JP2011199101A - 絶縁ゲートバイポーラトランジスタ - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 85
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 4
- 210000000746 body region Anatomy 0.000 description 35
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 19
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 11
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 6
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 4
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
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- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Abstract
【解決手段】 絶縁ゲートバイポーラトランジスタ100は、第1導電型の第1半導体領域8と、第2導電型の第2半導体領域10と、トレンチゲート24と、ダミートレンチゲート32を備えている。第2半導体領域10は、第1半導体領域8上に設けられている。トレンチゲート24は、第2半導体領域10を貫通して第1半導体領域8内にまで伸びている。ダミートレンチゲート32は、少なくとも第1半導体領域8と第2半導体領域10が接する深さにおいて、トレンチゲート24から間隔をおいて配置されている。また、ダミートレンチゲート32は、トレンチゲート24から絶縁されている。ダミートレンチゲート32は、第1半導体領域8内においてトレンチゲート24に向けて突出する突出部40を有している。
【選択図】図1
Description
(特徴1)トレンチゲート及びダミートレンチゲートは、第1半導体領域の表面に直交する方向に伸びており、両者は平行に配置されている。
(特徴2)トレンチゲートは、ゲート電極とそのゲート電極を被覆するゲート絶縁膜を有している。ダミートレンチゲートは、ダミーゲート電極とそのダミーゲート電極を被覆するダミーゲート絶縁膜を有している。
(特徴3)突出部は、ダミーゲート電極とダミーゲート絶縁膜をトレンチゲートに向かって突出させることにより形成されている。
10:第2半導体領域
12:第3半導体領域
16:表面電極
24:トレンチゲート
32:ダミートレンチゲート
40:突出部
Claims (5)
- 第1導電型の第1半導体領域と、
第1半導体領域上に設けられている第2導電型の第2半導体領域と、
第2半導体領域を貫通して第1半導体領域内にまで伸びているトレンチゲートと、
少なくとも第1半導体領域と第2半導体領域が接する深さにおいて前記トレンチゲートから間隔をおいて配置されているとともに前記トレンチゲートから絶縁されているダミートレンチゲートを備えており、
前記ダミートレンチゲートが、第1半導体領域内において前記トレンチゲートに向けて突出する突出部を有している絶縁ゲートバイポーラトランジスタ。 - 前記ダミートレンチゲートが第2半導体領域を貫通して第1半導体領域内にまで伸びており、
第2半導体領域の表面における前記ダミートレンチゲートと前記トレンチゲートとの間隔をaとし、
前記突出部と前記トレンチゲートとの間隔をbとしたときに、
0<b/a≦0.2の関係にある請求項1の絶縁ゲートバイポーラトランジスタ。 - 前記突出部の底面が前記ダミートレンチゲートの底面である請求項1又は2の絶縁ゲートバイポーラトランジスタ。
- 第1半導体領域と第2半導体領域が接する面から前記トレンチゲートの底面までの距離をcとし、
第1半導体領域と第2半導体領域が接する面から前記ダミートレンチゲートの底面までの距離をdとしたときに、
1.0<d/c≦2.0の関係にある請求項3の絶縁ゲートバイポーラトランジスタ。 - 第2半導体領域の表面に臨むともに前記トレンチゲートに接する範囲に形成されている第1導電型の第3半導体領域と、
第3半導体領域と前記ダミートレンチゲートを導通させる表面電極を備えている請求項2から4のいずれか1項に記載の絶縁ゲートバイポーラトランジスタ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010065675A JP5531700B2 (ja) | 2010-03-23 | 2010-03-23 | 絶縁ゲートバイポーラトランジスタ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010065675A JP5531700B2 (ja) | 2010-03-23 | 2010-03-23 | 絶縁ゲートバイポーラトランジスタ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011199101A true JP2011199101A (ja) | 2011-10-06 |
JP5531700B2 JP5531700B2 (ja) | 2014-06-25 |
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ID=44876925
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010065675A Expired - Fee Related JP5531700B2 (ja) | 2010-03-23 | 2010-03-23 | 絶縁ゲートバイポーラトランジスタ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5531700B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9041098B2 (en) | 2012-12-18 | 2015-05-26 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor device |
CN105374863A (zh) * | 2014-08-25 | 2016-03-02 | 新唐科技股份有限公司 | 绝缘栅极双极性晶体管及其制造方法 |
US20160336404A1 (en) * | 2015-05-15 | 2016-11-17 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor device |
JP2016219774A (ja) * | 2015-05-15 | 2016-12-22 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
