JP7283027B2 - printed circuit board - Google Patents

printed circuit board Download PDF

Info

Publication number
JP7283027B2
JP7283027B2 JP2019108655A JP2019108655A JP7283027B2 JP 7283027 B2 JP7283027 B2 JP 7283027B2 JP 2019108655 A JP2019108655 A JP 2019108655A JP 2019108655 A JP2019108655 A JP 2019108655A JP 7283027 B2 JP7283027 B2 JP 7283027B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laminate
circuit
layer
circuit board
printed circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019108655A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2020098898A (en
Inventor
ジ、ユン-ジェ
キム、テ-ソン
キム、ビョン-チャン
Original Assignee
サムソン エレクトロ-メカニックス カンパニーリミテッド.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by サムソン エレクトロ-メカニックス カンパニーリミテッド. filed Critical サムソン エレクトロ-メカニックス カンパニーリミテッド.
Publication of JP2020098898A publication Critical patent/JP2020098898A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7283027B2 publication Critical patent/JP7283027B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/18Printed circuits structurally associated with non-printed electric components
    • H05K1/182Printed circuits structurally associated with non-printed electric components associated with components mounted in the printed circuit board, e.g. insert mounted components [IMC]
    • H05K1/185Components encapsulated in the insulating substrate of the printed circuit or incorporated in internal layers of a multilayer circuit
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/11Printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K1/111Pads for surface mounting, e.g. lay-out
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/11Printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K1/115Via connections; Lands around holes or via connections
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4697Manufacturing multilayer circuits having cavities, e.g. for mounting components

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Structure Of Printed Boards (AREA)

Description

本発明は、プリント回路基板(printed circuit board)に関する。 The present invention relates to printed circuit boards.

コンピューター産業の発達により、高い性能を有しながらもより低い費用で生産できる集積回路(ダイ、die)に関する技術が発達されている。これにより、多数のダイを含むパッケージ基板に関する技術も開発されている。 Advances in the computer industry have led to the development of technology for integrated circuits (dies) that can be produced at lower costs while still having high performance. Accordingly, technologies related to package substrates containing a large number of dies have also been developed.

米国特許第8754514号明細書U.S. Pat. No. 8,754,514

本発明の一側面によれば、複数の素子実装部を備えるプリント回路基板であって、複数の絶縁層及び第1回路を含む第1積層体と、上記第1積層体に形成され、上記第1積層体の上面に開放されたキャビティと、上記キャビティ内に積層された複数の樹脂層及び第2回路を含む第2積層体と、を含み、上記第1回路は、上記キャビティにより露出する接続パッドを含み、上記第2積層体は、最下層に位置する上記樹脂層を貫通し、上記接続パッドと接触する接続ビアを含み、上記第2回路は、複数の素子実装部に電気的に接続されるプリント回路基板が提供される。 According to one aspect of the present invention, there is provided a printed circuit board including a plurality of element mounting portions, wherein a first laminate including a plurality of insulating layers and a first circuit; A second laminate including a cavity open to the upper surface of one laminate and a plurality of resin layers laminated in the cavity and a second circuit, wherein the first circuit is exposed by the cavity. The second laminate includes connection vias that penetrate through the resin layer positioned at the bottom layer and are in contact with the connection pads, and the second circuit is electrically connected to the plurality of element mounting portions. A printed circuit board is provided.

上記第2回路の一部は、上記複数の素子実装部を互いに電気的に接続させることができ、上記第2回路の一部は、いずれか1つの上記素子実装部と上記接続ビアとを電気的に接続させることができる。 The part of the second circuit can electrically connect the plurality of element mounting parts to each other, and the part of the second circuit electrically connects any one of the element mounting parts and the connection via. can be directly connected.

上記樹脂層は、感光性樹脂を含むことができ、上記樹脂層の厚さは、上記絶縁層の厚さよりも小さいことができる。 The resin layer may contain a photosensitive resin, and the thickness of the resin layer may be smaller than the thickness of the insulating layer.

上記第1回路の回路幅は、上記第2回路の回路幅よりも大きいことができる。 The circuit width of the first circuit can be greater than the circuit width of the second circuit.

上記第1積層体の最上層に位置する上記第1回路は、最上層に位置した上記絶縁層の上面に埋め込まれることができ、上記第1積層体の最上層に位置する上記第1回路は、最上層に位置した上記絶縁層よりも突出することができる。 The first circuit located on the top layer of the first stack may be embedded in an upper surface of the insulating layer located on the top layer, and the first circuit located on the top layer of the first stack may include: , may protrude from the insulating layer located at the uppermost layer.

上記第2積層体の上面は、上記第1積層体の上面の高さ以下に位置することができる。 The top surface of the second stack may be positioned below the top surface of the first stack.

上記第1積層体の上面及び上記第2積層体の上面に形成される第2の樹脂層をさらに含むことができる。最上層に位置した上記絶縁層には、ビアホールが形成され、上記ビアホール内にはビアが形成されて、上記第2の樹脂層が上記ビアを取り囲むように上記ビアホールの内部を充填することができる。 A second resin layer formed on the top surface of the first laminate and the top surface of the second laminate may be further included. A via hole is formed in the uppermost insulating layer, a via is formed in the via hole, and the via hole is filled so that the second resin layer surrounds the via. .

上記第2の樹脂層上に積層されるソルダーレジスト層をさらに含むことができる。上記第2の樹脂層上に形成され、上記第2回路に電気的に接続される第3回路をさらに含むことができる。 A solder resist layer laminated on the second resin layer may be further included. The device may further include a third circuit formed on the second resin layer and electrically connected to the second circuit.

上記第1積層体及び上記第2積層体の上に積層されるソルダーレジスト層をさらに含むことができる。上記ソルダーレジスト層を貫通する上記素子実装部を提供する金属ポストをさらに含むことができる。上記金属ポストは、上記ソルダーレジスト層を貫通するポストビアと、上記ソルダーレジスト層よりも突出して上記ポストビア上に形成されるポストパッドと、を含むことができる。 A solder resist layer laminated on the first laminate and the second laminate may be further included. A metal post may be further included to provide the device mounting portion penetrating the solder resist layer. The metal posts may include post vias penetrating the solder-resist layer, and post pads protruding from the solder-resist layer and formed on the post vias.

本発明の第1実施例に係るプリント回路基板を示す図である。1 is a diagram showing a printed circuit board according to a first embodiment of the present invention; FIG. 本発明の第1実施例に係るプリント回路基板を含むパッケージを示す図である。1 illustrates a package including a printed circuit board according to a first embodiment of the present invention; FIG. 本発明の第2実施例に係るプリント回路基板を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a printed circuit board according to a second embodiment of the present invention; 本発明の第3実施例に係るプリント回路基板を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a printed circuit board according to a third embodiment of the present invention; 本発明の第4実施例に係るプリント回路基板を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a printed circuit board according to a fourth embodiment of the present invention; 本発明の第5実施例に係るプリント回路基板を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a printed circuit board according to a fifth embodiment of the present invention; 本発明の第5実施例に係るプリント回路基板を含むパッケージを示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a package including a printed circuit board according to a fifth embodiment of the invention; 本発明の第6実施例に係るプリント回路基板を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a printed circuit board according to a sixth embodiment of the present invention; 本発明の第7実施例に係るプリント回路基板を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing a printed circuit board according to a seventh embodiment of the present invention; 本発明の一実施例に係るパッケージの製造方法を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing method of the package based on one Example of this invention. 本発明の一実施例に係るパッケージの製造方法を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing method of the package based on one Example of this invention. 本発明の他の実施例に係るパッケージの製造方法を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a method of manufacturing a package according to another embodiment of the present invention; 本発明の他の実施例に係るパッケージの製造方法を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a method of manufacturing a package according to another embodiment of the present invention;

本発明に係るプリント回路基板の実施例を添付図面を参照して詳細に説明し、添付図面を参照して説明するに当たって、同一または対応する構成要素には同一の図面符号を付し、これに対する重複説明を省略する。 Exemplary embodiments of printed circuit boards in accordance with the present invention will now be described in detail with reference to the accompanying drawings, wherein like or corresponding components are identified by like reference numerals, Duplicate explanation is omitted.

また、以下で使用する「第1」、「第2」等の用語は、同一または対応する構成要素を区別するための識別記号に過ぎず、同一または対応する構成要素が第1、第2等の用語により限定されることはない。 In addition, terms such as "first" and "second" used below are merely identification symbols for distinguishing the same or corresponding components, and the same or corresponding components are the first, second, etc. is not limited by the term

また、「結合」とは、各構成要素間の接触関係において、各構成要素間に物理的に直接接触する場合のみを意味するものではなく、他の構成が各構成要素の間に介在され、その他の構成に構成要素がそれぞれ接触している場合まで包括する概念として使用する。 In addition, in the contact relationship between each component, the term "bond" does not mean only the case where each component is in direct physical contact, but another configuration is interposed between each component, It is used as a concept that includes the case where each component is in contact with another configuration.

以下では、プリント回路基板の様々な実施例を区分して説明するが、一実施例に対する説明が他の実施例にも適用できることを排除しない。一実施例についての説明は、両立不可能な関係ではない場合は、他の実施例にも適用できる。 Various embodiments of the printed circuit board are described below separately, without excluding that the description of one embodiment is applicable to other embodiments. A description of one embodiment is also applicable to other embodiments, unless they are incompatible.

<プリント回路基板>
[第1実施例]
図1は、本発明の第1実施例に係るプリント回路基板を示す図であり、図2は、本発明の第1実施例に係るプリント回路基板を含むパッケージを示す図である。
<Printed circuit board>
[First embodiment]
FIG. 1 is a diagram showing a printed circuit board according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing a package including the printed circuit board according to the first embodiment of the present invention.

本発明の実施例に係るプリント回路基板は、複数の電子素子を実装できるように、複数の素子実装部を提供することができる。素子実装部は、電子素子が結合される領域であって、複数の実装パッドを含むことができる。ここで、電子素子は、能動素子、受動素子、集積回路等多様に選択することができ、チップ(chip)、ダイ(die)等を含むことができる。 A printed circuit board according to an embodiment of the present invention may provide a plurality of device mounting portions so that a plurality of electronic devices can be mounted thereon. The device mounting part is an area where an electronic device is coupled, and may include a plurality of mounting pads. Here, the electronic device may be variously selected from active devices, passive devices, integrated circuits, etc., and may include chips, dies, and the like.

本発明の実施例に係るプリント回路基板の説明においては、プリント回路基板が第1素子実装部M1及び第2素子実装部M2を備えることに基づいて説明するが、素子実装部が 3つ以上になることを排除しない。 In the description of the printed circuit board according to the embodiment of the present invention, the description will be based on the printed circuit board having the first element mounting portion M1 and the second element mounting portion M2. do not rule out becoming

第1素子実装部M1と第2素子実装部M2とは、互いに離隔して区画され、それぞれの素子実装部は、互いに異なる複数の実装パッドを含むことができる。第1素子実装部M1には、第1電子素子E1が実装され、第2素子実装部M2には、第2電子素子E2が実装されて、第1電子素子E1と第2電子素子E2のそれぞれは、能動素子、受動素子、集積回路等から選択することができる。例えば、第1電子素子E1がHBMであり、第2電子素子E2がGPUであることができるが、これに制限されない。 The first device mounting portion M1 and the second device mounting portion M2 are separated from each other, and each device mounting portion may include a plurality of different mounting pads. The first electronic element E1 is mounted on the first element mounting portion M1, and the second electronic element E2 is mounted on the second element mounting portion M2. can be selected from active devices, passive devices, integrated circuits, and the like. For example, the first electronic device E1 may be an HBM and the second electronic device E2 may be a GPU, but is not limited thereto.

