JP2011183674A - 複製画及びその製造方法 - Google Patents
複製画及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011183674A JP2011183674A JP2010051523A JP2010051523A JP2011183674A JP 2011183674 A JP2011183674 A JP 2011183674A JP 2010051523 A JP2010051523 A JP 2010051523A JP 2010051523 A JP2010051523 A JP 2010051523A JP 2011183674 A JP2011183674 A JP 2011183674A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- ink
- forming
- calcium carbonate
- powder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
【解決手段】紙基材10上に形成され、寒水粉と炭酸カルシウム粉とを含む下地凹凸層12と、下地凹凸層12上であって、原画の絵柄に同調して形成されるUVインキ層13と、UVインキ層13上に形成され、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含む隠蔽層14と、少なくとも隠蔽層上に形成される受容層16と、受容層16上に形成される絵柄層17と、を有することを特徴とする複製画1。
【選択図】図1
Description
該下地凹凸層上であって、原画の絵柄に同調して形成されるUVインキ層と、
該UVインキ層上に形成され、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含む隠蔽層と、
少なくとも該隠蔽層上に形成される受容層と、
該受容層上に形成される絵柄層と、を有することを特徴とする。
該下地凹凸層上であって、原画の絵柄に同調して形成されるUVインキ層と、
該UVインキ層上に形成され、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含む隠蔽層と、
該下地凹凸層と該隠蔽層とを覆うように形成され、炭酸カルシウム粉を含む補助隠蔽層と、
該補助隠蔽層のうち、少なくとも該隠蔽層を覆う補助隠蔽層上に形成される受容層と、
該受容層上に形成される絵柄層と、を有することを特徴とする。
前記下地凹凸層上に、UVインキを用いてUVインキ層を形成する工程と、
前記UVインキ層上に、水性エマルジョンと、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含有する隠蔽層形成用インキを用いて隠蔽層を形成する工程と、
少なくとも前記隠蔽層上に、受容層形成用インキを用いて受容層を形成する工程と、
前記受容層上に、インクジェットプリンターによって絵柄層を形成する工程と、を有し、
前記UVインキ層を形成する工程が、前記原画の表面の凹凸形状に関するデータに基づいてスクリーン版を作製する工程と、該スクリーン版を使用して前記原画の表面の凹凸形状に同調するように前記UVインキ層を形成する工程と、を有することを特徴とする。
前記下地凹凸層上に、UVインキを用いてUVインキ層を形成する工程と、
前記UVインキ層上に、水性エマルジョンと、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含有する隠蔽層形成用インキを用いて、隠蔽層を形成する工程と、
前記隠蔽層上及び前記下地凹凸層上に、水性エマルジョンと、炭酸カルシウム粉とを含有する補助隠蔽層形成用インキを用いて、補助隠蔽層を形成する工程と、
前記補助隠蔽層のうち、少なくとも前記隠蔽層を覆っている補助隠蔽層上に、受容層形成用インキを用いて、受容層を形成する工程と、
前記受容層上に、インクジェットプリンターによって絵柄層を形成する工程と、を有し、
前記UVインキ層を形成する工程が、前記原画の表面の凹凸形状に関するデータに基づいてスクリーン版を作製する工程と、該スクリーン版を使用して前記原画の表面の凹凸形状に同調するように前記UVインキ層を形成する工程と、を有することを特徴とする。
(a)原画の表面形状を撮影(スキャニング)して撮影画像を得る
(b)得られた画像を原画の表面の凹凸形状の3Dデータに変換する
(c)上記3Dデータをグレースケール画像に変換する
(d)上記グレースケール画像に基づいて、凸状領域に該当する部分について孔(開口)を有するスクリーン版を作製する
図1に示される複製画を、以下に示す方法により作製した。
紙基材10である画材紙(商品名:ロベールホワイト、共同印刷製、坪量:276g/m2)上に、シルクインキ(商品名:JRPホワイト、株式会社小林美研製)を塗布して、ホワイトインキ層11を形成した。尚、ホワイトインキ層11は、下記に示す条件下で形成した。
印刷方式:シルクスクリーン
版・感材膜厚:8μm
版・メッシュ:200メッシュ
版・網:ベタ(100%)
次に、ホワイトインキ層11上に、下地凹凸層用インキ(桜宮化学株式会社製、エチレン酢酸ビニルエマルジョン含有)を塗布して下地凹凸層12を形成した。尚、下地凹凸層12は、下記に示す条件下で形成した。
印刷方式:シルクスクリーン
版・感材膜厚:8μm
版・メッシュ:80メッシュ
版・網:ベタ(100%)
次に、下地凹凸層12上であって、塩化ビニル系透明インキ(商品名:UV4700クリアー、株式会社小林美研製)を塗布してUVインキ層13を形成した。尚、UVインキ層13は、原画のスキャニングによる原画の凹凸の評価に基づいて凸部に該当する領域に孔を有するスクリーンを使用し、かつ下記に示す条件下で形成した。
印刷方式:シルクスクリーン
版・感材膜厚:60〜70μm
版・メッシュ:80メッシュ
版・網:網点階調(60〜70線)
次に、UVインキ層13上に、隠蔽層用インキ(桜宮化学株式会社製、エチレン酢酸ビニルエマルジョン含有)を塗布して隠蔽層14を形成した。尚、隠蔽層14は、UVインキ層13を形成する際に使用したスクリーンと同じスクリーンを使用し、下記に示す条件下で形成した。
