JP2011203739A - 光強度分布補正光学系およびそれを用いた光学顕微鏡 - Google Patents

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Abstract

【課題】光源からの発散光の光強度分布を均一化すると共に光利用効率を向上させ、光源のNAの違いを容易に吸収し、かつローコストな光強度分布補正光学系およびそれを用いた光学顕微鏡を提供する。
【解決手段】平面のXY方向で大きく発散角が異なる入射光の強度分布を平坦な強度分布に補正する光強度分布補正光学系は、前記入射光の大きな発散角の方向に正の屈折力を持ち、その直角方向に屈折力を持たない少なくとも1つのシリンドリカルレンズから成る第1レンズ群42と、この第1レンズ群42の後段に配置され、前記入射光の小さな発散角の方向に正の屈折力を持ち、その直角方向に屈折力を持たない少なくとも1つのシリンドリカルレンズから成る第2レンズ群43とを有し、平面のXY方向で大きく発散角が異なる点光源41からの入射光をコリメートすると共に、各レンズ群42、43の球面収差により前記入射光の強度分布を平坦にして出射する。
【選択図】図4

Description

本発明は、光強度分布を補正する光学系に関し、詳しくは、発散光の強度分布を均一な分布に補正する光学系に関するものである。
光学顕微鏡の一例として共焦点顕微鏡がある。共焦点顕微鏡は、試料を薄切片にすることなくスライス画像が得られ、そのスライス画像から試料の正確な3次元立体像を構築できるので、生物やバイオテクノロジーなどの分野における生きた細胞の生理反応観察や形態観察あるいは半導体市場におけるLSIの表面観察などに使用されている。
このような共焦点顕微鏡では、レーザ光から複数のビームスポットを生成し、これらのビームスポットを試料に照射して試料からの蛍光もしくは反射光により試料の観察を行う。この場合、レーザ光の光強度の分布むら(光軸の垂直な面に対してガウス分布となる)がビームスポット各点の強度に影響する。このために、レーザ光の光軸付近の均一な光束を切り出すために、開口を有する遮蔽版を設け、これを通過した光束のみを使用している。
また、ファイバ端から発せられる発散光を平行光にするコリメータレンズと遮蔽板との間に光強度分布補正フィルタを配置した共焦点スキャナも開示されている(例えば特許文献1参照。)。この光強度分布補正フィルタは、光強度分布がガウス分布である入射光のうち遮蔽板の開口を通過する光の強度分布を平坦化し、それ以外の光をカットしている。
これらのような光強度を補正する構成では、利用できる光量が少なく試料に十分な強さの照明を行うにはその分大きな出力の光源を用いる必要があるが、余分な迷光を増加させることとなり、蛍光観察のような微弱光を扱う場合には適さない。
これに対して、光量を低下させずに光強度が均一な光を試料に照射する構成として、光度均一化レンズを使用するものがある(例えば特許文献2参照。)。
図6は、特許文献2に記載の共焦点顕微鏡の構成図である。
図6において、光ファイバ端から発せられるような点光源61からの光はコリメータレンズ62によって平行光となり、光強度均一化レンズ63によって強度分布均一化され、遮蔽板64の開口65を通って、集光ディスク66に入射する。なお、点光源61はコリメータレンズ62の前側焦点(焦点距離f)に置かれている。
集光ディスク66には複数のマイクロレンズ(例えばフレネルレンズ)66aが形成され、ピンホールディスク67には複数のピンホール67aが多数列で螺旋状に形成されている。各マイクロレンズ67aの焦点位置に各ピンホール67aが位置するように、集光ディスク66とピンホールディスク67とが連結されている。
集光ディスク66に入射するレーザ光はマイクロレンズ66aで絞られ、ビームスプリッタ(図示せず)を透過してピンホール67aに集光する。ピンホール67aを通った光は対物レンズ68により集光され、試料69上に照射される。
試料8からの戻り光は再び対物レンズ68及びピンホールディスク67を通ってビームプリッタ(図示せず)で反射され、集光レンズ(図示せず)を介してカメラ(図示せず)に入る。カメラの受像面には試料面69の像が結像される。
このような構成において、集光ディスク66とピンホールディスク67とを部材70により一体で回転させ、複数のピンホール67aにより試料面69を光走査(ラスタースキャン)することにより、カメラにより試料面69の表面画像を観測することができる。
光強度均一化レンズ63は、コリメータレンズ62から入射する入射光の光量を維持するとともに、この入射光の強度を均一化するレンズである(例えば特許文献3参照。)。
