JP2011155183A - Method for manufacturing printed wiring board, apparatus for manufacturing printed wiring board, and printed wiring board - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To detect that a board and a member are set to be opposedly facing in a wrong direction. <P>SOLUTION: A method for manufacturing a printed circuit board has a process to set in a predetermined position a board body 1 in which a plurality of marks 13, 14 for position alignment formed in a processing region P that is in a relation of point symmetry which makes the center of the processing region P of a main plane 1A of the board body 1 in which the relative position is set with members 20, 30, as a symmetry point Q, or that is in a relation of line symmetry which makes straight lines including middle point of two facing sides of the processing region and the symmetry point Q as symmetry axes Ra, Rb and marks 11, 12 for determining front and rear formed in a non-symmetry region that is not in the relation of point symmetry and is not in the relation of line symmetry with either of these are formed, a process to set the members 20, 30 in which marks 21, 32 for determining member side front and rear are formed in an opposedly facing position of the marks 11, 12 for determining front and rear in the opposedly facing position of the board body 1, and a process to determine whether the opposedly facing direction of the members 20, 30 and the board body 1 is correct or wrong based on the position relation of the marks 11, 12 for front and rear determination and marks 21, 32 for member side front and rear determination. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、プリント配線基板の主面に部材を用いて処理が行われるプリント配線基板の製造方法、プリント配線基板の製造装置及びプリント配線基板に関する。   The present invention relates to a printed wiring board manufacturing method, a printed wiring board manufacturing apparatus, and a printed wiring board in which processing is performed using a member on a main surface of the printed wiring board.

プリント基板に設けられたアライメントマークをCCDカメラにより撮像するとともに、フォトマスクに設けられたマスクアライメントマークをCCDカメラにより撮像し、両者の位置を比較してフォトマスクと基板との位置合わせを行う手法が知られている(特許文献1)。   A method in which the alignment mark provided on the printed circuit board is imaged with a CCD camera, and the mask alignment mark provided on the photomask is imaged with a CCD camera, and the positions of the two are compared to align the photomask and the substrate. Is known (Patent Document 1).

特開2002−333721号公報JP 2002-333721 A

ところで、フォトマスクなどの部材を用いてプリント配線基板の主面に処理を行う場合には、プリント配線基板と部材の向きと位置の両方を正しくセットする必要があり、作業者が基板又は部材の向き(表裏及び/又は上下左右の方向)を間違えると、接点や回路の位置がずれるため、所望のプリント配線基板を得ることができない。   By the way, when processing the main surface of the printed wiring board using a member such as a photomask, it is necessary to set both the printed wiring board and the orientation and position of the member correctly, and the operator can set the board or member. If the orientation (front and back and / or up / down / left / right directions) is wrong, the positions of the contacts and the circuit are shifted, and a desired printed wiring board cannot be obtained.

また、部材を用いてプリント配線基板の両主面に処理を行う場合には、一方主面の加工を終えた後に基板を裏返して他方主面の処理を行うが、作業者が基板の表と裏を間違えると、基板と部材が誤った組み合わせでセットされたり、一方主面に重ねて接点や回路が形成されたりするので、所望のプリント配線基板を得ることができない。   In addition, when processing both main surfaces of the printed wiring board using members, after finishing the processing of one main surface, the substrate is turned over and the other main surface is processed. If the wrong side is used, the board and members are set in an incorrect combination, or contacts and circuits are formed on the main surface, so that a desired printed wiring board cannot be obtained.

同様に、部材を用いてプリント配線基板の両主面に処理を行う場合に、作業者が基板を裏返す方向を間違えると、基板が誤った向きでセットされるため、一方主面に形成された接点や回路の位置と他方主面に形成された接点や回路の位置がずれるので、所望のプリント配線基板を得ることができない。   Similarly, when processing is performed on both main surfaces of the printed wiring board using members, if the operator turns the board upside down, the board is set in the wrong direction, so it is formed on one main surface. Since the position of the contact or circuit is shifted from the position of the contact or circuit formed on the other main surface, a desired printed wiring board cannot be obtained.

しかしながら、こうしたヒューマンエラーの発生を完全に防ぐことは困難であり、ヒューマンエラーが発生した場合には所望のプリント配線基板を得ることができず、基板や処理に用いられた材料や処理作業に費やされた労力などが無駄になるという問題がある。   However, it is difficult to completely prevent the occurrence of such a human error. When a human error occurs, a desired printed wiring board cannot be obtained, and the materials used for the substrate and processing and the processing work are not required. There is a problem that the labor done is wasted.

ちなみに、接点や回路の位置ずれを防ぐためにアライメントマークを基板に設けることが行われている。しかし、アライメントマークが基板の中心に対して点対称又は基板の中心線に対して線対称に設けられている場合には、基板と部材の向きに誤りがあってもアライメントマークの位置は変わらない。したがって、基板と部材が誤った向きでセットされたことを検知することができないという不都合がある。   Incidentally, an alignment mark is provided on the substrate in order to prevent displacement of contacts and circuits. However, when the alignment mark is provided with point symmetry with respect to the center of the substrate or line symmetry with respect to the center line of the substrate, the position of the alignment mark does not change even if the orientation of the substrate and the member is incorrect. . Therefore, there is an inconvenience that it cannot be detected that the board and the member are set in the wrong direction.

本発明が解決しようとする課題は、基板や部材が誤った向きでセットされたことを検知できるプリント配線基板の製造方法とその製造装置及びプリント配線基板を提供することである。   The problem to be solved by the present invention is to provide a printed wiring board manufacturing method, a manufacturing apparatus thereof, and a printed wiring board capable of detecting that a board or member is set in an incorrect direction.

本発明は、プリント配線基板の基板本体の主面に部材を用いて処理が行われるプリント配線基板の製造方法であって、前記部材と相対位置が設定される前記基板本体の主面の処理領域の中心を対称点とする点対称、又は前記対称点と前記処理領域の対向する2辺の中点とを含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に形成された複数の位置合わせ用マークと、前記位置合わせ用マークのいずれとも前記点対称の関係及び前記線対称の関係に無い非対称領域に一つ以上の表裏判定用マークと、が形成された基板本体を所定の位置にセットする工程と、前記基板本体の表裏判定用マークに応じた位置に部材側表裏判定用マークが形成された前記部材を、前記基板本体の対向位置にセットする工程と、前記表裏判定用マークと前記部材側表裏判定用マークとの位置関係に基づいて、前記基板本体と部材の相対向きの正誤を判定する判定工程と、を有するプリント配線基板の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。   The present invention is a method for manufacturing a printed wiring board in which processing is performed using a member on a main surface of a substrate body of the printed wiring board, and a processing region of the main surface of the substrate body in which a relative position is set with the member A plurality of positions formed in a symmetric region having a point symmetry with the center of the point of symmetry, or a line symmetric relationship with a straight line including the symmetry point and a midpoint of two opposite sides of the processing region as a symmetry axis A substrate body on which an alignment mark and at least one front / back determination mark are formed in an asymmetric region that is not in the point-symmetrical relationship or the line-symmetrical relationship with any of the alignment marks is placed at a predetermined position. A step of setting, a step of setting the member on which a member-side front / back determination mark is formed at a position corresponding to the front / back determination mark of the substrate body at a position opposed to the substrate body, and the front / back determination mark; The member side Based on the positional relationship between the back judgment marks, by providing a method for manufacturing a printed wiring board having a determination step of determining relative orientation of correctness of the substrate main body and the member, to solve the above problems.

上記発明において、前記表裏判定用マークは、前記基板本体に貫通孔を設けることにより形成され、前記部材には、前記基板本体の表裏判定用マークに応じた位置に前記貫通孔の直径よりも小さい遮光性の部材側表裏判定用マークが形成されており、前記判定工程は、前記基板本体の、前記表裏判定用マークの前記表裏判定用マークを含む領域を撮像する工程と、前記撮像された画像に含まれる前記表裏判定用マークの像と部材側表裏判定用マークの像に基づいて、前記基板本体と部材との相対向きの正誤を判定する工程とを有するようにすることができる。 In the above invention, the front / back determination mark is formed by providing a through hole in the substrate body, and the member is smaller than the diameter of the through hole at a position corresponding to the front / back determination mark of the substrate body. A light-shielding member-side front / back determination mark is formed, and the determination step includes a step of imaging a region of the substrate body including the front / back determination mark of the front / back determination mark, and the captured image. And determining the correctness of the relative orientation between the substrate body and the member based on the image of the front / back determination mark and the image of the member-side front / back determination mark included in the table.

上記発明において、前記表裏判定用マークは、前記基板本体に貫通孔を設けることにより形成され、前記部材には、前記基板本体の前記表裏判定用マークに応じた位置に透光性又は遮光性の部材側表裏判定用マークが形成されるとともに、当該透光性又は遮光性の部材側表裏判定用マークに対して、前記基板本体と相対位置が設定される前記部材の処理領域の中心を対称点とする点対称、若しくは前記対称点と前記処理領域の対向する2辺の中点とを含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に、前記表裏判定用マークに応じた位置の部材側表裏判定用マークとは逆の遮光性又は透光性の部材側表裏判定用マークが形成され、前記判定工程は、前記基板本体の、前記表裏判定用マークに光を照射する工程と、前記表裏判定用マークに光を照射したときに、前記表裏判定用マークを通過する光を検出する工程と、前記光の検出結果に基づいて、前記基板本体と部材との相対向きの正誤を判定する工程と、を含むようにすることができる。 In the above invention, the front / back determination mark is formed by providing a through-hole in the substrate body, and the member has a translucent or light-shielding property at a position corresponding to the front / back determination mark of the substrate body. A member-side front / back determination mark is formed, and the center of the processing area of the member where the relative position to the substrate body is set with respect to the translucent or light-shielding member-side front / back determination mark is a symmetric point Or a symmetrical region having a line-symmetrical relationship with the symmetry point and a straight line including the midpoints of the two opposite sides of the processing region as the symmetry axis. A light-blocking or translucent member-side front / back determination mark opposite to the member-side front / back determination mark is formed, and the determination step includes irradiating the front / back determination mark of the substrate body with light, Front / back determination mark A step of detecting light passing through the front / back determination mark when irradiated with light, and a step of determining whether the relative direction between the substrate body and the member is correct based on the detection result of the light. Can be.

上記発明において、前記部材には、前記基板本体の位置合わせ用マークに応じた位置に部材側位置合わせ用マークが形成されており、前記部材を前記基板本体の対向位置にセットする工程の後に、前記位置合わせ用マークと前記部材側位置合わせ用マークとの位置関係に基づいて、前記基板本体と部材との相対位置の適否を判定する工程と、を有するようにすることができる。 In the above invention, a member-side alignment mark is formed on the member at a position corresponding to the alignment mark of the substrate body, and after the step of setting the member at a position facing the substrate body, And determining whether or not the relative position between the substrate body and the member is appropriate based on the positional relationship between the alignment mark and the member-side alignment mark.