印刷方式:シルクスクリーン
版・感材膜厚:60〜70μm
版・メッシュ:80メッシュ
版・網:網点階調(60〜70線)
隠蔽層14を形成した後、下地凹凸層12及び隠蔽層14を覆うように、方解石(寒水石)の粉末が含まれていない補助隠蔽層用インキ(桜宮化学株式会社製、エチレン酢酸ビニルエマルジョン含有)を塗布して補助隠蔽層15を形成した。尚、補助隠蔽層15は、下記に示す条件下で形成した。
印刷方式:シルクスクリーン
版・感材膜厚:8μm
版・メッシュ:80メッシュ
版・網:ベタ(100%)
次に、補助隠蔽層15上に、受容層用インキ(商品名:KP−02コート(白)、桜宮化学株式会社製)を塗布して受容層16を形成した。尚、受容層16は、下記に示す条件下で形成した。
印刷方式:シルクスクリーン
版・感材膜厚:8μm
版・メッシュ:150メッシュ
版・網:ベタ(100%)
次に、受容層16上にインクジェットプリンターによって絵柄層17を形成した。以上により複製画を作製した。
作製した複製画を目視し、下記に示される項目の評価を行った。
(1)原画が有する質感(凹凸)の再現性
○:岩絵の具調が忠実に再現されている
△:岩絵の具調が少し再現されている
×:岩絵の具調が全く再現されていない
(2)照りの評価
○:照りがほとんど見られない
△:一部照りが見られる
×:UVインキ層を形成した領域の大半に照りが見られる
実施例1において、補助隠蔽層15の形成を省略したことを除いては実施例1と同様の方法により複製画を得た。
実施例1において、隠蔽層14を形成する際に、隠蔽層用インキを全面(UVインキ層13上及び下地凹凸層12上)に亘って塗布した。また補助隠蔽層15の形成を省略した。これらを除いては、実施例1と同様の方法により複製画を得た。
実施例1において、隠蔽層14の形成を省略したことを除いては、実施例1と同様の方法により複製画を得た。
実施例1において、UVインキ層13、隠蔽層14及び補助隠蔽層15の形成を省略したことを除いては、実施例1と同様の方法により複製画を得た。
実施例1において、隠蔽層14及び補助隠蔽層15の形成を省略したことを除いては、実施例1と同様の方法により複製画を得た。
10 紙基材
11 ホワイトインキ層
12 下地凹凸層
13 UVインキ層
14 隠蔽層
15 補助隠蔽層
16 受容層
17 絵柄層
Claims (5)
- 紙基材上に形成され、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含む下地凹凸層と、
該下地凹凸層上であって、原画の絵柄に同調して形成されるUVインキ層と、
該UVインキ層上に形成され、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含む隠蔽層と、
少なくとも該隠蔽層上に形成される受容層と、
該受容層上に形成される絵柄層と、
を有することを特徴とする複製画。 - 紙基材上に形成され、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含む下地凹凸層と、
該下地凹凸層上であって、原画の絵柄に同調して形成されるUVインキ層と、
該UVインキ層上に形成され、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含む隠蔽層と、
該下地凹凸層と該隠蔽層とを覆うように形成され、炭酸カルシウム粉を含む補助隠蔽層と、
該補助隠蔽層のうち、少なくとも該隠蔽層を覆う補助隠蔽層上に形成される受容層と、
該受容層上に形成される絵柄層と、
を有することを特徴とする複製画。 - 紙基材上に、水性エマルジョンと、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含有する下地凹凸層形成用インキを用いて、下地凹凸層を形成する工程と、
前記下地凹凸層上に、UVインキを用いてUVインキ層を形成する工程と、
前記UVインキ層上に、水性エマルジョンと、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含有する隠蔽層形成用インキを用いて、隠蔽層を形成する工程と、
少なくとも前記隠蔽層上に、受容層形成用インキを用いて、受容層を形成する工程と、
前記受容層上に、インクジェットプリンターによって絵柄層を形成する工程と、を有し、
前記UVインキ層を形成する工程が、前記原画の表面の凹凸形状に関するデータに基づいてスクリーン版を作製する工程と、該スクリーン版を使用して前記原画の表面の凹凸形状に同調するように前記UVインキ層を形成する工程と、を有することを特徴とする複製画の製造方法。 - 紙基材上に、水性エマルジョンと、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含有する下地凹凸層形成用インキを用いて、下地凹凸層を形成する工程と、
前記下地凹凸層上に、UVインキを用いてUVインキ層を形成する工程と、
前記UVインキ層上に、水性エマルジョンと、寒水粉と、炭酸カルシウム粉とを含有する隠蔽層形成用インキを用いて、隠蔽層を形成する工程と、
前記隠蔽層上及び前記下地凹凸層上に、水性エマルジョンと、炭酸カルシウム粉とを含有する補助隠蔽層形成用インキを用いて、補助隠蔽層を形成する工程と、
前記補助隠蔽層のうち、少なくとも前記隠蔽層を覆っている補助隠蔽層上に、受容層形成用インキを用いて、受容層を形成する工程と、
前記受容層上に、インクジェットプリンターによって絵柄層を形成する工程と、を有し、
前記UVインキ層を形成する工程が、前記原画の表面の凹凸形状に関するデータに基づいてスクリーン版を作製する工程と、該スクリーン版を使用して前記原画の表面の凹凸形状に同調するように前記UVインキ層を形成する工程と、を有することを特徴とする複製画の製造方法。 - 前記隠蔽層を形成する工程において、前記UVインキ層を形成する工程で使用したスクリーン版と同一の版を使用することを特徴とする請求項3又は4に記載の複製画の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010051523A JP5437860B2 (ja) | 2010-03-09 | 2010-03-09 | 複製画及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010051523A JP5437860B2 (ja) | 2010-03-09 | 2010-03-09 | 複製画及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011183674A true JP2011183674A (ja) | 2011-09-22 |
