JP2011162237A - 可搬容器 - Google Patents
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Abstract
【課題】簡素な構成で基板や容器に付着している汚染物質及び容器内に存在する汚染物質を取り除くことができるだけでなく、二次的に発生する汚染物質が基板や容器に付着することを抑制することができる可搬容器を提供する。
【解決手段】基板1の容器であって、容器内を区画するための隔壁5を備え、前記隔壁5には前記基板1を収納する区画K1とその他の区画とを連通する孔5a,5bが設けられており、前記その他の区画K2には前記基板1を収納する区画に存在する汚染物質を取り除くための除去手段6を備えた。
【選択図】図2
【解決手段】基板1の容器であって、容器内を区画するための隔壁5を備え、前記隔壁5には前記基板1を収納する区画K1とその他の区画とを連通する孔5a,5bが設けられており、前記その他の区画K2には前記基板1を収納する区画に存在する汚染物質を取り除くための除去手段6を備えた。
【選択図】図2
Description
本発明は、基板を収納する可搬容器に関する。
従来、基板を保護し、且つ、外部からの空気を取り入れる吸排気機構が備えられたものが提案されている。
前記容器は、輸送時や保管時等に用いられ、例えばクリーンルーム内で保管される場合には、クリーンルーム内の清浄された空気を吸排気機構で容器内に取り入れることで常に容器内を清浄化できるようにしている。
前記容器は、輸送時や保管時等に用いられ、例えばクリーンルーム内で保管される場合には、クリーンルーム内の清浄された空気を吸排気機構で容器内に取り入れることで常に容器内を清浄化できるようにしている。
また、容器内の空気を外部に排出するための気流発生手段が収納された筐体を容器の上端に備えたものも提案されている。
これは、気流発生手段により発生した空気を外部に排出するための排気部を容器の底部に備えさせて、保管中に基板に付着した汚染物質を気流発生手段で発生する気流により外部へ排出することができるようにしている(例えば特許文献1参照)。
これは、気流発生手段により発生した空気を外部に排出するための排気部を容器の底部に備えさせて、保管中に基板に付着した汚染物質を気流発生手段で発生する気流により外部へ排出することができるようにしている(例えば特許文献1参照)。
ところが、容器を使用、保管する環境が、例えばクリーンルームであったとしても、クリーンルーム内に分子状の汚染物質が微量であるが存在していることは周知の事実である(なお、ガス、水蒸気、塵埃、その他の分子状の汚染物質などを含め、以後、汚染物質という)。
この分子状の汚染物質を完全に取り除くことは困難であり、そのため、従来のように吸排気機構で取り入れた空気により容器内に存在する汚染物質を外部に排出することができるものの、吸排気機構で順次外部の空気を積極的に取り込む構成であるため、外部に存在する汚染物質が容器内に入り込んで基板や容器に付着してしまうことになる。
また、特許文献1では、気流発生手段により発生した空気を排気部を通して外部に排出する構成であるものの、次のような理由により前述の不都合を招くものであった。つまり、排気部が外部と連通する開口部に形成されていることや容器をパッキン等によりシールしているものの、完全に密閉できないことから、その開口部や容器の微小な隙間を通して容器内に汚染物質が入り込んでしまい、基板や容器に付着してしまうことになる。
例えば、容器の輸送中に外気と容器内の気圧変化により容器内に侵入した空気に汚染物質が含まれており、この汚染物質が基板や容器に付着するという問題もあった。
また、特許文献1では、基板が収納されている容器と気流発生手段が収納されている筐体とが別々に構成されているため、部品点数の増大化を招くだけでなく、それら容器と筐体とを一体化する際に容器と筐体との間のシール処理も行わなければならず、材料コスト及び組付け作業において不利になる不都合があった。
また、特許文献1のように気流発生手段を備えている場合には、その気流発生手段を構成する送風機からの二次的な汚染物質が発生する。そして、特許文献1では、発生した二次的な汚染物質が基板や容器に付着することがあり、改善の余地があった。
この分子状の汚染物質を完全に取り除くことは困難であり、そのため、従来のように吸排気機構で取り入れた空気により容器内に存在する汚染物質を外部に排出することができるものの、吸排気機構で順次外部の空気を積極的に取り込む構成であるため、外部に存在する汚染物質が容器内に入り込んで基板や容器に付着してしまうことになる。
また、特許文献1では、気流発生手段により発生した空気を排気部を通して外部に排出する構成であるものの、次のような理由により前述の不都合を招くものであった。つまり、排気部が外部と連通する開口部に形成されていることや容器をパッキン等によりシールしているものの、完全に密閉できないことから、その開口部や容器の微小な隙間を通して容器内に汚染物質が入り込んでしまい、基板や容器に付着してしまうことになる。
例えば、容器の輸送中に外気と容器内の気圧変化により容器内に侵入した空気に汚染物質が含まれており、この汚染物質が基板や容器に付着するという問題もあった。
また、特許文献1では、基板が収納されている容器と気流発生手段が収納されている筐体とが別々に構成されているため、部品点数の増大化を招くだけでなく、それら容器と筐体とを一体化する際に容器と筐体との間のシール処理も行わなければならず、材料コスト及び組付け作業において不利になる不都合があった。
また、特許文献1のように気流発生手段を備えている場合には、その気流発生手段を構成する送風機からの二次的な汚染物質が発生する。そして、特許文献1では、発生した二次的な汚染物質が基板や容器に付着することがあり、改善の余地があった。
本発明は前述の状況に鑑み、解決しようとするところは、簡素な構成で基板や容器に付着している汚染物質及び容器内に存在する汚染物質を取り除くことができるだけでなく、二次的に発生する汚染物質が基板や容器に付着することを抑制することができる可搬容器を提供する。
本発明の可搬容器は、前述の課題解決のために、基板の容器であって、容器内を区画するための隔壁を備え、前記隔壁には前記基板を収納する区画とその他の区画とを連通する孔が設けられており、前記その他の区画には前記基板を収納する区画に存在する汚染物質を取り除くための除去手段を備えたことを特徴としている。
上記構成によれば、基板を収納した区画内に入り込んだ汚染物質は、その他の区画に配置された除去手段により隔壁の孔を通してその他の区画へ取り除くことができる。そして、その他の区画へ取り除いた汚染物質は、隔壁が障害となるため、基板を収納した区画側へ移動し難く、基板や容器へ付着することを抑制することができる。また、容器内を区画するための隔壁を容器内に設けるだけの簡素な構成で複数の区画を形成することができる。また、その他の区画内に例えば送風機を備える場合において、送風機からの二次的な汚染物質が発生する。この二次的な汚染物質が発生しても、前記隔壁が障害となり、二次的に発生した汚染物質が基板を収納した区画側へ移動し難く、二次的な汚染物質が基板や容器へ付着することを抑制することもできる。
また、本発明の可搬容器における前記除去手段は、前記基板を収納する区画へ孔を通して送風するための送風手段と、該送風に含まれる汚染物質を取り除くための捕集手段を備えていてもよい。
また、本発明の可搬容器における前記除去手段は、汚染物質を吸着するための吸着手段であってもよい。
また、本発明の可搬容器における前記除去手段は、前記基板を収納する区画へ孔を通して送風するための送風手段と、該送風に含まれる汚染物質を取り除くための捕集手段と、前記汚染物質を吸着するための吸着手段とを備えていてもよい。
また、本発明の可搬容器における前記除去手段は、基板を収納する区画へ孔を通して送風するための送風手段を備え、前記隔壁には、複数の孔を備え、それら孔の少なくとも一方に前記送風手段を備えていてもよい。
また、本発明の可搬容器における前記除去手段は、該除去手段を収納した区画から着脱自在に構成されていてもよい。
また、本発明の可搬容器の対象とする前記汚染物質は、ガス、水蒸気、塵埃のうちの少なくとも一種からなり、前記除去手段は、前記ガス、水蒸気、塵埃のうちの少なくとも一種を吸着又は捕集する手段からなっていてもよい。
また、本発明の可搬容器は、前記隔壁が着脱自在に構成されていてもよい。
基板を収納した区画内に入り込んだ汚染物質は、除去手段により取り除くことができながらも、一旦取り除いた汚染物質が再度基板を収納した区画側へ移動することや、二次的に発生する汚染物質が基板を収納した区画側へ移動することを隔壁により抑制することができる。従って、容器内に隔壁を備えるだけの簡素な構成で、基板や容器に付着した汚染物質及び容器内に存在する汚染物質を取り除くことができるだけでなく、二次的に発生する汚染物質が基板や容器に付着することを抑制することができる可搬容器を提供することができる。
以下、本発明の第1の実施形態を図面に基づいて説明する。
図1(a),(b)に、基板の一例であるフォトマスク1を収納して保管や運搬(輸送)を行うための可搬容器2を示している。