本発明は、プリント配線基板の基板本体の主面に部材を用いた処理を行うプリント配線基板の製造装置であって、前記部材と相対位置が設定される前記基板本体の主面の処理領域の中心を対称点とする点対称、又は前記対称点と前記処理領域の対向する2辺の中点とを含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に形成された複数の位置合わせ用マークと、前記位置合わせ用マークのいずれとも前記点対称の関係及び前記線対称の関係に無い非対称領域に一つ以上の表裏判定用マークが形成された基板本体を、所定の位置に保持する第1保持手段と、前記基板本体の表裏判定用マークに応じた位置に部材側表裏判定用マークが形成された前記部材を、前記基板本体の対向位置に保持する第2保持手段と、前記表裏判定用マークと前記部材側表裏判定用マークとの位置関係に基づいて、前記基板本体と部材の相対向きの正誤を判定する表裏判定手段と、を有するプリント配線基板の製造装置を提供することにより、上記課題を解決することができる。   The present invention is a printed wiring board manufacturing apparatus that performs processing using a member on a main surface of a substrate body of a printed wiring board, and a processing region of a main surface of the substrate body in which a relative position to the member is set. A plurality of alignments formed in a symmetric region having a point symmetry with a center as a symmetric point, or a line symmetric relationship with a straight line including the symmetric point and a midpoint of two opposite sides of the processing region as a symmetric axis A substrate body on which one or more front / back determination marks are formed in an asymmetric region that is not in the point-symmetrical relationship or the line-symmetrical relationship with either the mark for positioning or the alignment mark is held at a predetermined position. A first holding means; a second holding means for holding the member on which the member side front / back determination mark is formed at a position corresponding to the front / back determination mark of the substrate main body at a position opposed to the substrate main body; Judgment mark and the above The printed circuit board manufacturing apparatus according to the present invention solves the above-mentioned problems by providing a front and back judgment means for judging whether the relative orientation of the board body and the member is correct based on the positional relationship with the material side front and back judgment marks. can do.

上記発明において、前記表裏判定用マークは、前記基板本体に貫通孔を設けることにより形成され、前記部材には、前記基板本体の表裏判定用マークに応じた位置に前記貫通孔の直径よりも小さい遮光性の部材側表裏判定用マークが形成されており、前記判定手段は、前記基板本体の、前記表裏判定用マークの前記表裏判定用マークを含む領域を撮像するカメラと、前記撮像された画像に含まれる前記表裏判定用マークの像と部材側表裏判定用マークの像に基づいて、前記基板本体と部材との相対向きの正誤を判定する表裏判定部と、を有するようにすることができる。 In the above invention, the front / back determination mark is formed by providing a through hole in the substrate body, and the member is smaller than the diameter of the through hole at a position corresponding to the front / back determination mark of the substrate body. A light-shielding member-side front / back determination mark is formed, and the determination unit includes a camera that captures an area of the substrate body including the front / back determination mark of the front / back determination mark, and the captured image. A front / back determination unit that determines whether the relative orientation of the substrate body and the member is correct based on the image of the front / back determination mark and the image of the member-side front / back determination mark included in .

上記発明において、プリント配線基板の製造前記表裏判定用マークと対向する第1の位置と、前記位置合わせ用マークと対向する第2の位置との間で、前記カメラを往復移動させる移動機構をさらに備えるようにすることができる。 In the above invention, there is further provided a moving mechanism for reciprocating the camera between a first position facing the front / back determination mark and a second position facing the alignment mark. Can be provided.

上記発明において、前記表裏判定用マークは、前記基板本体に貫通孔を設けることにより形成され、前記部材には、前記基板本体の前記表裏判定用マークに応じた位置に透光性又は遮光性の部材側表裏判定用マークが形成されるとともに、当該透光性又は遮光性の部材側表裏判定用マークに対して、前記基板本体と相対位置が設定される前記部材の処理領域の中心を対称点とする点対称、若しくは前記対称点と前記処理領域の対向する2辺の中点とを含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に、前記表裏判定用マークに応じた位置の部材側表裏判定用マークとは逆の遮光性又は透光性の部材側表裏判定用マークが形成され、前記判定手段は、前記基板本体の、前記表裏判定用マークに光を照射する照射装置と、前記表裏判定用マークに光を照射したときに、前記表裏判定用マークを通過する光を検出する透光センサと、前記光の検出結果に基づいて、前記基板本体と部材との相対向きの正誤を判定する表裏判定部と、を含むようにすることができる。 In the above invention, the front / back determination mark is formed by providing a through-hole in the substrate body, and the member has a translucent or light-shielding property at a position corresponding to the front / back determination mark of the substrate body. A member-side front / back determination mark is formed, and the center of the processing area of the member where the relative position to the substrate body is set with respect to the translucent or light-shielding member-side front / back determination mark is a symmetric point Or a symmetrical region having a line-symmetrical relationship with the symmetry point and a straight line including the midpoints of the two opposite sides of the processing region as the symmetry axis. A light-shielding or translucent member-side front / back determination mark opposite to the member-side front / back determination mark is formed, and the determination unit includes an irradiation device that irradiates the front / back determination mark of the substrate body with light. , The front and back judgment A light transmission sensor that detects light passing through the front and back determination marks when light is irradiated to the front and back, and based on the detection result of the light, determines whether the relative orientation of the substrate body and the member is correct or incorrect And a determination unit.

上記発明において、前記部材には、前記基板本体の位置合わせ用マークに応じた位置に部材側位置合わせ用マークが形成されており、前記判定手段は、前記部材を前記基板本体の対向位置にセットした状態における、前記位置合わせ用マークと前記部材側位置合わせ用マークとの位置関係に基づいて、前記基板本体と部材との相対位置の適否を判定する位置判定部をさらに有するようにすることができる。 In the above invention, the member is formed with a member-side alignment mark at a position corresponding to the alignment mark of the substrate body, and the determination means sets the member at a position facing the substrate body. A position determination unit that determines whether the relative position between the substrate body and the member is appropriate based on a positional relationship between the alignment mark and the member-side alignment mark in the state of it can.

本発明は、基板本体を備え、前記基板本体が、前記部材と相対位置が設定される前記基板本体の主面の処理領域の中心を対称点とする点対称、又は前記対称点と前記処理領域の対向する2辺の中点と、を含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に形成された複数の位置合わせ用マークと、前記位置合わせ用マークのいずれとも前記点対称の関係及び前記線対称の関係に無い非対称領域に一つ以上の表裏判定用マークと、を有するプリント配線基板を提供することにより、上記課題を解決することができる。 The present invention includes a substrate body, and the substrate body is point-symmetric with respect to the center of the processing region of the main surface of the substrate body, the relative position of which is set with the member, or the symmetry point and the processing region. A plurality of alignment marks formed in a symmetrical region having a line symmetry with a straight line including the midpoint of the two opposite sides of the line, and both of the alignment marks are point-symmetric The above problem can be solved by providing a printed wiring board having one or more front / back determination marks in an asymmetric region that does not have the relationship and the line symmetry.

本発明では、基板本体の主面の処理領域に複数の位置合わせ用マークのいずれとも非対称な非対称領域に設けられた表裏判定用マークと、表裏判定用マークに応じた位置に部材側に設けられた部材側表裏判定用マークとの位置関係に基づいて、基板本体と部材の向きの正誤を判定することができる。 In the present invention, a front / back determination mark provided in an asymmetric area that is asymmetric with any of a plurality of alignment marks in the processing area of the main surface of the substrate body, and a position corresponding to the front / back determination mark are provided on the member side. The correctness of the orientation of the substrate body and the member can be determined based on the positional relationship with the member side front / back determination mark.

つまり、本発明に係る表裏判定用マークは非対称領域に設けられているので、基板本体の表裏や上下左右の配置方向を間違えると表裏判定用マークの位置が正規の検出位置に来ないし、位置合わせマークも表裏判定用マークの正規の検出位置には来ない。すなわち、基板本体と部材の向き(表裏及び/又は上下左右の方向、以下本明細書において同じ)が正しい場合は表裏判定用マークと部材側表裏判定用マークとが対向し、基板本体と部材の向きが誤っている場合は表裏判定用マークと部材側表裏判定用マークが対向せず、しかも位置合わせ用マークと部材側表裏判定用マークも対向しないので、この表裏判定用マークと部材側表裏判定用マークとの位置関係の違いを観察することにより、基板本体と部材の向きの正誤を検知することができる。その結果、人為的なミスによって基板本体と部材が誤った向きにセットされたことを検知することができる。 That is, since the front / back determination mark according to the present invention is provided in an asymmetric region, if the front / back and top / bottom / left / right arrangement directions of the substrate body are mistaken, the position of the front / back determination mark does not come to the normal detection position, and the alignment is performed. The mark does not come to the normal detection position of the front / back determination mark. That is, when the orientation of the substrate body and the member (front and back and / or up / down / left / right directions, hereinafter the same in this specification) is correct, the front / back determination mark and the member side front / back determination mark face each other. If the orientation is incorrect, the front / back determination mark and the member side front / back determination mark do not face each other, and the alignment mark and the member side front / back determination mark do not face each other. By observing the difference in positional relationship with the mark for use, it is possible to detect the correctness of the orientation of the substrate body and the member. As a result, it is possible to detect that the board body and the member are set in the wrong direction due to human error.

本発明の第1実施形態に係る露光装置の概要図である。1 is a schematic diagram of an exposure apparatus according to a first embodiment of the present invention. 図1の矢印II方向から見た基板本体とフォトマスクの図である。It is the figure of the board | substrate body seen from the arrow II direction of FIG. 1, and a photomask. 基板本体に設けられる位置合わせ用マークの配置例を示す図である。It is a figure which shows the example of arrangement | positioning of the mark for alignment provided in a board | substrate body. 図2のA領域に対応する基板本体の一方主面を示す図である。It is a figure which shows the one main surface of the board | substrate main body corresponding to A area | region of FIG. 図2のA領域に対応する基板本体の他方主面を示す図である。It is a figure which shows the other main surface of the board | substrate body corresponding to A area | region of FIG. 図4のA領域を覆うフォトマスクの一方主面を示す図である。It is a figure which shows the one main surface of the photomask which covers the A area | region of FIG. 図5のA領域を覆うフォトマスクの他方主面を示す図である。It is a figure which shows the other main surface of the photomask which covers A area | region of FIG. 図4のA領域に対応する基板本体及びフォトマスクの一方主面を示す図である。It is a figure which shows the one main surface of the substrate main body and photomask corresponding to A area | region of FIG. 図5のA領域に対応する基板本体及びフォトマスクの他方主面を示す図である。It is a figure which shows the other main surface of the board | substrate body and photomask corresponding to A area | region of FIG. 図8のX-X線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the XX line of FIG. 図9のXI-XI線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the XI-XI line of FIG. 表裏判定用マークを含む領域の撮像画像の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the captured image of the area | region containing the mark for front and back determination. フォトマスクの向きが誤ってセットされた場合の図8のX-X線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the XX line | wire of FIG. 8 when the direction of a photomask is set accidentally. 本発明の第2実施形態に係る基板本体及びフォトマスクの、図8のX-X線に沿う断面図に相当する断面図である。It is sectional drawing equivalent to sectional drawing which follows the XX line | wire of FIG. 8 of the substrate main body and photomask which concern on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態に係る基板本体及びフォトマスクの、図9のXI-XI線に沿う断面図に相当する断面図である。It is sectional drawing equivalent to sectional drawing which follows the XI-XI line | wire of FIG. 9 of the substrate main body and photomask which concern on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態に係る表裏判定用マークを含む領域の撮像画像の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the captured image of the area | region containing the mark for front and back determination which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態に係るフォトマスクの向きが誤ってセットされた場合の図8のX-X線に沿う断面図に相当する断面図である。It is sectional drawing equivalent to sectional drawing in alignment with the XX line of FIG. 8 when the direction of the photomask which concerns on 2nd Embodiment of this invention is set accidentally. 本発明の第3実施形態に係るフォトマスクの、部材側位置合わせ用マークと部材側表裏判定用マークの配置例(一方主面側を示す図である。It is a figure which shows the example of arrangement | positioning (one main surface side) of the member side alignment mark and the member side front / back determination mark of the photomask which concerns on 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態に係るフォトマスクの、部材側位置合わせ用マークと部材側表裏判定用マークの配置例(他方主面側)を示す図である。It is a figure which shows the example of arrangement | positioning (the other main surface side) of the member side alignment mark and the member side front / back determination mark of the photomask which concerns on 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態に係る基板本体の一方主面にフォトマスクが対向配置された状態を示す図である。It is a figure which shows the state by which the photomask was opposingly arranged by the one main surface of the board | substrate main body which concerns on 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態に係る基板本体の他方主面にフォトマスクが対向配置された状態を示す図である。It is a figure which shows the state by which the photomask was opposingly arranged by the other main surface of the board | substrate main body which concerns on 3rd Embodiment of this invention. 図20のXXII-XXII線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the XXII-XXII line | wire of FIG. 図21のXXIII-XXIII線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the XXIII-XXIII line of FIG. 本発明の第3実施形態に係るフォトマスクの表裏が誤ってセットされた場合の図20のXXII-XXII線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the XXII-XXII line | wire of FIG. 20 when the front and back of the photomask which concerns on 3rd Embodiment of this invention are set accidentally.

<第1実施形態>
以下、図面に基づいて本発明の第1実施形態に係るプリント配線基板の製造方法、プリント配線基板の製造装置、及びプリント配線基板を説明する。
<First Embodiment>
Hereinafter, a printed wiring board manufacturing method, a printed wiring board manufacturing apparatus, and a printed wiring board according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

本発明の第1実施形態に係るプリント配線基板の製造方法は、プリント配線基板の基板本体の主面に部材を用いて行われる処理工程を含むものである。本実施形態では、基板本体にフォトマスクを用いて露光処理工程を行う露光装置に、本発明に係るプリント配線基板の製造装置を適用した例を説明する。   The method for manufacturing a printed wiring board according to the first embodiment of the present invention includes a processing step performed using a member on the main surface of the board body of the printed wiring board. In the present embodiment, an example in which the printed wiring board manufacturing apparatus according to the present invention is applied to an exposure apparatus that performs an exposure process using a photomask on a substrate body will be described.

まず、本発明の第1実施形態に係る露光装置1000について説明する。 First, the exposure apparatus 1000 according to the first embodiment of the present invention will be described.

図1は、本発明の第1実施形態に係る露光装置1000の概要図である。本実施形態の露光装置1000は、ベースプレート101と、このベースプレート101上に設置された筐体102とを備えている。筐体102内には暗室102aが形成されており、その上面には露光処理のための照光装置140が設けられている。 FIG. 1 is a schematic diagram of an exposure apparatus 1000 according to the first embodiment of the present invention. The exposure apparatus 1000 according to this embodiment includes a base plate 101 and a housing 102 installed on the base plate 101. A dark room 102a is formed in the housing 102, and an illumination device 140 for exposure processing is provided on the upper surface thereof.

本実施形態の露光装置1000は、帯状の基板本体1を所定の搬送方向Tに沿って搬送する搬送装置103を備えている。搬送装置103は、帯状の基板本体1を搬送方向Tに沿って送り出す送り出しローラ104と、送り出された帯状の基板本体1を巻き取る巻き取りローラ105と、帯状の基板本体1に搬送のための力を作用させる駆動ローラ107と、送り出しローラ104と巻き取りローラ105との間の搬送経路に沿って帯状の基板本体1を支持するガイドローラ106a〜106lとを備えている。これらの送り出しローラ104、巻き取りローラ105、駆動ローラ107、及びガイドローラ106a〜106lは、帯状の基板本体1を保持する基板用フレーム(第1保持手段)110を構成する。ガイドローラ106eと106fは、基板本体1を所定の位置に保持する。 The exposure apparatus 1000 of this embodiment includes a transport apparatus 103 that transports the belt-shaped substrate body 1 along a predetermined transport direction T. The transport device 103 includes a feed roller 104 that feeds the strip-shaped substrate body 1 along the transport direction T, a take-up roller 105 that winds the fed strip-shaped substrate body 1, and a strip-shaped substrate body 1 for transport to the strip-shaped substrate body 1. A driving roller 107 that exerts a force, and guide rollers 106 a to 106 l that support the belt-like substrate body 1 along a conveyance path between the feeding roller 104 and the winding roller 105 are provided. These feed roller 104, take-up roller 105, drive roller 107, and guide rollers 106a to 106l constitute a substrate frame (first holding means) 110 that holds the belt-like substrate body 1. Guide rollers 106e and 106f hold the substrate body 1 in a predetermined position.

本実施形態における基板本体は、厚さが10μm〜250μmの可撓性を有するポリイミド(PI)などの絶縁性基材の両主面に、銅などの金属箔が張り付けられた導体張積層板である。絶縁性基材は、ポリエチレンテレフタレート(PET)やポリエチレンナフタレート(PEN)やポリエステル(PE)とすることができる。なお、搬送装置103により搬送される基板本体1の主面には感光材層が形成されている。 The substrate body in this embodiment is a conductor-clad laminate in which a metal foil such as copper is attached to both main surfaces of an insulating base material such as polyimide (PI) having a thickness of 10 μm to 250 μm. is there. The insulating substrate can be polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), or polyester (PE). Note that a photosensitive material layer is formed on the main surface of the substrate main body 1 conveyed by the conveying device 103.

また、本実施形態の露光装置1000は、フォトマスク20,30などの部材を保持するマスク用フレーム121と、このマスク用フレーム121を保持する第2保持手段120と、その位置を調節する位置調節装置130を備えている。本実施形態の位置調節装置130は、基板本体1の主面と平行に配置された第2保持手段120を移動させる駆動機構を有しており、図示しない制御装置の指令に基づいて、基板本体1に対する第2保持手段120の相対位置を調節する。これにより、マスク用フレーム121によって保持されているフォトマスク20,30などの部材を所望の位置にセットすることができる。 The exposure apparatus 1000 of this embodiment also includes a mask frame 121 that holds members such as the photomasks 20 and 30, second holding means 120 that holds the mask frame 121, and position adjustment that adjusts the position. A device 130 is provided. The position adjusting device 130 of this embodiment has a drive mechanism that moves the second holding means 120 arranged in parallel with the main surface of the substrate body 1, and based on a command from a control device (not shown), The relative position of the second holding means 120 with respect to 1 is adjusted. Thereby, members such as the photomasks 20 and 30 held by the mask frame 121 can be set at a desired position.

本実施形態では、基板本体1の一方主面の露光処理に用いられる第1フォトマスク20と、基板本体の他方主面の露光処理に用いられる第2フォトマスク30の2つの異なるフォトマスクが準備されている。本実施形態において、フォトマスク20,30は、ポリエチレンテレフタレートなどの樹脂製又はガラス製である。また、本実施形態のフォトマスク20,30は透明である。 In the present embodiment, two different photomasks are prepared: a first photomask 20 used for the exposure process on one main surface of the substrate body 1 and a second photomask 30 used for the exposure process on the other main surface of the substrate body. Has been. In the present embodiment, the photomasks 20 and 30 are made of resin such as polyethylene terephthalate or glass. Moreover, the photomasks 20 and 30 of this embodiment are transparent.

ちなみに、本実施形態における「部材」は、フォトマスク20,30以外にも、プリント配線基板の製造工程において基板本体1と相対位置が設定されるものを含む。たとえば、本実施形態で例示するフォトマスク20,30のように露光装置1000を含むプリント配線基板製造装置の製造用部材(治具を含む)に加えて、基板本体1を補強する補強板や、基板本体1の所定領域を保護するカバーレイなどの製品の部品や、製造工程において用いられるドライレジストなどの製品の加工用材料をも含む。 Incidentally, in addition to the photomasks 20 and 30, the “member” in the present embodiment includes a member whose relative position to the substrate body 1 is set in the printed wiring board manufacturing process. For example, in addition to the manufacturing members (including jigs) of the printed wiring board manufacturing apparatus including the exposure apparatus 1000 as in the photomasks 20 and 30 exemplified in the present embodiment, a reinforcing plate that reinforces the substrate body 1, It also includes product parts such as a cover lay for protecting a predetermined area of the substrate body 1 and product processing materials such as dry resist used in the manufacturing process.

本実施形態の搬送装置103は、駆動ローラ107を駆動させることにより、帯状の基板本体1が巻回された送り出しローラ104から基板本体1を搬送方向Tに沿って送り出す。送り出された基板本体1の他端側は巻き取りローラ105に巻き取られる。搬送装置103は、基板本体1の処理領域(本例では露光領域)がフォトマスク20,30に対向する位置に来たら駆動ローラ107を停止させる。 The transport apparatus 103 according to the present embodiment drives the driving roller 107 to feed the substrate body 1 along the transport direction T from the feed roller 104 around which the belt-like substrate body 1 is wound. The other end side of the sent substrate body 1 is taken up by the take-up roller 105. The transport device 103 stops the driving roller 107 when the processing area (the exposure area in this example) of the substrate body 1 comes to a position facing the photomasks 20 and 30.

