JP2011171477A - 露光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 小型であり、低額化可能な露光装置を提供する。
【解決手段】 上面にアライメントマーク42が形成されている半導体ウエハ40に対して露光を行う露光装置10であって、半導体ウエハが載置されるステージ12と、ステージを移動させる移動手段13と、光を照射する投光手段26と、投光手段が照射した光を、ステージの側面に向かう光と、ステージの上面に向かう光とに分光する分光手段32、36と、ステージの側面に向かう光の反射光を検出することにより、ステージの位置を検出する位置検出手段26と、ステージの上面に向かう光が半導体ウエハのアライメントマークに照射されたときに生じる散乱光の有無を検出する散乱光検出手段30を有する。
【選択図】図1
【解決手段】 上面にアライメントマーク42が形成されている半導体ウエハ40に対して露光を行う露光装置10であって、半導体ウエハが載置されるステージ12と、ステージを移動させる移動手段13と、光を照射する投光手段26と、投光手段が照射した光を、ステージの側面に向かう光と、ステージの上面に向かう光とに分光する分光手段32、36と、ステージの側面に向かう光の反射光を検出することにより、ステージの位置を検出する位置検出手段26と、ステージの上面に向かう光が半導体ウエハのアライメントマークに照射されたときに生じる散乱光の有無を検出する散乱光検出手段30を有する。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体ウエハに対して露光を行う露光装置に関する。
特許文献1には、表面に感光性膜が形成されている半導体ウエハにレチクルの像を投影する露光装置が開示されている。感光性膜に対してレチクルの像を投影し、その後に感光性膜に所定の処理を施すことで、半導体ウエハの表面に所定パターンの膜(レジスト層等)を形成することができる。
露光を行う際には、半導体ウエハ上のレチクルの像を投影する位置を正確に制御する必要がある。このために、半導体ウエハの位置を正確に測定する必要がある。
従来において一般的に用いられている露光装置は、ステージと、投影光学系と、オフアクシスカメラと、撮影用光源と、移動手段と、投光手段と、位置検出手段を有している。ステージには、半導体ウエハが載置される。半導体ウエハの表面には、アライメントマークが形成されている。投影光学系は、ステージに載置されている半導体ウエハの表面にレチクルの像を投影する。オフアクシスカメラは、投影光学系を介さずに半導体ウエハの表面を撮影する。撮影用光源は、オフアクシスカメラの撮影軸に沿って光を照射する。移動手段は、ステージを移動させる。投光手段は、ステージの側面に向けて光を照射する。位置検出手段は、ステージの側面に向けて照射された光の反射光を検出することで、ステージの位置を検出する。
従来の露光装置では、撮影用光源により半導体ウエハの表面に光を照射しながら、オフアクシスカメラによって半導体ウエハの表面を撮影する。オフアクシスカメラの撮影範囲内の基準位置にアライメントマークが存在するようにステージを移動させ、その時のステージの位置を位置検出手段により検出する。このように、アライメントマークの位置を検出することで、ステージ上の半導体ウエハの位置や姿勢を特定することができる。半導体ウエハの位置及び姿勢を特定することで、レチクルの像を投影する半導体ウエハ上の位置を正確に制御することができる。
従来の露光装置では、撮影用光源により半導体ウエハの表面に光を照射しながら、オフアクシスカメラによって半導体ウエハの表面を撮影する。オフアクシスカメラの撮影範囲内の基準位置にアライメントマークが存在するようにステージを移動させ、その時のステージの位置を位置検出手段により検出する。このように、アライメントマークの位置を検出することで、ステージ上の半導体ウエハの位置や姿勢を特定することができる。半導体ウエハの位置及び姿勢を特定することで、レチクルの像を投影する半導体ウエハ上の位置を正確に制御することができる。
上述した従来の露光装置は、半導体ウエハの位置を測定するためにオフアクシスカメラと撮影用光源を有しているので、装置が大型となり、また、高額となるという問題があった。
上述した実情を鑑みて、本明細書では、小型であり、低額化可能な露光装置を提供することを目的とする。
本明細書で開示する露光装置は、上面にアライメントマークが形成されている半導体ウエハに対して露光を行う。この露光装置は、ステージと、移動手段と、投光手段と、分光手段と、位置検出手段と、散乱光検出手段を有する。ステージには、半導体ウエハが載置される。移動手段は、ステージを移動させる。投光手段は、光を照射する。分光手段は、投光手段が照射した光を、ステージの側面に向かう光と、ステージの上面に向かう光とに分光する。位置検出手段は、ステージの側面に向かう光の反射光を検出することにより、ステージの位置を検出する。散乱光検出手段は、ステージの上面に向かう光が半導体ウエハのアライメントマークに照射されたときに生じる散乱光の有無を検出する。
この露光装置では、投光手段が照射した光が、ステージの側面に向かう光とステージの上面に向かう光とに分光される。ステージの側面に向かう光は、位置検出手段でステージの位置を検出するために用いられる。ステージの上面に向かう光は、アライメントマークの検出用に用いられる。すなわち、ステージの上面(すなわち、半導体ウエハの上面)に向かう光がアライメントマークに照射されると、アライメントマークにおいて光が回折、反射等することで、散乱光が生じる。このため、散乱光の有無を散乱光検出手段で検出することで、光がアライメントマークに照射されているか否かを判別することができる。散乱光が生じているときに位置検出手段が示すステージの位置を読み取ることで、アライメントマークの位置を特定することができる。これにより、半導体ウエハの位置及び姿勢を特定することができる。
以上に説明したように、この露光装置は、1つの投光手段の光により、位置検出手段でステージの位置を検出することができるとともに、半導体ウエハの上面を照らすことができる。すなわち、半導体ウエハの上面を照らすための専用の光源が不要である。また、この露光装置では、半導体ウエハの上面を撮影することなく、散乱光の有無によりアライメントマークの位置を特定する。散乱光検出手段は、散乱光の有無を検出すものであり、半導体ウエハの上面を撮影するオフアクシスカメラよりも簡易な構造とすることができる。このように、半導体ウエハの上面を照らすための専用の光源が不要であり、半導体ウエハの上面を撮影するカメラも不要となるので、この露光装置は、従来の露光装置よりも小型化し、低額化することができる。
以上に説明したように、この露光装置は、1つの投光手段の光により、位置検出手段でステージの位置を検出することができるとともに、半導体ウエハの上面を照らすことができる。すなわち、半導体ウエハの上面を照らすための専用の光源が不要である。また、この露光装置では、半導体ウエハの上面を撮影することなく、散乱光の有無によりアライメントマークの位置を特定する。散乱光検出手段は、散乱光の有無を検出すものであり、半導体ウエハの上面を撮影するオフアクシスカメラよりも簡易な構造とすることができる。このように、半導体ウエハの上面を照らすための専用の光源が不要であり、半導体ウエハの上面を撮影するカメラも不要となるので、この露光装置は、従来の露光装置よりも小型化し、低額化することができる。
上述した露光装置は、ステージの上面のうち、半導体ウエハが載置される載置部の外部に、基準マークが形成されていることが好ましい。また、散乱光検出手段は、さらに、ステージの上面に向かう光が基準マークに照射されたときに生じる散乱光の有無を検出することが好ましい。
このような構成によれば、ステージの上面の基準マークと、半導体ウエハの上面のアライメントマークとの相対位置を特定することができる。これにより、より正確に半導体ウエハの位置及び姿勢を特定することができる。
このような構成によれば、ステージの上面の基準マークと、半導体ウエハの上面のアライメントマークとの相対位置を特定することができる。これにより、より正確に半導体ウエハの位置及び姿勢を特定することができる。
上述した露光装置は、散乱光検出手段により散乱光が有ることが検出されたときの位置検出手段による検出位置を記憶する記憶手段をさらに有することが好ましい。
図1は、実施例に係る露光装置10の概略構成を示している。図1に示すように、露光装置10は、ウエハステージ12、ステージ基部13、投影光学系14、レチクルステージ16、位置検出装置18、露光光源20、オンアクシスカメラ22、レーザ光源24、レーザ干渉計26、28、散乱光検出器30、及び、制御装置32を有している。
ウエハステージ12は、ステージ基部13上に設置されている。ステージ基部13は、ウエハステージ12を移動させる駆動機構を有している。ステージ基部13は、ウエハステージ12を、図1のX方向(水平面内の一方向)に移動させることができるとともに、図1のY方向(水平面内でX方向と直交する方向)に移動させることができる。
ウエハステージ12には、半導体ウエハ40が載置される。半導体ウエハ40の上面には、複数のアライメントマーク42が形成されている。アライメントマーク42は、半導体ウエハ40の上面から突出する凸状の構造物である。アライメントマーク42は、半導体ウエハ40の半導体装置とならない領域(例えば、ダイシングされる領域)内に形成されている。半導体ウエハ40の上面全体には感光性樹脂からなる感光性膜が形成されている。ウエハステージ12の上面のうち、半導体ウエハ40が載置される載置面より外側の領域には、基準マーク12aが形成されている。基準マーク12aは、ウエハステージ12の上面から突出する凸状の構造物である。
投影光学系14は、ウエハステージ12の上方に配置されている。投影光学系14は、複数のレンズが組合されることによって構成された光学系である。投影光学系14はその光軸が、ウエハステージ12の上面に対して垂直となるように配置されている。
投影光学系14の上方には、レチクルステージ16が配置されている。レチクルステージ16上には、レチクル60が載置される。図示していないが、レチクル60の上面には、半導体ウエハ40の感光性膜に転写されるべき所定のパターンが形成されている。また、レチクル60の上面には、複数のアライメントマークが形成されている。レチクルステージ16は、その上面が投影光学系14の光軸に対して垂直となるように配置されている。レチクルステージ16は、投影光学系14に対してX方向及びY方向に移動することができる。位置検出装置18は、レチクルステージ16のX方向及びY方向の位置を検出する。
レチクルステージ16の上方には、露光光源20が配置されている。露光光源20は、半導体ウエハ40の感光性膜が反応する波長の光を照射する。露光光源20は、投影光学系14に向けて光を照射する。露光光源20から照射された光は、レチクル60を透過して投影光学系14の上面に入射する。投影光学系14は、レチクル60を透過した光(レチクル60のパターン)を縮小した像を半導体ウエハ40の上面に投影する。
レチクルステージ16の上方には、ハーフミラー21、オンアクシスカメラ22、及び、レーザ光源24が配置されている。ハーフミラー21、オンアクシスカメラ22、及び、レーザ光源24は、投影光学系14に対して固定されている。オンアクシスカメラ22は、ハーフミラー21の上方に配置されている。レーザ光源24は、ハーフミラー21の側方に配置されている。レーザ光源24は、半導体ウエハ40の感光性膜が反応する波長のレーザ光を照射する。すなわち、レーザ光源24は、露光光源20と略同じ波長のレーザ光を照射する。レーザ光源24は、ハーフミラー21に向けてレーザ光を照射する。照射されたレーザ光は、ハーフミラー21で反射される。反射したレーザ光は、レチクル60を透過して投影光学系14に入射する。投影光学系14に入射したレーザ光は、投影光学系14の内部で屈折した後にウエハステージ12上に照射される。ウエハステージ12上にレーザ光が照射されると、反射光が生じる。反射光は、レーザ光の経路を逆方向に進行してハーフミラー21に到達する。反射光は、ハーフミラー21を透過してオンアクシスカメラ22に入射する。したがって、オンアクシスカメラ22は、ウエハステージ12上を撮影することができる。なお、投影光学系14の内部のレンズの屈折率は光の波長によって変化するが、露光光源20と略同じ波長のレーザ光源24を用いるので、オンアクシスカメラ22はウエハステージ12上を鮮明に撮影することができる。
図2は、レーザ干渉計26の構造を示している。図2に示すように、レーザ干渉計26は、レーザ光源26aと、ハーフミラー26bと、反射板26cと、光検出器26dと、演算装置26eを有している。レーザ光源26aは、ハーフミラー26bに向けてレーザ光を照射する。ハーフミラー26bでは、約半分のレーザ光が透過して直進し、残りのレーザ光が上方に反射される。
ハーフミラー26bを透過したレーザ光は、レーザ干渉計26bの外部に射出される。レーザ干渉計26の外部に射出されたレーザ光の一部は、後述するように、ウエハステージ12の側面で反射し、再度、レーザ干渉計26内に入射する。レーザ干渉計26内に入射したレーザ光は、ハーフミラー26bで下方に反射されて、光検出器26dに入射する。
一方、ハーフミラー26bで上方に反射されたレーザ光は、反射板26cで反射される。反射板26cで反射されたレーザ光は、ハーフミラー26bを透過して、光検出器26dに入射する。
このように、光検出器26dには、レーザ干渉計26の外部で反射されたレーザ光と、反射板26cで反射されたレーザ光の両方が入射する。これらのレーザ光が干渉するため、光検出器26dで検出される光の強度は、レーザ干渉計26の外部で反射されたレーザ光と反射板26cで反射されたレーザ光との光路長の差によって変動する。すなわち、ウエハステージ12が移動することによってレーザ干渉計26とウエハステージ12の側面(すなわち、レーザ光が反射される位置)との間の距離が変化すると、光検出器26dで検出される光の強度が周期的に変動する。演算装置26eは、光検出器26dで検出される光の強度変化の波数をカウントすることで、ウエハステージ12のX方向の位置を検出する。
ハーフミラー26bを透過したレーザ光は、レーザ干渉計26bの外部に射出される。レーザ干渉計26の外部に射出されたレーザ光の一部は、後述するように、ウエハステージ12の側面で反射し、再度、レーザ干渉計26内に入射する。レーザ干渉計26内に入射したレーザ光は、ハーフミラー26bで下方に反射されて、光検出器26dに入射する。
一方、ハーフミラー26bで上方に反射されたレーザ光は、反射板26cで反射される。反射板26cで反射されたレーザ光は、ハーフミラー26bを透過して、光検出器26dに入射する。
このように、光検出器26dには、レーザ干渉計26の外部で反射されたレーザ光と、反射板26cで反射されたレーザ光の両方が入射する。これらのレーザ光が干渉するため、光検出器26dで検出される光の強度は、レーザ干渉計26の外部で反射されたレーザ光と反射板26cで反射されたレーザ光との光路長の差によって変動する。すなわち、ウエハステージ12が移動することによってレーザ干渉計26とウエハステージ12の側面(すなわち、レーザ光が反射される位置)との間の距離が変化すると、光検出器26dで検出される光の強度が周期的に変動する。演算装置26eは、光検出器26dで検出される光の強度変化の波数をカウントすることで、ウエハステージ12のX方向の位置を検出する。
図1に示すように、レーザ干渉計26は、ウエハステージ12に対してX方向に距離を隔てた位置に固定されている。レーザ干渉計26とウエハステージ12の間には、ハーフミラー34が配置されている。ハーフミラー34の上方には、ミラー36が配置されている。レーザ干渉計26は、X方向に向けて(すなわち、ハーフミラー34に向けて)レーザ光を照射する。ハーフミラー34では、約半分のレーザ光が透過して直進し、残りのレーザ光が上方に反射される。
ハーフミラー34を透過したレーザ光は、ウエハステージ12の側面で反射される。反射されたレーザ光は、ハーフミラー34を透過して、レーザ干渉計26に入射する。レーザ干渉計26は、入射したレーザ光を検出することで、ウエハステージ12のX方向の位置を検出する。
一方、ハーフミラー34で上方に反射されたレーザ光は、ミラー36でウエハステージ12上に向けて反射される。このため、ウエハステージ12をX方向及びY方向に移動させることで、ミラー36で反射されたレーザ光を、半導体ウエハ40の上面に照射したり、ウエハステージ12の上面(すなわち、半導体ウエハ40の載置部の外側)に照射したりすることができる。以下では、ミラー36で反射されたレーザ光を特定用レーザ光という。
ハーフミラー34を透過したレーザ光は、ウエハステージ12の側面で反射される。反射されたレーザ光は、ハーフミラー34を透過して、レーザ干渉計26に入射する。レーザ干渉計26は、入射したレーザ光を検出することで、ウエハステージ12のX方向の位置を検出する。
一方、ハーフミラー34で上方に反射されたレーザ光は、ミラー36でウエハステージ12上に向けて反射される。このため、ウエハステージ12をX方向及びY方向に移動させることで、ミラー36で反射されたレーザ光を、半導体ウエハ40の上面に照射したり、ウエハステージ12の上面(すなわち、半導体ウエハ40の載置部の外側)に照射したりすることができる。以下では、ミラー36で反射されたレーザ光を特定用レーザ光という。
レーザ干渉計28も、レーザ干渉計26と同様の内部構造を有している。なお、図1では見易さを考慮してレーザ干渉計28をステージ基部13の下方に図示しているが、レーザ干渉計28は、ウエハステージ12に対してY方向に距離を隔てた位置に固定されている。レーザ干渉計28は、Y方向に向けて(すなわち、ウエハステージ12の側面に向けて)レーザ光を照射する。レーザ光は、ウエハステージ12の側面で反射され、レーザ干渉計28に入射する。レーザ干渉計28は、入射したレーザ光を検出することで、ウエハステージ12のY方向の位置を検出する。
散乱光検出器30は、投影光学系14の側方に設置されている。上述したように、特定用レーザ光は、半導体ウエハ40の上面またはウエハステージ12の上面に照射される。特定用レーザ光が、アライメントマーク42以外の領域の半導体ウエハ40の上面に照射された場合、及び、基準マーク12a以外の領域のウエハステージ12の上面に照射された場合には、特定用レーザ光は正反射する。一方、特定用レーザ光がアライメントマーク42や基準マーク12aに照射された場合には、特定用レーザ光は、回折したり、アライメントマーク42又は基準マーク12aの側面で反射したりする。これによって、特定用レーザ光が散乱する。散乱光検出器30は、正反射した特定用レーザ光が入射せず、かつ、散乱した特定用レーザ光が入射する位置に設置されている。散乱光検出器30は、散乱した特定用レーザ光の強度を検出する。
図示していないが、制御装置32は、露光装置10の各部と電気的に接続されている。露光装置10には、位置検出装置18、26、28が検出する位置のデータが入力をされる。また、制御装置32は、ウエハステージ12、レチクルステージ16、露光光源20、オンアクシスカメラ22、レーザ光源24を制御する。また、制御装置32は、メモリを内蔵しており、各種のデータを記憶することができる。
次に、露光装置10を用いた露光方法について説明する。図3は、露光を行う際に制御装置32が実行する位置検出処理を示すフローチャートである。なお、図3の処理中において、レーザ干渉計26、28は常に動作している。したがって、図3の処理中において、特定用レーザ光が常に照射されている。図3の処理中に特定用レーザ光が半導体ウエハ40の表面の感光性膜に照射されるが、レーザ干渉計26が照射するレーザ光は感光性膜が反応しない波長のレーザである。このため、特定用レーザ光の照射により感光性膜が反応することはない。
ステップS2では、制御装置32は、図示しない搬送機構によって、レチクルステージ16上にレチクル60を載置し、ウエハステージ12上に半導体ウエハ40を載置する。レチクル60及び半導体ウエハ40は、数μ単位の位置精度で載置される。
ステップS4では、制御装置32は、オンアクシスカメラ22を用いて、レチクル60の各アライメントマークの位置を測定する。レチクル60のアライメントマークの位置の測定は従来公知の技術により行う。制御装置32は、測定された各アライメントマークの位置を記憶する。各アライメントマークの位置を測定することで、投影光学系14に対するレチクル60の位置及び姿勢を特定することができる。
ステップS6では、制御装置32は、オンアクシスカメラ22を用いて、ウエハステージ12の基準マーク12aの位置を測定する。すなわち、ステップS6では、最初に、ウエハステージ12を予め決められた座標に移動させることによって、オンアクシスカメラ22の撮影範囲内に基準マーク12aを移動させる。次に、レーザ光源24とオンアクシスカメラ22を作動させて、オンアクシスカメラ22によって基準マーク12aを撮影する。そして、オンアクシスカメラ22によって基準マーク12aを撮影しながら、基準マーク12aがオンアクシスカメラ22の撮影範囲の中心部に位置するように、ウエハステージ12aを移動させる。制御装置32は、基準マーク12aが撮影範囲の中心部に位置しているときのレーザ干渉計26の検出値(すなわち、X座標)とレーザ干渉計28の検出値(すなわち、Y座標)を記憶する。ステップS6で検出されるXY座標(以下、第1座標という)は、投影光学系14と基準マーク12aとの相対位置を示す。
ステップS8では、制御装置32は、散乱光検出器30を用いて、ウエハステージ12の基準マーク12aの位置を測定する。すなわち、ステップS8では、最初に、ウエハステージ12を予め決められた座標に移動させることによって、特定用レーザ光が照射される位置の近くに基準マーク12aを移動させる。そして、その周辺位置がレーザ光でスキャンされるように、ウエハステージ12を移動させる。スキャン時に基準マーク12aにレーザ光が照射されると、散乱光が生じ、散乱光検出器30で散乱光が検出される。制御装置32は、散乱光検出器30で散乱光が検出されたときのウエハステージ12のXY座標を記憶する。ステップS8で検出されるXY座標(以下、第2座標という)は、特定用レーザ光の光路と基準マーク12aとの相対位置を示す。すなわち、第2座標は、ミラー36と基準マーク12aの相対位置を示す。
ステップS10では、制御装置32は、散乱光検出器30を用いて、半導体ウエハ40の各アライメントマーク42の位置を測定する。すなわち、ステップS10では、最初に、ウエハステージ12を予め決められた座標に移動させることによって、特定用レーザ光が照射される位置の近くにアライメントマーク42を移動させる。そして、その周辺位置がレーザ光でスキャンされるように、ウエハステージ12を移動させる。スキャン時にアライメントマーク42にレーザ光が照射されると、散乱光が生じ、散乱光検出器30で散乱光が検出される。制御装置32は、散乱光検出器30で散乱光が検出されたときのウエハステージ12のXY座標を記憶する。ステップS10で検出されるXY座標(以下、第3座標という)は、特定用レーザ光の光路とアライメントマーク42との相対位置を示す。すなわち、第3座標は、ミラー36とアライメントマーク42の相対位置を示す。ステップS10では、制御装置32は、各アライメントマーク42について上述した処理を実行し、各アライメントマーク42の第3座標を特定する。
以上の処理を実行することで、投影光学系14と基準マーク12aとの相対位置を示す第1座標、基準マーク12aとミラー36との相対位置を示す第2座標、及び、ミラー36とアライメントマーク42との相対位置を示す第3座標が制御装置32に記憶される。したがって、第1座標、第2座標、及び、第3座標から、投影光学系14と各アライメントマーク42との相対位置を特定することができる。すなわち、投影光学系14に対する半導体ウエハ40の位置及び姿勢を正確に特定することができる。制御装置32は、図3の処理に引き続いて、特定された相対位置関係に基づいて露光処理を行う。このため、半導体ウエハ40の位置を正確に制御して、レチクル60の像を半導体ウエハ40上の所望の位置に投影することができる。
以上に説明したように、この露光装置10は、ハーフミラー34によって、レーザ干渉計26が照射するレーザ光を、ウエハステージ12の側面に向かうレーザ光と、ウエハステージ12の上面(すなわち、半導体ウエハ40の上面)に向かう特定用レーザ光に分光する。そして、特定用レーザ光がアライメントマーク42又は基準マーク12aに照射されたときに生じる散乱光を検出して、これらの位置を検出する。したがって、半導体ウエハ40と基準マーク12aを照らすための専用の光源が不要であり、これらを撮影するオフアクシスカメラも不要となる。このため、露光装置10を小型化し、低額化することができる。
以上、本発明の具体例を詳細に説明したが、これらは例示にすぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例をさまざまに変形、変更したものが含まれる。
本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組み合わせによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組み合わせに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成するものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。
本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組み合わせによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組み合わせに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成するものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。
10:露光装置
12:ウエハステージ
12a:基準マーク
13:ステージ基部
14:投影光学系
16:レチクルステージ
18:位置検出装置
20:露光光源
21:ハーフミラー
22:オンアクシスカメラ
24:レーザ光源
26:レーザ干渉計
26a:レーザ光源
26b:ハーフミラー
26c:反射板
26d:光検出器
26e:演算装置
28:レーザ干渉計
30:散乱光検出器
32:制御装置
34:ハーフミラー
36:ミラー
40:半導体ウエハ
42:アライメントマーク
60:レチクル
12:ウエハステージ
12a:基準マーク
13:ステージ基部
14:投影光学系
16:レチクルステージ
18:位置検出装置
20:露光光源
21:ハーフミラー
22:オンアクシスカメラ
24:レーザ光源
26:レーザ干渉計
26a:レーザ光源
26b:ハーフミラー
26c:反射板
26d:光検出器
26e:演算装置
28:レーザ干渉計
30:散乱光検出器
32:制御装置
34:ハーフミラー
36:ミラー
40:半導体ウエハ
42:アライメントマーク
60:レチクル
Claims (3)
- 上面にアライメントマークが形成されている半導体ウエハに対して露光を行う露光装置であって、
半導体ウエハが載置されるステージと、
ステージを移動させる移動手段と、
光を照射する投光手段と、
投光手段が照射した光を、ステージの側面に向かう光と、ステージの上面に向かう光とに分光する分光手段と、
ステージの側面に向かう光の反射光を検出することにより、ステージの位置を検出する位置検出手段と、
ステージの上面に向かう光が半導体ウエハのアライメントマークに照射されたときに生じる散乱光の有無を検出する散乱光検出手段、
を有することを特徴とする露光装置。 - ステージの上面のうち、半導体ウエハが載置される載置部の外部に、基準マークが形成されており、
散乱光検出手段は、さらに、ステージの上面に向かう光が基準マークに照射されたときに生じる散乱光の有無を検出する、
ことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 散乱光検出手段により散乱光が有ることが検出されたときの位置検出手段による検出位置を記憶する記憶手段をさらに有することを特徴とする請求項1または2に記載の露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010033315A JP2011171477A (ja) | 2010-02-18 | 2010-02-18 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010033315A JP2011171477A (ja) | 2010-02-18 | 2010-02-18 | 露光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011171477A true JP2011171477A (ja) | 2011-09-01 |
Family
ID=44685289
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010033315A Pending JP2011171477A (ja) | 2010-02-18 | 2010-02-18 | 露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2011171477A (ja) |
-
2010
- 2010-02-18 JP JP2010033315A patent/JP2011171477A/ja active Pending
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