前記可搬容器2は、前方が開放され、フォトマスク1を収納するための箱型の容器本体3と、この容器本体3の前方の開口を閉じて密閉するための容器本体側が開放された箱型の蓋体4とを備えている。尚、図1(a),(b)に、容器本体3に対して蓋体4を閉じた状態を保持するための係止具G,Gを容器本体3の上端及び下端に備えている(図1では上端に備えさせた係止具のみを示している)。又、図2(a)では前記係止具G,Gを省略し、図2(b)では、容器本体3の下端に備えさせた1つの係止具Gのみを示している。また、容器本体3及び蓋体4の下端のそれぞれには、複数の移動用のキャスターC…を備えているが、無くてもよい。
図1(a),(b)に、基板の一例であるフォトマスク1を収納して保管や運搬(輸送)を行うための可搬容器2を示している。
前記可搬容器2は、前方が開放され、フォトマスク1を収納するための箱型の容器本体3と、この容器本体3の前方の開口を閉じて密閉するための容器本体側が開放された箱型の蓋体4とを備えている。尚、図1(a),(b)に、容器本体3に対して蓋体4を閉じた状態を保持するための係止具G,Gを容器本体3の上端及び下端に備えている(図1では上端に備えさせた係止具のみを示している)。又、図2(a)では前記係止具G,Gを省略し、図2(b)では、容器本体3の下端に備えさせた1つの係止具Gのみを示している。また、容器本体3及び蓋体4の下端のそれぞれには、複数の移動用のキャスターC…を備えているが、無くてもよい。
前記フォトマスク1は、所定の大きさに加工されたフォトマスクブランクス上にパターンが形成されて構成されている。このように形成されたフォトマスクを用いて、ガラス基板に転写することによって、半導体素子やフラットパネルディスプレイといった電子部品を製造することができる。ここでは、フォトマスク1を収納しているが、パターンが形成されていないフォトマスクブランクスあるいはその他基板等を収納してもよい。
図2(a),(b)に示すように、前記容器本体3と蓋体4とにより形成される空間を複数(図では2つ)の区画K1,K2に区分けするための隔壁5を該容器本体3の下部に備えている。該隔壁5には、区画K1,K2同士を連通するための左右一対の孔5a,5bを備えている。そして、該隔壁5により区分けされた2つの区画K1,K2のうちの上部の区画K1内に、フォトマスク1を収納し、残りの下部の区画K2内に、前記フォトマスク1を収納した区画K1内に入り込んだ汚染物質を前記孔5a,5bを通して取り除くための除去手段6を備えている。
容器本体3は、例えば合成樹脂等の保形性を有するものであればどのような材料で形成されていてもよく、図1(a),(b)及び図2(a),(b)に示すように、略正方形状で平板状の後壁部3Aと、この後壁部3Aの外周縁の4辺から前方側に垂直に延びる上壁部3B、下壁部3C、左右壁部3D,3Eとを備えている。そして、前記後壁部3Aにフォトマスク1を4個の保持具7…を介して固定している。尚、フォトマスク1を容器本体3に固定する具体的構成は、自由に変更できる。
図2(a),(b)に示すように、前記構成の容器本体3の下部に、容器本体3の左右幅全域に渡る寸法を有する前記隔壁5を設けている。隔壁5は、上端に位置しかつ前記左右一対の孔5a,5bを有する水平板部5Aと、この水平板部5Aの前端部の下面から下方に延びる縦板部5Bとを備えた断面形状が略逆L字状に構成されている。従って、除去手段6が、孔5a,5bを通してフォトマスク1を収納した区画K1内に入り込んだ汚染物質や区画K1内に存在する汚染物質を取り除くことができる。
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。
第1の実施形態では、除去手段6を、フォトマスク1を収納した区画K1の下部に配置したが、該区画K1の左右の両横側部のうちの一方の横側部に配置している。
第1の実施形態では、除去手段6を、フォトマスク1を収納した区画K1の下部に配置したが、該区画K1の左右の両横側部のうちの一方の横側部に配置している。
具体的には、図3(a),(b),(c)に示すように、容器本体3を左右方向に長い横長状に構成し、紙面に向かって左側の区画K1と右側の区画K2とに区分けするための隔壁5を備えている。左側の区画K1を右側の区画K2よりも大きくなるように隔壁5を右端寄りに配置し、左側の区画K1内に前記4個の保持具7…を介してフォトマスク1を固定し、右側の区画K2内に除去手段6を配置している。
図3に示す容器本体3は、前記合成樹脂等で形成され、略長方形状で平板状の後壁部3Aと、この後壁部3Aの外周縁の4辺から前方側に垂直に延びる上壁部3B、下壁部3C、左右壁部3D,3Eとを備えている。