また、本実施形態の露光装置1000は、第2保持手段120の上方に設けられたカメラ50を備えている。具体的に、本実施形態のカメラ50は、露光処理時において、後述する基板本体1の位置合わせ用マーク13,14や表裏判定用マーク11,12などのアライメントマークに応じた位置に設けられている。基板本体1の処理領域(本例では露光領域)がフォトマスク20,30に対向する位置に来たら、カメラ50は、フォトマスク20,30と基板本体1の各マークを含む所定領域を撮像する。このカメラ50の撮像した各マークの画像データに基づいて画像処理を行い、その結果に基づいてフォトマスク20,30と基板本体1との位置合わせをすることができる。 In addition, the exposure apparatus 1000 of this embodiment includes a camera 50 provided above the second holding unit 120. Specifically, the camera 50 of the present embodiment is provided at a position corresponding to alignment marks such as alignment marks 13 and 14 and front and back determination marks 11 and 12 of the substrate body 1 described later during the exposure process. Yes. When the processing area (exposure area in this example) of the substrate body 1 comes to a position facing the photomasks 20 and 30, the camera 50 captures a predetermined area including the marks of the photomasks 20 and 30 and the substrate body 1. . Image processing is performed based on the image data of each mark imaged by the camera 50, and the photomasks 20, 30 and the substrate body 1 can be aligned based on the result.

図2は、基板本体1の処理領域Pがフォトマスク20,30に対向する位置に来たときに、図1の矢印II方向から見た基板とフォトマスク20,30を示す図である。図2に示すように、帯状の基板本体1の長手方向には露光処理がされる複数の処理領域Pが所定間隔で形成されており、搬送装置103によって、順次フォトマスク20,30に対向する位置に送り出される。なお、本実施形態では、複数の処理領域Pが連続して設けられた帯状の基板本体1を処理する例を説明するが、一つの処理領域のみが設けられた基板本体1をバッチ処理する場合でも本実施形態に係る手法を適用することができる。 FIG. 2 is a view showing the substrate and the photomasks 20 and 30 viewed from the direction of arrow II in FIG. 1 when the processing region P of the substrate body 1 comes to a position facing the photomasks 20 and 30. As shown in FIG. 2, a plurality of processing regions P to be exposed are formed at predetermined intervals in the longitudinal direction of the belt-shaped substrate body 1, and sequentially face the photomasks 20 and 30 by the transfer device 103. Sent to position. In the present embodiment, an example of processing a band-shaped substrate body 1 in which a plurality of processing regions P are continuously provided will be described. However, batch processing is performed on the substrate body 1 in which only one processing region is provided. However, the method according to the present embodiment can be applied.

図2に示すように、基板本体1の処理領域Pの各頂点の近傍には4つの円形の第1位置合わせ用マーク13が形成されている(図4も参照)。なお、この裏面の同じ位置にも4つの円形の第2位置合わせ用マーク14が形成されている(図5も参照)。 As shown in FIG. 2, four circular first alignment marks 13 are formed in the vicinity of each vertex of the processing region P of the substrate body 1 (see also FIG. 4). Four circular second alignment marks 14 are also formed at the same position on the back surface (see also FIG. 5).

位置合わせ用マーク13,14の態様は特に限定されず、基板本体1の一方主面の所定位置に凹形状の第1位置合わせ用マーク13を形成するとともに、基板本体1の他方主面の所定位置に凹形状の第2位置合わせ用マーク14を別々に形成することができる。具体的には、基板本体1の表面の金属箔の所定領域をエッチング処理で除去することにより凹部を形成することができる。 The form of the alignment marks 13, 14 is not particularly limited, and the concave first alignment mark 13 is formed at a predetermined position on one main surface of the substrate body 1 and the predetermined on the other main surface of the substrate body 1. The concave second positioning marks 14 can be separately formed at the positions. Specifically, the concave portion can be formed by removing a predetermined region of the metal foil on the surface of the substrate body 1 by an etching process.

また、基板本体1の所定位置に貫通孔を設けて第1位置合わせ用マーク13と第2位置合わせ用マーク14を同時に形成することができる。具体的には、ドリルやレーザを用いて基板本体1の所定位置を穿孔することにより貫通孔を形成することができる。   Further, the first alignment mark 13 and the second alignment mark 14 can be formed simultaneously by providing a through-hole at a predetermined position of the substrate body 1. Specifically, the through hole can be formed by drilling a predetermined position of the substrate body 1 using a drill or a laser.

図2の位置合わせ用マーク13,14の内側に示された部材側位置合わせ用マーク23,34は、フォトマスク20,30に設けられた位置合わせ用のマークである(図7,8も参照)。なお、フォトマスク20,30は、所定のレジストパターンが形成された処理領域を有しており、この処理領域は基板本体1の処理領域PとXY座標において同じ位置に設定されている。   The member-side alignment marks 23 and 34 shown inside the alignment marks 13 and 14 in FIG. 2 are alignment marks provided on the photomasks 20 and 30 (see also FIGS. 7 and 8). ). Note that the photomasks 20 and 30 have a processing region where a predetermined resist pattern is formed, and this processing region is set at the same position in the XY coordinates as the processing region P of the substrate body 1.

次に、図3に基づいて、基板本体1に設けられた位置合わせ用マーク13,14について説明する。図3は、位置合わせ用マーク13,14の配置例を示す図である。 Next, the alignment marks 13 and 14 provided on the substrate body 1 will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a diagram illustrating an arrangement example of the alignment marks 13 and 14.

図3に示すように、本実施形態の位置合わせ用マーク13,14は、フォトマスク20,30と相対位置が設定される基板本体1の主面の処理領域Pの中心を対称点Qとする点対称、又は対称点Qと処理領域Pの対向する2辺の中点とを含む直線を対称軸Ra,Rbとする線対称の関係にある対称領域に形成されている。   As shown in FIG. 3, the alignment marks 13 and 14 of the present embodiment have a symmetry point Q at the center of the processing region P of the main surface of the substrate body 1 where the relative position to the photomasks 20 and 30 is set. It is formed in a symmetric region having a point symmetry or a line symmetric relationship in which a straight line including the symmetry point Q and the midpoint of two opposite sides of the processing region P is a symmetry axis Ra and Rb.

本実施形態では、複数の位置合わせ用マーク13,14を設けることが好ましく、これら複数の位置合わせ用マーク13,14は点対称又は線対称の関係にある一群のマーク群として構成される。図3は、位置合わせ用マーク13,14を設けることが可能な候補位置を例示するものであり、上記関係にある位置であれば図3の態様に限定されず、その数も限定されない。 In the present embodiment, it is preferable to provide a plurality of alignment marks 13 and 14, and the plurality of alignment marks 13 and 14 are configured as a group of marks having a point-symmetric or line-symmetric relationship. FIG. 3 exemplifies candidate positions where the alignment marks 13 and 14 can be provided, and the position is not limited to the mode shown in FIG.

一般に、位置合わせ用マーク13,14は、互いに点対称又は線対称の位置に設けられるが、これは以下の理由による。フォトマスク20,30などの部材を用いて処理を行う場合、ワーク(基板本体1の処理領域P)の中心を基準に位置決めがなされることが望ましい。しかし、ワークの中心にアライメントマークを設けるわけにはいかないので、幾何学的にワークの中心を求めることができる位置合わせ用マーク13,14群を設定しなければならない。そうすると、位置合わせ用マーク13,14群は、ワークの中心や中心を通る軸に対して点対称又は線対称の位置に必然的に設定されることになる。 In general, the alignment marks 13 and 14 are provided at positions that are point-symmetric or line-symmetric with respect to each other, for the following reason. When processing is performed using members such as the photomasks 20 and 30, it is desirable that positioning be performed with reference to the center of the workpiece (processing area P of the substrate body 1). However, since it is impossible to provide an alignment mark at the center of the workpiece, it is necessary to set a group of alignment marks 13 and 14 that can geometrically determine the center of the workpiece. Then, the alignment marks 13 and 14 group are necessarily set at a point-symmetrical or line-symmetrical position with respect to the center of the workpiece and an axis passing through the center.

さらに、基板本体1の位置合わせ用マーク13,14の近傍には、基板本体1とフォトマスク20,30の相対向きを判定するための表裏判定用マーク11,12が形成されている。これら表裏判定用マーク11,12の内側に示された、部材側表裏判定用マーク21,32は、フォトマスク20,30に設けられた表裏判定に用いられるマークである。ちなみに、本実施形態における基板本体1とフォトマスク20,30の「相対向きの正誤」とは、対向配置されるフォトマスク(部材)20,30と基板本体1とが向き合う面の表裏の正誤、及び対向配置されるフォトマスク(部材)20,30と基板本体1との上下左右の方向の正誤のいずれをも含む概念である。 Further, front and back determination marks 11 and 12 for determining the relative orientation of the substrate body 1 and the photomasks 20 and 30 are formed in the vicinity of the alignment marks 13 and 14 of the substrate body 1. The member side front / back determination marks 21, 32 shown inside the front / back determination marks 11, 12 are marks used for front / back determination provided on the photomasks 20, 30. Incidentally, the “correction of relative orientation” between the substrate main body 1 and the photomasks 20 and 30 in this embodiment is the correctness of the front and back of the surface where the photomasks (members) 20 and 30 and the substrate main body 1 facing each other face each other. In addition, this is a concept that includes both right and left directions of the photomasks (members) 20 and 30 and the substrate body 1 that are disposed to face each other.

フォトマスク20,30が基板本体1の対向位置にセットされたときに、照光装置140が基板本体1の主面に光を照射する。これにより、基板本体1の主面に塗布された感光材が露光される。この露光処理により、フォトマスク20,30にそれぞれ描かれたパターンが基板本体1の主面に転写され、アルカリ性水溶液で現像処理が可能なレジストが形成される。 When the photomasks 20 and 30 are set at positions facing the substrate body 1, the illumination device 140 irradiates the main surface of the substrate body 1 with light. Thereby, the photosensitive material applied to the main surface of the substrate body 1 is exposed. By this exposure process, the patterns drawn on the photomasks 20 and 30 are transferred to the main surface of the substrate body 1 to form a resist that can be developed with an alkaline aqueous solution.

