JP2011187902A - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】真空容器101、該真空容器内に配置され被処理材である試料を載置して保持する試料載置用電極102、アンテナコイルを備え、前記真空容器内に供給された処理ガスに前記アンテナコイルを介して高周波電界を供給してプラズマを生成し、生成されたプラズマを用いて前記試料にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、前記試料載置電極の試料載置面に対向して電界透過窓およびアンテナコイルを備え、前記電界透過窓は放射状に形成した複数の流路を備え、処理ガスを前記透過窓に形成した流路の外周側から供給して内周側から真空容器内に給気するとともに、前記試料載置電極の外周の前記真空容器内周側を通して排気する。
【選択図】図2
Description
従来のプラズマ処理装置としては、真空容器外周にコイル状のアンテナを設けた誘導型のプラズマ処理装置、あるいは真空容器内にマイクロ波を導入するプラズマ処理装置等が知られている。これらいずれの処理装置においても、不揮発性材料をエッチングする場合における真空容器内壁への堆積物の対策が十分でないため、前記大気開放を伴う手作業による洗浄を繰り返し行っている。前記手作業による洗浄は、洗浄を開始すると次の試料の処理開始までに6〜12時間も要すことから装置の稼動効率が大幅に低下する。
102 被処理基板載置電極
103 電界透過窓
104 ファラデーシールド
105 アンテナコイル
201 ガス流路
202 シャワー孔
501 ガス流路
Claims (6)
- 真空容器、該真空容器内に配置され被処理材である試料を載置して保持する試料載置電極、アンテナコイルを備え、前記真空容器内に供給された処理ガスに前記アンテナコイルを介して高周波電界を供給してプラズマを生成し、生成されたプラズマを用いて前記試料にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、
前記試料載置電極の試料載置面に対向して電界透過窓およびアンテナコイルを備え、
前記電界透過窓は放射状に形成した複数の流路を備え、処理ガスを前記透過窓に形成した流路の外周側から供給して内周側から真空容器内に給気するとともに、前記試料載置電極の外周の前記真空容器内周側を通して排気することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置において、
前記電界透過窓の外側面には、所定のバイアス電圧が印加されるファラデーシールドを備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置において、
前記流路はアンテナコイルにより印加される電界の方向と直交することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置において、
前記流路の幅は、前記処理ガスの平均自由行程以下であることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記流路の内面は導電体で構成されていることを特徴とするプラズマ処理装置。
- 真空容器内に配置され被処理材である試料を載置して保持する試料載置電極と、アンテナコイルを備え、前記真空容器内に供給された処理ガスに前記アンテナコイルを介して高周波電界を供給してプラズマを生成し、生成されたプラズマを用いて前記試料にプラズマ処理を施すプラズマ処理方法において、
前記試料載置電極の試料載置面に対向して電界透過窓およびアンテナコイルを備え、
前記電界透過窓は放射状に形成した複数の流路を備え、処理ガスを前記透過窓に形成した流路の外周側から供給して内周側から真空容器内に給気し、前記試料載置電極の外周の前記真空容器内周側を通して排気することを特徴とするプラズマ処理方法。
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