が得られる。   By the way, the concavo-convex structure portion 24b provided on the cathode 24 which is the second electrode of the organic EL element 20 described above includes a plurality of convex portions 24a, and each convex portion 24a forms a fin. In forming the cathode 24 having such a concavo-convex structure portion 24b, for example, two types of masks may be used when the cathode 24 is formed by vapor deposition or the like. That is, a first shadow mask having a first aperture at a portion corresponding to the entire cathode 24 is used as an evaporation source and a substrate to be processed (the anode 22 and the organic EL layer 23 are formed on the light-transmitting substrate 10). Between the evaporation source and the non-processed substrate, a second shadow mask having a second aperture at a portion corresponding to each convex portion 24a of the cathode 24 is disposed. Then, vapor deposition may be performed. In addition, a higher heat dissipation effect can be obtained by appropriately bonding a carbon film or a heat dissipation silicone film (eg, Sarcon (registered trademark)) to the cathode 24 so that air does not enter between the cathode 24 and the like. can get.

この実施形態の発光装置においては、透光性基板10の上記一表面側において有機EL素子20よりも上記一表面から離れて配置された封止部材50と、封止部材50と有機EL素子20との間に介在する不活性液体90とを備え、有機EL素子20の第2の電極である陰極24の表面側に、当該表面を平面とするときよりも放熱面積を拡大させる凹凸構造部24bを設けてあるので、有機EL素子20で発生した熱を、不活性液体90を通して、より効率良く放熱させることが可能となる。特に、本実施形態の発光装置においては、透光性基板10とパッケージ用基板40との間の空間が断熱部として機能するので、有機EL素子20で発生した熱を、不活性液体90を通る経路で、より効率的に放熱させることができる。   In the light emitting device according to this embodiment, the sealing member 50 disposed on the one surface side of the light-transmitting substrate 10 farther from the one surface than the organic EL element 20, and the sealing member 50 and the organic EL element 20. An uneven structure portion 24b that has an inert liquid 90 interposed between and the surface of the cathode 24, which is the second electrode of the organic EL element 20, and expands the heat dissipation area more than when the surface is flat. Therefore, the heat generated in the organic EL element 20 can be radiated more efficiently through the inert liquid 90. In particular, in the light emitting device of the present embodiment, the space between the translucent substrate 10 and the package substrate 40 functions as a heat insulating portion, so that heat generated in the organic EL element 20 passes through the inert liquid 90. It is possible to dissipate heat more efficiently through the route.

また、この実施形態の発光装置においては、第2の電極である陰極24の少なくとも表面側の部分を黒色とすることにより、陰極24が反射電極や透明電極により構成されている場合に比べて、陰極24での熱の放射率が高くなって放熱性が向上する。   Further, in the light emitting device of this embodiment, by making at least the surface side portion of the cathode 24 as the second electrode black, compared to the case where the cathode 24 is configured by a reflective electrode or a transparent electrode, The emissivity of heat at the cathode 24 is increased and heat dissipation is improved.

さらに、この実施形態の発光装置においては、透光性基板10の上記他表面側に設けられた光反射抑制用の第2の凹凸構造部30と、透光性基板10の上記他表面側に配置されたパッケージ用基板40と、封止部材50とパッケージ用基板40との間に介在する枠状のスペーサ部80とを備え、透光性基板10がプラスチックフィルムにより構成され、パッケージ用基板40が第1のガラス基板により構成されるとともに、封止部材50が第2のガラス基板により構成され、スペーサ部80がフリットガラスからなり、パッケージ用基板40と封止部材50とスペーサ部80とで囲まれた空間に不活性液体80が充填されており、第2の凹凸構造部30とパッケージ用基板40との間に空間70が存在している。しかして、有機EL素子20から放射されパッケージ用基板40まで到達した光の全反射ロスを低減でき、第2の凹凸構造部30とパッケージ用基板40との間に空間70が存在しない場合に比べて光取り出し効率の向上を図れる。   Furthermore, in the light emitting device of this embodiment, the second concavo-convex structure portion 30 for suppressing light reflection provided on the other surface side of the translucent substrate 10 and the other surface side of the translucent substrate 10 are provided. The package substrate 40 is disposed, and a frame-like spacer portion 80 interposed between the sealing member 50 and the package substrate 40. The translucent substrate 10 is made of a plastic film. Is composed of the first glass substrate, the sealing member 50 is composed of the second glass substrate, the spacer portion 80 is made of frit glass, and the package substrate 40, the sealing member 50, and the spacer portion 80 are The enclosed space is filled with an inert liquid 80, and the space 70 exists between the second uneven structure portion 30 and the package substrate 40. Thus, the total reflection loss of the light emitted from the organic EL element 20 and reaching the package substrate 40 can be reduced, compared with the case where the space 70 does not exist between the second uneven structure portion 30 and the package substrate 40. Therefore, the light extraction efficiency can be improved.

また、この本実施形態の発光装置では、透光性基板10としてプラスチックフィルムを採用すれば、透光性基板10としてソーダライムガラス基板や無アルカリガラス基板のような一般的なガラス基板に比べて屈折率が高いものを用いることができるので、有機EL素子20と透光性基板10との界面での全反射ロスを低減できる。また、透光性基板10としてガラス基板を用いる場合に比べて低コスト化を図れる。   Further, in the light emitting device of this embodiment, when a plastic film is employed as the light transmissive substrate 10, the light transmissive substrate 10 is compared with a general glass substrate such as a soda lime glass substrate or an alkali-free glass substrate. Since a thing with a high refractive index can be used, the total reflection loss in the interface of the organic EL element 20 and the translucent board | substrate 10 can be reduced. Further, the cost can be reduced as compared with the case where a glass substrate is used as the translucent substrate 10.

また、この本実施形態の発光装置では、第1のガラス基板からなるパッケージ用基板40と、第2のガラス基板からなる封止部材50と、ガラスフリットからなるスペーサ部80とで構成されるパッケージに有機EL素子ユニット1が収納されており、有機EL素子20が不活性液体90により封止されているので、透光性基板10として高屈折率ガラス基板やバリア層が設けられたプラスチック基板を用いることなく、防水性および耐湿性を高めることができる。   In the light emitting device according to this embodiment, the package includes a package substrate 40 made of the first glass substrate, a sealing member 50 made of the second glass substrate, and a spacer portion 80 made of glass frit. Since the organic EL element unit 1 is housed in the organic EL element 20 and the organic EL element 20 is sealed with the inert liquid 90, a plastic substrate provided with a high refractive index glass substrate or a barrier layer is used as the translucent substrate 10. Waterproofness and moisture resistance can be improved without using.

ところで、本実施形態では、封止部材50を第2のガラス基板により構成して、パッケージ用基板40と封止部材50との間にスペーサ部80を介在させてあるが、封止部材50を、パッケージ用基板40との間に有機EL素子20および透光性基板10を囲む一面開口した箱状の形状としてもよい。また、透光性基板10をガラス基板により構成して、透光性基板10に、透光性基板10との間に有機EL素子20を囲む一面開口した箱状の封止部材50を接合するようにしてもよい。   By the way, in this embodiment, the sealing member 50 is comprised by the 2nd glass substrate, and the spacer part 80 is interposed between the board | substrate 40 for packages, and the sealing member 50. Alternatively, a box-like shape with one surface opening surrounding the organic EL element 20 and the translucent substrate 10 between the package substrate 40 and the package substrate 40 may be used. Moreover, the translucent board | substrate 10 is comprised with a glass substrate, and the box-shaped sealing member 50 which opened the whole surface surrounding the organic EL element 20 between the translucent board | substrates 10 to the translucent board | substrate 10 is joined. You may do it.

10 透光性基板
20 有機EL素子
22 陽極(第1の電極)
23 有機EL層
24 陰極(第2の電極)
24b 凹凸構造部(第1の凹凸構造部)
30 凹凸構造部(第2の凹凸構造部)
40 パッケージ用基板
50 封止部材
70 空間
80 スペーサ部
90 不活性液体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Translucent board | substrate 20 Organic EL element 22 Anode (1st electrode)
23 Organic EL layer 24 Cathode (second electrode)
24b Uneven structure part (first uneven structure part)
30 Uneven structure part (second uneven structure part)
40 packaging substrate 50 sealing member 70 space 80 spacer portion 90 inert liquid

Claims (3)

透光性基板と、前記透光性基板の一表面側に形成されてなり前記一表面に近い側の第1の電極と前記一表面から遠い側の第2の電極との間に発光層を有する有機EL素子と、前記透光性基板の前記一表面側において前記有機EL素子よりも前記一表面から離れて配置された封止部材と、前記封止部材と前記有機EL素子との間に介在する不活性液体とを備え、前記有機EL素子は、前記第2の電極において前記発光層側とは反対の表面側に、前記表面を平面とするときよりも放熱面積を拡大させる放熱用の凹凸構造部を設けてなることを特徴とする発光装置。   A light-emitting layer is formed between a translucent substrate, a first electrode formed on one surface side of the translucent substrate and close to the one surface, and a second electrode far from the one surface. An organic EL element, a sealing member disposed on the one surface side of the light-transmitting substrate, farther from the one surface than the organic EL element, and between the sealing member and the organic EL element The organic EL element is disposed on the surface of the second electrode opposite to the light-emitting layer side, and has a heat dissipation area that is larger than when the surface is flat. A light-emitting device comprising an uneven structure portion. 前記第2の電極は、少なくとも前記表面側の部分が黒色であることを特徴とする請求項1記載の発光装置。   The light emitting device according to claim 1, wherein at least a portion of the second electrode is black on the surface side. 前記凹凸構造部からなる第1の凹凸構造部とは別に、前記透光性基板の他表面側に設けられ前記有機EL素子から放射された光の前記他表面での反射を抑制する第2の凹凸構造部と、前記透光性基板の前記他表面側に配置されたパッケージ用基板と、前記封止部材と前記パッケージ用基板との間に介在する枠状のスペーサ部とを備え、前記透光性基板がプラスチックフィルムにより構成され、前記パッケージ用基板が第1のガラス基板により構成されるとともに、前記封止部材が第1のガラス基板により構成され、前記スペーサ部がフリットガラスからなり、前記パッケージ用基板と前記封止部材と前記スペーサ部とで囲まれた空間に前記不活性液体が充填されてなり、前記第2の凹凸構造部と前記パッケージ用基板との間に空間が存在することを特徴とする請求項1または請求項2記載の発光装置。   Separately from the first concavo-convex structure portion formed of the concavo-convex structure portion, a second surface which is provided on the other surface side of the translucent substrate and suppresses reflection on the other surface of the light emitted from the organic EL element. An uneven structure portion; a package substrate disposed on the other surface side of the translucent substrate; and a frame-shaped spacer portion interposed between the sealing member and the package substrate. The optical substrate is made of a plastic film, the package substrate is made of a first glass substrate, the sealing member is made of a first glass substrate, the spacer portion is made of frit glass, The space surrounded by the package substrate, the sealing member, and the spacer portion is filled with the inert liquid, and a space exists between the second concavo-convex structure portion and the package substrate. DOO emitting device according to claim 1 or claim 2 wherein.
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