JP5437860B2 JP5437860B2 (ja) | 2014-03-12 |
Family
ID=44790533
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010051523A Active JP5437860B2 (ja) | 2010-03-09 | 2010-03-09 | 複製画及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5437860B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8777352B2 (en) | 2011-06-07 | 2014-07-15 | Seiko Epson Corporation | Printing device, printing method, and medium having recorded program |
JP7340438B2 (ja) | 2019-12-06 | 2023-09-07 | 株式会社ミマキエンジニアリング | 印刷物製造システムおよび印刷物製造方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7311997B2 (ja) | 2019-03-29 | 2023-07-20 | 日立Astemo株式会社 | 位置検出装置 |
-
2010
- 2010-03-09 JP JP2010051523A patent/JP5437860B2/ja active Active
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8777352B2 (en) | 2011-06-07 | 2014-07-15 | Seiko Epson Corporation | Printing device, printing method, and medium having recorded program |
JP7340438B2 (ja) | 2019-12-06 | 2023-09-07 | 株式会社ミマキエンジニアリング | 印刷物製造システムおよび印刷物製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5437860B2 (ja) | 2014-03-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6042888A (en) | Aesthetically pleasing print article and process to make the same | |
US20100295881A1 (en) | Method for simulating, fabricating, or duplicating an oil painting | |
JP4577909B1 (ja) | スクラッチ印刷物及びその製造方法 | |
JP2010162787A (ja) | 印刷物及び容器 | |
JP4504913B2 (ja) | 複製画の製造方法 | |
JP5437860B2 (ja) | 複製画及びその製造方法 | |
JP6606502B2 (ja) | 絵画の複製物の製造方法 | |
KR102014676B1 (ko) | 실사 표현이 가능한 전사지 및 이의 제작방법 | |
JPH07119281A (ja) | 絵柄同調化粧シート | |
JP5303956B2 (ja) | 印刷物 | |
JPH10202817A (ja) | 化粧シートおよびその製造方法 | |
JP3165651U (ja) | フォトスクラッチ印刷物 | |
JP2020082732A (ja) | 透かし形成方法及びその方法を使用した包装箱 | |
JP5031124B1 (ja) | スクラッチ印刷物、スクラッチ印刷用媒体及びその製造方法 | |
WO2020255798A1 (ja) | 疑似3d印刷画像を有する印刷基体及びその製造方法 | |
JP5038049B2 (ja) | 印刷用紙および複製画 | |
JP2008105389A (ja) | 印刷用紙および複製画 | |
JP2009262336A (ja) | 紙容器とその製造方法 | |
JP4184711B2 (ja) | 木目柄を有する化粧材 | |
JP3625337B2 (ja) | 化粧シ−ト | |
JP2005205616A (ja) | 高輝度印刷物 | |
KR20090012949A (ko) | 광택층에 의한 다중 시각 효과를 극대화한 인쇄물 및 그제조방법 | |
JP6074680B2 (ja) | 印刷体 | |
JP7472910B2 (ja) | 疑似3d印刷画像を有する印刷基体及びその製造方法 | |
JP2001191697A (ja) | 疑似的立体感を有する化粧材 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121207 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131127 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131203 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131212 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5437860 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |