JP2011159855A - Partially multilayer printed circuit board, and method of manufacturing the same - Google Patents

Partially multilayer printed circuit board, and method of manufacturing the same Download PDF

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林  祥剛
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4688Composite multilayer circuits, i.e. comprising insulating layers having different properties

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem with a conventional partially multilayer printed circuit board, wherein the circuit board readily causes many troubles such as generation of contact failures between a mother board and a partially multilayer printed circuit board. <P>SOLUTION: A cavity part 27 is provided in a part of at least a surface layer of the circuit board 21 and a circuit forming material 1 formed under a wiring rule finer than that for the circuit board 21 is laminated in the cavity part 27 to obtain a structure in which an upper part of the circuit forming material 1 does not protrude. Owing to the structure, a solder resist 25 can be formed on the surfaces of the circuit board 21 and the circuit forming material 1 at the same step. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体装置や電子部品等を実装するための局所多層回路基板、およびその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a local multilayer circuit board for mounting a semiconductor device, an electronic component or the like, and a manufacturing method thereof.

近年、電子機器の小型化、高速動作および高機能化が益々進んでおり、それを実現するための半導体チップの高集積化が進み、それに伴いI/O数が増加して狭ピッチで多ピン構造になって来ている。そのため、半導体チップや半導体パッケージを実装するための回路基板も高精細パターンを実現するビルドアップ構造でより多くの層数を必要とする多層回路基板が使われるようになってきている。   In recent years, miniaturization, high-speed operation, and high functionality of electronic devices have been increasingly advanced, and semiconductor chips for realizing the electronic devices have been highly integrated. It has become a structure. For this reason, a circuit board for mounting a semiconductor chip or a semiconductor package is also used as a multilayer circuit board that requires a larger number of layers in a build-up structure that realizes a high-definition pattern.

しかし、多ピンの半導体パッケージが実装された近傍のみ回路基板の多層が必要であり、その他の部分は基板の層数が少なくても問題なく回路設計ができる場合が多い。すなわち、一部の領域でファイン配線とより多くの多層化を必要とするために、回路基板全体にファイン配線ルールと多層化が採用され、高価な基板となっている。   However, a multilayer circuit board is required only in the vicinity where the multi-pin semiconductor package is mounted, and the circuit can be designed without any problems even if the number of layers of the other parts is small. That is, since fine wiring and more multilayers are required in some areas, fine wiring rules and multilayering are adopted for the entire circuit board, resulting in an expensive substrate.

この課題を解決する手段として、回路基板の、より多くの多層化を必要とする部分のみが多層化された局所多層回路基板がある(例えば、特許文献1参照)。   As means for solving this problem, there is a local multilayer circuit board in which only a portion of the circuit board that requires more layers is multilayered (for example, refer to Patent Document 1).

図7は、従来の局所多層回路基板を示す断面図である。   FIG. 7 is a cross-sectional view showing a conventional local multilayer circuit board.

図7において、321は通常の配線ルールで形成された多層のマザー基板である。322は絶縁性基材で、各層の配線パターン323が導電性ビア324により電気的に接続されていることで回路を構成している。そして、マザー基板321の表層の必要な部分だけに多層基板301が積層されている。   In FIG. 7, reference numeral 321 denotes a multi-layer mother board formed by a normal wiring rule. Reference numeral 322 denotes an insulating base material, and a circuit is configured by electrically connecting the wiring patterns 323 of the respective layers through conductive vias 324. The multilayer substrate 301 is laminated only on necessary portions of the surface layer of the mother substrate 321.

図8は、図7に示した従来の局所多層回路基板の製造方法の積層工程を説明する図である。   FIG. 8 is a diagram for explaining a stacking process of the conventional method for manufacturing a local multilayer circuit board shown in FIG.

部分的な多層基板301の構成材料である302は絶縁性樹脂材料で、各層のファインパターン303は導電性ビア304で電気的に接続されている。   The constituent material 302 of the partial multilayer substrate 301 is an insulating resin material, and the fine pattern 303 of each layer is electrically connected by a conductive via 304.

マザー基板のビアランド配線パターン323と導電性ビア304がアライメントされて、マザー基板321のソルダーレジスト325が形成されていない部分に積層される。その後、熱プレスにより、例えば温度150℃、圧力2MPaの条件で加圧加熱することで、半硬化状態である絶縁性樹脂材料302の接着効果により多層基板301がマザー基板321の表面に貼り付けられ、図7に示す局所多層回路基板となる。   The via land wiring pattern 323 of the mother substrate and the conductive via 304 are aligned and laminated on a portion of the mother substrate 321 where the solder resist 325 is not formed. Thereafter, the multilayer substrate 301 is attached to the surface of the mother substrate 321 by a hot press, for example, under the conditions of a temperature of 150 ° C. and a pressure of 2 MPa, by the adhesive effect of the insulating resin material 302 in a semi-cured state. The local multilayer circuit board shown in FIG.

特開2003−298232号公報JP 2003-298232 A

しかしながら、従来の局所多層回路基板は、マザー基板に部分的に積層された多層基板の部分が物理的なダメージを受け易い構成であるため、マザー基板と部分的に積層された多層基板との間で接触不良が発生する等の多くの問題が発生し易かった。   However, the conventional local multilayer circuit board has a configuration in which the part of the multilayer board partially laminated on the mother board is easily damaged by physical damage, so that the gap between the mother board and the partially laminated multilayer board is not sufficient. Many problems such as poor contact occurred easily.

これらの問題について、以下に説明する。   These problems are described below.

マザー基板321と部分多層基板301とでは、要求される精細度が異なるため、それぞれの配線パターンやビアのサイズおよび材料構成が異なる。また、それらを支持するための絶縁性樹脂302、322についても異なる材料物性が必要とされる。更には、部分多層基板301をマザー基板321に積層後に熱プレスする際の加熱加圧条件は、小面積でファインパターンが形成された未硬化絶縁性樹脂の加熱加圧であることから、通常の多層回路基板を熱プレスする条件より低温低圧で接着される。このために、マザー基板321と部分多層基板301との界面の接着力が弱い状態となっている。   The mother substrate 321 and the partial multi-layer substrate 301 have different required definition, so that the size and material configuration of each wiring pattern and via are different. Also, different material properties are required for the insulating resins 302 and 322 for supporting them. Furthermore, since the heat and pressure conditions when the partial multilayer substrate 301 is hot-pressed after being laminated on the mother substrate 321 are the heat and pressure of uncured insulating resin having a fine pattern formed in a small area, Bonding is performed at a lower temperature and lower pressure than the condition of hot pressing the multilayer circuit board. For this reason, the adhesive force at the interface between the mother substrate 321 and the partial multilayer substrate 301 is weak.

そして、マザー基板321表面より部分多層基板301の積層部が飛び出しているため、部品実装前の局所多層回路基板を重ねて扱ったり搬送したりした場合に、部分多層基板301部分が擦れることで比較的接着界面が弱いマザー基板321との界面で剥離が発生し、導電性ビア304とマザー基板321の配線パターン323との接続不良が発生する。   Since the laminated portion of the partial multilayer board 301 protrudes from the surface of the mother board 321, when the local multilayer circuit board before component mounting is handled and transported in a superimposed manner, the partial multilayer board 301 portion is rubbed and compared. Separation occurs at the interface with the mother substrate 321 having a weak adhesive bond interface, resulting in poor connection between the conductive via 304 and the wiring pattern 323 of the mother substrate 321.

また、電子部品の実装時においても問題が発生し易い。   Also, problems are likely to occur when electronic components are mounted.

図9は、従来の局所多層回路基板に電子部品を実装する際のクリーム半田印刷工程を説明する図である。   FIG. 9 is a diagram for explaining a cream solder printing process when electronic components are mounted on a conventional local multilayer circuit board.

部分多層基板301の層数が多いほどマザー基板321との段差が大きくなるため、印刷法によりクリーム半田326を供給した場合、図9に示す様に部分多層基板301が積層されたマザー基板321近傍へのクリーム半田326の供給量が不足する。   As the number of layers of the partial multilayer substrate 301 increases, the level difference from the mother substrate 321 increases. Therefore, when the cream solder 326 is supplied by a printing method, the vicinity of the mother substrate 321 in which the partial multilayer substrate 301 is laminated as shown in FIG. The supply amount of the cream solder 326 is insufficient.

