JP2011187649A - 転写方法 - Google Patents
転写方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011187649A JP2011187649A JP2010050802A JP2010050802A JP2011187649A JP 2011187649 A JP2011187649 A JP 2011187649A JP 2010050802 A JP2010050802 A JP 2010050802A JP 2010050802 A JP2010050802 A JP 2010050802A JP 2011187649 A JP2011187649 A JP 2011187649A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- curable resin
- ultraviolet curable
- moving
- mold
- roller
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
【解決手段】微細な転写パターンが形成されたシート状のモールド3のパターン形成面を基板1上に設けられた紫外線硬化樹脂2に対向させ、押圧部材7によってモールド3を紫外線硬化樹脂に押圧した状態で押圧部材7又は基板1の少なくとも一方を他方に対して相対的に直線的に移動させながら紫外線硬化樹脂2を硬化させて転写パターンを紫外線硬化樹脂2に転写する。移動方向Mにおける移動終端9側の紫外線硬化樹脂2の量が移動始端8側の紫外線硬化樹脂2の量よりも少なくなるように紫外線硬化樹脂2を基板1上に設ける。
【選択図】図2
Description
ローラ140を移動する場合、ローラ140を固定し、基板110をM方向との逆方向に直線的に移動させてもよい。これらの移動時には、モールド130は定位置に固定されている。
2 紫外線硬化樹脂
3 モールド
7 ローラ
8 移動始端
9 移動終端
Claims (2)
- 微細な転写パターンが形成されたシート状のモールドのパターン形成面を基板上に設けられた紫外線硬化樹脂に対向させ、押圧部材によって前記モールドを紫外線硬化樹脂に押圧した状態で押圧部材又は基板の少なくとも一方を他方に対して相対的に直線的に移動させながら紫外線硬化樹脂を硬化させて前記転写パターンを紫外線硬化樹脂に転写する方法において、
前記移動方向における移動終端側の紫外線硬化樹脂の量が移動始端側の紫外線硬化樹脂の量よりも少なくなるように紫外線硬化樹脂を基板上に設けることを特徴とする転写方法。 - 請求項1記載の転写方法であって、
前記紫外線硬化樹脂は、以下の(1)〜(4)のいずれか又は組み合わせによって基板上に設けられていることを特徴とする転写方法。
(1)前記移動始端側から移動終端側に向かって紫外線硬化樹脂の厚さが連続して次第に薄くなるように設ける。
(2)前記移動始端側から移動終端側に向かって紫外線硬化樹脂の厚さが階段状に薄くなるように設ける。
(3)前記移動方向と交差する方向における紫外線硬化樹脂の幅が前記移動始端側から移動終端側に向かって連続して次第に小さくなるように設ける。
(4)前記移動方向と交差する方向における紫外線硬化樹脂の幅が前記移動始端側から移動終端側に向かって階段状に小さくなるように設ける。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010050802A JP5559574B2 (ja) | 2010-03-08 | 2010-03-08 | 転写方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010050802A JP5559574B2 (ja) | 2010-03-08 | 2010-03-08 | 転写方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011187649A true JP2011187649A (ja) | 2011-09-22 |
JP5559574B2 JP5559574B2 (ja) | 2014-07-23 |
Family
ID=44793600
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010050802A Active JP5559574B2 (ja) | 2010-03-08 | 2010-03-08 | 転写方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5559574B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016162870A (ja) * | 2015-03-02 | 2016-09-05 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | インプリント装置 |
JP2018140578A (ja) * | 2017-02-28 | 2018-09-13 | 東芝機械株式会社 | 転写方法 |
US10105874B2 (en) | 2015-05-14 | 2018-10-23 | Panasonic Intellectial Property Management Co., Ltd. | Imprinting method and imprinting device |
CN110908238A (zh) * | 2012-09-06 | 2020-03-24 | Ev 集团 E·索尔纳有限责任公司 | 用于压印的结构印模、装置以及方法 |
US11472212B2 (en) | 2016-09-05 | 2022-10-18 | Ev Group E. Thallner Gmbh | Device and method for embossing micro- and/or nanostructures |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05297225A (ja) * | 1992-04-22 | 1993-11-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 両面レリーフパターン複製方法及び装置 |
JP2001191345A (ja) * | 2000-01-11 | 2001-07-17 | Three M Innovative Properties Co | プラズマディスプレイパネル用基板を製造するための装置、成形型及び方法 |
JP2004050493A (ja) * | 2002-07-17 | 2004-02-19 | Three M Innovative Properties Co | 可とう性成形型及びそれを用いた微細構造体の製造方法 |
JP2005066836A (ja) * | 2003-08-22 | 2005-03-17 | Three M Innovative Properties Co | 可とう性成形型及びその製造方法ならびに微細構造体の製造方法 |
JP2009073873A (ja) * | 2007-09-19 | 2009-04-09 | Toray Ind Inc | 成形型用硬化性樹脂組成物、成形型の製造方法、構造体の製造方法およびディスプレイ用部材の製造方法 |