前記隔壁5は、容器本体3を左右方向で区画しかつ上下一対の孔8a,8bを有する前後壁8と、この前後壁8の前端と右壁部3Eの前端と上下壁部3B,3Cの前端とで形成される開口を閉じる前壁9とを備え、孔8a,8bを通してフォトマスク1を収納した区画K1内に入り込んだ汚染物質や区画K1内に存在する汚染物質を除去手段6が取り除くことができるようにしている。尚、前壁9は、図示しない係止構造により着脱自在に構成され、図3(b)に示すように、前壁9を取り外すことによって、除去手段6を取り外すことができるようにしている。尚、除去手段6は、図示していない固定手段により固定解除自在に区画K2内に固定されている。尚、図3で説明しなかった他の部分は、図2と同一であるため、同一の符号を付すととともに説明は省略する。また、図3では、容器本体3のみしか示していないが、蓋体も横長状で容器本体側が開放された箱型のものから構成されており、形状が異なる以外は図1で示した蓋体4と同一構成である。
前記汚染物質は、ガス、水蒸気、塵埃のうちの少なくとも一種からなり、前記除去手段6が、前記ガス、水蒸気、塵埃のうちの少なくとも一種を吸着又は捕集する手段からなり、その除去手段6の具体的な構成について図4及び図5に示す概略図に基づいて説明する。尚、容器本体の構成は図2のものを用いることにする。
図4(a)に示すように、隔壁5の中心部に1つの孔5Kを形成し、この孔5Kを通して移動してきた汚染物質、例えばガスを吸着するための吸着手段(除去手段)10を孔5Kに臨むように隔壁5に取り付けてもよい。この吸着手段10は定期的に交換することができるように隔壁5に対して着脱自在に構成することが好ましい。尚、吸着手段10が水蒸気を吸収するものであってもよいし、塵埃を捕集するものあってもよい。
また、図4(b)に示すように、除去手段6が、フォトマスク1を収納した区画K1内に孔(流出孔)5aを通して送風する送風手段11と、該送風手段11からの送風を濾過するためのフィルター12を孔(流出孔)5aを塞ぐように備えていてもよい。このようにフォトマスク1を収納した区画K1内の空気を清浄にすることによって、汚染物質がフォトマスク1や可搬容器2に付着することを防ぐことができるだけでなく、区画K1内に存在する汚染物質を取り除くことができるようにしている。尚、前記孔(流出孔)5aの他に備えている孔(流入孔)5bにも別のフィルター13を備えており、空気と共に移動してきた汚染物質をフィルター13にて捕集することができるように構成している。これらフィルター12,13及び送風手段11を着脱できるように構成しておけば、容易に定期的な交換が行える。この場合、フィルター12,13及び送風手段11をユニット化しておけば、交換作業が更に容易に行える。また、送風手段11は、ファンとファンを回転させるモータを備えていることから、例えば潤滑油が排出される場合がある。この場合でも、前記のように隔壁5が設けられていることから、排出される潤滑油がフォトマスク1を収納した区画K1側へ移動することを隔壁5により抑制することができ、好ましい。
また、図5に示すように、前記隔壁5が、フォトマスク1を収納した区画K1内に空気を流出させるための流出孔5aと、該区画K1内に流出した空気を前記除去手段6が収納された区画K2内に戻すための流入孔5bとを備え、それら2つの孔5a,5bの一方5aに送り出し用の送風手段14を備え、他方5bに空気吸引用の送風手段15を備えて、前記流出孔5aから前記区画K1内に流出した空気を前記流入孔5bに取り込むように内部循環型に構成してもよい。このように区画K1内の空気を循環させて該空気を常に清浄にすることによって、汚染物質がフォトマスク1や可搬容器2に付着することを効果的に防ぐことができるだけでなく、区画K1内に存在する汚染物質を取り除くことができるようにしている。そして、送風手段14,15同士間に取り込んだ汚染物質を吸着する吸着手段16を配置しておけば、フィルター14,15で捕集できなかった汚染物質、例えばガスや水蒸気等をも吸着手段16にて吸着することができる。尚、前記のように隔壁5に流出孔5aと流入孔5bの2個を備える、あるいは図4(a)のように1個の孔を設けるのが好ましいが、隔壁5の一部にのみ設けるのであれば、3個以上の孔を設けてもよい。
前記汚染物質の中でも、分子状の汚染物質がフォトマスク1の可搬容器2内に入り込んで、その分子状の汚染物質がフォトマスク1の表面に付着すると、フォトマスク1の表面に結晶を形成して成長性異物を生成することがある。このような成長性異物がフォトマスク1の表面に生成されると、フォトマスク1上に有するペリクルを剥がして成長性異物を除去してから新たなペリクルを再度貼り付けなければならず、非常に手間のかかるものである。その成長性異物対策用として前述した図4(a),(b)及び図5の除去手段6を備えさせることで、基板の表面に結晶を形成することをできる限り防止できるようにしている。