また、部品実装後のリフロー工程で高温に過熱されると、絶縁性樹脂材料や構成が異なることから熱膨張係数の差により熱応力で積層界面のビア接続にダメージが発生して接続抵抗値が上昇する、といった課題などがある。   In addition, if it is heated to a high temperature in the reflow process after component mounting, the insulating resin material and configuration are different. There are issues such as rising.

本発明は、上記従来の課題を考慮して、マザー基板に部分的に積層される多層基板に物理的なダメージを与えない局所多層回路基板およびその製造方法を提供することを目的とする。   In view of the above-described conventional problems, an object of the present invention is to provide a local multilayer circuit board that does not physically damage a multilayer board partially stacked on a mother board, and a manufacturing method thereof.

上述した課題を解決するために、第1の本発明は、
少なくとも表層の一部にキャビティ部を有する回路基板と、
前記キャビティ部に配置されている、前記回路基板より高精細な配線ルールで形成された回路形成材とを備えた、局所多層回路基板である。
In order to solve the above-described problem, the first aspect of the present invention provides:
A circuit board having a cavity in at least a part of the surface layer;
A local multilayer circuit board provided with a circuit forming material that is disposed in the cavity portion and is formed with a wiring rule of higher definition than the circuit board.

また、第2の本発明は、
前記回路基板は、多層構造であり、
前記キャビティ部は、前記回路基板の前記表層に形成される配線パターンの表面を含む平面と、前記回路形成材の表層に形成された配線パターンの表面を含む平面との距離が所定の距離以下となる、深さを有している、第1の本発明の局所多層回路基板である。
The second aspect of the present invention
The circuit board has a multilayer structure,
The cavity part has a predetermined distance or less between a plane including a surface of the wiring pattern formed on the surface layer of the circuit board and a plane including the surface of the wiring pattern formed on the surface layer of the circuit forming material. The local multilayer circuit board according to the first aspect of the present invention has a depth.

また、第3の本発明は、
前記回路基板の表面に形成されたソルダーレジストと、前記回路形成材の表面に形成されたソルダーレジストとは、同一工程により形成されたものである、第1または第2の本発明の局所多層回路基板である。
The third aspect of the present invention
The solder resist formed on the surface of the circuit board and the solder resist formed on the surface of the circuit forming material are formed by the same process, and the local multilayer circuit of the first or second aspect of the present invention. It is a substrate.

また、第4の本発明は、
前記回路基板と前記回路形成材との間の隙間部の少なくとも一部に前記ソルダーレジストが充填されている、第3の本発明の局所多層回路基板である。
The fourth aspect of the present invention is
The local multilayer circuit board according to the third aspect of the present invention, wherein the solder resist is filled in at least a part of a gap between the circuit board and the circuit forming material.

また、第5の本発明は、
前記所定の距離は、0.2mmである、第2の本発明の局所多層回路基板である。
The fifth aspect of the present invention provides
The predetermined distance is the local multilayer circuit board according to the second aspect of the present invention, which is 0.2 mm.

また、第6の本発明は、
前記キャビティ部は、前記回路基板の前記表層の基材の表面から裏面に貫通する開口のみで構成されている、第2の本発明の局所多層回路基板である。
The sixth aspect of the present invention provides
The cavity portion is the local multilayer circuit board according to the second aspect of the present invention, which is configured only by an opening penetrating from the front surface to the back surface of the base material of the surface layer of the circuit board.

また、第7の本発明は、
前記キャビティ部は、開口部が底部よりも大きく、側壁部の少なくとも一部が階段形状をしており、
前記各階段のキャビティ層には、それぞれ別の前記回路形成材が配置されている、第1の本発明の局所多層回路基板である。
The seventh aspect of the present invention
The cavity part has an opening larger than the bottom part, and at least a part of the side wall part has a staircase shape,
The local multilayer circuit board according to the first aspect of the present invention, wherein different circuit forming materials are arranged in the cavity layers of the respective steps.

また、第8の本発明は、
前記各階段のキャビティ層のうち、前記開口部に最も近い前記キャビティ層における前記回路形成材と前記回路基板との間の隙間部の少なくとも一部にソルダーレジストが充填されている、第7の本発明の局所多層回路基板である。
In addition, the eighth aspect of the present invention
A seventh book in which at least a part of a gap portion between the circuit forming material and the circuit board in the cavity layer closest to the opening is filled with a solder resist among the cavity layers of the steps. It is a local multilayer circuit board of the invention.

また、第9の本発明は、
少なくとも表層の一部にキャビティ部を有する回路基板の前記キャビティ部に、前記回路基板より高精細な配線ルールで形成された回路形成材を配置する積層工程と、
加圧加熱により前記回路基板と前記回路形成材とを接着する接着工程と、
前記回路基板の表面と、前記回路形成材の表面と、前記回路基板および前記回路形成材の間の隙間部とに、ソルダーレジストを形成するレジスト形成工程とを備えた、局所多層回路基板の製造方法である。
The ninth aspect of the present invention provides
A laminating step of disposing a circuit forming material formed with a wiring rule of higher definition than the circuit board in the cavity part of the circuit board having a cavity part in at least a part of the surface layer;
An adhesion step of adhering the circuit board and the circuit forming material by pressure heating;
Production of a local multilayer circuit board comprising a resist forming step of forming a solder resist on the surface of the circuit board, the surface of the circuit forming material, and a gap between the circuit board and the circuit forming material. Is the method.

また、第10の本発明は、
前記レジスト形成工程は、前記回路基板の表面と、前記回路形成材の表面と、前記隙間部とに、同一工程で前記ソルダーレジストを形成する、第9の本発明の局所多層回路基板の製造方法である。
The tenth aspect of the present invention is
In the resist forming step, the solder resist is formed in the same step on the surface of the circuit board, the surface of the circuit forming material, and the gap portion. It is.

また、第11の本発明は、
前記キャビティ部は、開口部が底部よりも大きく、側壁部の少なくとも一部が階段形状をしており、
前記各階段のキャビティ層毎に、それぞれ別の前記回路形成材を配置して接着するように、前記積層工程および前記接着工程を繰り返し行ない、
その後、前記レジスト形成工程において、前記回路基板の表面と、前記回路形成材の表面と、前記開口部に最も近い前記キャビティ層における前記回路形成材と前記回路基板との間の前記隙間部とに、同一工程で前記ソルダーレジストを形成する、第9の本発明の局所多層回路基板の製造方法である。
The eleventh aspect of the present invention is
The cavity part has an opening larger than the bottom part, and at least a part of the side wall part has a staircase shape,
Repeating the laminating step and the adhering step so as to arrange and adhere different circuit forming materials for each cavity layer of each step,
Thereafter, in the resist forming step, the surface of the circuit board, the surface of the circuit forming material, and the gap portion between the circuit forming material and the circuit board in the cavity layer closest to the opening. The method for manufacturing a local multilayer circuit board according to the ninth aspect of the present invention, wherein the solder resist is formed in the same step.

本発明により、マザー基板に部分的に積層される多層基板に物理的なダメージを与えない局所多層回路基板およびその製造方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a local multilayer circuit board that does not physically damage the multilayer board partially laminated on the mother board, and a manufacturing method thereof.

本発明の実施の形態1における局所多層回路基板の断面図Sectional drawing of the local multilayer circuit board in Embodiment 1 of this invention (a)〜(h)本発明の実施の形態1における、高精細の配線パターンを有する単層の回路形成材の製造工程を示す図(A)-(h) The figure which shows the manufacturing process of the single layer circuit formation material which has a high-definition wiring pattern in Embodiment 1 of this invention. (a)〜(c)本発明の実施の形態1における、高精細の配線パターンを有する多層化された回路形成材の製造工程を示す図(A)-(c) The figure which shows the manufacturing process of the multilayered circuit formation material which has a high-definition wiring pattern in Embodiment 1 of this invention. (a)〜(d)本発明の実施の形態1における、局所多層回路基板の製造工程を示す図(A)-(d) The figure which shows the manufacturing process of the local multilayer circuit board in Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態2における局所多層回路基板の断面図Sectional drawing of the local multilayer circuit board in Embodiment 2 of this invention (a)〜(d)本発明の実施の形態2における局所多層回路基板の製造工程を示す図(A)-(d) The figure which shows the manufacturing process of the local multilayer circuit board in Embodiment 2 of this invention. 従来の局所多層回路基板の断面図Sectional view of a conventional local multilayer circuit board 従来の局所多層回路基板の、製造時の積層工程における断面図Cross-sectional view of conventional local multilayer circuit board in the lamination process during manufacturing 従来の局所多層回路基板の、電子部品を実装する際のクリーム半田印刷工程における断面図Sectional view of cream solder printing process when mounting electronic components on a conventional local multilayer circuit board

以下本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1における局所多層回路基板の断面図である。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a cross-sectional view of a local multilayer circuit board according to Embodiment 1 of the present invention.