図1を参照すると、本発明の第1実施例に係るプリント回路基板は、第1積層体100、キャビティ120、第2積層体200を含むことができる。 Referring to FIG. 1, the printed circuit board according to the first embodiment of the present invention may include a first laminate 100, a cavity 120 and a second laminate 200. As shown in FIG.

第1積層体100は、複数の絶縁層110が上下に積層されて形成される。絶縁層110は、有機物または無機物の絶縁物質で形成される層であって、樹脂を含むことができる。絶縁層110の樹脂としては、熱硬化性または熱可塑性が挙げられ、具体的には、エポキシ(epoxy)樹脂、イミダゾール(imidazole)樹脂、ポリイミド(polyimide)樹脂、BT(Bismaleimide Triazine)樹脂、フッ素系樹脂のうちの少なくとも1種を含むことができるが、これに制限されない。 The first stacked body 100 is formed by vertically stacking a plurality of insulating layers 110 . The insulating layer 110 is a layer formed of an organic or inorganic insulating material, and may include resin. Examples of the resin of the insulating layer 110 include thermosetting and thermoplastic resins, and specific examples include epoxy resin, imidazole resin, polyimide resin, BT (bismaleimide triazine) resin, and fluorine-based resin. It can include at least one of resins, but is not limited thereto.

絶縁層110は、内部にガラス繊維等の繊維補強材を含むことができ、この具体的な絶縁層110としては、プリプレグ(Prepreg)を用いることができる。また、絶縁層110は、有機フィラーまたは無機フィラー等のフィラーを含有することができる。絶縁層110に含有される無機フィラーとしては、シリカが挙げられる。 The insulation layer 110 may include a fiber reinforcing material such as glass fiber therein, and the specific insulation layer 110 may be prepreg. Also, the insulating layer 110 can contain a filler such as an organic filler or an inorganic filler. Silica is an example of the inorganic filler contained in the insulating layer 110 .

互いに同一または異なる材質の複数の絶縁層110が層ごとに積層されて第1積層体100を構成することができる。図1には、2つの絶縁層110が示されているが、絶縁層110の数は、設計等により変更できる。 A plurality of insulating layers 110 made of the same or different materials may be laminated layer by layer to form the first laminate 100 . Although two insulating layers 110 are shown in FIG. 1, the number of insulating layers 110 can be changed by design or the like.

第1積層体100には、回路を形成でき、第1積層体100に形成された回路を第1回路C1と称する。第1回路C1は、金属で形成することができ、第1回路C1の金属は、銅、銀、ニッケル、パラジウム、白金、金、アルミニウムのうちの少なくとも1種を含むことができる。 A circuit can be formed on the first laminate 100, and the circuit formed on the first laminate 100 will be referred to as a first circuit C1. The first circuit C1 can be made of metal, and the metal of the first circuit C1 can include at least one of copper, silver, nickel, palladium, platinum, gold, and aluminum.

第1回路C1は、各絶縁層110の一面に形成できる。絶縁層110が2つである場合、第1回路C1は、3個層に形成されることができる。互いに異なる層に位置する第1回路C1は、ビア(第1ビアV1)を介して電気的に接続することができる。図1を参照すると、第1回路C1のうち、素子実装面に最も近く位置する最外層の第1回路C1'は、最外層の絶縁層110の上面に埋め込まれ、最外層の第1回路C1'において上面を除いた残りの面が最外層の絶縁層110でカバーできる。 The first circuit C1 may be formed on one surface of each insulating layer 110 . When there are two insulating layers 110, the first circuit C1 may be formed in three layers. The first circuits C1 located in different layers can be electrically connected through vias (first vias V1). Referring to FIG. 1, among the first circuits C1, the outermost first circuit C1′ located closest to the element mounting surface is embedded in the upper surface of the outermost insulating layer 110, and the outermost first circuit C1 ' can be covered with the outermost insulating layer 110 except for the top surface.

第1回路C1は、複数の回路線を含むことができる。それぞれの回路線の端部にはパッドが設けられることができる。このパッドは、第1ビアV1等のビアに接続することができる。 The first circuit C1 may include multiple circuit lines. A pad may be provided at the end of each circuit line. This pad can be connected to a via, such as the first via V1.

一方、第1回路C1のうち、素子実装面に最も近く位置する最外層の第1回路C1'は、電子素子を実装するための実装パッドを含んで素子実装部を提供することができる。 On the other hand, among the first circuits C1, the outermost first circuit C1' positioned closest to the device mounting surface may provide a device mounting portion including mounting pads for mounting an electronic device.

第1積層体100には、キャビティ120を形成することができる。キャビティ120は、第1積層体100内に形成され、上部に開放される。ただし、キャビティ120の下部は開放されないため、キャビティ120は、第1積層体100の厚さの一部のみを貫通する。図1に示すように、キャビティ120の深さは、第1積層体100の絶縁層110のN個の厚さと一致することができる。また、キャビティ120の底面は、二つの絶縁層11間の境界面に位置することができる。 A cavity 120 may be formed in the first stack 100 . A cavity 120 is formed in the first stack 100 and opened upward. However, since the lower portion of the cavity 120 is not open, the cavity 120 penetrates only part of the thickness of the first laminate 100 . As shown in FIG. 1, the depth of the cavity 120 can correspond to the N thicknesses of the insulating layer 110 of the first stack 100 . Also, the bottom surface of the cavity 120 may be positioned at the interface between the two insulating layers 11 .

キャビティ120により、第1回路C1のうちの一部が露出することができる。複数の絶縁層110のうち、キャビティ120に接している絶縁層110に位置した第1回路C1がキャビティ120により露出することができ、上記第1回路C1の端部に設けられたパッドが露出することができる。キャビティ120により露出した第1回路C1のパッドを接続パッド300と言える。言い換えると、キャビティ120により第1回路C1の接続パッド300が露出され、上記接続パッド300は、キャビティ120 の下側に位置する第1回路C1のパッドである。 The cavity 120 allows a portion of the first circuit C1 to be exposed. A first circuit C1 located in the insulating layer 110 in contact with the cavity 120 among the plurality of insulating layers 110 can be exposed by the cavity 120, and the pads provided at the ends of the first circuit C1 are exposed. be able to. The pads of the first circuit C1 exposed by the cavity 120 can be called connection pads 300. FIG. In other words, the cavity 120 exposes the connection pads 300 of the first circuit C1, and the connection pads 300 are the pads of the first circuit C1 located below the cavity 120. As shown in FIG.

第2積層体200は、キャビティ120内に形成され、複数の樹脂層210が上下に積層されて形成されることができる。複数の樹脂層210は、キャビティ1200内に順次に積層されることができる。 The second laminate 200 is formed in the cavity 120 and may be formed by vertically stacking a plurality of resin layers 210 . A plurality of resin layers 210 may be sequentially stacked within the cavity 120 0 .

樹脂層210は、樹脂を含み、具体的に、エポキシ(epoxy)樹脂、イミダゾール(imidazole)樹脂、ポリイミド(polyimide)樹脂、液晶ポリマー(LCP)、BT(Bismaleimide Triazine)樹脂、フッ素系樹脂のうちの少なくとも1種を含むことができるが、これらに制限されない。 The resin layer 210 includes resin, specifically, epoxy resin, imidazole resin, polyimide resin, liquid crystal polymer (LCP), BT (bismaleimide triazine) resin, and fluorine-based resin. At least one may be included, but is not limited to these.

樹脂層210は、感光性樹脂を含むことができる。この場合、樹脂層210は、光に反応することができ、フォトリソグラフィ(photolithography)工程で加工することができる。 The resin layer 210 may contain a photosensitive resin. In this case, the resin layer 210 may react to light and may be processed through a photolithography process.

感光性樹脂を含む樹脂層210は、PID(photo imageable dielectric)であることができる。また、感光性樹脂は、ポジ型(positive type)またはネガ型(negative type)であることができる。 The resin layer 210 containing photosensitive resin may be a PID (photo imageable dielectric). Also, the photosensitive resin may be of a positive type or a negative type.

ポジ型の樹脂層210の場合、露光工程で光を受けた部分の光重合体ポリマー結合が切れる。以後、現像工程を行うと、光を受けて光重合体ポリマー結合の切れた部分が除去される。 In the case of the positive resin layer 210, the photopolymer bond of the portion exposed to light is broken during the exposure process. After that, when a developing process is performed, the part where the photopolymer polymer bond is cut by exposure to light is removed.

ネガ型の樹脂層210の場合、露光工程で光を受けた部分が光重合反応を起こして単一構造から鎖構造の3次元網状構造になり、現像工程を行うと、光を受けていない部分が除去される。 In the case of the negative type resin layer 210, the portion exposed to light in the exposure process undergoes a photopolymerization reaction and changes from a single structure to a chain structure three-dimensional network structure. is removed.

感光性樹脂を含む樹脂層210によれば、フォトリソグラフィ工程により回路及びビア形成工程が可能となるので、微細パターンの加工が容易となることができる。 According to the resin layer 210 containing a photosensitive resin, a circuit and via formation process can be performed by a photolithography process, so fine pattern processing can be facilitated.

樹脂層210の厚さは、絶縁層110の厚さよりも小さいことができる。すなわち、複数の樹脂層210のうちの1つの厚さは、複数の絶縁層110のうちの1つの厚さよりも小さいことができる。これによれば、キャビティ120の深さが絶縁層110の1つの厚さと同一である場合は、上記キャビティ120内に複数の樹脂層210が形成されることができる。 The thickness of the resin layer 210 can be smaller than the thickness of the insulating layer 110 . That is, the thickness of one of the plurality of resin layers 210 may be smaller than the thickness of one of the plurality of insulation layers 110 . Accordingly, when the depth of the cavity 120 is the same as the thickness of one insulating layer 110, a plurality of resin layers 210 may be formed in the cavity 120. FIG.

樹脂層210の最上面、すなわち、第2積層体200の上面は、第1積層体100の上面と同一平面上に位置することができる。 The top surface of the resin layer 210 , that is, the top surface of the second laminate 200 may be positioned on the same plane as the top surface of the first laminate 100 .

第2積層体200には、回路を形成することができ、第2積層体200に形成された回路を第2回路C2と称する。第2回路C2は、金属で形成することができ、第2回路C2の金属は、銅、銀、ニッケル、パラジウム、白金、金、アルミニウムのうちの少なくとも1種を含むことができる。 A circuit can be formed on the second laminate 200, and the circuit formed on the second laminate 200 will be referred to as a second circuit C2. The second circuit C2 can be made of metal, and the metal of the second circuit C2 can include at least one of copper, silver, nickel, palladium, platinum, gold, and aluminum.

第2回路C2は、各樹脂層210の一面(上面)に形成されることができる。素子実装面に最も近く位置する最外層(最上層)の第2回路C2'は、最外層(最上層)の樹脂層210に埋め込まれ、素子実装面に最も近く位置する最外層の第2回路C2'の上面は、素子実装面に最も近く位置する最外層の第1回路C1'の上面と同一平面上に位置することができる。 The second circuit C2 may be formed on one surface (upper surface) of each resin layer 210 . The outermost layer (uppermost layer) second circuit C2′ located closest to the element mounting surface is embedded in the outermost layer (uppermost layer) resin layer 210 and positioned closest to the element mounting surface. The top surface of C2' may be flush with the top surface of the outermost first circuit C1' located closest to the device mounting surface.

互いに異なる層に位置した第2回路C2は、ビア(第2ビアV2)を介して互いに接続することができる。一方、第2積層体200には、最下層の樹脂層211を貫通して上述の接続パッド300と接触する接続ビア400が形成されることができる。すなわち、接続ビア400は、接続パッド300と第2回路C2とを電気的に接続させることができる。 The second circuits C2 located in different layers can be connected to each other through vias (second vias V2). Meanwhile, connection vias 400 may be formed in the second laminate 200 to penetrate the lowermost resin layer 211 and contact the connection pads 300 . That is, the connection via 400 can electrically connect the connection pad 300 and the second circuit C2.

本発明は、第1積層体100のキャビティ120内に樹脂層210が直接形成されることに特徴がある。すなわち、第1積層体100のキャビティ120内に複数の樹脂層210が順次に積層されて第2積層体200が形成されるため、これは、第2積層体200が別に製造された後にキャビティ120に挿入され、第1積層体100に付着される構造と区別される。 The present invention is characterized in that the resin layer 210 is directly formed in the cavity 120 of the first laminate 100 . That is, since the second laminate 200 is formed by sequentially stacking the plurality of resin layers 210 in the cavity 120 of the first laminate 100, the cavity 120 is formed after the second laminate 200 is separately manufactured. It is distinguished from the structure that is inserted into and attached to the first stack 100 .

また、接続ビア400が接続パッド300と接触するようにキャビティ120の底面に形成され、接続ビア400により第1積層体100と第2積層体200とが電気的に接続されることができる。これにより、第1積層体100と第2積層体200との接続のためのソルダリングの作業や、接着剤の使用が不要となる。 Also, a connection via 400 is formed on the bottom surface of the cavity 120 to contact the connection pad 300 , and the connection via 400 may electrically connect the first stack 100 and the second stack 200 . This eliminates the need for soldering work for connecting the first laminate 100 and the second laminate 200 and the use of an adhesive.

第1回路C1の回路幅は、第2回路C2の回路幅よりも大きいことができる。第1回路C1の回路厚さは、第2回路C2の回路厚さよりも大きいことができる。第1回路C1よりも第2回路C2が微細ピッチを有することができる。第1回路C1の回路密度よりも第2回路C2の回路密度が大きいことができる。 The circuit width of the first circuit C1 can be greater than the circuit width of the second circuit C2. The circuit thickness of the first circuit C1 can be greater than the circuit thickness of the second circuit C2. The second circuit C2 may have a finer pitch than the first circuit C1. The circuit density of the second circuits C2 can be greater than the circuit density of the first circuits C1.

第1回路C1及び第2回路C2は、SAP工程(Semi-Additive Process)、M-SAP工程(Modified Semi-Additive Process)またはテンティング(tenting)工程等の基板工程で形成することができる。ここで、第2回路C2は、SAP工程で形成し、第1回路C1は、テンティング工程等で形成することができるが、これに制限されない。 The first circuit C1 and the second circuit C2 may be formed by a substrate process such as a SAP process (semi-additive process), an M-SAP process (modified semi-additive process), or a tenting process. Here, the second circuit C2 may be formed by a SAP process, and the first circuit C1 may be formed by a tenting process or the like, but the invention is not limited thereto.

第1ビアV1の大きさは、第2ビアV2の大きさよりも大きく、第1ビアV1のピッチは、第2ビアV2のピッチよりも大きいことができる。また、接続ビア400は、第2ビアV2と同一の規模を有することができる。 The size of the first vias V1 may be larger than the size of the second vias V2, and the pitch of the first vias V1 may be larger than the pitch of the second vias V2. Also, the connection via 400 may have the same size as the second via V2.

第2回路C2は、複数の回路線を含むことができる。それぞれの回路線の端部には、パッドが設けられることができる。このパッドは、第2ビアV2に接続されることができる。一方、第2回路C2のうち、素子実装面に最も近く位置する最外層の第2回路C2'は、電子素子を実装するための実装パッドを含んで素子実装部を提供することができる。 The second circuit C2 may include multiple circuit lines. A pad may be provided at the end of each circuit line. This pad can be connected to the second via V2. On the other hand, among the second circuits C2, the outermost second circuit C2' positioned closest to the device mounting surface can provide a device mounting part including mounting pads for mounting the electronic device.

複数の素子実装部のそれぞれは、第1積層体100と第2積層体200の両方にかけて形成される。すなわち、第1素子実装部M1は、第1積層体100及び第2積層体200上に設けられ、第2素子実装部M2も第1積層体100及び第2積層体200上に設けられる。第2積層体200の上面は、複数の素子実装部を提供するために複数に区画できる。 Each of the plurality of element mounting portions is formed over both the first laminate 100 and the second laminate 200 . That is, the first element mounting portion M1 is provided on the first layered body 100 and the second layered body 200, and the second element mounting portion M2 is also provided on the first layered body 100 and the second layered body 200. FIG. The top surface of the second stack 200 can be divided into a plurality of sections to provide a plurality of device mounting portions.

図2(a)を参照すると、第1素子実装部M1上に第1電子素子E1が実装され、第2素子実装部M2上に第2電子素子E2が実装される。 Referring to FIG. 2A, the first electronic element E1 is mounted on the first element mounting portion M1, and the second electronic element E2 is mounted on the second element mounting portion M2.

第1電子素子E1は、第1積層体100と第2積層体200の両方にかけて位置し、第2電子素子E2も、第1積層体100と第2積層体200の両方にかけて位置する。 The first electronic element E1 is positioned across both the first laminate 100 and the second laminate 200, and the second electronic element E2 is also positioned across both the first laminate 100 and the second laminate 200. FIG.

第1電子素子E1は、電極端子T1を含み、上記電極端子T1は、低融点金属部材LMによりプリント回路基板の第1素子実装部M1の実装パッドに結合することができる。第1電子素子E1とプリント回路基板との間は、アンダーフィル材料Fで充填することができる。 The first electronic element E1 includes an electrode terminal T1, and the electrode terminal T1 can be coupled to a mounting pad of the first element mounting portion M1 of the printed circuit board by a low melting point metal member LM. An underfill material F may be filled between the first electronic element E1 and the printed circuit board.

第2電子素子E2は、電極端子T2を含み、上記電極端子T2は、低融点金属部材LMによりプリント回路基板の第2素子実装部M2の実装パッドに結合することができる。第2電子素子E2とプリント回路基板との間は、アンダーフィル材料Fで充填することができる。 The second electronic element E2 includes an electrode terminal T2, and the electrode terminal T2 can be coupled to a mounting pad of the second element mounting portion M2 of the printed circuit board by a low melting point metal member LM. An underfill material F may be filled between the second electronic element E2 and the printed circuit board.

上述したように、第2回路C2は、複数の回路線を含むことができる。第2回路C2は、接続ビア400に電気的に接続する回路線を含むことができる。また、第2回路C2は、接続ビア400と電気的に絶縁され、複数の素子実装部を電気的に接続する回路線を含むことができる。この場合、第2回路C2は、多様な信号伝達経路を提供することができる(図2(a)の矢印参照)。 As noted above, the second circuit C2 may include multiple circuit lines. The second circuit C2 may include circuit lines electrically connecting to the connecting vias 400 . Also, the second circuit C2 may include circuit lines that are electrically insulated from the connection vias 400 and electrically connect the plurality of element mounting portions. In this case, the second circuit C2 can provide various signal transmission paths (see arrows in FIG. 2(a)).

図2(b)は、第2回路C2の特定信号の伝達経路を提供する回路線を示している。図2(b)を参照すると、第2回路C2は、i)第1素子実装部M1と第1回路C1とを接続する回路線(図示せず)、ii)第2素子実装部M2と第2回路C2とを接続する回路線C23、iii)第1素子実装部M1と第2素子実装部M2とを接続する回路線C21、C22を含むことができる。上記回路線は、i)及びii)の場合は、接続ビア400に電気的に接続され、iii)の場合は、接続ビア400と電気的に絶縁することができる。 FIG. 2(b) shows a circuit line providing a transmission path for a specific signal of the second circuit C2. Referring to FIG. 2B, the second circuit C2 includes: i) a circuit line (not shown) connecting the first element mounting portion M1 and the first circuit C1; iii) circuit lines C21 and C22 connecting the first element mounting portion M1 and the second element mounting portion M2; The circuit line can be electrically connected to the connecting via 400 in cases i) and ii) and electrically isolated from the connecting via 400 in case iii).

ここで、第1素子実装部M1と第2素子実装部M2とを接続する回路線C21、C22は、ブリッジ(bridge)回路であって、第1電子素子E1と第2電子素子E2との電気的接続(これを、ダイ間のインターコネクション(die to die interconnection)と言える)を担うことができる。ブリッジ回路は、複数形成されることができ、第2ビアV2を経由して2つの電子素子E1、E2を接続することができる。 Here, the circuit lines C21 and C22 that connect the first element mounting portion M1 and the second element mounting portion M2 are bridge circuits that connect the first electronic element E1 and the second electronic element E2. physical connections (which can be referred to as die to die interconnections). A plurality of bridge circuits can be formed, and two electronic elements E1 and E2 can be connected via the second via V2.

すなわち、第2回路C2の一部は、複数の素子実装部のうちの少なくとも2つを電気的に接続することができ、第2回路C2の他の一部は、いずれか1つの素子実装部と接続ビア400とを電気的に接続することができる。 That is, a part of the second circuit C2 can electrically connect at least two of the plurality of element mounting parts, and another part of the second circuit C2 can connect any one element mounting part. and the connection via 400 can be electrically connected.

第1積層体100の上面及び第2積層体200の上面には、ソルダーレジスト層500を積層することができる。ソルダーレジスト層500には開口が形成され、開口を介して最外層の回路C1'、C2'が露出することができる。特に、開口を介して最外層の回路 C1'、C2'のパッドが露出され、露出されたパッドは、実装パッドとして機能することができる。 A solder resist layer 500 may be laminated on the upper surface of the first laminate 100 and the upper surface of the second laminate 200 . Openings are formed in the solder resist layer 500, and the outermost circuits C1' and C2' can be exposed through the openings. In particular, the pads of the outermost circuits C1' and C2' are exposed through the openings, and the exposed pads can function as mounting pads.

一方、ソルダーレジスト層500は、第1積層体100の下面にも積層できる。 Meanwhile, the solder resist layer 500 may be laminated on the lower surface of the first laminate 100 as well.

[第2実施例]
図3は、本発明の第2実施例に係るプリント回路基板を示す図である。
[Second embodiment]
FIG. 3 shows a printed circuit board according to a second embodiment of the present invention.