光強度均一化レンズ63は、コリメータレンズ62と遮蔽板64との間に配置されている。光強度均一化レンズ63に入射する入射光は、光強度分布がガウス分布であり、光軸付近において入射光強度が最も強く、光軸から離れるにしたがって入射光強度が弱くなる。光強度均一化レンズ63は、入射光が密になる中心部が平行光を拡散させる拡散レンズ(凹レンズ)状に形成されており、入射光が疎になる周辺部が平行光を収束させる収束レンズ(凸レンズ)状に形成されている。光強度均一化レンズ63は、ガウス分布における光強度の低い部分(レンズ周辺部)の光をカットしないために、入射光の光量を70〜90%程度維持して光量損失を防止することができる。光強度均一化レンズ63から出射する出射光は、光強度分布が略均一な平行光になる。
その他のレーザ光強度分布変換光学系として、2枚のレンズで構成された正の屈折力を持つ第1群および第2群(2群4枚構成)のアフォーカル系の光学系により、平行光である出射光束の光強度分布を平坦分布とすると共に平坦分布領域の径をズーミングにより連続的に変化させるものがある(例えば特許文献4参照。)。
特開平2001−228402号公報 特開平11―95109号公報 特開平11−258544号公報 特許平3−75612号公報
しかし、特許文献2に記載の光強度分布を均一化させる構成では、特許文献3に記載されたような光強度分布を変換する専用のレンズを使用するので、専用の型で作成されたり、曲率などの検査に工数がかかったりするので高価になる。また、光源のNA(開口数)が異なる場合への対応や出力光の径の変更が困難である。ここで、NAはNA=nsinθで定義され、nは屈折率、θは発散角である。
また、特許文献4に記載の光学系では、通常の球面レンズを使用するものの4枚での構成が必要となり、価格やスペースに影響する。
本発明は、このような問題点を解決しようとするものであり、光源からの発散光の光強度分布を均一化すると共に光利用効率を向上させ、光源のNAの違いを容易に吸収し、かつローコストな光強度分布補正光学系およびそれを用いた光学顕微鏡を提供することを目的とする。
本発明は次の通りの構成になった光強度分布補正光学系およびそれを用いた光学顕微鏡である。
(1)平面のXY方向で大きく発散角が異なる入射光の強度分布を平坦な強度分布に補正する光強度分布補正光学系において、
前記入射光の大きな発散角の方向に正の屈折力を持ち、その直角方向に屈折力を持たない少なくとも1つのシリンドリカルレンズから成る第1レンズ群と、
この第1レンズ群の後段に配置され、前記入射光の小さな発散角の方向に正の屈折力を持ち、その直角方向に屈折力を持たない少なくとも1つのシリンドリカルレンズから成る第2レンズ群と、
を有し、
平面のXY方向で大きく発散角が異なる点光源からの入射光をコリメートすると共に、各レンズ群の球面収差により前記入射光の強度分布を平坦にして出射することを特徴とする光強度分布補正光学系。
(2)前記入射光の強度分布はガウス分布またはエアリー分布であることを特徴とする(1)に記載の光強度分布補正光学系。
(3)前記平面のXY方向で大きく発散が異なる点光源は、レーザダイオードであることを特徴とする(1)または(2)に記載の光強度分布補正光学系。
(4)前記第2レンズ群の球面収差の収差量は、前記第2レンズ群の焦点距離の40%以上であることを特徴とする(1)から(3)のいずれかに記載の光強度分布補正光学系。
(5)光源からの入射光を対物レンズにより試料面に照射する光学顕微鏡において、
(1)から(4)のいずれかに記載の光強度分布補正光学系を用いて前記入射光をコリメートすると共に、各レンズ群の球面収差により前記入射光の強度分布を平坦にして前記対物レンズに入射させることを特徴とする光学顕微鏡。
本発明によれば、以下のような効果がある。
請求項1から4に記載の発明によれば、平面においてX方向とY方向のNAが大きく異なる半導体レーザダイオードなどからの発散光の光強度分布を均一化させること、および光源からの発散光を高効率で使用することができる。
請求項5に記載の発明によれば、光源からの発散光の光強度分布を均一化すると共に光利用効率を向上させ、光源のNAの違いを容易に吸収し、かつローコストな光学顕微鏡を実現できる。
本発明に係る光強度分布補正光学系の第1の実施例を示す構成図である。 レンズの球面収差を説明する説明図である。 第1の実施例における光強度分布補正の効果を表した図である。 本発明に係る光強度分布補正光学系の第2の実施例を示す構成図である。 第2の実施例における光強度分布補正の効果を表した図である。 特許文献2に記載の共焦点顕微鏡の構成図である。
以下図面を用いて本発明を詳細に説明する。図1は本発明に係る光強度分布補正光学系の第1の実施例を示す構成図である。なお、本実施例の光学系を従来例(図6)に記載した共焦点顕微鏡のコリメータレンズと光強度均一化レンズの代わりに配置する。
図1において、光源1は、半導体レーザダイオード(以下、LDという。)、発光ダイオード(以下、LEDという。)または光ファイバの端面などの点光源であって、発散光を発光する。第1凸レンズ2は、光源1からの発散光を正の屈折力により光束を光軸側に屈折させてビーム径を絞りながら凹レンズ3に入射させる。凹レンズ3は、第1凸レンズ2の出射光を負の屈折力により光束を外側に屈折させてほぼ平行光にする。各レンズの球面収差は、光源から出力された際の光強度のガウス分布を平坦な光強度分布にする。
なお、特許請求の範囲に記載した正の屈折力を持つ第1レンズ群が第1凸レンズに、負の屈折力を持つ第2レンズ群が凹レンズに、正の屈折力を持つ第3レンズ群が第2凸レンズに相当する。また、それぞれのレンズ群は、1枚のレンズに限らず、複数のレンズにより構成しても良い。
このことを図2を用いて説明する。図2は、レンズの球面収差を説明する説明図である。
図2(a)において、凸レンズ21では、球面収差により、その外周側に入射する光束はレンズ近くの焦点距離f1に収束し、内周に入射する光束はf1よりも遠い焦点距離f2に収束する。
図2(b)において、凹レンズ22では、球面収差により、その外周側に入射する光束は、広がり角が大きく、内周に入射する光束は広がり角が小さい。図2(b)において焦点距離f3,f4は、平行光が入射した際の発散する光束の延長線(破線)が収束する点までの距離である。この焦点距離が、球面収差により、凹レンズ22の外周では短く(f3)、内周では遠くなる(f4)。
図1に戻り、第1凸レンズ2では、球面収差により、光強度の高い中心部の光束は平行に近くなり、光強度の弱い周辺部の光束は中心部に集められる。
また、凹レンズ3は、第1凸レンズ2でビーム径全体が絞られるため、凹レンズ3の内側にビームが入射するので凹レンズ3の球面収差は弱くなり、ビーム全体を平行光に近くすると共に光強度分布を平坦にすることができる。第2凸レンズ4は、絞られたビーム径を拡大することでズーミングを可能にする。なお、本発明では、第1凸レンズ2、凹レンズ3および第2凸レンズ4の球面収差を組み合わせて、より均一な光強度分布を実現している。この場合、球面収差量としては、第1凸レンズにおいて、その合成焦点距離のほぼ40%以上あれば、このような効果が期待できる。
図3は、第1の実施例における光強度分布補正の効果を表した図である。
図3(a),(b)において、縦軸はビームの相対強度を示し、横軸はビーム径を示している。なお、入射光はNA=0.09の光ファイバ端面からの発散光である。
図3(a)は、光強度分布補正前のビームの強度分布(ガウス分布)であって、ビームの中心に強度のピークがあり、周辺になるほど強度が減衰していく様子がわかる。
これに対して、図3(b)は、光強度分布補正後の分布であって、光強度は、ビームの中心からの距離aで急峻に減衰しているが、必要な視野2aの内部では、その分布がほぼ均一に補正されていることが分かる。
また、光強度分布を補正した場合でも、ビーム強度のピーク(ビームの中心)と、そこからの距離aにおけるビーム強度の差で示したシェーディングSの値は、ほぼ同一といえる。
この結果からビーム強度分布は、許容できるシェーディングS以内に平坦化された状態であって、アパーチャ(視野径2a)への入射効率は、補正前ではファイバからの出射光量のおよそ22%であったものが、補正後にはおよそ58%となり、2.6倍に改善された。
なお、本実施例において、第1凸レンズ2および凹レンズ3は近接させているが、間に空間あっても良い。ただし、これらのレンズが接着されていれば、スペースが小さく扱いやすい。
また、光源は、ファイバ端面からの発散光のみならず、LDやLEDなどの点光源であっても良い。加えて自然光でも良い。
さらに、補正の対象となる発散光の光強度分布はガウス分布のみならず、エアリー分布でも良い。
以上のように、球面レンズ3枚で発散光をコリメートすると共に、光強度分布を必要な視野内では平坦に補正できるので非常に安価となる。また、ファイバなどのNAの違いに応じてレンズのパラメータを変更することにより、容易にNAの違いを吸収できる。さらに、ビームのエキスパンドも特許文献4のようなレンズ4枚ではなく、この3枚で実現できる。
しかし、光ファイバは平面において同一のNAをもつが、LDは平面においてX方向とY方向のNAが大きく異なる。このようなLDからの発散光は、前述の実施例1の構成では、平面上のすべての方向に対して光強度分布を均一化することは困難である。図4を用いて、この問題を解決するための構成を説明する。
図4は、本発明に係る光強度分布補正光学系の第2の実施例を示す構成図である。なお、本実施例の光学系を従来例(図6)に記載した共焦点顕微鏡のコリメータレンズと光強度均一化レンズの代わりに配置する。
図4(a)は、平面図、(b)は側面図である。
図4において、第1シリンドリカルレンズ42は、短焦点距離f5であり、第2シリンドリカルレンズ43は長焦点距離f6であり、LD41の発光面は、各シリンドリカルレンズから焦点距離に相当する位置にある。また、これらシリンドリカルレンズは90°回転させて設置される。これは、シリンドリカルレンズが、半円に見える断面方向には曲率を持っているので光は曲げられるが、方形に見える断面方向には曲率がないために光が素通りする特性を利用するためである。
LD41からの発散光のうち広がり角の大きい面の光束は、第1シリンドリカルレンズ42で平行光に変換され、90°回転させて配置した第2シリンドリカルレンズ43を素通りする。
一方、広がり角の小さい面(広がり角の大きい面に直交している面)の光束は第1シリンドリカルレンズ42を素通りして、第2シリンドリカルレンズ43で平行光に変換される。
この時、各シリンドリカルレンズの収差により、平面で出射NAが異なる光源からの発散光を均一な光強度分布にする。この場合、必要な球面収差としては、第2シリンドリカルレンズで、焦点距離f6のほぼ40%以上あれば、このような効果を期待できる。
なお、特許請求の範囲に記載したシリンドリカルレンズから成る第1レンズ群は、第1シリンドリカルレンズに、第2レンズ群は、第2シリンドリカルレンズに相当する。
また、各レンズ群は、1つのシリンドリカルレンズに限らず、複数のシリンドリカルレンズで構成しても良い。
図5は、第2の実施例における光強度分布補正の効果を表した図である。
図5(a)は、補正前、図5(b)は補正後の強度分布を、強度の等しい点を連ねた曲線(水平曲線)により表示したものである。
図5(a)は補正前であって、LDのX方向とY方向のNAが大きく異なるため、X方向のビーム幅とY方向のビーム幅が異なり、楕円形を呈している。また、水平曲線は、光強度分布がガウス分布であることを表している。
これに対して、図5(b)は、補正後であって、X方向のビーム幅とY方向のビーム幅が同一となっている。また、水平曲線は、外周のみ密集しており光強度分布が均一化されたことを表している。
また、補正前後の光量比は、実測値で4.5倍に向上するという結果がでている。
以上により、平面においてX方向とY方向のNAが大きく異なるLDなどからの発散光をコリメートすると共に必要な視野内で光強度分布を均一化させること、および光源からの発散光を高効率で使用することができる。
なお、本実施例において、補正の対象となる発散光の光強度分布はガウス分布のみならず、エアリー分布でも良い。
また、本発明は、上記実施例に限定されることなく、その本質から逸脱しない範囲で更に多くの変更、変形をも含むものである。
1 光源
2 第1凸レンズ
3 凹レンズ
4 第2凸レンズ
41 LD
42 第1シリンドリカルレンズ
43 第2シリンドリカルレンズ

Claims (5)

  1. 平面のXY方向で大きく発散角が異なる入射光の強度分布を平坦な強度分布に補正する光強度分布補正光学系において、
    前記入射光の大きな発散角の方向に正の屈折力を持ち、その直角方向に屈折力を持たない少なくとも1つのシリンドリカルレンズから成る第1レンズ群と、
    この第1レンズ群の後段に配置され、前記入射光の小さな発散角の方向に正の屈折力を持ち、その直角方向に屈折力を持たない少なくとも1つのシリンドリカルレンズから成る第2レンズ群と、
    を有し、
    平面のXY方向で大きく発散角が異なる点光源からの入射光をコリメートすると共に、各レンズ群の球面収差により前記入射光の強度分布を平坦にして出射することを特徴とする光強度分布補正光学系。
  2. 前記入射光の強度分布はガウス分布またはエアリー分布であることを特徴とする請求項1に記載の光強度分布補正光学系。
  3. 前記平面のXY方向で大きく発散角が異なる点光源は、レーザダイオードであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の光強度分布補正光学系。
  4. 前記第2レンズ群の球面収差の収差量は、前記第2レンズ群の焦点距離の40%以上であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の光強度分布補正光学系。
  5. 光源からの入射光を対物レンズにより試料面に照射する光学顕微鏡において、
    請求項1から請求項4のいずれかに記載の光強度分布補正光学系を用いて前記入射光をコリメートすると共に、各レンズ群の球面収差により前記入射光の強度分布を平坦にして前記対物レンズに入射させることを特徴とする光学顕微鏡。
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