ちなみに、本実施形態の露光装置1000は、基板本体1の両主面に処理を行う装置である。まず、露光装置1000は、基板本体1の一方主面に一方主面用の第1フォトマスク(第1部材)20を用いて第1処理を行う。次に、作業者が、第1処理がされて巻き取りローラ105に巻き取られた基板本体1を、処理面の表裏が反対になるように裏返して、再び送り出しローラ104にセットする。さらに、作業者は、一方主面用の第1フォトマスク20を、他方主面用の第2フォトマスク30に取り換える。その後、露光装置1000は、再度、基板本体1の他方主面に第2フォトマスク(第2部材)30を用いて第2処理を行う。   Incidentally, the exposure apparatus 1000 of this embodiment is an apparatus that performs processing on both main surfaces of the substrate body 1. First, the exposure apparatus 1000 performs a first process using a first photomask (first member) 20 for one main surface on one main surface of the substrate body 1. Next, the operator turns over the substrate body 1 that has been subjected to the first processing and has been taken up by the take-up roller 105 so that the front and back of the processing surface are opposite to each other, and sets the substrate body 1 on the feed roller 104 again. Further, the operator replaces the first photomask 20 for one main surface with the second photomask 30 for the other main surface. After that, the exposure apparatus 1000 performs the second process again using the second photomask (second member) 30 on the other main surface of the substrate body 1.

作業者が、巻き取りローラ105を裏返して再び送り出しローラ104の位置にセットする場合に、基板本体1の向き(表裏及び/又は上下左右の方向)を間違えてセットしてしまう場合がある。このように、作業者が基板の表と裏を間違えると、基板と部材が誤った組み合わせでセットされたり、一方主面に重ねて接点や回路が形成されたりするので、所望のプリント配線基板を得ることができない。   When the operator turns the winding roller 105 upside down and sets it again at the position of the feeding roller 104, the orientation of the substrate body 1 (front and back and / or up / down / left / right directions) may be set incorrectly. In this way, if the operator mistakes the front and back of the board, the board and members are set in the wrong combination, or contacts and circuits are formed on one main surface, so the desired printed wiring board can be Can't get.

特に、基板本体1が帯状のものではなく、矩形のシート状のものである場合は、作業者がハンドリング中に基板本体1を回転させてしまい、基板本体1の上下左右の方向が変わってしまう場合がある。このように、作業者が基板又は部材の向き(表裏及び/又は上下左右の方向)を間違えると、接点や回路の位置がずれるため、所望のプリント配線基板を得ることができない。 In particular, when the substrate body 1 is not in the shape of a belt but in the form of a rectangular sheet, the operator rotates the substrate body 1 during handling, and the vertical and horizontal directions of the substrate body 1 change. There is a case. As described above, if the operator makes a mistake in the direction of the board or member (front and back and / or up / down / left / right directions), the positions of the contacts and the circuit are shifted, so that a desired printed wiring board cannot be obtained.

また、作業者が一方主面用の第1フォトマスク20と他方主面用の第2フォトマスク30とを取り違えてセットしても、接点や回路の位置がずれるため、所望のプリント配線基板を得ることができない   Also, even if the operator sets the first photomask 20 for one main surface and the second photomask 30 for the other main surface by mistake, the contact and circuit positions are shifted, so that a desired printed wiring board can be obtained. Can't get

この種のヒューマンエラーの発生を完全に防ぐことは困難である一方で、このようなヒューマンエラーが発生した場合には所望のプリント配線基板を得ることができず、基板や処理に用いられた材料や処理作業に費やされた労力などが無駄になるという大きな損失をもたらす。   While it is difficult to completely prevent the occurrence of this type of human error, if such a human error occurs, the desired printed wiring board cannot be obtained, and the material used for the substrate and processing And the labor spent on the processing work is lost.

このため、本実施形態では、ヒューマンエラーが発生した場合でも、表裏判定用マーク11,12及び部材側表裏判定用マーク21,32に基づいて、基板本体1と部材20,30の向き(表裏及び/又は上下左右の方向)の誤りを検知する方法及び装置を提案する。   For this reason, in the present embodiment, even when a human error occurs, the orientations (front and back and front and back) of the substrate body 1 and the members 20 and 30 are determined based on the front and back determination marks 11 and 12 and the member side front and back determination marks 21 and 32. A method and apparatus for detecting errors in (or up / down / left / right directions) is proposed.

以下において、本実施形態における基板本体1とフォトマスク20,30の相対位置の正誤及び相対向きの正誤を判定する手法を、図4〜13に基づいて説明する。 In the following, a method for determining whether the relative position of the substrate body 1 and the photomasks 20 and 30 in the present embodiment is correct and whether the relative orientation is correct or not will be described with reference to FIGS.

まず、図4及び図5に基づいて、基板本体1に設けられた位置合わせ用マーク13,14及び表裏判定用マーク11,12について説明する。 First, the alignment marks 13 and 14 and the front and back determination marks 11 and 12 provided on the substrate body 1 will be described with reference to FIGS.

図4及び図5は、ともに図2のA領域に対応する基板本体1の主面を示す図である。図4は、基板本体1の一方主面に設けられた第1位置合わせ用マーク13と第1表裏判定用マーク11を示す図であり、図5は、基板本体1の他方主面に設けられた第2位置合わせ用マーク14と第2表裏判定用マーク12を示す図である。 4 and 5 are both views showing the main surface of the substrate body 1 corresponding to the area A in FIG. FIG. 4 is a view showing the first alignment mark 13 and the first front / back determination mark 11 provided on one main surface of the substrate body 1, and FIG. 5 is provided on the other main surface of the substrate body 1. It is the figure which shows the 2nd position alignment mark 14 and the 2nd front-and-back determination mark 12.

図4及び図5に示すように、本実施形態の基板本体1の一方主面には、処理領域Pの頂点付近に同一の形状及び大きさの4つの第1位置合わせ用マーク13が設けられており、他方主面の同じ位置に第2位置合わせ用マーク14が設けられている。   As shown in FIGS. 4 and 5, four first alignment marks 13 having the same shape and size are provided in the vicinity of the apex of the processing region P on one main surface of the substrate body 1 of the present embodiment. The second alignment mark 14 is provided at the same position on the other main surface.

本実施形態の基板本体1には、さらに、表裏判定用マーク11,12が設けられている。表裏判定用マーク11,12は、位置合わせ用マーク13,14のいずれとも点対称の関係及び線対称の関係に無い非対称領域に設けられている。同図に示す例では、基板本体1の一方主面に一つの第1表裏判定用マーク11が形成されているとともに、他方主面に一つの第2表裏判定用マーク12が形成されている。第1表裏判定用マーク11と第2表裏判定用マーク12は、表裏に別々に形成することができ、貫通孔のように表裏に同時に形成することもできる。 The board body 1 of the present embodiment is further provided with front and back determination marks 11 and 12. The front and back determination marks 11 and 12 are provided in an asymmetric region that is not point-symmetrical or line-symmetrical with any of the alignment marks 13 and 14. In the example shown in the figure, one first front / back determination mark 11 is formed on one main surface of the substrate body 1, and one second front / back determination mark 12 is formed on the other main surface. The first front / back determination mark 11 and the second front / back determination mark 12 can be formed separately on the front and back, and can also be formed simultaneously on the front and back like a through hole.

図4と図5を比較すると、基板本体1の一方主面に形成された第1位置合わせ用マーク13の位置と、基板本体1の他方主面に形成された第2位置合わせ用マーク14の位置は同一である。つまり、基板本体1の一方主面の第1位置合わせ用マーク群13が示す配置パターンと、基板本体1の他方主面の第2位置合わせ用マーク群14が示す配置パターンとが一致する。これは、表裏を裏返した場合のみならず、対称点Qを中心に基板本体1をXY平面に沿って180度回転させた場合も同様である。   4 and 5 are compared, the position of the first alignment mark 13 formed on one main surface of the substrate body 1 and the position of the second alignment mark 14 formed on the other main surface of the substrate body 1 are compared. The position is the same. That is, the arrangement pattern indicated by the first alignment mark group 13 on the one main surface of the substrate body 1 matches the arrangement pattern indicated by the second alignment mark group 14 on the other main surface of the substrate body 1. This is the same not only when the front and back are turned upside down, but also when the substrate body 1 is rotated 180 degrees along the XY plane around the symmetry point Q.

本実施形態では、第1位置合わせ用マーク13及び第2位置合わせ用マーク14の位置、形状、大きさが同じであるため、第1位置合わせ用マーク13及び第2位置合わせ用マーク14によっては基板本体1の表裏や回転の有無といった基板本体1の向きを検知することはできない。 In the present embodiment, the position, shape and size of the first alignment mark 13 and the second alignment mark 14 are the same, so depending on the first alignment mark 13 and the second alignment mark 14. The orientation of the substrate body 1 such as the front and back of the substrate body 1 and the presence / absence of rotation cannot be detected.

他方、図4及び図5の第1表裏判定用マーク11と第2表裏判定用マーク12の位置を比較すると、基板本体1の一方主面に形成された第1表裏判定用マーク11のXY座標上の位置と、基板本体1の他方主面に形成された第2表裏判定用マーク12のXY座標上の位置が異なる。これは、表裏を裏返した場合のみならず、対称点Qを中心に基板本体1をXY平面に沿って180度回転させた場合も同様である。つまり、第1表裏判定用マーク11と第2表裏判定用マーク12の位置を観察することにより、基板本体1の表裏や回転の有無といった基板本体1の向きを検知することができる。   On the other hand, when the positions of the first front / back determination mark 11 and the second front / back determination mark 12 in FIGS. 4 and 5 are compared, the XY coordinates of the first front / back determination mark 11 formed on one main surface of the substrate body 1 are compared. The position on the XY coordinates of the second front / back determination mark 12 formed on the other main surface of the substrate body 1 is different from the upper position. This is the same not only when the front and back are turned upside down, but also when the substrate body 1 is rotated 180 degrees along the XY plane around the symmetry point Q. That is, by observing the positions of the first front / back determination mark 11 and the second front / back determination mark 12, the orientation of the substrate main body 1 such as the front / back of the substrate main body 1 and the presence / absence of rotation can be detected.

なお、第1表裏判定用マーク11と第2表裏判定用マーク12は、それぞれ複数設けることも可能である。ただし、その場合は、同一主面に形成される表裏判定用マーク11,12が互いに非対称の関係にあることが好ましい。言い換えると、2つの表裏判定用マーク11,12の位置が、基板本体1の主面の処理領域Pの中心を対称点Qとする点対称、又は対称点Qと処理領域Pの対向する2辺の中点とを含む直線を対称軸Ra,Rbとする線対称の関係に無いこと、並びに対称点Q及び対称軸Ra,Rb上に無いことが好ましい。   A plurality of the first front / back determination marks 11 and the second front / back determination marks 12 may be provided. However, in that case, it is preferable that the front and back determination marks 11 and 12 formed on the same main surface have an asymmetric relationship with each other. In other words, the positions of the two front and back determination marks 11 and 12 are point-symmetric with the center of the processing area P on the main surface of the substrate body 1 as the symmetry point Q, or two sides facing the symmetry point Q and the processing area P. It is preferable that the straight line including the midpoint is not in a line-symmetric relationship with the symmetry axes Ra and Rb, and not on the symmetry point Q and the symmetry axes Ra and Rb.

2つの表裏判定用マーク11,12を対称領域に形成すると、基板本体1を裏返した場合や対称点Qを中心に基板本体1を180度回転させた場合に、上述した位置合わせ用マーク13,14と同様に、2つの表裏判定用マーク11,12の位置が一致してしまい、本実施形態の表裏判定用マーク11、12としての機能が果たせなくなるからである。 When the two front and back determination marks 11 and 12 are formed in the symmetric area, when the substrate body 1 is turned upside down or when the substrate body 1 is rotated 180 degrees around the symmetry point Q, the alignment marks 13 and 12 described above are used. This is because the positions of the two front and back determination marks 11 and 12 coincide with each other as in FIG. 14, and the function as the front and back determination marks 11 and 12 of this embodiment cannot be performed.

以上に説明した位置合わせ用マーク13,14の位置は、後述するフォトマスク20,30に形成された部材側位置合わせ用マーク23,34の位置と比較され、表裏判定用マーク11,12の位置は、後述するフォトマスク20,30に形成された部材側表裏判定用マーク21,32の位置と比較される。   The positions of the alignment marks 13 and 14 described above are compared with the positions of member-side alignment marks 23 and 34 formed on the photomasks 20 and 30 described later, and the positions of the front and back determination marks 11 and 12 are compared. Is compared with the positions of the member side front / back determination marks 21 and 32 formed on the photomasks 20 and 30 described later.

次に、図6及び図7に基づいて、フォトマスク20,30に設けられた部材側位置合わせ用マーク23,34及び部材側表裏判定用マーク21,32について説明する。図6及び図7は、図4及び図5のA領域を覆うフォトマスク20,30の主面を示す図である。なお、フォトマスク20,30処理領域Pは、基板本体1の処理領域PとXY平面上において同じ位置である。 Next, the member-side alignment marks 23 and 34 and the member-side front / back determination marks 21 and 32 provided on the photomasks 20 and 30 will be described with reference to FIGS. 6 and 7 are views showing the main surfaces of the photomasks 20 and 30 covering the region A in FIGS. 4 and 5. Note that the processing areas P of the photomasks 20 and 30 are at the same position on the XY plane as the processing area P of the substrate body 1.

図6は、フォトマスク20,30の一方主面に設けられた第1部材側位置合わせ用マーク23と第1部材側表裏判定用マーク21を示す図、図7は、フォトマスク20,30の他方主面に設けられた第2部材側位置合わせ用マーク34と第2部材側表裏判定用マーク32を示す図である。 FIG. 6 is a diagram showing a first member side alignment mark 23 and a first member side front / back determination mark 21 provided on one main surface of the photomasks 20 and 30, and FIG. 7 shows the photomasks 20 and 30. It is a figure which shows the 2nd member side alignment mark 34 and the 2nd member side front-and-back determination mark 32 which were provided in the other main surface.

本実施形態における部材側位置合わせ用マーク23,34と部材側表裏判定用マーク21,32は、インク等で印刷により形成されている。フォトマスク20,30が透明である場合には、黒色のインクを用いることが好ましい。 The member-side alignment marks 23 and 34 and the member-side front / back determination marks 21 and 32 in the present embodiment are formed by printing with ink or the like. When the photomasks 20 and 30 are transparent, it is preferable to use black ink.

図6及び図7に示すように、部材側位置合わせ用マーク23,34は、露光装置1000の露光処理を行う基準位置に、図4及び5に示す位置合わせ用マーク13,14と、XY平面上において同じ位置になるように設けられている。このため、基板本体1に対してフォトマスク20,30を正しい対向位置にセットすると、上記基準位置において、部材側位置合わせ用マーク23,34と基板本体1の位置合わせ用マーク13,14とは対向する。 As shown in FIGS. 6 and 7, the member-side alignment marks 23 and 34 are positioned at the reference position where the exposure processing of the exposure apparatus 1000 is performed, and the alignment marks 13 and 14 shown in FIGS. 4 and 5 and the XY plane. It is provided so that it may become the same position on the top. For this reason, when the photomasks 20 and 30 are set at correct positions with respect to the substrate body 1, the member-side alignment marks 23 and 34 and the alignment marks 13 and 14 of the substrate body 1 are the same at the reference position. opposite.

同様に、部材側表裏判定用マーク21,32は、露光装置1000の露光処理を行う基準位置に、図4及び5に示す基板本体1の表裏判定用マーク11,12と、XY平面上において同じ位置になるように設けられている。このため、基板本体1に対してフォトマスク20,30を正しい対向位置にセットすると、上記基準位置において、部材側表裏判定用マーク21,32と基板本体1の表裏判定用マーク11,12とは対向する。 Similarly, the member-side front / back determination marks 21, 32 are the same on the XY plane as the front-back determination marks 11, 12 of the substrate body 1 shown in FIGS. 4 and 5 at the reference position where the exposure processing of the exposure apparatus 1000 is performed. It is provided to be in position. For this reason, when the photomasks 20 and 30 are set at correct positions with respect to the substrate body 1, the member-side front and back determination marks 21 and 32 and the front and back determination marks 11 and 12 of the substrate body 1 are at the reference position. opposite.

次に、図8及び図9に基づいて、基板本体1にフォトマスク20,30が対向配置された場合の置合せ用マーク13,14と部材側位置合わせ用マーク23,34、及び表裏判定用マーク11,12と部材側表裏判定用マーク21,32について説明する。図8及び図9は、図4及び図5の基板本体1のA領域を覆うフォトマスク20,30の主面を示す図である。 Next, based on FIG. 8 and FIG. 9, the alignment marks 13 and 14 and the member side alignment marks 23 and 34 when the photomasks 20 and 30 are opposed to the substrate body 1, and front / back determination The marks 11 and 12 and the member side front / back determination marks 21 and 32 will be described. 8 and 9 are views showing main surfaces of the photomasks 20 and 30 covering the region A of the substrate body 1 shown in FIGS.

図8は基板本体1の一方主面に第1フォトマスク20が対向配置された状態の上面図、図9は基板本体1の他方主面に第2フォトマスク30が対向配置された状態の上面図である。 FIG. 8 is a top view of a state in which the first photomask 20 is disposed opposite to one main surface of the substrate body 1, and FIG. 9 is a top view of the state in which the second photomask 30 is disposed to face the other main surface of the substrate body 1. FIG.

基板本体1の一方主面に対して第1フォトマスク20が正しい位置(図中XY座標上の位置)にセットされた場合は、図8に示すように、第1部材側位置合わせ用マーク23と基板本体1の第1位置合わせ用マーク13とが重畳する。また、基板本体1の一方主面に対して第1フォトマスク20が正しい向き(表裏及び/又は上下左右の方向を含む)にセットされた場合は、図8に示すように、第1部材側表裏判定用マーク21と基板本体1の第1表裏判定用マーク11とが重畳する。 When the first photomask 20 is set at the correct position (position on the XY coordinates in the figure) with respect to the one main surface of the substrate body 1, as shown in FIG. And the first alignment mark 13 of the substrate body 1 are overlapped. Further, when the first photomask 20 is set in the correct orientation (including front and back and / or up / down / left / right directions) with respect to the one main surface of the substrate body 1, as shown in FIG. The front / back determination mark 21 and the first front / back determination mark 11 of the substrate body 1 overlap each other.

同様に、基板本体1の他方主面に対して第2フォトマスク30が正しい位置(図中XY座標上の位置)にセットされた場合は、図9に示すように、第2部材側位置合わせ用マーク34と基板本体1の第2位置合わせ用マーク14とが重畳する。また、基板本体1の他方主面に対して第2フォトマスク30が正しい向き(表裏及び/又は上下左右の方向を含む)にセットされた場合は、図9に示すように、第2部材側表裏判定用マーク32と基板本体1の第2表裏判定用マーク12とが重畳する。 Similarly, when the second photomask 30 is set at the correct position (position on the XY coordinates in the figure) with respect to the other main surface of the substrate body 1, as shown in FIG. 9, the second member side alignment is performed. The mark 34 and the second alignment mark 14 of the substrate body 1 overlap each other. Further, when the second photomask 30 is set in the correct orientation (including front and back and / or up / down / left / right directions) with respect to the other main surface of the substrate body 1, as shown in FIG. The front / back determination mark 32 and the second front / back determination mark 12 of the substrate body 1 overlap each other.

この状態の断面図を図10及び図11に示す。図10は図8のX-X線に沿う断面図であり、図11は図9のXI-XI線に沿う断面図である。   A cross-sectional view of this state is shown in FIGS. 10 is a cross-sectional view taken along line XX of FIG. 8, and FIG. 11 is a cross-sectional view taken along line XI-XI of FIG.

図10及び図11に示す第1表裏判定用マーク11及び第2表裏判定用マーク12は、基板本体1の表面に形成された凹部で構成されている。この凹部を含む領域に光を照射すると、凹部に当たった光の反射光の強さと、その周囲の主面1A,1Bに当たった光の反射光の強さに変化が出る。光を照射した状態で、第1表裏判定用マーク11及び第2表裏判定用マーク12を含む領域を矢印A1,B1の方向に沿ってカメラ50で撮像すると、第1表裏判定用マーク11と第1部材側表裏判定用マーク21を含む撮像画像、及び第2表裏判定用マーク12と第2部材側表裏判定用マーク32を含む撮像画像を得ることができる。この撮像画像を分析することにより、両マークの位置関係に関する情報を得ることができる。 The first front / back determination mark 11 and the second front / back determination mark 12 shown in FIG. 10 and FIG. 11 are constituted by recesses formed on the surface of the substrate body 1. When light is applied to the region including the recess, the intensity of the reflected light of the light hitting the recess and the intensity of the reflected light of the light hitting the surrounding main surfaces 1A and 1B change. When an area including the first front / back determination mark 11 and the second front / back determination mark 12 is imaged by the camera 50 along the directions of arrows A1 and B1 in the state of light irradiation, the first front / back determination mark 11 and the second A captured image including the first member side front / back determination mark 21 and a captured image including the second front / back determination mark 12 and the second member side front / back determination mark 32 can be obtained. By analyzing this captured image, information regarding the positional relationship between the two marks can be obtained.

本実施形態の露光装置1000は、撮像画像から得られた第1位置合わせ用マーク13と第1部材側位置合わせ用マーク23との位置関係、及び第2位置合わせ用マーク14と第2部材側位置合わせ用マーク34との位置関係に基づいて、基板本体1とフォトマスク20,30の相対位置(図8,9中XY座標上の位置)の正誤を判定することができる。   The exposure apparatus 1000 of the present embodiment has a positional relationship between the first alignment mark 13 and the first member side alignment mark 23 obtained from the captured image, and the second alignment mark 14 and the second member side. Based on the positional relationship with the alignment mark 34, it is possible to determine whether the relative position (position on the XY coordinates in FIGS. 8 and 9) between the substrate body 1 and the photomasks 20 and 30 is correct.

また、本実施形態の露光装置1000は、撮像画像から得られた第1表裏判定用マーク11と第1部材側表裏判定用マーク21との位置関係、及び第2表裏判定用マーク12と第2部材側表裏判定用マーク32の位置関係に基づいて、基板本体1とフォトマスク20,30の相対向き(表裏及び/又は上下左右の方向を含む)の正誤を判定することができる。   Further, the exposure apparatus 1000 of the present embodiment has a positional relationship between the first front / back determination mark 11 and the first member side front / back determination mark 21 obtained from the captured image, and the second front / back determination mark 12 and the second. Based on the positional relationship between the member-side front / back determination marks 32, it is possible to determine whether the relative orientation (including front / back and / or up / down / left / right directions) of the substrate body 1 and the photomasks 20 and 30 is correct.

図12は、基板本体1の主面に対してフォトマスク20,30が正しい向き(表裏及び/又は上下左右の方向を含む)にセットされた場合に得られた、表裏判定用マーク11,12の像と部材側表裏判定用マーク21,32の像である。基板本体1の主面に対してフォトマスク20,30が正しい位置(図中XY座標上の位置)にセットされた場合にも、図12と同様の、位置合わせ用マーク13,14の像と部材側位置合わせ用マーク23,34の像を得ることができる。   FIG. 12 shows the front and back determination marks 11 and 12 obtained when the photomasks 20 and 30 are set in the correct orientation (including front and back and / or up, down, left and right directions) with respect to the main surface of the substrate body 1. And images of the member-side front / back determination marks 21 and 32. Even when the photomasks 20 and 30 are set at correct positions (positions on the XY coordinates in the drawing) with respect to the main surface of the substrate body 1, the images of the alignment marks 13 and 14 similar to those in FIG. Images of the member side alignment marks 23 and 34 can be obtained.

なお、図12は、図10、図11に示す矢印A1に沿う方向から見た位置合わせ用マーク13,14の像と部材側位置合わせ用マーク23,34の像、又はB1に沿う方向から見た表裏判定用マーク11,12の像と部材側表裏判定用マーク21,32の像である。 Note that FIG. 12 shows the images of the alignment marks 13 and 14 and the image of the member side alignment marks 23 and 34 viewed from the direction along the arrow A1 shown in FIGS. 10 and 11, or the direction along the direction B1. These are the images of the front and back determination marks 11 and 12 and the images of the member side front and back determination marks 21 and 32.

図12に示すように、基板本体1の主面に対してフォトマスク20,30が正しい向き(表裏及び/又は上下左右の方向を含む)にセットされた場合には、表裏判定用マーク11,12の像と部材側表裏判定用マーク21,32の像が重畳している旨の分析結果、又は位置合わせ用マーク13,14の像と部材側位置合わせ用マーク23,34の像が重畳している旨の分析結果を得ることができる。 As shown in FIG. 12, when the photomasks 20 and 30 are set in the correct orientation (including front and back and / or up and down, left and right directions) with respect to the main surface of the substrate body 1, the front and back determination marks 11 and The analysis result indicating that the 12 images and the image of the member side front / back determination marks 21 and 32 are superimposed, or the image of the alignment marks 13 and 14 and the image of the member side alignment marks 23 and 34 are superimposed. The analysis result can be obtained.

このように、表裏判定用マーク11,12の位置と部材側表裏判定用マーク21,32の位置が重畳している場合は、基板本体1の主面に対してフォトマスク20,30が正しい向きにセットされていると判定でき、位置合わせ用マーク13,14の像と部材側位置合わせ用マーク23,34の像が重畳している場合は、基板本体1の主面に対してフォトマスク20,30が正しい位置にセットされていると判定できる。 As described above, when the positions of the front and back determination marks 11 and 12 and the positions of the member side front and back determination marks 21 and 32 are overlapped, the photomasks 20 and 30 are correctly oriented with respect to the main surface of the substrate body 1. If the image of the alignment marks 13 and 14 and the image of the member-side alignment marks 23 and 34 are superimposed, the photomask 20 is placed on the main surface of the substrate body 1. , 30 are determined to be set at the correct positions.

他方、図13に示すように、基板本体1にフォトマスク20,30の表裏が誤ってセットされた場合は、位置が合っていれば位置合わせ用マーク13,14の像と部材側位置合わせ用マーク23,34の像が重畳した図12に示すような像を得ることができるものの、表裏判定用マーク11,12の像と部材側表裏判定用マーク21,32の像が重畳した図12に示すような像を得ることはできない。   On the other hand, as shown in FIG. 13, when the front and back of the photomasks 20 and 30 are mistakenly set on the substrate body 1, the images of the alignment marks 13 and 14 and the member-side alignment are used if the positions are correct. Although an image as shown in FIG. 12 in which the images of the marks 23 and 34 are superimposed can be obtained, the image of the front and back determination marks 11 and 12 and the image of the member side front and back determination marks 21 and 32 are superimposed in FIG. The image shown cannot be obtained.

このような場合には、基板本体1に対してフォトマスク20,30が誤った向きにセットされたと判定できる。なお、図13には、基板本体1にフォトマスク20,30の表裏が誤ってセットされた場合を例示したが、基板本体1の主面に対してフォトマスク20,30の上下左右の方向が相対的に誤ってセットされた場合も同様である。   In such a case, it can be determined that the photomasks 20 and 30 are set in the wrong direction with respect to the substrate body 1. FIG. 13 illustrates the case where the front and back of the photomasks 20 and 30 are mistakenly set on the substrate body 1. However, the vertical and horizontal directions of the photomasks 20 and 30 with respect to the main surface of the substrate body 1 are illustrated. The same applies when the setting is relatively wrong.

本実施形態の露光装置1000では、表裏判定用マーク11,12の像と部材側表裏判定用マーク21,32の像との位置関係に基づいて、基板本体1に対してフォトマスク20,30が正しい向きにセットされたと判断してから、位置合わせ用マーク13,14の像と部材側位置合わせ用マーク23,34の像の位置関係により、基板本体1に対するフォトマスク20,30の位置を合わせることができる。   In the exposure apparatus 1000 of the present embodiment, the photomasks 20 and 30 are placed on the substrate body 1 based on the positional relationship between the images of the front and back determination marks 11 and 12 and the image of the member side front and back determination marks 21 and 32. After determining that it is set in the correct orientation, the positions of the photomasks 20 and 30 relative to the substrate body 1 are aligned based on the positional relationship between the images of the alignment marks 13 and 14 and the images of the member-side alignment marks 23 and 34. be able to.

その結果、基板本体1を裏返す作業を含む場合に、作業者が、基板本体1に対してフォトマスク20,30の向き(表裏及び/又は上下左右の方向)を誤ってセットした場合であっても、その誤りを検知することができる。 As a result, when the work includes turning the substrate body 1 upside down, the worker sets the photomasks 20 and 30 in the wrong direction (front and back and / or up / down / left / right directions) with respect to the substrate body 1. Can also detect that error.

以上のとおり、本実施形態における表裏判定用マーク11,12は非対称領域に設けられているので、基板本体1とフォトマスク20,30の向きが正しい場合には表裏判定用マーク11,12と部材側表裏判定用マーク21,32とが対向し、基板本体と部材の向きが誤っている場合は表裏判定用マーク11、12と部材側表裏判定用マーク21,32が対向しない。したがって、この表裏判定用マーク11,12と部材側表裏判定用マーク21,32との位置関係の違いを観察することにより、基板本体と部材の向きの正誤を検知することができる。その結果、人為的なミスによって基板本体と部材が誤った向きにセットされたことを検知することができる。 As described above, since the front and back determination marks 11 and 12 in the present embodiment are provided in the asymmetric region, when the orientation of the substrate body 1 and the photomasks 20 and 30 is correct, the front and back determination marks 11 and 12 and members When the side front / back determination marks 21 and 32 face each other and the direction of the substrate body and the member is wrong, the front / back determination marks 11 and 12 do not face the member side front / back determination marks 21 and 32. Therefore, by observing the difference in the positional relationship between the front / back determination marks 11 and 12 and the member-side front / back determination marks 21 and 32, it is possible to detect the correctness of the orientation of the substrate body and the member. As a result, it is possible to detect that the board body and the member are set in the wrong direction due to human error.

<第2実施形態>
続いて、本発明の第2実施形態に係る露光装置1000、及びプリント配線基板の製造方法を説明する。本実施形態の露光装置1000及びプリント配線基板の製造方法は、基本的に第1実施形態と共通する。重複した説明を避けるため、ここでは異なる点を中心に説明し、共通する点については第1実施形態の詳細な説明及び図面を援用する。
Second Embodiment
Next, an exposure apparatus 1000 and a printed wiring board manufacturing method according to the second embodiment of the present invention will be described. The exposure apparatus 1000 and the printed wiring board manufacturing method of the present embodiment are basically the same as those of the first embodiment. In order to avoid redundant description, different points will be mainly described here, and for the common points, the detailed description of the first embodiment and the drawings will be cited.

図14及び図15は、本発明の第2実施形態に係る基板本体1とフォトマスク20,30の断面図であり、図14は第1実施形態において説明した図8のX-X線に沿う断面図に相当する断面図、図15は同図9のXI-XI線に沿う断面図に相当する断面図である。 14 and 15 are cross-sectional views of the substrate body 1 and the photomasks 20 and 30 according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 14 is a cross-sectional view taken along the line XX of FIG. 8 described in the first embodiment. FIG. 15 is a sectional view corresponding to the sectional view taken along line XI-XI in FIG.

図14及び図15に示すように、第2実施形態における表裏判定用マーク11,12及び位置合わせ用マーク13,14は、断面が円形の貫通孔により形成されている。貫通孔はドリル加工やレーザ加工などの一般的な手法により形成することができる。 As shown in FIGS. 14 and 15, the front and back determination marks 11 and 12 and the alignment marks 13 and 14 in the second embodiment are formed by through holes having a circular cross section. The through hole can be formed by a general method such as drilling or laser processing.