US20170025522A1 (en) * | 2015-05-15 | 2017-01-26 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor device |
JP2017028244A (ja) * | 2015-07-15 | 2017-02-02 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
US9680005B2 (en) | 2013-03-12 | 2017-06-13 | Infineon Technologies Ag | Semiconductor device having an active trench and a body trench |
US10825923B2 (en) | 2015-07-15 | 2020-11-03 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor device |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10294461A (ja) * | 1997-04-21 | 1998-11-04 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 絶縁ゲート形半導体素子 |
JP2001168333A (ja) * | 1999-09-30 | 2001-06-22 | Toshiba Corp | トレンチゲート付き半導体装置 |
JP2008021930A (ja) * | 2006-07-14 | 2008-01-31 | Denso Corp | 半導体装置 |
JP2008060138A (ja) * | 2006-08-29 | 2008-03-13 | Mitsubishi Electric Corp | 電力用半導体装置およびその製造方法 |
-
2010
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10294461A (ja) * | 1997-04-21 | 1998-11-04 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 絶縁ゲート形半導体素子 |
JP2001168333A (ja) * | 1999-09-30 | 2001-06-22 | Toshiba Corp | トレンチゲート付き半導体装置 |
JP2008021930A (ja) * | 2006-07-14 | 2008-01-31 | Denso Corp | 半導体装置 |
JP2008060138A (ja) * | 2006-08-29 | 2008-03-13 | Mitsubishi Electric Corp | 電力用半導体装置およびその製造方法 |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9041098B2 (en) | 2012-12-18 | 2015-05-26 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor device |
US10134885B2 (en) | 2013-03-12 | 2018-11-20 | Infineon Technologies Ag | Semiconductor device having an active trench and a body trench |
US11309410B2 (en) | 2013-03-12 | 2022-04-19 | Infineon Technologies Ag | Semiconductor device having active and inactive semiconductor mesas |
DE102014103049B4 (de) * | 2013-03-12 | 2020-10-08 | Infineon Technologies Ag | Halbleitervorrichtung |
US10680089B2 (en) | 2013-03-12 | 2020-06-09 | Infineon Technologies Ag | Semiconductor device having an active trench and a body trench |
US9680005B2 (en) | 2013-03-12 | 2017-06-13 | Infineon Technologies Ag | Semiconductor device having an active trench and a body trench |
US10388776B2 (en) | 2013-03-12 | 2019-08-20 | Infineon Technologies Ag | Semiconductor device having an active trench and a body trench |
CN105374863A (zh) * | 2014-08-25 | 2016-03-02 | 新唐科技股份有限公司 | 绝缘栅极双极性晶体管及其制造方法 |
JP2016219774A (ja) * | 2015-05-15 | 2016-12-22 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
US10217738B2 (en) * | 2015-05-15 | 2019-02-26 | Smk Corporation | IGBT semiconductor device |
US9929260B2 (en) * | 2015-05-15 | 2018-03-27 | Fuji Electric Co., Ltd. | IGBT semiconductor device |
US20170025522A1 (en) * | 2015-05-15 | 2017-01-26 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor device |
US20160336404A1 (en) * | 2015-05-15 | 2016-11-17 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor device |
JP2017028244A (ja) * | 2015-07-15 | 2017-02-02 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
US10825923B2 (en) | 2015-07-15 | 2020-11-03 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor device |
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A711 | Notification of change in applicant |
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