図1において、21はキャビティを備えた4層の多層回路基板であり、22a、22b、22cは絶縁性樹脂基材で、各々の層には配線パターン23が形成されており、配線パターン23の層間は導電性ビア24により電気的に接続されることで多層回路基板となっている。   In FIG. 1, reference numeral 21 denotes a four-layer multilayer circuit board having cavities, 22 a, 22 b, and 22 c are insulating resin base materials, and a wiring pattern 23 is formed on each layer. The layers are electrically connected by conductive vias 24 to form a multilayer circuit board.

1は回路形成材であり、多層回路基板21より高精細の配線パターン3で構成される。2は絶縁性樹脂、4は導電性ビアである。回路形成材1は、多層回路基板21のキャビティ内に絶縁性樹脂2の接着効果により貼り付けられている。更に、回路形成材1に設けた導電性ビア4と、多層回路基板21の配線パターン23が電気的に接続されている。   Reference numeral 1 denotes a circuit forming material, which is composed of a wiring pattern 3 with higher definition than the multilayer circuit board 21. 2 is an insulating resin, and 4 is a conductive via. The circuit forming material 1 is stuck in the cavity of the multilayer circuit board 21 by the adhesive effect of the insulating resin 2. Further, the conductive via 4 provided in the circuit forming material 1 and the wiring pattern 23 of the multilayer circuit board 21 are electrically connected.

本構成により、多ピンの狭ピッチBGAパッケージや半導体ベアチップなどを精細な配線パターン3を有する回路形成材1に実装することが可能となり、マザー基板となる多層回路基板21の層数を削減することができる。   With this configuration, it is possible to mount a multi-pin narrow-pitch BGA package, a semiconductor bare chip, or the like on the circuit forming material 1 having the fine wiring pattern 3, and to reduce the number of layers of the multilayer circuit board 21 serving as a mother board. Can do.

なお、多層回路基板21が、本発明の回路基板の一例にあたる。また、多層回路基板21の配線パターン23よりも高精細の配線パターン3が形成された回路形成材1が、本発明の、回路基板より高精細な配線ルールで形成された回路形成材の一例にあたる。本発明の「より高精細な配線ルール」とは、少なくとも、ビア径、ランド径、L/Sのいずれかが高精細な配線ルールを言う。   The multilayer circuit board 21 corresponds to an example of the circuit board of the present invention. In addition, the circuit forming material 1 in which the wiring pattern 3 with higher definition than the wiring pattern 23 of the multilayer circuit board 21 is formed corresponds to an example of the circuit forming material formed with the wiring rule with higher definition than the circuit board of the present invention. . The “higher-definition wiring rule” of the present invention is a wiring rule in which at least one of the via diameter, land diameter, and L / S is high-definition.

図1に示した局所多層回路基板では、多層回路基板21の最表層の絶縁性樹脂基材22a(プリプレグまたはグリーンシート)の厚みを変えることでキャビティの深さを制御して、回路形成材1の厚みに合わせている。これにより多層回路基板21表面から、回路形成材1の飛び出し段差を無くすることができるため、基板を重ねて梱包や搬送した際に生ずる回路形成材1部分への物理的応力を受けることを防ぐことができ、本構造で最も弱いとされる多層回路基板21と回路形成材1間の接着界面保護ができる。すなわち、回路形成材1の導電性ビア4と多層回路基板21の配線パターン23との接続品質にダメージを与えることがない。   In the local multilayer circuit board shown in FIG. 1, the depth of the cavity is controlled by changing the thickness of the insulating resin base material 22a (prepreg or green sheet) on the outermost layer of the multilayer circuit board 21, and the circuit forming material 1 The thickness is matched. As a result, the step-out step of the circuit forming material 1 can be eliminated from the surface of the multilayer circuit board 21, so that it is prevented from receiving physical stress on the circuit forming material 1 portion generated when the substrates are stacked and transported. It is possible to protect the adhesive interface between the multilayer circuit board 21 and the circuit forming material 1 which is considered to be the weakest in this structure. That is, the connection quality between the conductive via 4 of the circuit forming material 1 and the wiring pattern 23 of the multilayer circuit board 21 is not damaged.

なお、多層回路基板21の、回路形成材1が積層される表面側に配置された絶縁性樹脂基材22aが、本発明の表層の基材の一例にあたる。   The insulating resin base material 22a arranged on the surface side of the multilayer circuit board 21 on which the circuit forming material 1 is laminated corresponds to an example of the surface base material of the present invention.

次に、本実施の形態1の局所多層回路基板の製造方法について説明する。   Next, a method for manufacturing the local multilayer circuit board according to the first embodiment will be described.

図2(a)〜(h)に、単層の高精細の配線パターン回路形成材の製造工程の説明図を示す。図2(a)〜(h)に示す図は、いずれも断面図を示している。   FIGS. 2A to 2H are explanatory views of a manufacturing process of a single-layer high-definition wiring pattern circuit forming material. All the drawings shown in FIGS. 2A to 2H are cross-sectional views.

なお、図2〜図4において、図1の局所多層回路基板と同じ構成部分には、同じ符号を用い、それらの説明を省略する。   2 to 4, the same reference numerals are used for the same components as those of the local multilayer circuit board of FIG. 1, and descriptions thereof are omitted.

図2(a)において、2はエポキシ樹脂等の未硬化の絶縁性樹脂材料で厚み10〜100マイクロメートルであり、その両面に厚み10マイクロメートル程度の保護フィルム5aおよび5bが貼り付けられたシートとなっている。   In FIG. 2 (a), reference numeral 2 denotes an uncured insulating resin material such as an epoxy resin having a thickness of 10 to 100 micrometers, and a protective film 5a and 5b having a thickness of about 10 micrometers attached to both surfaces thereof. It has become.

図2(b)に示すように、このシートに、パンチングまたはレーザーなどの加工手段により、径50マイクロメートのビアホール6を形成する。   As shown in FIG. 2B, via holes 6 having a diameter of 50 micrometers are formed on the sheet by a processing means such as punching or laser.

そして、図2(c)に示すように、このビアホール6に、スクリーン印刷法などの手段により導電性樹脂ペースト14を充填する。この導電性樹脂ペースト14としては、エポキシ樹脂材料と銀コーティングされた銅粉を混練した材料を用いている。   Then, as shown in FIG. 2C, the via hole 6 is filled with a conductive resin paste 14 by means such as a screen printing method. As the conductive resin paste 14, a material obtained by kneading an epoxy resin material and silver-coated copper powder is used.

そして、図2(d)に示すように、上側の保護フィルム5aを剥離して、導電性ビア4が形成された絶縁性樹脂シート8が準備される。   And as shown in FIG.2 (d), the upper protective film 5a is peeled and the insulating resin sheet 8 in which the conductive via 4 was formed is prepared.

一方、図2(e)において、3aは厚み5マイクロメートルの銅箔で、ベースフィルム材7の表面に離型層(図示せず)を介して形成されている。   On the other hand, in FIG.2 (e), 3a is copper foil of thickness 5 micrometers, and is formed in the surface of the base film material 7 through the mold release layer (not shown).

図2(f)に示すように、銅箔3aをエッチングによって、導電性ビア4と接続されるビアランドを含んだ配線パターン3を形成して転写パターンシート9を準備する。配線パターン3に含まれるビアランドは径150マイクロメートル、配線のパターンはL/S=30/30マイクロメートルで形成されている。   As shown in FIG. 2 (f), the transfer pattern sheet 9 is prepared by forming the wiring pattern 3 including the via land connected to the conductive via 4 by etching the copper foil 3 a. The via land included in the wiring pattern 3 is formed with a diameter of 150 micrometers, and the wiring pattern is formed with L / S = 30/30 micrometers.

そして、図2(g)に示すように、絶縁性樹脂シート8の導電性ビア4と、転写パターンシート9のビアランドとの位置合わせを行って積層し、図2(h)に示すように、真空ラミネート等の加熱加圧手段によって両者の一体化を行うことにより、精細な配線パターン3と導電性ビア4を備えた単層の回路形成材10ができる。この時の真空ラミネートの加熱加圧条件としては、例えば温度80℃、圧力0.5MPa、加圧時間30秒で行う。   Then, as shown in FIG. 2 (g), the conductive via 4 of the insulating resin sheet 8 and the via land of the transfer pattern sheet 9 are aligned and laminated, and as shown in FIG. A single-layer circuit forming material 10 provided with fine wiring patterns 3 and conductive vias 4 can be obtained by integrating the two by a heating and pressing means such as vacuum lamination. As the heating and pressing conditions of the vacuum laminate at this time, for example, the temperature is 80 ° C., the pressure is 0.5 MPa, and the pressing time is 30 seconds.

図3(a)〜(c)は、高精細の配線パターンを有する多層化された回路形成材の製造工程の説明図であり、それぞれ断面図を示している。   3A to 3C are explanatory views of a manufacturing process of a multilayered circuit forming material having a high-definition wiring pattern, each showing a cross-sectional view.

10a、10b、10cは、いずれも図2の製造工程により作製された回路形成材10から加工して作製した単層の回路形成材である。   10a, 10b, and 10c are single-layer circuit forming materials manufactured by processing from the circuit forming material 10 manufactured by the manufacturing process of FIG.

図3(a)に示すように、回路形成材10aには、多層回路基板21に形成されたビアランドと接続されるための導電性ビア4および転写配線パターン3を備え、未硬化の絶縁性樹脂2の厚みは、多層回路基板21の配線パターン23を埋め込むために50マイクロメートルに設定されている。積層に当たってはベースフィルム材7を剥離する。   As shown in FIG. 3A, the circuit forming material 10a includes the conductive via 4 and the transfer wiring pattern 3 to be connected to the via land formed on the multilayer circuit board 21, and is an uncured insulating resin. The thickness of 2 is set to 50 micrometers in order to embed the wiring pattern 23 of the multilayer circuit board 21. In the lamination, the base film material 7 is peeled off.

回路形成材10bは、未硬化の絶縁性樹脂2の厚みが10マイクロメートルに設定されており、層間を接続するための精細な転写配線パターン3と導電性ビア4を備え、ベースフィルム材7および保護フィルム5bを剥離除去している。   The circuit forming material 10b has a thickness of the uncured insulating resin 2 set to 10 micrometers, and includes a fine transfer wiring pattern 3 and conductive vias 4 for connecting the layers, a base film material 7 and The protective film 5b is peeled off.

回路形成材10cは、未硬化の絶縁性樹脂2の厚みが10マイクロメートルに設定されており、実装部品に対応した配線パターンとビアランドを含む転写パターン3および導電性ビア4を備え、保護フィルム5bが剥離除去されている。   The circuit forming material 10c has a thickness of the uncured insulating resin 2 set to 10 micrometers, and includes a transfer pattern 3 and a conductive via 4 including a wiring pattern corresponding to a mounted component, a via land, and a conductive film 5b. Has been removed.

図3(b)に示すように、回路形成材10a、10b、10cの各転写配線パターン3と導電性ビア4の位置合わせを行い積層した後、真空ラミネート等の加熱加圧手段によって一体化を行う。この時の真空ラミネートの加熱加圧条件としては、例えば温度80℃、圧力0.5MPa、加圧時間30秒で行う。   As shown in FIG. 3B, the transfer wiring patterns 3 and the conductive vias 4 of the circuit forming materials 10a, 10b, and 10c are aligned and laminated, and then integrated by a heating and pressing means such as vacuum lamination. Do. As the heating and pressing conditions of the vacuum laminate at this time, for example, the temperature is 80 ° C., the pressure is 0.5 MPa, and the pressing time is 30 seconds.

そして、図3(c)に示すように、ベースフィルム材7と保護フィルム5bを除去することで、精細な配線パターン3と導電性ビア4を備えた多層の回路形成材1ができる。   And as shown in FIG.3 (c), the multilayer circuit formation material 1 provided with the fine wiring pattern 3 and the conductive via 4 is made by removing the base film material 7 and the protective film 5b.

なお、ここでは回路形成材1の製造工程を説明するに当たって、単品での説明としたが、実際には多数個で面付けされたシート状で加工を行い、図3bまで完成後に個片切断を行うことが好ましい。   Here, in explaining the manufacturing process of the circuit forming material 1, it was explained as a single item, but actually, it was processed in a sheet shape faced with a large number of pieces, and after completion to FIG. Preferably it is done.

図4(a)〜(d)は、本実施の形態1における局所多層回路基板の製造工程を示す図であり、それぞれ断面図を示している。   4A to 4D are views showing the manufacturing process of the local multilayer circuit board according to the first embodiment, and each show a cross-sectional view.

図4(a)において、1は、図2および図3に示した製造方法により作製した3層構造の精細な配線パターン3を有した回路形成材である。   In FIG. 4A, reference numeral 1 denotes a circuit forming material having a fine wiring pattern 3 having a three-layer structure manufactured by the manufacturing method shown in FIGS.

21はキャビティ27が形成された多層回路基板で、キャビティ27の深さは80マイクロメートルである。この場合、キャビティ27は、多層回路基板21の最表層の絶縁性樹脂基材22aの表面から裏面に貫通する開口によって構成されており、その深さは、絶縁性樹脂基材22aの層の厚さと等しい深さとなっている。   21 is a multilayer circuit board on which a cavity 27 is formed, and the depth of the cavity 27 is 80 micrometers. In this case, the cavity 27 is configured by an opening penetrating from the front surface to the back surface of the insulating resin base material 22a which is the outermost layer of the multilayer circuit board 21, and the depth thereof is the thickness of the layer of the insulating resin base material 22a. Is the same depth.

キャビティ27は、例えばキャビティが形成されていない多層回路基板を作製した後、切削加工によりその多層回路基板の最表層の絶縁性樹脂基材22aの一部を除去することにより形成される。また、他の方法として、最表層の絶縁性樹脂基材22aに開口部を設け、単層の回路形成材を積層して多層回路基板を形成させてもよい。   The cavity 27 is formed by, for example, producing a multilayer circuit board in which no cavity is formed and then removing a part of the insulating resin base material 22a on the outermost layer of the multilayer circuit board by cutting. As another method, a multilayer circuit board may be formed by providing an opening in the outermost insulating resin base material 22a and laminating a single-layer circuit forming material.

キャビティ27の深さは、多層回路基板21の最表層のキャビティ27を構成する絶縁性樹脂基材22aの厚みを変えることで制御できる。   The depth of the cavity 27 can be controlled by changing the thickness of the insulating resin base material 22 a constituting the outermost layer cavity 27 of the multilayer circuit board 21.

なお、キャビティ27が、本発明のキャビティ部の一例にあたる。   The cavity 27 corresponds to an example of the cavity portion of the present invention.

多層化された回路形成材1の導電性ビア4と、多層回路基板21のキャビティ27の底部分に備えられた厚み35マイクロメートルの配線パターン23との位置合わせを行い積層する。   The conductive vias 4 of the multilayered circuit forming material 1 and the wiring pattern 23 having a thickness of 35 micrometers provided at the bottom of the cavity 27 of the multilayer circuit board 21 are aligned and laminated.

その後、図4(b)に示すように、熱プレス等の手段により加熱加圧することで、回路形成材1の絶縁性樹脂2は一旦軟化して多層回路基板21側に接着され、その後完全に熱硬化することで導電性ビア4と配線パターン23間が電気的に圧接接続される。この際、回路形成材1の層間も仮接着状態から一旦絶縁性樹脂2が溶融された後に硬化され完全に一体化される。この熱プレス条件の一例としては、温度150℃、圧力1MPa、加圧時間2分で行う。   After that, as shown in FIG. 4B, the insulating resin 2 of the circuit forming material 1 is once softened and bonded to the multilayer circuit board 21 side by heating and pressurizing by means such as hot pressing, and then completely By thermally curing, the conductive via 4 and the wiring pattern 23 are electrically pressed and connected. At this time, the interlayer of the circuit forming material 1 is also cured and completely integrated after the insulating resin 2 is once melted from the temporarily bonded state. As an example of the hot press conditions, the temperature is 150 ° C., the pressure is 1 MPa, and the pressing time is 2 minutes.

この様に、多層回路基板21のキャビティ27部分に、精細なパターンを有する多層の回路形成材1を積層することで、部分的に高密度の配線パターン3を備えた積層による段差の無い局所多層回路基板を提供することができる。   In this way, by laminating the multilayer circuit forming material 1 having a fine pattern in the cavity 27 portion of the multilayer circuit board 21, a local multilayer having no level difference due to the lamination having a partially dense wiring pattern 3. A circuit board can be provided.

なお、図4(a)で説明した工程が、本発明の積層工程の一例にあたり、図4(b)で説明した工程が、本発明の接着工程の一例にあたる。   4A corresponds to an example of the lamination process of the present invention, and the process described in FIG. 4B corresponds to an example of the bonding process of the present invention.

本実施の形態1の局所多層回路基板の構成により、局所多層回路基板を積んで梱包や搬送をする際に、部分的に積層した多層の回路形成材1へ擦り合わせるなどの物理的な応力が加わることによる、導電性ビア4と配線パターン23との接続ダメージをなくすることができる。すなわち、積層部分の飛び出し段差がないことで、基板を重ねて運搬等を行っても積層部分には外部応力を受けることが無いため、多層回路基板と高精細の配線パターンを有する回路形成材の接着界面における、導電性ビア接続ダメージを回避することができる。   Due to the configuration of the local multilayer circuit board of the first embodiment, when the local multilayer circuit board is stacked and packed or transported, physical stress such as rubbing against the partially laminated multilayer circuit forming material 1 is applied. The connection damage between the conductive via 4 and the wiring pattern 23 due to the addition can be eliminated. In other words, since there is no protruding step in the laminated portion, the laminated portion is not subjected to external stress even when the substrates are stacked and transported, etc., so that the circuit forming material having a multilayer circuit board and a high-definition wiring pattern Conductive via connection damage at the bonding interface can be avoided.

また、本実施の形態1の局所多層回路基板では、キャビティ27を多層回路基板21の最表層の絶縁性樹脂基材22aの表面から裏面に貫通する開口のみによって構成しているので、キャビティ27の深さを、多層回路基板21の最表層の基材厚みをかえることで容易に調整することができる。   Further, in the local multilayer circuit board according to the first embodiment, the cavity 27 is configured only by an opening penetrating from the surface of the outermost insulating resin base material 22a of the multilayer circuit board 21 to the back surface. The depth can be easily adjusted by changing the thickness of the base material of the outermost layer of the multilayer circuit board 21.

図4(c)は、図4(b)で作製した本実施の形態1の局所多層回路基板全体にフォトリソ法や印刷法等によりソルダーレジスト25を形成した際の断面図である。   FIG. 4C is a cross-sectional view when the solder resist 25 is formed on the entire local multilayer circuit board of Embodiment 1 manufactured in FIG. 4B by the photolithography method, the printing method, or the like.

この様に、局所的に多層化された回路基板であっても段差をなくすることで、マザー基板となる多層回路基板21部分と精細な配線パターン3を有する多層回路形成材1部分のソルダーレジスト25を、従来は別工程で形成していたのを同一工程で形成することができる。この際、積層した回路形成材1と多層回路基板21との間にできる隙間部28にも、ソルダーレジスト25を充填形成することができることで、回路形成材1の補強構成材となり、物理的な応力はもちろんのこと、リフロー工程などで加わる200℃以上の熱応力に対しても補強効果が得られる。   As described above, even if the circuit board is locally multi-layered, the solder resist of the multi-layer circuit forming material 1 part having the fine circuit pattern 21 and the multi-layer circuit board 21 part serving as the mother board is eliminated by eliminating the step. 25 can be formed in the same process, which was conventionally formed in a separate process. At this time, the gap 28 formed between the laminated circuit forming material 1 and the multilayer circuit board 21 can also be filled and formed with the solder resist 25, so that the reinforcing component of the circuit forming material 1 can be physically formed. The reinforcing effect can be obtained not only for the stress but also for the thermal stress of 200 ° C. or more applied in the reflow process.

更には、隙間部28で露出する多層回路基板21の配線パターン23をソルダーレジスト25で覆うことができるため、湿度影響などによるパターン間の絶縁耐圧性能を確保することができる。   Furthermore, since the wiring pattern 23 of the multilayer circuit board 21 exposed in the gap portion 28 can be covered with the solder resist 25, the dielectric strength performance between patterns due to the influence of humidity or the like can be ensured.

このように、本実施の形態1の局所多層回路基板の構成とすることにより、多層回路基板21に接着接合された回路形成材1の補強効果を高め、更には多層回路基板21の配線パターン23の露出を無くすことで絶縁耐圧性能を高めることができる。   As described above, by adopting the configuration of the local multilayer circuit board of the first embodiment, the reinforcing effect of the circuit forming material 1 adhesively bonded to the multilayer circuit board 21 is enhanced, and the wiring pattern 23 of the multilayer circuit board 21 is further enhanced. By eliminating the exposure, the withstand voltage performance can be improved.

なお、図4(c)で説明したソルダーレジスト25を同一工程で形成させる工程が、本発明のレジスト形成工程の一例にあたる。   The step of forming the solder resist 25 described in FIG. 4C in the same step corresponds to an example of the resist forming step of the present invention.

図4(d)は、本実施の形態1の局所多層回路基板にクリーム半田を印刷した際の断面図である。   FIG. 4D is a cross-sectional view when cream solder is printed on the local multilayer circuit board according to the first embodiment.

クリーム半田26を印刷供給する際も段差が無いため、局部的に積層した回路形成材1近傍までムラ無くクリーム半田を供給でき、部品が実装できる。   Since there is no step when printing and supplying the cream solder 26, the cream solder can be supplied evenly to the vicinity of the locally formed circuit forming material 1 and components can be mounted.

なお、図4(b)に示す、回路形成材1の配線パターン3の表面を含む平面29が、多層回路基板21の配線パターン23の表面を含む平面30より飛び出さないようにすることで、基板を重ねて運搬等を行った際の積層部分への外部応力を受けさせないようにすることができ、さらに、これらの2つの平面29および30が同一平面となるようにキャビティ27の深さを設定することで、ソルダーレジスト25を同一工程で形成できる効果、および回路形成材1近傍までムラ無くクリーム半田を供給できるという効果も発揮することができる。なお、これらの2つの平面29および30を全くの同一平面としなくても、2つの平面29および30間の距離を0.2mm以内とすることにより、これらの効果を十分に発揮させることができる。   4B, by preventing the plane 29 including the surface of the wiring pattern 3 of the circuit forming material 1 from protruding from the plane 30 including the surface of the wiring pattern 23 of the multilayer circuit board 21, It is possible to prevent external stress from being applied to the laminated portion when the substrates are stacked and transported, and the depth of the cavity 27 is set so that these two planes 29 and 30 are the same plane. By setting, the effect that the solder resist 25 can be formed in the same process and the effect that the cream solder can be supplied evenly to the vicinity of the circuit forming material 1 can be exhibited. In addition, even if these two planes 29 and 30 are not completely the same plane, these effects can be sufficiently exhibited by setting the distance between the two planes 29 and 30 within 0.2 mm. .

なお、本実施の形態1において、キャビティ27を備えた多層回路基板21を樹脂基板としたが、セラミック基板等の別材料でも良い。   In the first embodiment, the multilayer circuit board 21 including the cavity 27 is a resin substrate, but another material such as a ceramic substrate may be used.

また、局部的に積層する多層の回路形成材1を3層構造としたがこれに限定されるものではなく、単層でも、より多くの積層数でも同様の効果を得ることが出来る。   In addition, although the multilayer circuit forming material 1 to be locally laminated has a three-layer structure, the present invention is not limited to this, and the same effect can be obtained with a single layer or a larger number of layers.

また、未硬化の絶縁性樹脂2は単一材料構成でなく、薄いポリイミドフィルムなどの心材の両面に絶縁性樹脂を形成した3層構造でも良い。このことで回路形成材1を多層積層して熱プレスした際に生ずる樹脂流動を抑制でき、配線パターン23および導電性ビア4の位置保持率を高めることができる。   Further, the uncured insulating resin 2 may not have a single material structure, but may have a three-layer structure in which insulating resins are formed on both surfaces of a core material such as a thin polyimide film. As a result, the resin flow generated when the circuit forming material 1 is laminated and hot-pressed in multiple layers can be suppressed, and the position retention ratio of the wiring pattern 23 and the conductive via 4 can be increased.

また、図1〜図4で説明した本実施の形態1の局所多層回路基板は、最上層の絶縁性樹脂基材22aの部分のみでキャビティ27を構成させることとしたが、複数の絶縁性樹脂基材の層を貫通させた開口によってキャビティを構成させるようにしてもよい。例えば、図4(a)において、絶縁性樹脂基材22aと絶縁性樹脂基材22bとに連続して貫通する開口を形成させて本発明のキャビティ部としてもよい。   In the local multilayer circuit board according to the first embodiment described with reference to FIGS. 1 to 4, the cavity 27 is configured only by the uppermost insulating resin base material 22 a, but a plurality of insulating resins is used. You may make it comprise a cavity by the opening which penetrated the layer of the base material. For example, in FIG. 4A, an opening that continuously penetrates the insulating resin base material 22a and the insulating resin base material 22b may be formed as the cavity portion of the present invention.

(実施の形態2)
図5は、本発明の実施の形態2の局所多層回路基板の断面図である。図1〜図4と同じ構成要素については、説明を省略する。
(Embodiment 2)
FIG. 5 is a sectional view of a local multilayer circuit board according to the second embodiment of the present invention. The description of the same components as those in FIGS. 1 to 4 is omitted.

図5において、121は階段状のキャビティを備えた5層の多層回路基板で、階段部を含む各層には配線パターン123と、各配線パターン123の層間を接続するための導電性ビア124を備えている。多層回路基板の階段状キャビティ内には、絶縁性樹脂102と、精細な配線パターン103と、層間を接続するための導電性ビア104とを備えた逆階段形状の多層化された回路形成材が積層されており、多層回路基板121のキャビティ階段部の各配線パターン123と、回路形成材の逆階段部にある各層の導電性ビア104が電気的に接合されている。   In FIG. 5, reference numeral 121 denotes a five-layer multilayer circuit board having stepped cavities, and each layer including the stepped portion includes a wiring pattern 123 and a conductive via 124 for connecting the layers of each wiring pattern 123. ing. In the stepped cavity of the multilayer circuit board, there is a multilayered circuit forming material having a reverse staircase shape comprising an insulating resin 102, a fine wiring pattern 103, and a conductive via 104 for connecting the layers. The wiring patterns 123 in the cavity step portion of the multilayer circuit board 121 and the conductive vias 104 in each layer in the reverse step portion of the circuit forming material are electrically bonded.

この構造により、実施の形態1で説明した局所多層部の積層段差を無くすることで得られる数々の効果に加え、精細な配線を有する多層の回路形成材の層間から、多層回路基板121の層間に電気的な接続をすることができるため、基板回路設計の裕度が増し、配線収容性を向上させることが可能となり、多層回路基板の層数削減あるいは小面積化ができる。   With this structure, in addition to the numerous effects obtained by eliminating the stacking step of the local multilayer portion described in the first embodiment, the interlayer of the multilayer circuit board 121 can be changed from the interlayer of the multilayer circuit forming material having fine wiring. Therefore, it is possible to increase the tolerance of the board circuit design, improve the wiring capacity, and reduce the number of layers or the area of the multilayer circuit board.

図6(a)〜(d)は、本実施の形態2における局所多層回路基板の製造工程を示す図であり、それぞれ断面図を示している。   6 (a) to 6 (d) are diagrams showing manufacturing steps of the local multilayer circuit board in the second embodiment, and each show a cross-sectional view.

図6(a)に示すように、121は階段状のキャビティ127を有した5層の多層回路基板である。図6(a)〜(c)に示す101a、101b、101cは、実施の形態1の図2の製造方法で作製した、精細な配線パターンを有する単層の回路形成材10と同じものである。   As shown in FIG. 6A, reference numeral 121 denotes a five-layer multilayer circuit board having a stepped cavity 127. 101A, 101B, and 101C shown in FIGS. 6A to 6C are the same as the single-layer circuit forming material 10 having a fine wiring pattern manufactured by the manufacturing method of FIG. 2 of the first embodiment. .

キャビティ127は、多層回路基板121の絶縁性樹脂基材122a、122b、122cのそれぞれの表面から裏面に貫通する開口が連結されて構成されている。ここでは、図6(a)において一点鎖線で区切って表した、絶縁性樹脂基材122a、122b、122cの各層に対応するキャビティ127の部分を、それぞれキャビティ層と呼ぶ。   The cavity 127 is configured by connecting openings penetrating from the front surface to the back surface of each of the insulating resin base materials 122a, 122b, and 122c of the multilayer circuit board 121. Here, the part of the cavity 127 corresponding to each layer of the insulating resin base materials 122a, 122b, and 122c, which is represented by a dashed line in FIG. 6A, is referred to as a cavity layer.

なお、階段状キャビティ127の、最下段の配線パターン123aが形成されている面が、本発明のキャビティ部の底部の一例にあたり、最上層の絶縁性樹脂基材122aに対応するキャビティ層の上面部分が、本発明のキャビティ部の開口部の一例にあたる。   The surface of the stepped cavity 127 on which the lowermost wiring pattern 123a is formed is an example of the bottom of the cavity portion of the present invention, and the upper surface portion of the cavity layer corresponding to the uppermost insulating resin base material 122a. This corresponds to an example of the opening of the cavity portion of the present invention.

まず、図6(a)に示すように、多層回路基板121の階段状キャビティ127の最下段に備えた配線パターン123aと、単層の回路形成材101aの導電性ビア104aの位置合わせを行って、絶縁性樹脂基材122cに対応するキャビティ層の部分に、回路形成材101aを積層する。   First, as shown in FIG. 6A, the wiring pattern 123a provided at the bottom of the stepped cavity 127 of the multilayer circuit board 121 and the conductive via 104a of the single-layer circuit forming material 101a are aligned. Then, the circuit forming material 101a is laminated on the cavity layer corresponding to the insulating resin base material 122c.

次いで、図6(b)に示すように、単層の回路形成材101bの導電性ビア104bと、階段状キャビティ127の2段目に備えた配線パターン123bおよびすでに積層された回路形成材101aの配線パターン103aとの位置合わせを行い、絶縁性樹脂基材122bに対応するキャビティ層の部分に、回路形成材101bを積層する。   Next, as shown in FIG. 6B, the conductive via 104b of the single-layer circuit forming material 101b, the wiring pattern 123b provided in the second step of the stepped cavity 127, and the circuit forming material 101a already stacked. Position alignment with the wiring pattern 103a is performed, and the circuit forming material 101b is laminated on the portion of the cavity layer corresponding to the insulating resin base material 122b.

次いで、図6(c)に示すように、単層の回路形成材101cの導電性ビア104cと、階段状キャビティ127の3段目に備えた配線パターン123cおよびすでに積層された回路形成材101bの配線パターン103bとの位置合わせを行い、絶縁性樹脂基材122aに対応するキャビティ層の部分に、回路形成材101cを積層する。   Next, as shown in FIG. 6C, the conductive via 104c of the single-layer circuit forming material 101c, the wiring pattern 123c provided in the third step of the stepped cavity 127, and the circuit forming material 101b already stacked. Position alignment with the wiring pattern 103b is performed, and the circuit forming material 101c is laminated on the cavity layer corresponding to the insulating resin base material 122a.

単層の各回路形成材101a、101b、101cは、多層回路基板121に設けた階段状キャビティ127とは逆の階段状となるため、それぞれのサイズが異なる。   Each of the single-layer circuit forming materials 101a, 101b, and 101c has a stepped shape opposite to the stepped cavity 127 provided in the multilayer circuit board 121, and therefore has a different size.

そして、以上のようにして逆階段状に積層した回路形成材101a、101b、101cの上部から熱プレスによって加圧加熱することで、多層の回路形成材として一体化すると共に、多層回路基板121に接着され、階段形状部で層間接続を有する局所多層回路基板を製造することができる。   Then, the circuit forming materials 101a, 101b, 101c laminated in the reverse staircase shape as described above are heated and pressurized by hot pressing from above, so that they are integrated as a multilayer circuit forming material, and the multilayer circuit board 121 is integrated. A local multilayer circuit board that is bonded and has interlayer connections at the staircase shape can be manufactured.

このようにして作製した本実施の形態2の局所多層回路基板は、最上層に積層した回路形成材101aの上面が多層回路基板121の表面と段差のない構成となるため、実施の形態1と同様に、図6(d)に示すように、回路形成材101aの表面および多層回路基板121の表面に同一工程でソルダーレジスト125を形成させることができ、その際、回路形成材101aと多層回路基板121との間にできる隙間部128にも、ソルダーレジスト125を充填形成することができる。   The local multilayer circuit board according to the second embodiment thus manufactured has a configuration in which the upper surface of the circuit forming material 101a laminated on the uppermost layer is not stepped from the surface of the multilayer circuit board 121. Similarly, as shown in FIG. 6D, a solder resist 125 can be formed on the surface of the circuit forming material 101a and the surface of the multilayer circuit board 121 in the same process, and at that time, the circuit forming material 101a and the multilayer circuit are formed. The solder resist 125 can be filled and formed also in the gap portion 128 formed between the substrate 121 and the substrate 121.

本実施の形態2の局所多層回路基板は、多層回路基板121に階段形状のキャビティ127と階段部に配線パターン123a、123b、123cを備え、キャビティ127部分に積層された高精細の配線パターン103a、103b、103cを有する回路形成材101a、101b、101cが多層の逆階段形状であり、階段部の配線パターン123a、123b、123cと、高精細の配線パターン103a、103b、103cを有する回路形成材101a、101b、101cの導電性ビア104a、104b、104cとがそれぞれ電気的に接続する構成としたことにより、高精細の配線パターンを有する回路形成材の層間配線と、マザー基板となる多層回路基板121の層間配線とを接続できる構成となるため、基板回路の配線設計を容易とし配線収容性を格段に向上させることができることで、小面積化あるいは層数削減効果を得ることができる。   The local multilayer circuit board according to the second embodiment includes a multilayer circuit board 121 having a stepped cavity 127 and wiring patterns 123a, 123b, and 123c on the stepped portion, and a high-definition wiring pattern 103a stacked on the cavity 127 portion. The circuit forming materials 101a, 101b, and 101c having 103b and 103c are multilayered reverse staircase shapes, and the circuit forming material 101a having the wiring patterns 123a, 123b, and 123c in the staircase portion and the high-definition wiring patterns 103a, 103b, and 103c. , 101b, and 101c are electrically connected to the conductive vias 104a, 104b, and 104c, respectively, so that an interlayer wiring of a circuit forming material having a high-definition wiring pattern and a multilayer circuit board 121 that becomes a mother board are provided. Board circuit layout. That it is possible to greatly improve the wiring capacity to facilitate the design, it is possible to obtain a smaller area or layer number reduction.

本発明の局所多層回路基板は、部分的に多層した配線パターンが高精細であるため、基板全体は安価なマザー基板仕様でありながら、狭ピッチの半導体パッケージ実装やベアチップ実装も可能なことから高密度実装を必要とする電子デバイスの用途に適用できる。   The local multilayer circuit board of the present invention has a high-definition partly multi-layered wiring pattern, so that the entire board is inexpensive mother board specifications, but can be mounted on a narrow pitch semiconductor package or bare chip. It can be applied to applications of electronic devices that require density mounting.

なお、本実施の形態2では、多層回路基板121に形成されたキャビティ127の階段形状が3段の場合について説明したが、2段以上であれば何段の構成であってもよい。   In the second embodiment, the case where the stepped shape of the cavity 127 formed in the multilayer circuit board 121 has three steps has been described, but any number of steps may be used as long as it has two or more steps.

また、本実施の形態2では、キャビティ127の階段形状が、対向する両方の側壁面に形成されている構成としたが、キャビティ127の側壁面の一部のみが階段形状となっている構成であってもよい。例えば、左側壁については、図6(a)のキャビティ127の左側壁のように3段の階段形状をしており、右側壁については、図4(a)のキャビティ27の右側壁のように段差のない形状をしているようなキャビティとしてもよい。   In the second embodiment, the staircase shape of the cavity 127 is formed on both opposing side wall surfaces. However, only a part of the side wall surface of the cavity 127 has a staircase shape. There may be. For example, the left side wall has a three-step shape like the left side wall of the cavity 127 in FIG. 6A, and the right side wall has the same shape as the right side wall of the cavity 27 in FIG. It is good also as a cavity which has the shape without a level | step difference.

本発明に係る局所多層回路基板および局所多層回路基板の製造方法は、マザー基板に部分的に積層される多層基板に物理的なダメージを与えない効果を有し、半導体装置や電子部品等を高密度実装するための局所多層回路基板およびその製造方法などとして有用である。   The local multilayer circuit board and the method for manufacturing the local multilayer circuit board according to the present invention have the effect of not physically damaging the multilayer board partially stacked on the mother board, and can increase the performance of semiconductor devices and electronic components. It is useful as a local multilayer circuit board for density mounting and a manufacturing method thereof.

1 高精細なパターンが形成された多層の回路形成材
2、102 絶縁性樹脂
3、103、103a、103b、103c 配線パターン
3a 銅箔
4、104 導電性ビア
5a、5b 保護フィルム
6 ビアホール
7 ベースフィルム材
8 絶縁性樹脂シート
9 転写パターンシート
10、101 高精細なパターンが形成された単層の回路形成材
14 導電性樹脂ペースト
21 キャビティが形成された多層回路基板
22a、22b、22c、122a、122b、122c、122d 絶縁性樹脂基材
23、123、123a、123b、123c 配線パターン
24、124 導電性ビア
25、125 ソルダーレジスト
26 クリーム半田
27 キャビティ
28、128 隙間部
29 回路形成材1の配線パターン3の表面を含む平面
30 多層回路基板21の配線パターン23の表面を含む平面
121 階段形状のキャビティが形成された多層回路基板
127 階段形状のキャビティ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Multi-layer circuit formation material in which high-definition pattern was formed 2, 102 Insulating resin 3, 103, 103a, 103b, 103c Wiring pattern 3a Copper foil 4, 104 Conductive via 5a, 5b Protective film 6 Via hole 7 Base film Material 8 Insulating resin sheet 9 Transfer pattern sheet 10, 101 Single layer circuit forming material on which high-definition pattern is formed 14 Conductive resin paste 21 Multilayer circuit board 22a, 22b, 22c, 122a, 122b formed with cavities 122c, 122d Insulating resin substrate 23, 123, 123a, 123b, 123c Wiring pattern 24, 124 Conductive via 25, 125 Solder resist 26 Cream solder 27 Cavity 28, 128 Gap 29 Wiring pattern 3 of circuit forming material 1 Plane including the surface of 30 layers A plane including the surface of the wiring pattern 23 of the road board 21 121 A multilayer circuit board in which a step-shaped cavity is formed 127

Claims (11)