JP2010001419A (ja) * | 2008-06-23 | 2010-01-07 | Alps Electric Co Ltd | Uvナノインプリント成型体及びその製造方法 |
-
2010
- 2010-03-08 JP JP2010050802A patent/JP5559574B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05297225A (ja) * | 1992-04-22 | 1993-11-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 両面レリーフパターン複製方法及び装置 |
JP2001191345A (ja) * | 2000-01-11 | 2001-07-17 | Three M Innovative Properties Co | プラズマディスプレイパネル用基板を製造するための装置、成形型及び方法 |
JP2004050493A (ja) * | 2002-07-17 | 2004-02-19 | Three M Innovative Properties Co | 可とう性成形型及びそれを用いた微細構造体の製造方法 |
JP2005066836A (ja) * | 2003-08-22 | 2005-03-17 | Three M Innovative Properties Co | 可とう性成形型及びその製造方法ならびに微細構造体の製造方法 |
JP2009073873A (ja) * | 2007-09-19 | 2009-04-09 | Toray Ind Inc | 成形型用硬化性樹脂組成物、成形型の製造方法、構造体の製造方法およびディスプレイ用部材の製造方法 |
JP2010001419A (ja) * | 2008-06-23 | 2010-01-07 | Alps Electric Co Ltd | Uvナノインプリント成型体及びその製造方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110908238A (zh) * | 2012-09-06 | 2020-03-24 | Ev 集团 E·索尔纳有限责任公司 | 用于压印的结构印模、装置以及方法 |
JP2016162870A (ja) * | 2015-03-02 | 2016-09-05 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | インプリント装置 |
US10105874B2 (en) | 2015-05-14 | 2018-10-23 | Panasonic Intellectial Property Management Co., Ltd. | Imprinting method and imprinting device |
US11472212B2 (en) | 2016-09-05 | 2022-10-18 | Ev Group E. Thallner Gmbh | Device and method for embossing micro- and/or nanostructures |
JP2018140578A (ja) * | 2017-02-28 | 2018-09-13 | 東芝機械株式会社 | 転写方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5559574B2 (ja) | 2014-07-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6173354B2 (ja) | 光透過型インプリント用モールド、大面積モールドの製造方法 | |
TWI428710B (zh) | 壓印微影術 | |
JP5942551B2 (ja) | ナノインプリント用マスターテンプレート及びレプリカテンプレートの製造方法 | |
US20170157836A1 (en) | Mold for step-and-repeat imprinting, and method for producing same | |
JP4398423B2 (ja) | インプリント・リソグラフィ | |
JP5559574B2 (ja) | 転写方法 | |
US20100052216A1 (en) | Nano imprint lithography using an elastic roller | |
KR20140109624A (ko) | 대면적 임프린트 장치 및 방법 | |
JP2009158731A (ja) | 微細構造転写装置および微細構造転写方法 | |
JP6203628B2 (ja) | 微細パターン形成方法 | |
JP2008098633A (ja) | インプリントリソグラフィ | |
JP2013000944A (ja) | 光学シート及びその製造方法 | |
JP2008200997A (ja) | ナノインプリント用金型の製造方法 | |
EP2138896B1 (en) | Nano imprinting method and apparatus | |
JP6281592B2 (ja) | レプリカテンプレートの製造方法 | |
JP2011216810A (ja) | 転写装置及び転写方法 | |
JP5349777B2 (ja) | 光学素子の製造方法 | |
KR20180054666A (ko) | 임프린트용 몰드의 제조 방법 | |
JP7360064B2 (ja) | フィラー充填フィルム、枚葉フィルム、積層フィルム、貼合体、及びフィラー充填フィルムの製造方法 | |
KR101751683B1 (ko) | 고분자 나노 구조체의 제조 방법 | |
JP5752889B2 (ja) | 転写方法 | |
WO2009145006A1 (ja) | 超音波振動を利用したインプリント方法及び装置 | |
JP2011071399A (ja) | ナノインプリントパターン形成方法 | |
JP4569185B2 (ja) | フィルム構造体の形成方法及びフィルム構造体 | |
JP5499553B2 (ja) | ナノインプリントパターン形成方法およびそれに用いられる基材 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121206 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130917 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130924 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140603 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140606 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5559574 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |