JP2011163451A - 真空度切替方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ワークWを吸着または離脱させる吸引チャック7に接続されている流路部分8を高い真空度の第1の負圧にある状態から相対的に低い真空度に低圧化するに際し、第2の負圧制御装置4に流路部分8を接続した直後に、オン・オフをわずかな期間オフ状態として、流路部分8に外気を導入し、次に、オン・オフバルブ6をオン状態として、第2の負圧制御装置4から吸引チャック7に至る流路部分の低圧化を果し、しかる後、オン・オフバルブ6をオフ状態としてワークWを離脱させる、真空度切替方法。
【選択図】図3
Description
2…真空源
3…第1の負圧制御装置
4…第2の負圧制御装置
5…切替バルブ
5a…第1のポート
5b…第2のポート
5c…第3のポート
6…オン・オフバルブ
6a…オンポート
6b…オフポート
6c…第4のポート
7…吸引チャック
8…流路部分
Claims (4)
- 真空源と、
前記真空源に接続されており、相対的に高真空の第1の負圧を与える第1の負圧制御装置と、
前記真空源に接続されており、前記第1の負圧制御装置よりも低真空の第2の負圧を与え、かつ外気導入口を有する第2の負圧制御装置と、
前記第1の負圧制御装置または前記第2の負圧制御装置に接続される第1及び第2のポートと、第3のポートとを有し、前記第1のポートと前記第3のポートとを接続している第1の接続状態と、前記第2のポートと前記第3のポートとを接続している第2の接続状態との間で切り替えられる流路切替バルブと、
吸引部材と、
前記流路切替バルブの前記第3のポートに接続されているオンポートと、外気導入口であるオフポートと、前記吸引部材に接続されている第4のポートとを有し、前記オンポートと前記第4のポートとが接続されているオン状態と、前記オフポートと前記第4のポートとが接続されるオフ状態との間で切り替えられるオン・オフバルブと、
前記第4のポートと前記吸引部材とを接続している流路を構成する流路構成部材とを備える真空度付与装置を用い、
前記流路切替バルブを前記第1の接続状態とし、前記オン・オフバルブをオン状態として、前記第1の負圧を前記吸引部材に与える工程と、
前記流路切替バルブを第2の接続状態にして、前記吸引部材を前記第2の負圧制御装置に接続して前記第2の負圧制御装置から前記吸引部材までの流路部分の負圧の絶対値を低くする低圧化工程と、
前記低圧化工程の後に、前記オン・オフバルブをオン状態として前記オフポートから前記吸引部材までの流路部分を外気圧以上にする工程とを有するワーク吸脱着装置の真空度切替方法において、
前記低圧化工程において、前記吸引部材を前記第2の負圧制御装置に接続した後に、前記オン・オフバルブをオフ状態として、前記オフポートと前記吸引部材とを結ぶ流路に前記オフポートから外気を導入した後に、前記オン・オフバルブをオン状態とし、前記オンポートを前記切替バルブの第3のポートを介して前記第2の負圧制御装置に再度接続することを特徴とする真空度切替方法。 - 前記第1の負圧と前記第2の負圧との差が、前記第2の負圧と外気圧との差よりも大きい、請求項1に記載の真空度切替方法。
- 前記低圧化工程において、前記オン・オフバルブをオフ状態として、前記オン・オフバルブと前記吸引部材との間の流路部分を低圧化するに際し、前記オン・オフバルブのオフポートから外気を導入し、該流路部分内の圧力を前記第1の負圧よりも低真空の負圧とする、請求項1または2に記載の真空度切替方法。
- 前記低圧化工程において、前記オン・オフバルブをオフ状態として、前記オン・オフバルブを前記吸引部材との間の流路を低圧化するに際し、該流路部分の圧力を前記第2の真空度または該第2の真空度よりも高真空の負圧とする、請求項3に記載の真空度切替方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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