少なくとも表層の一部にキャビティ部を有する回路基板と、
前記キャビティ部に配置されている、前記回路基板より高精細な配線ルールで形成された回路形成材とを備えた、局所多層回路基板。
A circuit board having a cavity in at least a part of the surface layer;
A local multilayer circuit board, comprising: a circuit forming material that is disposed in the cavity portion and is formed with a wiring rule of higher definition than the circuit board.
前記回路基板は、多層構造であり、
前記キャビティ部は、前記回路基板の前記表層に形成される配線パターンの表面を含む平面と、前記回路形成材の表層に形成された配線パターンの表面を含む平面との距離が所定の距離以下となる、深さを有している、請求項1に記載の局所多層回路基板。
The circuit board has a multilayer structure,
The cavity part has a predetermined distance or less between a plane including a surface of the wiring pattern formed on the surface layer of the circuit board and a plane including the surface of the wiring pattern formed on the surface layer of the circuit forming material. The local multilayer circuit board according to claim 1, having a depth.
前記回路基板の表面に形成されたソルダーレジストと、前記回路形成材の表面に形成されたソルダーレジストとは、同一工程により形成されたものである、請求項1または2に記載の局所多層回路基板。   The local multilayer circuit board according to claim 1, wherein the solder resist formed on the surface of the circuit board and the solder resist formed on the surface of the circuit forming material are formed by the same process. . 前記回路基板と前記回路形成材との間の隙間部の少なくとも一部に前記ソルダーレジストが充填されている、請求項3に記載の局所多層回路基板。   The local multilayer circuit board according to claim 3, wherein the solder resist is filled in at least a part of a gap between the circuit board and the circuit forming material. 前記所定の距離は、0.2mmである、請求項2に記載の局所多層回路基板。   The local multilayer circuit board according to claim 2, wherein the predetermined distance is 0.2 mm. 前記キャビティ部は、前記回路基板の前記表層の基材の表面から裏面に貫通する開口のみで構成されている、請求項2に記載の局所多層回路基板。   The local multilayer circuit board according to claim 2, wherein the cavity portion is configured only by an opening penetrating from the front surface to the back surface of the base material of the surface layer of the circuit board. 前記キャビティ部は、開口部が底部よりも大きく、側壁部の少なくとも一部が階段形状をしており、
前記各階段のキャビティ層には、それぞれ別の前記回路形成材が配置されている、請求項1に記載の局所多層回路基板。
The cavity part has an opening larger than the bottom part, and at least a part of the side wall part has a staircase shape,
The local multilayer circuit board according to claim 1, wherein different circuit forming materials are arranged in the cavity layers of the respective steps.
前記各階段のキャビティ層のうち、前記開口部に最も近い前記キャビティ層における前記回路形成材と前記回路基板との間の隙間部の少なくとも一部にソルダーレジストが充填されている、請求項7に記載の局所多層回路基板。   The solder resist is filled in at least a part of a gap between the circuit forming material and the circuit board in the cavity layer closest to the opening among the cavity layers of the steps. A local multilayer circuit board as described. 少なくとも表層の一部にキャビティ部を有する回路基板の前記キャビティ部に、前記回路基板より高精細な配線ルールで形成された回路形成材を配置する積層工程と、
加圧加熱により前記回路基板と前記回路形成材とを接着する接着工程と、
前記回路基板の表面と、前記回路形成材の表面と、前記回路基板および前記回路形成材の間の隙間部とに、ソルダーレジストを形成するレジスト形成工程とを備えた、局所多層回路基板の製造方法。
A laminating step of disposing a circuit forming material formed with a wiring rule of higher definition than the circuit board in the cavity part of the circuit board having a cavity part in at least a part of the surface layer;
An adhesion step of adhering the circuit board and the circuit forming material by pressure heating;
Production of a local multilayer circuit board comprising a resist forming step of forming a solder resist on the surface of the circuit board, the surface of the circuit forming material, and a gap between the circuit board and the circuit forming material. Method.
前記レジスト形成工程は、前記回路基板の表面と、前記回路形成材の表面と、前記隙間部とに、同一工程で前記ソルダーレジストを形成する、請求項9に記載の局所多層回路基板の製造方法。   The method for manufacturing a local multilayer circuit board according to claim 9, wherein the resist forming step forms the solder resist on the surface of the circuit board, the surface of the circuit forming material, and the gap portion in the same step. . 前記キャビティ部は、開口部が底部よりも大きく、側壁部の少なくとも一部が階段形状をしており、
前記各階段のキャビティ層毎に、それぞれ別の前記回路形成材を配置して接着するように、前記積層工程および前記接着工程を繰り返し行ない、
その後、前記レジスト形成工程において、前記回路基板の表面と、前記回路形成材の表面と、前記開口部に最も近い前記キャビティ層における前記回路形成材と前記回路基板との間の前記隙間部とに、同一工程で前記ソルダーレジストを形成する、請求項9に記載の局所多層回路基板の製造方法。
The cavity part has an opening larger than the bottom part, and at least a part of the side wall part has a staircase shape,
Repeating the laminating step and the adhering step so as to arrange and adhere different circuit forming materials for each cavity layer of each step,
Thereafter, in the resist forming step, the surface of the circuit board, the surface of the circuit forming material, and the gap portion between the circuit forming material and the circuit board in the cavity layer closest to the opening. The method for manufacturing a local multilayer circuit board according to claim 9, wherein the solder resist is formed in the same step.
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Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20130256000A1 (en) * 2012-03-30 2013-10-03 Ibiden Co., Ltd. Wiring board and method for manufacturing the same
JP2013211479A (en) * 2012-03-30 2013-10-10 Fujikura Ltd Multilayer wiring board
JP2013214578A (en) * 2012-03-30 2013-10-17 Ibiden Co Ltd Wiring board and method for manufacturing the same
JP2014082334A (en) * 2012-10-16 2014-05-08 Ibiden Co Ltd Wiring board and method of manufacturing the same
JP2014093330A (en) * 2012-10-31 2014-05-19 Ibiden Co Ltd Wiring board and method of manufacturing the same
JP2014232760A (en) * 2013-05-28 2014-12-11 株式会社日立製作所 Inter-layer connection substrate and manufacturing method thereof
JP2015090931A (en) * 2013-11-06 2015-05-11 太陽誘電株式会社 Composite substrate and rigid substrate
US20160105960A1 (en) * 2014-10-10 2016-04-14 Ibiden Co., Ltd. Multilayer wiring board and method for manufacturing the same
KR20160125719A (en) * 2015-04-22 2016-11-01 삼성전기주식회사 Printed circuit board and method of manufacturing the same, and electronic component module
JP2016201529A (en) * 2015-04-07 2016-12-01 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. Printed circuit board, manufacturing method of the same, and electronic component module
US9699921B2 (en) 2014-08-01 2017-07-04 Fujikura Ltd. Multi-layer wiring board
US9837342B2 (en) 2014-07-25 2017-12-05 Ibiden Co., Ltd. Multilayer wiring board and method for manufacturing same
JP2019192886A (en) * 2018-04-27 2019-10-31 新光電気工業株式会社 Wiring board and method for manufacturing wiring board
JP2020098898A (en) * 2018-12-17 2020-06-25 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. Printed circuit board
TWI830474B (en) * 2021-11-05 2024-01-21 日商揖斐電股份有限公司 Wiring board

Cited By (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20130256000A1 (en) * 2012-03-30 2013-10-03 Ibiden Co., Ltd. Wiring board and method for manufacturing the same
JP2013211479A (en) * 2012-03-30 2013-10-10 Fujikura Ltd Multilayer wiring board
JP2013214578A (en) * 2012-03-30 2013-10-17 Ibiden Co Ltd Wiring board and method for manufacturing the same
JP2013214579A (en) * 2012-03-30 2013-10-17 Ibiden Co Ltd Wiring board and method for manufacturing the same
CN103369811A (en) * 2012-03-30 2013-10-23 揖斐电株式会社 Wiring board and method for manufacturing the same
US9565756B2 (en) 2012-03-30 2017-02-07 Ibiden Co., Ltd. Wiring board and method for manufacturing the same
JP2014082334A (en) * 2012-10-16 2014-05-08 Ibiden Co Ltd Wiring board and method of manufacturing the same
JP2014093330A (en) * 2012-10-31 2014-05-19 Ibiden Co Ltd Wiring board and method of manufacturing the same
JP2014232760A (en) * 2013-05-28 2014-12-11 株式会社日立製作所 Inter-layer connection substrate and manufacturing method thereof
US9320154B2 (en) 2013-05-28 2016-04-19 Hitachi, Ltd. Method of manufacturing an interlayer connection substrate
JP2015090931A (en) * 2013-11-06 2015-05-11 太陽誘電株式会社 Composite substrate and rigid substrate
US9837342B2 (en) 2014-07-25 2017-12-05 Ibiden Co., Ltd. Multilayer wiring board and method for manufacturing same
US9699921B2 (en) 2014-08-01 2017-07-04 Fujikura Ltd. Multi-layer wiring board
US9893016B2 (en) * 2014-10-10 2018-02-13 Ibiden Co., Ltd. Multilayer wiring board having wiring structure for mounting multiple electronic components and method for manufacturing the same
JP2016081961A (en) * 2014-10-10 2016-05-16 イビデン株式会社 Multilayer wiring board and method of manufacturing the same
US20160105960A1 (en) * 2014-10-10 2016-04-14 Ibiden Co., Ltd. Multilayer wiring board and method for manufacturing the same
JP2016201529A (en) * 2015-04-07 2016-12-01 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. Printed circuit board, manufacturing method of the same, and electronic component module
JP2016208000A (en) * 2015-04-22 2016-12-08 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. Printed circuit board, manufacturing method thereof and electronic component module
KR20160125719A (en) * 2015-04-22 2016-11-01 삼성전기주식회사 Printed circuit board and method of manufacturing the same, and electronic component module
KR102306719B1 (en) * 2015-04-22 2021-09-30 삼성전기주식회사 Printed circuit board and method of manufacturing the same, and electronic component module
JP2019192886A (en) * 2018-04-27 2019-10-31 新光電気工業株式会社 Wiring board and method for manufacturing wiring board
JP7202785B2 (en) 2018-04-27 2023-01-12 新光電気工業株式会社 Wiring board and method for manufacturing wiring board
JP2020098898A (en) * 2018-12-17 2020-06-25 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. Printed circuit board
JP7283027B2 (en) 2018-12-17 2023-05-30 サムソン エレクトロ-メカニックス カンパニーリミテッド. printed circuit board
TWI830474B (en) * 2021-11-05 2024-01-21 日商揖斐電股份有限公司 Wiring board

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