JP2011171372A - 配線基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】接続端子部を除く配線上に、ソルダレジストを所定の形状に被覆形成するにあたり、前記接続端子部上にソルダレジスト残渣を発生させないようにすることができ、これにより前記接続端子部の電気的接続機能を阻害しないようにすることができる配線基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】絶縁体からなる基材1上に接続端子部2を有する配線3を形成すると共に接続端子部2を除く配線3上にソルダレジスト9を被覆形成する配線基板7の製造方法であって、基材1上に配線3を形成した後、配線3の接続端子部2上に接続端子部2の形状に対応する形状に樹脂層8を形成し、配線3上にソルダレジスト9を塗布し硬化させた後、樹脂層8を除去して接続端子部2を露出させる、配線基板の製造方法。
【選択図】図1
【解決手段】絶縁体からなる基材1上に接続端子部2を有する配線3を形成すると共に接続端子部2を除く配線3上にソルダレジスト9を被覆形成する配線基板7の製造方法であって、基材1上に配線3を形成した後、配線3の接続端子部2上に接続端子部2の形状に対応する形状に樹脂層8を形成し、配線3上にソルダレジスト9を塗布し硬化させた後、樹脂層8を除去して接続端子部2を露出させる、配線基板の製造方法。
【選択図】図1
Description
本発明は、絶縁体からなる基材上にボンディングワイヤや半田ボール等との電気的接続機能を持つ接続端子部を有する配線を形成すると共に前記接続端子部を除く前記配線上に配線の保護及び絶縁のためにソルダレジストを被覆形成する配線基板の製造方法に関するものであり、特に、前記接続端子部を除く前記配線上に前記ソルダレジストを被覆形成する方法に関するものである。
図3に、このような配線基板の製造方法の一例を示す。
図3の配線基板の製造方法によれば、まず、(a)ポリイミドテープ等の絶縁体からなる基材1上に、フォトリソグラフィ技術を利用して、ボンディングワイヤや半田ボール等との電気的接続機能を持つ接続端子部2を有する複数の配線3を備えた配線パターンを形成する。この後、(b)前記配線3上に、光硬化性の液状のソルダレジスト4を印刷により塗布して、プリベークのための熱処理を行い、(c)前記によりプリベークされた前記ソルダレジスト4を、前記接続端子部2の形状に対応する形状(開口予定領域)のマスクパターンを描画したガラスマスク治具5を用いて露光し、(d)現像処理する。すなわち、(c)前記ソルダレジスト4の特定部位に照射光6を照射(露光)して、その特定部位の前記ソルダレジスト4を硬化させた後、(d)未硬化(未照射)部位の前記ソルダレジスト4を炭酸ナトリウムを用いて除去(現像)する。この後、前記接続端子部2を除く前記配線3上に被覆形成された前記ソルダレジスト4に対して、ポストベークのための熱処理を行い、所定の配線基板7を製造する。前記接続端子部2を除く前記配線3上に被覆形成された前記ソルダレジスト4は、前記配線3の形成と同様にフォトリソグラフィ技術を利用した露光・現像処理、いわゆるパターニング処理により、前記接続端子部2を露出させる開口部8を有する形状に被覆形成される。
一方、先行技術文献である特許文献1には、ビルドアップ配線板の製造方法として、前記ビルドアップ配線板の配線上に、ソルダレジストを塗布し露光・現像処理して、前記配線上の特定部位に、所定の開口部を有する形状に前記ソルダレジストを被覆形成する方法が記載されていると共に、前記開口部内の前記ソルダレジスト残渣をレーザ加工により除去する方法が記載されている。
また、先行技術文献である特許文献2には、レジスト付き配線基板の製造方法として、感光性エポキシ樹脂からなるソルダレジストを用い、前記ソルダレジストを塗布し露光・現像処理して、前記配線基板の配線上の接合パッドを有する特定部位に、前記接合パッドを露出させる開口部を有する形状に前記ソルダレジストを被覆形成する方法が記載されていると共に、前記ソルダレジストの現像残渣を除去するためには長時間の現像時間が必要であることが記載されている。
図3の従来の配線基板の製造方法によれば、接続端子部2を有する配線3上に液状のソルダレジスト4を塗布し、露光・現像処理して、前記接続端子部2上に塗布された前記ソルダレジスト4を除去することにより、前記接続端子部2を除く前記配線3上に前記ソルダレジスト4を被覆形成する方法であるため、現像処理により除去しきれないソルダレジスト残渣が、前記接続端子部2上に残存することがある。この場合、前記ソルダレジスト残渣が、ボンディングワイヤや半田ボール等との電気的接続機能を持つ前記接続端子部2の電気的接続機能を阻害して、実際の電気的接続を悪化、断絶させ、これにより配線基板を用いた電子装置が機能しないなどの不具合を生じさせるという問題がある。ちなみに、そのようなソルダレジスト残渣の発生頻度としては、配線基板の製造ロットにもよるが、多いときで、70mmの配線基板で5メートルに1箇所以上発生する場合がある。
また、特許文献1、2には、前記したように、配線上にソルダレジストを塗布し露光・現像処理して、前記配線上の特定部位に、所定の開口部を有する形状に前記ソルダレジストを被覆形成する方法が記載されており、前記ソルダレジスト残渣を除去する方法も記載されてはいるが、完全ではなく、前記ソルダレジスト残渣を発生させない方法については何も記載されていない。
したがって、本発明の目的は、接続端子部を除く配線上に、ソルダレジストを所定の形状に被覆形成するにあたり、前記接続端子部上にソルダレジスト残渣を発生させないようにすることができ、これにより前記接続端子部の電気的接続機能を阻害しないようにすることができる配線基板の製造方法を提供することにある。
上記目的を達成するために請求項1の発明は、絶縁体からなる基材上に接続端子部を有する配線を形成すると共に前記接続端子部を除く前記配線上にソルダレジストを被覆形成する配線基板の製造方法であって、前記基材上に前記配線を形成した後、前記配線の前記接続端子部上に前記接続端子部の形状に対応する形状に樹脂層を形成し、前記配線上に前記ソルダレジストを塗布し硬化させた後、前記樹脂層を除去して前記接続端子部を露出させることを特徴とする配線基板の製造方法を提供する。
この配線基板の製造方法によれば、従来のような前記接続端子部上に前記ソルダレジストを塗布して除去する方法ではないため、前記接続端子部上にソルダレジスト残渣を発生させないようにすることができ、これにより前記接続端子部の電気的接続機能を阻害しないようにすることができる。
請求項2の発明は、前記樹脂層を構成する材料が、感光性のドライフィルムであり、前記ドライフィルムを露光・現像して、前記接続端子部の形状に対応する形状に前記樹脂層を形成することを特徴とする請求項1に記載の配線基板の製造方法を提供する。
この配線基板の製造方法によれば、上記効果に加えて、前記樹脂層形成の作業性を向上させることができる。なお、前記ドライフィルムは、ソルダレジスト材ではないことから、現像残渣が発生しても、ソルダレジスト残渣の場合のように問題になることはない。
請求項3の発明は、前記樹脂層を構成する材料が、接着性樹脂フィルムであり、前記接着性樹脂フィルムを型抜きして、前記接続端子部の形状に対応する形状に前記樹脂層を形成することを特徴とする請求項1に記載の配線基板の製造方法を提供する。
この配線基板の製造方法によれば、上記効果に加えて、樹脂層を形成する際に露光・現像処理を行うことがないため、前記樹脂層形成の作業工数を減らすことができる。
請求項4の発明は、前記ソルダレジストが、熱硬化性のソルダレジストであることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の配線基板の製造方法を提供する。
この配線基板の製造方法によれば、上記効果に加えて、従来方法では用いることができなかった熱硬化性のソルダレジストを用いることができ、適用されるソルダレジストの範囲を広げることができる。
請求項5の発明は、前記ソルダレジストが、光硬化性のソルダレジストであることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の配線基板の製造方法を提供する。
この配線基板の製造方法によれば、前記ソルダレジストとして、請求項4の熱硬化性のソルダレジスト以外に、感光性のソルダレジストを用いることができ、適用されるソルダレジストの範囲を広げることができる。
請求項6の発明は、前記樹脂層の厚さが、前記ソルダレジストの厚さよりも厚いことを特徴とする請求項1〜5の何れかに記載の配線基板の製造方法を提供する。
この配線基板の製造方法によれば、前記樹脂層の厚さを前記ソルダレジストの厚さよりも厚くすることにより、前記ソルダレジストの塗布を必要な範囲に限定することができ、その使用量を減らすことができると共に、前記樹脂層の除去を容易にすることができる。
請求項7の発明は、絶縁体からなる基材上に接続端子部を有する配線を形成すると共に前記接続端子部を除く前記配線上にソルダレジストを被覆形成する配線基板の製造方法であって、前記基材上に前記配線を形成した後、前記配線の前記接続端子部上に前記接続端子部の形状に対応する形状に感光性のドライフィルムからなる樹脂層を形成し、前記樹脂層を含む前記配線上に光硬化性のソルダレジストを塗布し、前記樹脂層を除く前記配線上の前記ソルダレジストを露光し硬化させた後、前記樹脂層及び前記樹脂層上の未硬化の前記ソルダレジストを除去して前記接続端子部を露出させることを特徴とする配線基板の製造方法を提供する。
この配線基板の製造方法によれば、前記接続端子部上に直接、前記ソルダレジストを塗布して除去することがないため、前記接続端子部上にソルダレジスト残渣を発生させないようにすることができ、これにより前記接続端子部の電気的接続機能を阻害しないようにすることができる。また、この配線基板の製造方法によれば、感光性のドライフィルム及び光硬化性のソルダレジストの露光処理にあたり、同じように設計されたガラスマスク治具を用いることが可能になり、これによりトータルの作業性を向上させることも可能になる。
本発明の配線基板の製造方法によれば、接続端子部を除く配線上に、ソルダレジストを所定の形状に被覆形成するにあたり、前記接続端子部上にソルダレジスト残渣を発生させないようにすることができ、これにより前記接続端子部の電気的接続機能を阻害しないようにすることができる。
以下、図1及び図2に基づいて本発明の好適な実施の形態を説明するが、本発明はこれらの実施の形態に限定されるものでないことは言うまでもない。なお、ここでは、従来例と同一の称呼を持つ部材及び部品については、同一の符号を付して説明することとする。
図1は本発明の一実施の形態に係る配線基板の製造方法の説明図であり、この図1において、まず、(a)ポリイミドテープ等の絶縁体からなる基材1上に、フォトリソグラフィ技術を利用して、ボンディングワイヤや半田ボール等との電気的接続機能を持つ接続端子部2を有する複数の配線3を備えた配線パターンを形成する。この後、(b)前記配線3上に、感光性のドライフィルムからなる樹脂層9をロールラミネーションもしくは真空ラミネーションにより貼り付けて設け、(c)前記樹脂層9を、前記接続端子部2の形状に対応する形状(開口予定領域)のマスクパターンを描画したガラスマスク治具5を用いて露光し、(d)現像処理する。すなわち、(c)前記樹脂層9の特定部位(前記接続端子部2を露出させたい箇所)に照射光6を照射(露光)して、その特定部位の前記樹脂層9を硬化させた後、(d)未硬化(未照射)部位の前記樹脂層9を炭酸ナトリウムを用いて除去(現像)する。これにより、前記配線3の前記接続端子部2上に、前記接続端子部2の形状に対応する形状に前記樹脂層9を形成する。
次いで、(e)前記樹脂層9を除く前記配線3上に、熱硬化性のソルダレジスト10を(前記樹脂層9の外形ラインに沿って)印刷により塗布し硬化させた後、(f)苛性ソーダを用いて、前記樹脂層9を除去し、前記接続端子部2を露出させる。これにより、前記接続端子部2を除く前記配線3上に、前記ソルダレジスト10を、前記接続端子部2を露出させる開口部8を有する形状に被覆形成する。また、これにより、所定の配線基板7を製造する。
従来、配線等の上にソルダレジストを50μm程度の大きさの開口部を有する形状に被覆形成する場合は、光硬化性のソルダレジストを用いて露光・現像処理する必要があったが、この実施の形態によれば、前記樹脂層9の形成により、光硬化性のソルダレジストだけでなく、熱硬化性のソルダレジストを用いることができる。
図2は本発明の他の実施の形態に係る配線基板の製造方法の説明図であり、この図2においては、まず、(a)ポリイミドテープ等の絶縁体からなる基材1上に、フォトリソグラフィ技術を利用して、ボンディングワイヤや半田ボール等との電気的接続機能を持つ接続端子部2を有する複数の配線3を備えた配線パターンを形成する。この後、(b)前記配線3上に、感光性のドライフィルムからなる樹脂層9をロールラミネーションもしくは真空ラミネーションにより貼り付けて設け、(c)前記樹脂層9を、前記接続端子部2の形状に対応する形状(開口予定領域)のマスクパターンを描画したガラスマスク治具5を用いて露光し、(d)現像処理する。すなわち、(c)前記樹脂層9の特定部位(前記接続端子部2を露出させたい箇所)に照射光6を照射(露光)して、その特定部位の前記樹脂層9を硬化させた後、(d)未硬化(未照射)部位の前記樹脂層9を炭酸ナトリウムを用いて除去(現像)する。これにより、前記配線3の前記接続端子部2上に、前記接続端子部2の形状に対応する形状に前記樹脂層9を形成する。ここまでは、図1の実施の形態と同じである。
次いで、(e)前記樹脂層9を含む前記配線3上に、通常使用される光硬化性のソルダレジスト4を印刷により塗布し、前記樹脂層9を除く前記配線3上の前記ソルダレジスト4を露光して硬化させた後、(f)苛性ソーダを用いて、前記樹脂層9及び前記樹脂層9上の未硬化の前記ソルダレジスト4を同時に除去し、前記接続端子部2を露出させる。これにより、前記接続端子部2を除く前記配線3上に、前記ソルダレジスト4を、前記接続端子部2を露出させる開口部6を有する形状に被覆形成する。また、これにより、所定の配線基板7を製造する。
図1及び図2の実施の形態では、前記基材1として、ポリイミドテープ等のフレキシブルな基材を用いたが、ガラスエポキシ樹脂板等のリジッドな基材を用いることもできる。
また、上記実施例では、樹脂層の形成にドライフィルムを用いたが、この方法に限らず、接続端子部の形状に対応するように打ち抜いた接着性フィルムを貼り付ける方法などでもよい。
また、ソルダレジストは熱硬化性、光硬化性のいずれの性質のものでも適用可能である。
1 基材
2 接続端子部
3 配線
4 光硬化性のソルダレジスト
5 ガラスマスク治具
6 照射光
7 配線基板
8 開口部
9 樹脂層
10 熱硬化性のソルダレジスト
2 接続端子部
3 配線
4 光硬化性のソルダレジスト
5 ガラスマスク治具
6 照射光
7 配線基板
8 開口部
9 樹脂層
10 熱硬化性のソルダレジスト
Claims (7)
- 絶縁体からなる基材上に接続端子部を有する配線を形成すると共に前記接続端子部を除く前記配線上にソルダレジストを被覆形成する配線基板の製造方法であって、前記基材上に前記配線を形成した後、前記配線の前記接続端子部上に前記接続端子部の形状に対応する形状に樹脂層を形成し、前記配線上に前記ソルダレジストを塗布し硬化させた後、前記樹脂層を除去して前記接続端子部を露出させることを特徴とする配線基板の製造方法。
- 前記樹脂層を構成する材料が、感光性のドライフィルムであり、前記ドライフィルムを露光・現像して、前記接続端子部の形状に対応する形状に前記樹脂層を形成することを特徴とする請求項1に記載の配線基板の製造方法。
- 前記樹脂層を構成する材料が、接着性樹脂フィルムであり、前記接着性樹脂フィルムを型抜きして、前記接続端子部の形状に対応する形状に前記樹脂層を形成することを特徴とする請求項1に記載の配線基板の製造方法。
- 前記ソルダレジストが、熱硬化性のソルダレジストであることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の配線基板の製造方法。
- 前記ソルダレジストが、光硬化性のソルダレジストであることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の配線基板の製造方法。
- 前記樹脂層の厚さが、前記ソルダレジストの厚さよりも厚いことを特徴とする請求項1〜5の何れかに記載の配線基板の製造方法。
- 絶縁体からなる基材上に接続端子部を有する配線を形成すると共に前記接続端子部を除く前記配線上にソルダレジストを被覆形成する配線基板の製造方法であって、前記基材上に前記配線を形成した後、前記配線の前記接続端子部上に前記接続端子部の形状に対応する形状に感光性のドライフィルムからなる樹脂層を形成し、前記樹脂層を含む前記配線上に光硬化性のソルダレジストを塗布し、前記樹脂層を除く前記配線上の前記ソルダレジストを露光し硬化させた後、前記樹脂層及び前記樹脂層上の未硬化の前記ソルダレジストを除去して前記接続端子部を露出させることを特徴とする配線基板の製造方法。
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JP2010031472A JP2011171372A (ja) | 2010-02-16 | 2010-02-16 | 配線基板の製造方法 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016105516A (ja) * | 2016-03-02 | 2016-06-09 | 日立化成株式会社 | プリント配線板及びその製造方法並びに熱硬化性樹脂組成物 |
CN105807469A (zh) * | 2012-01-25 | 2016-07-27 | 迪睿合电子材料有限公司 | 图像显示装置的制造方法 |
-
2010
- 2010-02-16 JP JP2010031472A patent/JP2011171372A/ja active Pending
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JP2016105516A (ja) * | 2016-03-02 | 2016-06-09 | 日立化成株式会社 | プリント配線板及びその製造方法並びに熱硬化性樹脂組成物 |
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