図3を参照すると、第2実施例に係るプリント回路基板において最外層(最上層)に位置する第2回路C2'は、樹脂層210よりも突出する。ここで、最外層(最上層)に位置する第2回路C2'は、第1積層体100よりも突出する。これは、第1実施例において最外層(最上層)に位置する第2回路C2'が樹脂層210に埋め込まれ、第1積層体100よりも突出しないことと区別される。 Referring to FIG. 3, the second circuit C2' located in the outermost layer (uppermost layer) of the printed circuit board according to the second embodiment protrudes from the resin layer 210. As shown in FIG. Here, the second circuit C2′ located in the outermost layer (uppermost layer) protrudes from the first laminate 100. As shown in FIG. This is distinguished from the fact that the second circuit C2' located in the outermost layer (uppermost layer) is embedded in the resin layer 210 and does not protrude beyond the first laminate 100 in the first embodiment.

[第3実施例]
図4は、本発明の第3実施例に係るプリント回路基板を示す図である。
[Third embodiment]
FIG. 4 is a diagram showing a printed circuit board according to a third embodiment of the invention.

図4を参照すると、第3実施例に係るプリント回路基板において第2積層体200の上面は、第1積層体100の上面よりも下に(低く)位置する。これにより、樹脂層210は、キャビティ120の全体を充填せず、ソルダーレジスト層500がキャビティ120の内部の一部を充填することができる。本実施例は、キャビティ120が第2積層体200により完全に充填された第1実施例と区別される。 Referring to FIG. 4, in the printed circuit board according to the third embodiment, the top surface of the second stack 200 is positioned lower than the top surface of the first stack 100 . Thereby, the resin layer 210 does not fill the entire cavity 120 , and the solder resist layer 500 can fill a part of the cavity 120 . This embodiment is distinguished from the first embodiment in which the cavity 120 is completely filled with the second stack 200 .

一方、最外層(最上層)に位置する第2回路C2'は、樹脂層210よりも突出するが、第1積層体100よりは突出しない。 On the other hand, the second circuit C<b>2 ′ located in the outermost layer (uppermost layer) protrudes from the resin layer 210 but does not protrude from the first laminate 100 .

[第4実施例]
図5は、本発明の第4実施例に係るプリント回路基板を示す図である。
[Fourth embodiment]
FIG. 5 is a diagram showing a printed circuit board according to a fourth embodiment of the invention.

図5を参照すると、第4実施例に係るプリント回路基板は、第1積層体100、キャビティ120、第2積層体200を含み、第2の樹脂層220をさらに含むことができる。 Referring to FIG. 5 , the printed circuit board according to the fourth embodiment includes a first laminate 100 , a cavity 120 , a second laminate 200 , and may further include a second resin layer 220 .

第2の樹脂層220は、第2積層体200上に積層されるように、キャビティ120の内部を充填し、第1積層体100の上面まで延長して形成されることができる。第2の樹脂層220は、第2積層体200の樹脂層210と同一の材料で形成することができ、第2の樹脂層220は、感光性樹脂を含むことができる。 The second resin layer 220 may fill the cavity 120 and extend to the top surface of the first laminate 100 so as to be stacked on the second laminate 200 . The second resin layer 220 can be made of the same material as the resin layer 210 of the second laminate 200, and the second resin layer 220 can contain a photosensitive resin.

図5(a)を参照すると、第2積層体200の最外層の第2回路C2'上に、第2の樹脂層220を貫通するビア(第3ビアV3)が形成され、第2の樹脂層220上に第3回路C3が形成される。ここで、第3回路C3のパッドは、実装パッドとして機能することができる。上記第3回路C3は、第2回路C2と同一のスペック(spec)を有することができる。 Referring to FIG. 5A, a via (third via V3) penetrating the second resin layer 220 is formed on the outermost second circuit C2' of the second laminate 200, and the second resin A third circuit C3 is formed on layer 220 . Here, the pads of the third circuit C3 can function as mounting pads. The third circuit C3 may have the same spec as the second circuit C2.

また、図5(a)に示すように、ソルダーレジスト層500は、第2の樹脂層220上に積層され、ソルダーレジスト層500の開口は、第2の樹脂層220を貫通することができる。ソルダーレジスト層500と第2の樹脂層220が両方とも感光性樹脂を含む場合、ソルダーレジスト層500の開口は、フォトリソグラフィ工程で形成することができる。 5A, the solder resist layer 500 is laminated on the second resin layer 220, and the openings of the solder resist layer 500 can penetrate the second resin layer 220. As shown in FIG. When both the solder resist layer 500 and the second resin layer 220 contain a photosensitive resin, the openings in the solder resist layer 500 can be formed by a photolithography process.

図5(b)を参照すると、第1積層体100の最外層の絶縁層110に位置したビアホールVH内に第1ビアV1'が形成されることができる。すなわち、上記第1ビアV1'は、最外層の第1回路C1'の下に形成される。ここで、第2の樹脂層220は、第1ビアV1'を取り囲むようにビアホールVHの内部を充填することができる。 Referring to FIG. 5B, a first via V1' may be formed in the via hole VH located in the outermost insulating layer 110 of the first stack 100. Referring to FIG. That is, the first via V1' is formed under the outermost first circuit C1'. Here, the second resin layer 220 can fill the inside of the via hole VH so as to surround the first via V1'.

最外層の第1回路C1'は、第2の樹脂層220上に形成され、実装パッドを提供することができる。 The outermost first circuit C1' is formed on the second resin layer 220 and can provide mounting pads.

また、第2積層体200の最外層の第2回路C2'上に、第2の樹脂層220を貫通するビア(第3ビアV3)が形成され、第2の樹脂層220上に第3回路C3が形成される。ここで、第3回路C3のパッドは、実装パッドとして機能することができる。 A via (third via V3) penetrating the second resin layer 220 is formed on the second circuit C2′ of the outermost layer of the second laminate 200, and a third circuit C2′ is formed on the second resin layer 220. C3 is formed. Here, the pads of the third circuit C3 can function as mounting pads.

図5に示すように、第2の樹脂層220を用いると、第1積層体100と第2積層体200との密着力を高めることができる。 As shown in FIG. 5, the use of the second resin layer 220 can enhance the adhesion between the first laminate 100 and the second laminate 200 .

[第5実施例]
図6は、本発明の第5実施例に係るプリント回路基板を示す図である。また、図7は、図6のプリント回路基板を用いたパッケージを示す図である。
[Fifth embodiment]
FIG. 6 is a diagram showing a printed circuit board according to a fifth embodiment of the present invention. 7 is a diagram showing a package using the printed circuit board of FIG.

図6を参照すると、第5実施例に係るプリント回路基板は、第1積層体100、キャビティ120、第2積層体200を含み、金属ポスト(post)600をさらに含むことができる。 Referring to FIG. 6 , the printed circuit board according to the fifth embodiment includes a first laminate 100 , a cavity 120 , a second laminate 200 , and may further include a metal post 600 .

金属ポスト600は、ソルダーレジスト層500を貫通して形成されることができ、実装パッドを提供することができる。金属ポスト600は、ソルダーレジスト層500よりも突出するため、プリント回路基板と電子素子との距離が狭くなり、電子素子を実装するための低融点金属部材LMの高さを低減できる(図7参照)。 Metal posts 600 may be formed through the solder resist layer 500 and may provide mounting pads. Since the metal post 600 protrudes from the solder resist layer 500, the distance between the printed circuit board and the electronic element is narrowed, and the height of the low melting point metal member LM for mounting the electronic element can be reduced (see FIG. 7). ).

金属ポスト600は、ポストビア610とポストパッド620とを含むことができる。ポストビア610は、ソルダーレジスト層500を貫通し、最外層の第1回路C1'、最外層の第2回路C2'または第3回路C3上に形成されることができる。ポストパッド620は、ソルダーレジスト層500よりも突出して実装パッドを提供する。 Metal posts 600 may include post vias 610 and post pads 620 . The post via 610 penetrates the solder resist layer 500 and can be formed on the outermost first circuit C1', the outermost second circuit C2' or the third circuit C3. The post pads 620 protrude beyond the solder resist layer 500 to provide mounting pads.

一方、図6(a)は、図3を参照して説明したプリント回路基板に金属ポスト600を追加したものであり、図6(b)は、図4を参照して説明したプリント回路基板に金属ポスト600を追加したものである。また、図6(c)は、図5(b)を参照して説明したプリント回路基板に金属ポスト600を追加したものである。一方、図7は、図6(a)のプリント回路基板を用いたパッケージを示している。 On the other hand, FIG. 6(a) shows the printed circuit board described with reference to FIG. 3 with metal posts 600 added thereto, and FIG. 6(b) shows the printed circuit board described with reference to FIG. A metal post 600 is added. Also, FIG. 6(c) is obtained by adding a metal post 600 to the printed circuit board described with reference to FIG. 5(b). On the other hand, FIG. 7 shows a package using the printed circuit board of FIG. 6(a).

[第6実施例]
図8は、本発明の第6実施例に係るプリント回路基板を示す図である。
[Sixth embodiment]
FIG. 8 is a diagram showing a printed circuit board according to a sixth embodiment of the present invention.

図8を参照すると、本発明の第6実施例に係るプリント回路基板は、第1積層体100、キャビティ120、第2積層体200を含むことができる。 Referring to FIG. 8, the printed circuit board according to the sixth embodiment of the present invention may include a first laminate 100, a cavity 120 and a second laminate 200. As shown in FIG.

第1積層体100は、複数の絶縁層110が上下に積層されて形成される。絶縁層110は、有機物または無機物の絶縁物質で形成される層であって、樹脂を含むことができる。絶縁層110の樹脂としては、熱硬化性または熱可塑性が挙げられ、具体的には、エポキシ(epoxy)樹脂、イミダゾール(imidazole)樹脂、ポリイミド(polyimide)樹脂、BT(Bismaleimide Triazine)樹脂、フッ素系樹脂のうちの少なくとも1種を含むことができ、これに制限されない。 The first stacked body 100 is formed by vertically stacking a plurality of insulating layers 110 . The insulating layer 110 is a layer formed of an organic or inorganic insulating material, and may include resin. Examples of the resin of the insulating layer 110 include thermosetting and thermoplastic resins, and specific examples include epoxy resin, imidazole resin, polyimide resin, BT (bismaleimide triazine) resin, and fluorine-based resin. It can include, but is not limited to, at least one of resins.

絶縁層110は、内部にガラス繊維等の繊維補強材を含むことができ、具体的な絶縁層110としては、プリプレグ(Prepreg)を用いることができる。また、絶縁層110は、有機フィラーまたは無機フィラー等のフィラーを含むことができる。絶縁層110に含有される無機フィラーとしては、シリカが挙げられる。 The insulation layer 110 may include a fiber reinforcing material such as a glass fiber inside, and a specific insulation layer 110 may use prepreg. Also, the insulating layer 110 may contain fillers such as organic fillers or inorganic fillers. Silica is an example of the inorganic filler contained in the insulating layer 110 .

互いに同一または異なる材質の複数の絶縁層110が層ごとに積層されて第1積層体100を構成することができる。図1には、2つの絶縁層110が示されているが、絶縁層110の数は、設計等によって変更できる。 A plurality of insulating layers 110 made of the same or different materials may be laminated layer by layer to form the first laminate 100 . Although two insulating layers 110 are shown in FIG. 1, the number of insulating layers 110 can be changed by design or the like.

第1積層体100には、回路を形成することができ、第1積層体100に形成された回路を第1回路C1と称する。第1回路C1は、金属で形成することができ、第1回路C1の金属としては、銅、銀、ニッケル、パラジウム、白金、金、アルミニウムのうちの少なくとも1種を含むことができる。 A circuit can be formed on the first laminate 100, and the circuit formed on the first laminate 100 is referred to as a first circuit C1. The first circuit C1 can be made of metal, and the metal of the first circuit C1 can include at least one of copper, silver, nickel, palladium, platinum, gold, and aluminum.

第1回路C1は、各絶縁層110の一面に形成できる。互いに異なる層に位置する第1回路C1は、ビア(第1ビアV1)を介して電気的に接続することができる。図8を参照すると、第1回路C1のうち、素子実装面に最も近く位置する最上層の第1回路C1'は、最上層の絶縁層110よりも突出し、素子実装面から最も遠く位置する最下層の第1回路C1"は、最下層の絶縁層110の下面に埋め込まれ、最下層の第1回路C1"において下面を除いた残りの面は最下層の絶縁層110でカバーできる。 The first circuit C1 may be formed on one surface of each insulating layer 110 . The first circuits C1 located in different layers can be electrically connected through vias (first vias V1). Referring to FIG. 8, among the first circuits C1, the first circuit C1′ in the uppermost layer located closest to the element mounting surface protrudes from the insulating layer 110 in the uppermost layer and is located farthest from the element mounting surface. The lower first circuit C1″ is embedded in the lower surface of the lowermost insulating layer 110, and the remaining surface of the lowermost first circuit C1″ except for the lower surface can be covered with the lowermost insulating layer 110.

第1回路C1は、複数の回路線を含むことができる。それぞれの回路線の端部にはパッドが設けられることができる。このパッドは、第1ビアV1等のビアに接続することができる。 The first circuit C1 may include multiple circuit lines. A pad may be provided at the end of each circuit line. This pad can be connected to a via, such as the first via V1.

一方、第1回路C1のうち、素子実装面に最も近く位置する最外層の第1回路C1'は、電子素子を実装するための実装パッドを含んで素子実装部を提供することができる。 On the other hand, among the first circuits C1, the outermost first circuit C1' positioned closest to the device mounting surface may provide a device mounting portion including mounting pads for mounting an electronic device.

第1積層体100にはキャビティ120を形成することができる。キャビティ120は、第1積層体100内に形成され、上部に開放される。ただし、キャビティ120の下部は開放されないため、キャビティ120は、第1積層体100の厚さの一部のみを貫通する。図1に示されているように、キャビティ120の深さは、第1積層体100の絶縁層110のN個の厚さ以上になることができ、キャビティ120の底面は、2つの絶縁層110間の境界面と同一平面上に位置しないこともある。 A cavity 120 may be formed in the first stack 100 . A cavity 120 is formed in the first stack 100 and opened upward. However, since the lower portion of the cavity 120 is not open, the cavity 120 penetrates only part of the thickness of the first laminate 100 . As shown in FIG. 1, the depth of the cavity 120 can be greater than or equal to N thicknesses of the insulating layers 110 of the first stack 100, and the bottom surface of the cavity 120 is two insulating layers 110 may not be coplanar with the interface between them.

キャビティ120により第1回路C1のうちの一部が露出できる。複数の絶縁層110のうちのキャビティ120と接している絶縁層110に位置した第1回路C1がキャビティ120により露出することができ、上記第1回路C1の端部に設けられたパッドが露出することができる。キャビティ120により露出された第1回路C1のパッドを接続パッド300と言える。言い換えると、キャビティ120により第1回路C1の接続パッド300が露出され、上記接続パッド300は、キャビティ120の下側に位置する第1回路C1のパッドである。 A portion of the first circuit C1 can be exposed by the cavity 120. FIG. The first circuit C1 located in the insulating layer 110 in contact with the cavity 120 among the plurality of insulating layers 110 can be exposed by the cavity 120, and the pads provided at the ends of the first circuit C1 are exposed. be able to. The pads of the first circuit C<b>1 exposed by the cavity 120 are called connection pads 300 . In other words, the cavity 120 exposes the connection pads 300 of the first circuit C 1 , and the connection pads 300 are the pads of the first circuit C 1 located below the cavity 120 .

第2積層体200は、キャビティ120内に形成され、複数の樹脂層210が上下に積層されて形成できる。複数の樹脂層210は、キャビティ120内に順次に積層されることができる。 The second laminate 200 is formed in the cavity 120 and may be formed by vertically stacking a plurality of resin layers 210 . A plurality of resin layers 210 may be sequentially stacked within the cavity 120 .

樹脂層210は、樹脂を含み、具体的には、エポキシ(epoxy)樹脂、イミダゾール(imidazole)樹脂、ポリイミド(polyimide)樹脂、液晶ポリマー(LCP)、BT(Bismaleimide Triazine)樹脂、フッ素系樹脂のうちの少なくとも1種を含むことができ、これに制限されない。 The resin layer 210 includes a resin, specifically, an epoxy resin, an imidazole resin, a polyimide resin, a liquid crystal polymer (LCP), a BT (bismaleimide triazine) resin, or a fluorine-based resin. and is not limited thereto.

樹脂層210は、感光性樹脂を含むことができる。この場合、樹脂層210は、光に反応することができ、フォトリソグラフィ(photolithography)工程で加工することができる。感光性樹脂を含む樹脂層210は、PID(photo imageable dielectric)であり得る。また、感光性樹脂は、ポジ型(positive type)またはネガ型(negative type)であることができる。 The resin layer 210 may contain a photosensitive resin. In this case, the resin layer 210 may react to light and may be processed through a photolithography process. The resin layer 210 containing photosensitive resin may be a PID (photo imageable dielectric). Also, the photosensitive resin may be of a positive type or a negative type.

ポジ型の樹脂層210の場合は、露光工程で光を受けた部分の光重合体ポリマー結合が切れる。以後、現像工程を行うと、光を受けて光重合体ポリマー結合の切れた部分が除去される。 In the case of the positive resin layer 210, the photopolymer bond in the portion exposed to light is cut during the exposure process. After that, when a developing process is performed, the part where the photopolymer polymer bond is cut by exposure to light is removed.

ネガ型の樹脂層210の場合は、露光工程で光を受けた部分が光重合反応を起こして単一構造から鎖構造の3次元網状構造となり、現像工程を行うと、光を受けていない部分が除去される。 In the case of the negative type resin layer 210, the portion exposed to light in the exposure process undergoes a photopolymerization reaction to change from a single structure to a chain structure three-dimensional network structure. is removed.

感光性樹脂を含む樹脂層210によれば、フォトリソグラフィ工程で回路及びビアの形成工程が可能となるので、微細パターン加工が容易となることができる。 According to the resin layer 210 containing a photosensitive resin, it is possible to form circuits and vias in a photolithography process, so fine pattern processing can be facilitated.

樹脂層210の厚さは、絶縁層110の厚さよりも小さいことができる。すなわち、複数の樹脂層210のうちの1つの厚さは、複数の絶縁層110のうちの1つの厚さよりも小さいことができる。 The thickness of the resin layer 210 can be smaller than the thickness of the insulating layer 110 . That is, the thickness of one of the plurality of resin layers 210 may be smaller than the thickness of one of the plurality of insulation layers 110 .

樹脂層210の最上面、すなわち、第2積層体200の上面は、第1積層体100の上面と同一平面上に位置することができる。 The top surface of the resin layer 210 , that is, the top surface of the second laminate 200 may be positioned on the same plane as the top surface of the first laminate 100 .

第2積層体200には回路を形成することができ、第2積層体200に形成された回路を第2回路C2と称する。第2回路C2は、金属で形成することができ、第2回路C2の金属は、銅、銀、ニッケル、パラジウム、白金、金、アルミニウムのうちの少なくとも1種を含むことができる。 A circuit can be formed in the second laminate 200, and the circuit formed in the second laminate 200 is referred to as a second circuit C2. The second circuit C2 can be made of metal, and the metal of the second circuit C2 can include at least one of copper, silver, nickel, palladium, platinum, gold, and aluminum.

第2回路C2は、各樹脂層210の一面(上面)に形成できる。素子実装面に最も近く位置する最外層(最上層)の第2回路C2'は、最外層(最上層)の樹脂層210よりも突出し、素子実装面に最も近く位置する最外層の第2回路C2'の上面は、素子実装面に最も近く位置する最外層の第1回路C1'の上面と同一平面上に位置することができる。ただし、図8とは異なって、最外層の第2回路C2'の厚さが最外層の第1回路C1'の厚さよりも小さいことができる。この場合、2つの最外層の回路C1'、C2'の上面は、同一平面上に位置しない。 The second circuit C2 can be formed on one surface (upper surface) of each resin layer 210 . The outermost layer (uppermost layer) second circuit C2′ located closest to the element mounting surface protrudes from the outermost layer (uppermost layer) resin layer 210 and is located closest to the element mounting surface. The top surface of C2' may be flush with the top surface of the outermost first circuit C1' located closest to the device mounting surface. However, unlike FIG. 8, the thickness of the outermost second circuit C2' may be smaller than the thickness of the outermost first circuit C1'. In this case, the top surfaces of the two outermost circuits C1' and C2' are not coplanar.

互いに異なる層に位置した第2回路C2は、ビア(第2ビアV2)を介して互いに接続することができる。 The second circuits C2 located in different layers can be connected to each other through vias (second vias V2).

一方、第2積層体200には、最下層の樹脂層211を貫通し、上述の接続パッド300と接触する接続ビア400を形成できる。すなわち、接続ビア400は、接続パッド300と第2回路C2とを電気的に接続することができる。 On the other hand, in the second laminate 200 , connection vias 400 can be formed that penetrate the lowermost resin layer 211 and contact the connection pads 300 . That is, the connection via 400 can electrically connect the connection pad 300 and the second circuit C2.

第1回路C1の回路幅は、第2回路C2の回路幅よりも大きいことができる。第1回路C1の回路厚さは、第2回路C2の回路厚さよりも大きいことができる。第1回路C1よりも第2回路C2が微細ピッチを有することができる。第1回路C1の回路密度よりも第2回路C2の回路密度が大きいことができる。 The circuit width of the first circuit C1 can be greater than the circuit width of the second circuit C2. The circuit thickness of the first circuit C1 can be greater than the circuit thickness of the second circuit C2. The second circuit C2 may have a finer pitch than the first circuit C1. The circuit density of the second circuits C2 can be greater than the circuit density of the first circuits C1.

第1ビアV1の大きさは、第2ビアV2の大きさよりも大きく、第1ビアV1のピッチは、第2ビアV2のピッチよりも大きいことができる。また、接続ビア400は、第2ビアV2と同一の規模を有することができる。 The size of the first vias V1 may be larger than the size of the second vias V2, and the pitch of the first vias V1 may be larger than the pitch of the second vias V2. Also, the connection via 400 may have the same size as the second via V2.

第2回路C2は、複数の回路線を含むことができる。それぞれの回路線の端部には、パッドが設けられることができる。このパッドは、第2ビアV2に接続することができる。 一方、第2回路C2のうちの素子実装面に最も近く位置する最外層の第2回路C2'は、電子素子を実装するための実装パッドを含んで素子実装部を提供することができる。 The second circuit C2 may include multiple circuit lines. A pad may be provided at the end of each circuit line. This pad can be connected to the second via V2. On the other hand, the outermost second circuit C2' located closest to the device mounting surface of the second circuits C2 may provide a device mounting portion including mounting pads for mounting the electronic device.

複数の素子実装部のそれぞれは、第1積層体100と第2積層体200の両方にかけて形成される。すなわち、第1素子実装部M1は、第1積層体100と第2積層体200上に設けられ、第2素子実装部M2も第1積層体100と第2積層体200上に設けられる。第2積層体200の上面は、複数の素子実装部を提供するために複数に区画できる。 Each of the plurality of element mounting portions is formed over both the first laminate 100 and the second laminate 200 . That is, the first element mounting portion M1 is provided on the first layered body 100 and the second layered body 200, and the second element mounting portion M2 is also provided on the first layered body 100 and the second layered body 200. FIG. The top surface of the second stack 200 can be divided into a plurality of sections to provide a plurality of device mounting portions.

第1素子実装部M1上に第1電子素子E1が実装され、第2素子実装部M2上に第2電子素子E2が実装される。第1電子素子E1は、第1積層体100と第2積層体200の両方にかけて位置し、第2電子素子E2も第1積層体100と第2積層体200の両方にかけて位置する。 The first electronic element E1 is mounted on the first element mounting portion M1, and the second electronic element E2 is mounted on the second element mounting portion M2. The first electronic element E1 is positioned over both the first stacked body 100 and the second stacked body 200, and the second electronic element E2 is also positioned over both the first stacked body 100 and the second stacked body 200. FIG.

第1電子素子E1は、電極端子T1を含み、上記電極端子T1は、低融点金属部材LMによりプリント回路基板の第1素子実装部M1の実装パッドに結合することができる。第1電子素子E1とプリント回路基板との間はアンダーフィル材料Fで充填することができる。第2電子素子E2は、電極端子T2を含み、上記電極端子T2は、低融点金属部材LMによりプリント回路基板の第2素子実装部M2の実装パッドに結合することができる。第2電子素子E2とプリント回路基板との間はアンダーフィル材料Fで充填することができる。 The first electronic element E1 includes an electrode terminal T1, and the electrode terminal T1 can be coupled to a mounting pad of the first element mounting portion M1 of the printed circuit board by a low melting point metal member LM. An underfill material F may be filled between the first electronic element E1 and the printed circuit board. The second electronic element E2 includes an electrode terminal T2, and the electrode terminal T2 can be coupled to the mounting pad of the second element mounting portion M2 of the printed circuit board by the low melting point metal member LM. An underfill material F may be filled between the second electronic element E2 and the printed circuit board.

上述したように、第2回路C2は、複数の回路線を含むことができる。第2回路C2は、接続ビア400に電気的に接続する回路線を含むことができる。また、第2回路C2は、接続ビア400とは電気的に絶縁され、複数の素子実装部を電気的に接続する回路線を含むことができる。この場合、第2回路C2は、様々な信号伝達経路を提供することができる。 As noted above, the second circuit C2 may include multiple circuit lines. The second circuit C2 may include circuit lines electrically connecting to the connecting vias 400 . Also, the second circuit C2 can include a circuit line that is electrically insulated from the connection via 400 and electrically connects the plurality of element mounting portions. In this case, the second circuit C2 can provide various signal transmission paths.

第2回路C2は、i)第1素子実装部M1と第1回路C1とを接続する回路線、ii)第2素子実装部M2と第2回路C2とを接続する回路線、iii)第1素子実装部M1と第2素子実装部M2とを接続する回路線を含むことができる。上記回路線は、i)及びii)の場合は、 接続ビア400に電気的に接続され、iii)の場合は、接続ビア400と電気的に絶縁することができる。 The second circuit C2 includes: i) a circuit line connecting the first element mounting portion M1 and the first circuit C1; ii) a circuit line connecting the second element mounting portion M2 and the second circuit C2; A circuit line connecting the element mounting portion M1 and the second element mounting portion M2 can be included. The circuit line can be electrically connected to the connecting via 400 in cases i) and ii) and electrically isolated from the connecting via 400 in case iii).

すなわち、第2回路C2の一部は、複数の素子実装部のうちの少なくとも2つを電気的に接続することができ、第2回路C2の他の一部は、いずれか1つの素子実装部と接続ビア400とを電気的に接続することができる。 That is, a part of the second circuit C2 can electrically connect at least two of the plurality of element mounting parts, and another part of the second circuit C2 can connect any one element mounting part. and the connection via 400 can be electrically connected.

第1積層体100の上面、また第2積層体200の上面には、ソルダーレジスト層500を積層できる。ソルダーレジスト層500には、開口が形成され、開口を介して最外層の回路C1'、C2'が露出することができる。特に、開口を介して最外層の回路C1'、C2'のパッドが露出され、露出されたパッドは、実装パッドとして機能することができる。一方、ソルダーレジスト層500は、第1積層体100の下面にも積層され、最下層の第1回路C1"をカバーできる。 A solder resist layer 500 can be laminated on the upper surface of the first laminate 100 and the upper surface of the second laminate 200 . Openings are formed in the solder resist layer 500, and the outermost circuits C1' and C2' can be exposed through the openings. In particular, the pads of the outermost circuits C1' and C2' are exposed through the openings, and the exposed pads can function as mounting pads. Meanwhile, the solder resist layer 500 is also laminated on the lower surface of the first laminate 100 to cover the lowermost first circuit C1″.

[第7実施例]
図9は、本発明の第7実施例に係るプリント回路基板を示す図である。
[Seventh embodiment]
FIG. 9 is a diagram showing a printed circuit board according to a seventh embodiment of the invention.

図9を参照すると、第7実施例に係るプリント回路基板は、第1積層体100、キャビティ120、第2積層体200を含み、第2の樹脂層220及び/または金属ポスト600をさらに含むことができる。 Referring to FIG. 9, the printed circuit board according to the seventh embodiment includes a first laminate 100, a cavity 120, a second laminate 200, and further includes a second resin layer 220 and/or metal posts 600. can be done.

第2の樹脂層220は、第2積層体200上に積層されるようにキャビティ120の内部を充填し、第1積層体100の上面まで延長して形成されることができる。第2の樹脂層220は、第2積層体200の樹脂層210と同一の材料で形成することができ、第2の樹脂層220は、感光性樹脂を含むことができる。 The second resin layer 220 may be stacked on the second laminate 200 to fill the cavity 120 and extend to the top surface of the first laminate 100 . The second resin layer 220 can be made of the same material as the resin layer 210 of the second laminate 200, and the second resin layer 220 can contain a photosensitive resin.

第1積層体100の最外層の絶縁層110に位置したビアホールVH内に第1ビアV1'が形成されることができる。すなわち、上記第1ビアV1'は、最外層の第1回路C1'の下に形成される。ここで、第2の樹脂層220は、第1ビアV1'を取り囲むようにビアホールVHの内部を充填することができる。 A first via V1′ may be formed in the via hole VH located in the outermost insulating layer 110 of the first stack 100 . That is, the first via V1' is formed under the outermost first circuit C1'. Here, the second resin layer 220 can fill the inside of the via hole VH so as to surround the first via V1'.

最外層の第1回路C1'は、第2の樹脂層220上に形成されることができる。第2積層体200の最外層の第2回路C2'上に第2の樹脂層220を貫通するビア(第3ビアV3)が形成され、第2の樹脂層220上に第3回路C3が形成される。 The outermost first circuit C 1 ′ may be formed on the second resin layer 220 . A via (third via V3) penetrating the second resin layer 220 is formed on the second circuit C2′ of the outermost layer of the second laminate 200, and the third circuit C3 is formed on the second resin layer 220. be done.

ソルダーレジスト層500は、第2の樹脂層220上に積層され、第1積層体100の下面にも積層されることができる。 The solder resist layer 500 is laminated on the second resin layer 220 and may also be laminated on the lower surface of the first laminate 100 .

金属ポスト600は、ソルダーレジスト層500を貫通して形成されることができ、実装パッドを提供することができる。金属ポスト600は、ソルダーレジスト層500よりも突出するので、プリント回路基板と電子素子との距離が狭くなり、電子素子を実装するための低融点金属部材LMの高さを低減できる。 Metal posts 600 may be formed through the solder resist layer 500 and may provide mounting pads. Since the metal post 600 protrudes from the solder resist layer 500, the distance between the printed circuit board and the electronic element is narrowed, and the height of the low melting point metal member LM for mounting the electronic element can be reduced.

金属ポスト600は、ポストビア610とポストパッド620とを含むことができる。ポストビア610は、ソルダーレジスト層500を貫通し、最外層の第1回路C1'、最外層の第2回路C2'または第3回路C3上に形成されることができる。ポストパッド620は、ソルダーレジスト層500よりも突出して実装パッドを提供する。 Metal posts 600 may include post vias 610 and post pads 620 . The post via 610 penetrates the solder resist layer 500 and can be formed on the outermost first circuit C1', the outermost second circuit C2' or the third circuit C3. The post pads 620 protrude beyond the solder resist layer 500 to provide mounting pads.

<プリント回路基板の製造方法>
図10及び図11は、本発明の一実施例に係るプリント回路基板、及びこれを含むパッケージの製造方法を示す図である。
<Method for manufacturing printed circuit board>
10 and 11 are diagrams illustrating a method of manufacturing a printed circuit board and a package including the printed circuit board according to an embodiment of the present invention.

図10及び図11は、図3に示されたプリント回路基板を製造する方法を示しているが、上記製造方法は、他のプリント回路基板を製造する方法にも適用できる。 10 and 11 illustrate a method of manufacturing the printed circuit board shown in FIG. 3, the manufacturing method described above is also applicable to methods of manufacturing other printed circuit boards.

図10(a)を参照すると、複数の絶縁層110が上下に積層され、第1回路C1が形成されて第1積層体100が形成される。 Referring to FIG. 10(a), a plurality of insulating layers 110 are vertically laminated to form a first circuit C1 to form a first laminate 100. As shown in FIG.

図に示されていないが、キャリアを用いて第1積層体100を形成することができる。すなわち、キャリア上に複数の絶縁層110を順次積層しながら、各層の一面ごとに第1回路C1を形成した後に、キャリアを除去すれば、第1積層体100を形成できる。ここで、a面は、キャリア付着面であり、キャリア付着面側にある第1回路C1は、埋め込み型回路となり得る。また、ここで、a面が素子実装面となる。 Although not shown, a carrier can be used to form the first stack 100 . That is, the first laminate 100 can be formed by sequentially stacking a plurality of insulating layers 110 on a carrier, forming the first circuit C1 on each side of each layer, and then removing the carrier. Here, the a-plane is the carrier adhesion surface, and the first circuit C1 on the carrier adhesion surface side can be an embedded circuit. Here, the a-plane is the device mounting surface.

図10(b)を参照すると、第1積層体100にキャビティ120が形成される。キャビティ120は、レーザー加工で形成することができる。キャビティ120により第1回路C1の一部が露出でき、特に、第1回路C1のパッドが露出することができ、露出されたパッドは、接続パッド300となる。 Referring to FIG. 10( b ), a cavity 120 is formed in the first laminate 100 . Cavity 120 can be formed by laser processing. A part of the first circuit C1 can be exposed by the cavity 120, and in particular, a pad of the first circuit C1 can be exposed, and the exposed pad becomes the connection pad 300. FIG.

図10(c)及び図10(d)を参照すると、キャビティ120内に複数の樹脂層210を上下に積層し、第2回路C2を形成することで第2積層体200を形成する。 Referring to FIGS. 10(c) and 10(d), a second laminate 200 is formed by vertically stacking a plurality of resin layers 210 in a cavity 120 to form a second circuit C2.

先ず、図10(c)に示すように、最下層の樹脂層211をキャビティ120の底面に形成する。樹脂層210は、スプレー工法で形成することができる。図10(d)に示すように、最下層の樹脂層211を加工してビアホールを形成し、ビアホールをめっきして接続ビア400、そして第2回路C2を形成する。樹脂層210が感光性樹脂を含む場合、ビアホールはフォトリソグラフィ工法で形成することができる。接続ビア400は、キャビティ120により露出された接続パッド300と直接接触するように形成される。 First, as shown in FIG. 10C, the bottom resin layer 211 is formed on the bottom surface of the cavity 120 . The resin layer 210 can be formed by a spray method. As shown in FIG. 10D, the lowermost resin layer 211 is processed to form via holes, and the via holes are plated to form connection vias 400 and second circuits C2. If the resin layer 210 contains a photosensitive resin, the via holes may be formed by photolithography. Connection vias 400 are formed in direct contact with connection pads 300 exposed by cavities 120 .

図11(a)を参照すると、上述した図10(c)及び図10(d)の工程を繰り返すことで第2積層体200を形成することができる。ここで、形成された第1積層体100と第2積層体200は、図3に示されたプリント回路基板と同様な形態であるが、図1から図5に示されたすべてのプリント回路基板に代替可能である。 Referring to FIG. 11(a), the second laminate 200 can be formed by repeating the steps of FIGS. 10(c) and 10(d). Here, the formed first laminate 100 and second laminate 200 are in the same form as the printed circuit board shown in FIG. 3, but all printed circuit boards shown in FIGS. can be substituted for

図11(b)を参照すると、ソルダーレジスト層500が形成され、ソルダーレジスト層500に開口が形成されることで、最外層の回路C1'、C2'のパッドが露出される。露出されたパッドは、実装パッドとして機能することができる。 Referring to FIG. 11B, a solder resist layer 500 is formed and openings are formed in the solder resist layer 500 to expose the pads of the outermost circuits C1' and C2'. The exposed pads can function as mounting pads.

図11(c)を参照すると、露出された実装パッド上に低融点金属部材LMが位置し、上記低融点金属部材LMに、第1電子素子E1の電極端子T1と第2電子素子E2の電極端子T2が結合することができる。第1電子素子E1と第2電子素子E2の下部はアンダーフィル材料Fで充填されることができる。 Referring to FIG. 11(c), a low melting point metal member LM is positioned on the exposed mounting pad, and the electrode terminal T1 of the first electronic element E1 and the electrode of the second electronic element E2 are attached to the low melting point metal member LM. Terminal T2 can be coupled. An underfill material F may be filled under the first electronic element E1 and the second electronic element E2.

第1電子素子E1は、第1積層体100の第1回路C1に電気的に接続するとともに、第2積層体200の第2回路C2とも電気的に接続する。同様に、第2電子素子E2は、第1積層体100の第1回路C1に電気的に接続するとともに、第2積層体200の第2回路C2とも電気的に接続する。特に、第2回路C2のうちの第1素子実装部M1と第2素子実装部M2とを接続させるブリッジ回路は、第1電子素子E1と第2電子素子E2とを接続させる。 The first electronic element E1 is electrically connected to the first circuit C1 of the first laminate 100 and also electrically connected to the second circuit C2 of the second laminate 200 . Similarly, the second electronic element E2 is electrically connected to the first circuit C1 of the first laminate 100 and electrically connected to the second circuit C2 of the second laminate 200 as well. In particular, the bridge circuit connecting the first element mounting portion M1 and the second element mounting portion M2 of the second circuit C2 connects the first electronic element E1 and the second electronic element E2.

図12及び図13は、本発明の他の実施例に係るパッケージの製造方法を示す図である。 図12及び図13は、図9に示されたプリント回路基板を製造する方法を示している。 12 and 13 are diagrams showing a method of manufacturing a package according to another embodiment of the present invention. 12 and 13 illustrate a method of manufacturing the printed circuit board shown in FIG.

図12(a)及び図12(b)を参照すると、複数の絶縁層110が上下に積層され、第1回路C1が形成されて第1積層体100が形成される。図示されていないが、キャリアを用いて第1積層体100を形成することができる。すなわち、キャリア上に複数の絶縁層110を順次積層しながら、各層の一面ごとに第1回路C1を形成した後にキャリアを除去すれば、第1積層体100が形成される。ここで、b面は、キャリア付着面であり、キャリア付着面側にある第1回路C1は、埋め込み型回路となり得る。また、ここで、b面が素子実装面の反対面となる。 Referring to FIGS. 12(a) and 12(b), a plurality of insulating layers 110 are vertically laminated to form a first circuit C1 to form a first laminate 100. As shown in FIG. Although not shown, a carrier can be used to form the first stack 100 . That is, the first laminate 100 is formed by sequentially stacking a plurality of insulating layers 110 on a carrier, forming the first circuit C1 on each side of each layer, and then removing the carrier. Here, the b surface is a carrier adhesion surface, and the first circuit C1 on the carrier adhesion surface side can be an embedded circuit. Also, here, the surface b is the surface opposite to the element mounting surface.

図12(c)を参照すると、第1積層体100にキャビティ120が形成される。キャビティ120は、レーザー加工で形成することができる。キャビティ120により第1回路C1の一部が露出することができ、特に、第1回路C1のパッドが露出することができ、露出したパッドは、接続パッド300となる。 Referring to FIG. 12( c ), a cavity 120 is formed in the first laminate 100 . Cavity 120 can be formed by laser processing. A part of the first circuit C1 can be exposed by the cavity 120, and in particular, a pad of the first circuit C1 can be exposed, and the exposed pad becomes the connection pad 300. FIG.

一方、最外層の絶縁層110にビアホールVHが形成される。ビアホールVHは、レーザー加工で形成することができる。 On the other hand, via holes VH are formed in the outermost insulating layer 110 . The via hole VH can be formed by laser processing.

図12(d)を参照すると、キャビティ120内に第2積層体200が形成されるが、第2積層体200を形成する方法は、図10(c)及び図10(d)を参照して説明した内容と同一である。 Referring to FIG. 12(d), the second stack 200 is formed in the cavity 120. The method of forming the second stack 200 is shown in FIGS. 10(c) and 10(d). Same as explained.

図12(e)を参照すると、第2積層体200上に第2の樹脂層220が形成される。第2の樹脂層220は、第1積層体100の上面にも形成され、ビアホールVHの内部を充填する。 Referring to FIG. 12( e ), a second resin layer 220 is formed on the second laminate 200 . The second resin layer 220 is also formed on the upper surface of the first laminate 100 and fills the inside of the via hole VH.

図13(a)を参照すると、第2の樹脂層220にビアホールVH'が形成される。絶縁層110のビアホールVHの内部に第2の樹脂層220のビアホールVH'が形成され、第1回路C1のパッドを露出させることができる。また、第2の樹脂層220のビアホールVH'は、最外層の第2回路C2'のパッドを露出させることができる。 Referring to FIG. 13( a ), via holes VH′ are formed in the second resin layer 220 . A via hole VH' of the second resin layer 220 is formed inside the via hole VH of the insulating layer 110 to expose the pad of the first circuit C1. Also, the via holes VH' of the second resin layer 220 can expose the pads of the outermost second circuit C2'.

図13(b)を参照すると、最外層に位置する第1ビアV1'及び最外層の第1回路C1'が形成されるとともに、第3ビアV3及び第3回路C3が形成される。これらはすべてめっきで形成されることができる。 Referring to FIG. 13(b), a first via V1' located on the outermost layer and a first circuit C1' on the outermost layer are formed, and a third via V3 and a third circuit C3 are formed. All of these can be formed by plating.

図13(c)を参照すると、ソルダーレジスト層500が第2の樹脂層220上に積層され、第1積層体100の下面に積層される。また、金属ポスト600が形成される。ここで、ソルダーレジスト層500に開口を形成した後に、開口をめっきしてポストビア610を形成することができ、上記開口を過めっきしてポストパッド620を形成することができる。ポストパッド620は、ソルダーレジスト層500よりも突出し、実装パッドとして機能する。 Referring to FIG. 13( c ), a solder resist layer 500 is laminated on the second resin layer 220 and laminated on the lower surface of the first laminate 100 . A metal post 600 is also formed. Here, after forming openings in the solder resist layer 500 , the openings can be plated to form post vias 610 , and the openings can be overplated to form post pads 620 . The post pads 620 protrude from the solder resist layer 500 and function as mounting pads.

図13(d)を参照すると、金属ポスト600上に低融点金属部材LMが位置し、上記低融点金属部材LMに、第1電子素子E1の電極端子T1と第2電子素子E2の電極端子T2が結合することができる。第1電子素子E1と第2電子素子E2の下部は、アンダーフィル材料Fで充填されることができる。 Referring to FIG. 13D, a low melting point metal member LM is positioned on the metal post 600, and the electrode terminal T1 of the first electronic element E1 and the electrode terminal T2 of the second electronic element E2 are connected to the low melting point metal member LM. can be combined. An underfill material F may be filled under the first electronic element E1 and the second electronic element E2.

第1電子素子E1は、第1積層体100の第1回路C1に電気的に接続するとともに、第2積層体200の第2回路C2とも電気的に接続する。同様に、第2電子素子E2は、第1積層体100の第1回路C1に電気的に接続するとともに、第2積層体200の第2回路C2とも電気的に接続する。特に、第2回路C2のうち、第1素子実装部M1と第2素子実装部M2とを接続させるブリッジ回路は、第1電子素子E1と第2電子素子E2とを接続させる。 The first electronic element E1 is electrically connected to the first circuit C1 of the first laminate 100 and also electrically connected to the second circuit C2 of the second laminate 200 . Similarly, the second electronic element E2 is electrically connected to the first circuit C1 of the first laminate 100 and electrically connected to the second circuit C2 of the second laminate 200 as well. In particular, the bridge circuit connecting the first element mounting portion M1 and the second element mounting portion M2 in the second circuit C2 connects the first electronic element E1 and the second electronic element E2.

以上では、本発明の一実施例について説明したが、当該技術分野で通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載した本発明の思想から逸脱しない範囲内で、構成要素の付加、変更、削除または追加等により本発明を様々に修正及び変更することができ、これも本発明の権利範囲内に含まれるものといえよう。 An embodiment of the present invention has been described above. However, those skilled in the art will be able to add components without departing from the spirit of the present invention described in the scope of claims. , alterations, deletions, additions, etc., can be variously modified and changed, which are also included in the scope of the invention.

100 第1積層体
110 絶縁層
120 キャビティ
200 第2積層体
210 樹脂層
220 第2の樹脂層
300 接続パッド
400 接続ビア
C1 第1回路
C2 第2回路
500 ソルダーレジスト層
600 金属ポスト
610 ポストビア
620 ポストパッド
M1 第1素子実装部
M2 第2素子実装部
100 first laminate 110 insulating layer 120 cavity 200 second laminate 210 resin layer 220 second resin layer 300 connection pad 400 connection via C1 first circuit C2 second circuit 500 solder resist layer 600 metal post 610 post via 620 post pad M1 First element mounting part M2 Second element mounting part

Claims (14)

複数の素子実装部を備えるプリント回路基板であって、
複数の絶縁層及び第1回路を含む第1積層体と、
前記第1積層体に形成され、前記第1積層体の上面に開放されたキャビティと、
前記キャビティ内に積層された複数の樹脂層及び第2回路を含む第2積層体と、
前記第1積層体および前記第2積層体の上面に形成される第2の樹脂層と
を含み、
前記第1回路は、前記キャビティにより露出される接続パッドを含み、
前記第2積層体は、最下層に位置する前記樹脂層を貫通し、前記接続パッドと接触する接続ビアを含み、
前記第2回路は、複数の素子実装部に電気的に接続
前記第1積層体の最外層に位置した前記絶縁層には、ビアホールが形成され、
前記ビアホール内には、ビアが形成され、
前記第2の樹脂層は、前記ビアを取り囲むように前記ビアホールの内部を充填するプリント回路基板。
A printed circuit board comprising a plurality of element mounting parts,
a first laminate including a plurality of insulating layers and a first circuit;
a cavity formed in the first laminate and open to the upper surface of the first laminate;
a second laminate including a plurality of resin layers laminated in the cavity and a second circuit;
a second resin layer formed on the upper surfaces of the first laminate and the second laminate;
including
the first circuit includes connection pads exposed by the cavity;
the second laminate includes a connection via that penetrates the resin layer located at the bottom and contacts the connection pad;
the second circuit is electrically connected to the plurality of element mounting portions;
A via hole is formed in the insulating layer positioned as the outermost layer of the first laminate,
a via is formed in the via hole,
The printed circuit board , wherein the second resin layer surrounds the via and fills the inside of the via hole .
前記第2積層体の上面は、前記第1積層体の上面の高さ以下に位置し、the top surface of the second laminate is positioned below the height of the top surface of the first laminate;
前記第2の樹脂層は、前記キャビティの内部を充填するように前記第2積層体上に積層される請求項1に記載のプリント回路基板。2. The printed circuit board according to claim 1, wherein the second resin layer is laminated on the second laminate so as to fill the inside of the cavity.
前記第2回路の一部は、前記複数の素子実装部を互いに電気的に接続する請求項1または2に記載のプリント回路基板。 3. The printed circuit board according to claim 1 , wherein a portion of said second circuit electrically connects said plurality of element mounting portions to each other. 前記第2回路の一部は、いずれか1つの前記素子実装部と前記接続ビアとを電気的に接続する請求項1~3の何れか一項に記載のプリント回路基板。 4. The printed circuit board according to claim 1, wherein a part of said second circuit electrically connects one of said element mounting portions and said connection via. 前記樹脂層は、感光性樹脂を含む請求項1~の何れか一項に記載のプリント回路基板。 The printed circuit board according to any one of claims 1 to 4 , wherein the resin layer contains a photosensitive resin. 前記樹脂層の厚さは、前記絶縁層の厚さよりも小さい請求項1~の何れか一項に記載のプリント回路基板。 The printed circuit board according to any one of claims 1 to 5 , wherein the thickness of the resin layer is smaller than the thickness of the insulating layer. 前記第1回路の回路幅は、前記第2回路の回路幅よりも大きい請求項1~の何れか一項に記載のプリント回路基板。 The printed circuit board according to any one of claims 1 to 6 , wherein the circuit width of the first circuit is larger than the circuit width of the second circuit. 前記第1積層体の最上層に位置する前記第1回路は、最上層に位置した前記絶縁層の上面に埋め込まれた請求項1~の何れか一項に記載のプリント回路基板。 The printed circuit board according to any one of claims 1 to 7 , wherein the first circuit located on the uppermost layer of the first laminate is embedded in the upper surface of the insulating layer located on the uppermost layer. 前記第1積層体の最上層に位置する前記第1回路は、最上層に位置した前記絶縁層よりも突出した請求項1~7の何れか一項に記載のプリント回路基板。 The printed circuit board according to any one of claims 1 to 7, wherein the first circuit positioned on the uppermost layer of the first laminate protrudes from the insulating layer positioned on the uppermost layer. 前記第2の樹脂層上に積層されるソルダーレジスト層をさらに含む請求項1~9の何れか一項に記載のプリント回路基板。 10. The printed circuit board according to claim 1, further comprising a solder resist layer laminated on said second resin layer. 前記第2の樹脂層上に形成され、前記第2回路に電気的に接続する第3回路をさらに含む請求項1~9の何れか一項に記載のプリント回路基板。 The printed circuit board according to any one of claims 1 to 9 , further comprising a third circuit formed on said second resin layer and electrically connected to said second circuit. 前記第1積層体及び前記第2積層体の上に積層されるソルダーレジスト層をさらに含む請求項1~11の何れか一項に記載のプリント回路基板。 The printed circuit board according to any one of claims 1 to 11 , further comprising a solder resist layer laminated on the first laminate and the second laminate. 前記ソルダーレジスト層を貫通して前記素子実装部を提供する金属ポストをさらに含む請求項12に記載のプリント回路基板。 13. The printed circuit board of claim 12 , further comprising a metal post penetrating the solder resist layer to provide the device mounting portion. 前記金属ポストは、
前記ソルダーレジスト層を貫通するポストビアと、
前記ソルダーレジスト層よりも突出して前記ポストビア上に形成されるポストパッドと、を含む請求項13に記載のプリント回路基板。
The metal post is
a post via penetrating through the solder resist layer;
14. The printed circuit board of claim 13 , further comprising a post pad formed on the post via projecting from the solder resist layer.
JP2019108655A 2018-12-17 2019-06-11 printed circuit board Active JP7283027B2 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2018-0163424 2018-12-17
KR1020180163424A KR102679997B1 (en) 2018-12-17 2018-12-17 Printed circuit board

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020098898A JP2020098898A (en) 2020-06-25
JP7283027B2 true JP7283027B2 (en) 2023-05-30

Family

ID=71106891

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019108655A Active JP7283027B2 (en) 2018-12-17 2019-06-11 printed circuit board

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP7283027B2 (en)
KR (1) KR102679997B1 (en)
TW (1) TWI801600B (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102628149B1 (en) * 2020-11-27 2024-01-24 주식회사 심텍 Printed circuit board with bridge pattern and method of manufacturing the same

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011159855A (en) 2010-02-02 2011-08-18 Panasonic Corp Partially multilayer printed circuit board, and method of manufacturing the same
JP2013183015A (en) 2012-03-01 2013-09-12 Fujikura Ltd Electronic component containing multilayer wiring board and method for manufacturing the same
US20140049928A1 (en) 2012-08-17 2014-02-20 Taiyo Yuden Co., Ltd. Substrate with built-in electronic component
JP2016081961A (en) 2014-10-10 2016-05-16 イビデン株式会社 Multilayer wiring board and method of manufacturing the same
JP2016122790A (en) 2014-12-25 2016-07-07 イビデン株式会社 Multilayer wiring board
JP2017505539A (en) 2014-02-26 2017-02-16 インテル コーポレイション Embedded multi-device bridge with through-bridge conductive via signal connection

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100367491C (en) * 2004-05-28 2008-02-06 日本特殊陶业株式会社 Intermediate substrate
US8754514B2 (en) * 2011-08-10 2014-06-17 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Multi-chip wafer level package
JP6208411B2 (en) * 2012-06-15 2017-10-04 新光電気工業株式会社 Wiring board and manufacturing method thereof

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011159855A (en) 2010-02-02 2011-08-18 Panasonic Corp Partially multilayer printed circuit board, and method of manufacturing the same
JP2013183015A (en) 2012-03-01 2013-09-12 Fujikura Ltd Electronic component containing multilayer wiring board and method for manufacturing the same
US20140049928A1 (en) 2012-08-17 2014-02-20 Taiyo Yuden Co., Ltd. Substrate with built-in electronic component
JP2017505539A (en) 2014-02-26 2017-02-16 インテル コーポレイション Embedded multi-device bridge with through-bridge conductive via signal connection
JP2016081961A (en) 2014-10-10 2016-05-16 イビデン株式会社 Multilayer wiring board and method of manufacturing the same
JP2016122790A (en) 2014-12-25 2016-07-07 イビデン株式会社 Multilayer wiring board

Also Published As

Publication number Publication date
KR20200074718A (en) 2020-06-25
JP2020098898A (en) 2020-06-25
KR102679997B1 (en) 2024-07-02
TW202025872A (en) 2020-07-01
TWI801600B (en) 2023-05-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6803664B2 (en) Semiconductor package
US9406658B2 (en) Embedded component device and manufacturing methods thereof
KR100661297B1 (en) Rigid-flexible printed circuit board for package on package, and manufacturing method
US9917025B2 (en) Printed wiring board and method for manufacturing printed wiring board
JP5188426B2 (en) Semiconductor device, manufacturing method thereof, and electronic device
US9793200B2 (en) Printed wiring board
TWI479972B (en) Multi-layer flexible printed wiring board and manufacturing method thereof
TWI543676B (en) Printed circuit board and method of manufacturing the same
KR20100065635A (en) Integrated circuit package and method for fabricating the same
JP5048005B2 (en) Printed circuit board having metal bumps and manufacturing method thereof
US20120119377A1 (en) Wiring substrate, semiconductor device, and method of manufacturing wiring substrate
JP2016063130A (en) Printed wiring board and semiconductor package
KR20160032985A (en) Package board, method for manufacturing the same and package on package having the thereof
KR20150064976A (en) Printed circuit board and manufacturing method thereof
US20090071704A1 (en) Circuit board and method for fabricating the same
KR102306719B1 (en) Printed circuit board and method of manufacturing the same, and electronic component module
JP7283027B2 (en) printed circuit board
KR20170059536A (en) Cavity printed circuit board and method of manufacturing the same
JP5599860B2 (en) Manufacturing method of semiconductor package substrate
KR20150065029A (en) Printed circuit board, manufacturing method thereof and semiconductor package
CN110349934B (en) Circuit board, packaging structure and manufacturing method thereof
KR20160081272A (en) Printed circuit board and method of manufacturing the same
TWI778816B (en) Package structure with interconnection between chips and package method thereof
US20230137841A1 (en) Circuit carrier and manufacturing method thereof and package structure
KR101983266B1 (en) printed circuit board and method of manufacturing the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20211104

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20221027

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20221108

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230111

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230418

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230428

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7283027

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150