また、図6(a)には、図2で示した隔壁5が、着脱式に構成された場合を示している。後壁部3Aと下壁部3Cとに凹部(溝でもよい)3X,3Yを形成し、それら凹部3X,3Yに係止する係止解除自在な係止部5X,5Yを隔壁5に備えさせて、除去手段6の交換や点検時に、隔壁5を取り外すことができるようにしている。また、除去手段6は、上下一対の弾性部材17,18により挟持されており、弾性部材17,18を上下に押し広げることにより除去手段6を取り外すことができるようにしている。
また、図6(b)では、図6(a)で示した隔壁5を揺動開閉式に構成した場合を示している。つまり、隔壁5の縦板部5Bの下端を下壁部3Cに左右一対のブラケット19,19(図では一方のみ図示)を介して枢支連結し、隔壁5の水平板部5Aの後端に後壁部3Aに形成された凹部(溝でもよい)3Xに係止する係止解除自在な係止部5Xを備えさせている。従って、隔壁5の水平板部5Aの係止部5Xと凹部(溝でもよい)3Xとの係止を解除することによって、隔壁5を水平軸芯X周りで前方側へ揺動して2点鎖線で示す開放位置に位置させることができる。除去手段6は、図6(a)と同様に、上下一対の弾性部材17,18により挟持されており、弾性部材17,18を上下に押し広げることにより除去手段6を取り外すことができるようにしている。
尚、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
上記実施形態では、可搬容器2を前後方向で2つに分割した容器本体3と蓋体4とで構成したが、上下方向で2つに分割したものから構成してもよいし、また可搬容器2を2つに分割したものの他、3つ以上に分割したものから構成してもよい。
また、上記実施形態では、フォトマスク1を下側または横側の1箇所に除去手段6を備えさせたが、2箇所以上に除去手段を備えさせてもよい。
1…フォトマスク(基板)、2…可搬容器、3…容器本体、3A…後壁部、3B…上壁部、3C…下壁部、3D,3E…左右壁部、3X,3Y…凹部、4…蓋体、5…隔壁、5A…水平板部、5B…縦板部、5K…孔、5X,5Y…係止部、5a…孔(流出孔)、5b…孔(流入孔)、6…除去手段、7…保持具、8…前後壁、8a,8b…孔、9…前壁、10…吸着手段、11…送風手段、12,13…フィルター、14,15…送風手段、16…吸着手段、17,18…弾性部材、19…ブラケット、C…キャスター、G…係止具、K1,K2…区画、X…水平軸芯
Claims (8)
- 基板の容器であって、
容器内を区画するための隔壁を備え、前記隔壁には前記基板を収納する区画とその他の区画とを連通する孔が設けられており、前記その他の区画には前記基板を収納する区画に存在する汚染物質を取り除くための除去手段を備えたことを特徴とする可搬容器。 - 前記除去手段は、前記基板を収納する区画へ孔を通して送風するための送風手段と、該送風に含まれる汚染物質を取り除くための捕集手段を備えたことを特徴とする請求項1に記載の可搬容器。
- 前記除去手段は、汚染物質を吸着するための吸着手段であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の可搬容器。
- 前記除去手段は、前記基板を収納する区画へ孔を通して送風するための送風手段と、該送風に含まれる汚染物質を取り除くための捕集手段と、前記汚染物質を吸着するための吸着手段とを備えたことを特徴とする請求項1に記載の可搬容器。
- 前記除去手段は、基板を収納する区画へ孔を通して送風するための送風手段を備え、前記隔壁には、複数の孔を備え、それら孔の少なくとも一方に前記送風手段を備えたことを特徴とする請求項1に記載の可搬容器。
- 前記除去手段は、該除去手段を収納した区画から着脱自在に構成されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の可搬容器。
- 前記汚染物質は、ガス、水蒸気、塵埃のうちの少なくとも一種からなり、前記除去手段は、前記ガス、水蒸気、塵埃のうちの少なくとも一種を吸着又は捕集する手段からなることを特徴とする請求項1又は請求項6に記載の可搬容器。
- 前記隔壁が着脱自在に構成されていることを特徴とする請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載の可搬容器。
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- 2010-02-10 JP JP2010027660A patent/JP2011162237A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20130507 |