また、フォトマスク20,30には、表裏判定用マーク11,12に応じた位置に貫通孔の直径よりも小さい円形の遮光性の部材側表裏判定用マーク21,32が形成されているとともに、位置合わせ用マーク13,14に応じた位置に貫通孔の直径よりも小さい円形の遮光性の部材側位置合わせ用マーク23,34が形成されている。 The photomasks 20 and 30 have circular light-shielding member-side front and back determination marks 21 and 32 that are smaller than the diameter of the through-holes at positions corresponding to the front and back determination marks 11 and 12, Circular light-shielding member-side alignment marks 23 and 34 smaller than the diameter of the through hole are formed at positions corresponding to the alignment marks 13 and 14.

本実施形態では、透明なフォトマスク20,30の所定領域を遮光するため、黒色のインクにより部材側表裏判定用マーク21,32及び部材側位置合わせ用マーク23,34が形成されている。 In the present embodiment, the member side front / back determination marks 21 and 32 and the member side alignment marks 23 and 34 are formed of black ink in order to shield a predetermined region of the transparent photomasks 20 and 30.

フォトマスク20,30を基板本体1の対向位置に正しくセットすると、表裏判定用マーク11,12と部材側表裏判定用マーク21,32が対向し、位置合わせ用マーク13,14と部材側位置合わせ用マーク23,34とが対向する。 When the photomasks 20 and 30 are correctly set at the opposing positions of the substrate body 1, the front / back determination marks 11 and 12 and the member-side front / back determination marks 21 and 32 face each other, and the alignment marks 13 and 14 and the member-side alignment are aligned. The use marks 23 and 34 face each other.

基板本体1の表裏判定用マーク11,12及び位置合わせ用マーク13,14は貫通孔で構成されているので、この貫通孔を含む領域を図14及び図15に示す矢印A1及びA2の方向からカメラ50で撮像すると、貫通孔の輪郭と貫通孔の内縁よりも内側に部材側表裏判定用マーク21,32又は部材側位置合わせ用マーク23,34が存在する画像を得ることができる。具体的には、第1表裏判定用マーク11と、その内側に位置する第1部材側表裏判定用マーク21を含む二重円の撮像画像、第2表裏判定用マーク12と、その内側に位置する第2部材側表裏判定用マーク32を含む二重円の撮像画像を得ることができる。この撮像画像を分析することにより、その位置関係の情報を得ることができる。 Since the front and back determination marks 11 and 12 and the alignment marks 13 and 14 of the substrate body 1 are formed by through holes, the region including the through holes is viewed from the directions of arrows A1 and A2 shown in FIGS. When the image is taken by the camera 50, an image in which the member side front / back determination marks 21 and 32 or the member side alignment marks 23 and 34 exist inside the outline of the through hole and the inner edge of the through hole can be obtained. Specifically, a double circle captured image including the first front / back determination mark 11 and the first member side front / back determination mark 21 positioned inside the first front / back determination mark 12, the second front / back determination mark 12, and the inner position thereof Thus, a double circle captured image including the second member side front / back determination mark 32 can be obtained. By analyzing the captured image, information on the positional relationship can be obtained.

本実施形態の露光装置1000の判定装置70は、撮像画像から得られた第1位置合わせ用マーク13と第1部材側位置合わせ用マーク23との位置関係、及び第2位置合わせ用マーク14と第2部材側位置合わせ用マーク34との位置関係に基づいて、基板本体1とフォトマスク20,30の相対位置(図8,9中XY座標上の位置)の正誤を判定することができる。   The determination device 70 of the exposure apparatus 1000 according to the present embodiment includes the positional relationship between the first alignment mark 13 and the first member side alignment mark 23 obtained from the captured image, and the second alignment mark 14. Based on the positional relationship with the second member side alignment mark 34, it is possible to determine whether the relative position (position on the XY coordinates in FIGS. 8 and 9) of the substrate body 1 and the photomasks 20 and 30 is correct.

また、本実施形態の露光装置1000の判定装置70は、撮像画像から得られた第1表裏判定用マーク11と第1部材側表裏判定用マーク21との位置関係、及び第2表裏判定用マーク12と第2部材側表裏判定用マーク32の位置関係に基づいて、基板本体1とフォトマスク20,30の相対向き(表裏及び/又は上下左右の方向を含む)の正誤を判定することができる。   In addition, the determination device 70 of the exposure apparatus 1000 according to the present embodiment includes the positional relationship between the first front / back determination mark 11 and the first member-side front / back determination mark 21 obtained from the captured image, and the second front / back determination mark. Based on the positional relationship between the first member 12 and the second member side front / back determination mark 32, it is possible to determine whether the relative orientation (including front / back and / or up / down / left / right directions) of the substrate body 1 and the photomasks 20 and 30 is correct. .

図16は、基板本体1の主面に対してフォトマスク20,30が正しい向き(表裏及び/又は上下左右の方向を含む)にセットされた場合に得られた、表裏判定用マーク11,12の貫通孔の像と部材側表裏判定用マーク21,32の像である。基板本体1の主面に対してフォトマスク20,30が正しい位置(図中XY座標上の位置)にセットされた場合にも、図16と同様の、位置合わせ用マーク13,14の像と部材側位置合わせ用マーク23,34の像を得ることができる。   FIG. 16 shows the front / back determination marks 11, 12 obtained when the photomasks 20, 30 are set in the correct orientation (including front / back and / or up / down / left / right directions) with respect to the main surface of the substrate body 1. These are images of through holes and images of the member-side front / back determination marks 21 and 32. Even when the photomasks 20 and 30 are set at correct positions (positions on the XY coordinates in the drawing) with respect to the main surface of the substrate body 1, the images of the alignment marks 13 and 14 similar to those in FIG. Images of the member side alignment marks 23 and 34 can be obtained.

なお、図16は、図14、図15に示す矢印A1に沿う方向から見た位置合わせ用マーク13,14の像と部材側位置合わせ用マーク23,34の像、又はB1に沿う方向から見た表裏判定用マーク11,12の像と部材側表裏判定用マーク21,32の像である。 Note that FIG. 16 shows the image of the alignment marks 13 and 14 and the image of the member-side alignment marks 23 and 34 viewed from the direction along the arrow A1 shown in FIGS. 14 and 15 or the direction along the direction B1. These are the images of the front and back determination marks 11 and 12 and the images of the member side front and back determination marks 21 and 32.

図16に示すように、基板本体1の主面に対してフォトマスク20,30が正しい向き(表裏及び/又は上下左右の方向を含む)にセットされた場合には、表裏判定用マーク11,12の貫通孔の輪郭の像の内側に部材側表裏判定用マーク21,32の像が内在する二重円を観察することができる。同様に、基板本体1の主面に対してフォトマスク20,30が正しい位置にセットされた場合には、位置合わせ用マーク13,14の貫通孔の輪郭の像の内側に部材側位置合わせ用マーク23,34の像が内在する二重円を観察することができる。 As shown in FIG. 16, when the photomasks 20 and 30 are set in the correct orientation (including front and back and / or up and down, left and right directions) with respect to the main surface of the substrate body 1, the front and back determination marks 11 and It is possible to observe a double circle in which the images of the member side front / back determination marks 21 and 32 are present inside the contour image of the 12 through holes. Similarly, when the photomasks 20 and 30 are set at correct positions with respect to the main surface of the substrate body 1, the member-side alignment is positioned inside the image of the outline of the through hole of the alignment marks 13 and 14. A double circle in which the images of the marks 23 and 34 are present can be observed.

このように、表裏判定用マーク11,12の内側に部材側表裏判定用マーク21,32が内在する場合は、基板本体1の主面に対してフォトマスク20,30が正しい向きにセットされていると判定できる。また、位置合わせ用マーク13,14の内側に部材側位置合わせ用マーク23,34の像が内在する場合は、基板本体1の主面に対してフォトマスク20,30が正しい位置にセットされていると判定できる。 As described above, when the member side front / back determination marks 21, 32 are present inside the front / back determination marks 11, 12, the photomasks 20, 30 are set in the correct orientation with respect to the main surface of the substrate body 1. Can be determined. When the images of the member side alignment marks 23 and 34 are present inside the alignment marks 13 and 14, the photomasks 20 and 30 are set at correct positions with respect to the main surface of the substrate body 1. Can be determined.

他方、図17に示すように、基板本体1にフォトマスク20,30の表裏が誤ってセットされた場合は、位置合わせ用マーク13,14の内側に部材側位置合わせ用マーク23,34の像が内在する像(図16を参照)を得ることができるものの、表裏判定用マーク11,12の貫通孔の輪郭の内側に部材側表裏判定用マーク21,32の像が内在する像(図16を参照)を得ることができない。   On the other hand, as shown in FIG. 17, when the front and back of the photomasks 20 and 30 are set on the substrate body 1 by mistake, the image of the member side alignment marks 23 and 34 is located inside the alignment marks 13 and 14. Can be obtained (see FIG. 16), but the images of the member-side front / back determination marks 21, 32 are present inside the outlines of the through holes of the front / back determination marks 11, 12 (FIG. 16). Can't get).

このような場合には、基板本体1に対してフォトマスク20,30が誤った向き(表裏又は上下左右の向き)にセットされたと判定できる。なお、図17には、基板本体1にフォトマスク20,30の表裏が誤ってセットされた場合を例示したが、基板本体1の主面に対してフォトマスク20,30の上下左右の方向が誤ってセットされた場合も同様である。   In such a case, it can be determined that the photomasks 20 and 30 are set in the wrong direction (front / back or up / down / left / right directions) with respect to the substrate body 1. FIG. 17 illustrates the case where the front and back of the photomasks 20 and 30 are mistakenly set on the substrate body 1. However, the vertical and horizontal directions of the photomasks 20 and 30 with respect to the main surface of the substrate body 1 are illustrated. The same applies when set incorrectly.

また、本実施形態に係る露光装置1000は、表裏判定用マーク11,12と対向する第1の位置K1と、位置合わせ用マーク13,14と対向する第2の位置K2との間で、カメラ50を手動で往復移動させる移動機構をさらに備えている。移動機構は、具体的に、本実施形態における移動機構は、スライドレール51と、カメラ50を支持してスライドレール51を往復移動する支持体52とを有する。支持体52は、図外のロックピンを備え、位置決めされたカメラ50を少なくとも一時的に固定する。 In addition, the exposure apparatus 1000 according to the present embodiment includes a camera between a first position K1 facing the front and back determination marks 11 and 12 and a second position K2 facing the alignment marks 13 and 14. A moving mechanism for manually reciprocating 50 is further provided. Specifically, the moving mechanism in this embodiment includes a slide rail 51 and a support body 52 that supports the camera 50 and reciprocates along the slide rail 51. The support body 52 includes a lock pin (not shown), and fixes the positioned camera 50 at least temporarily.

このように、カメラ50の移動機構を備えることにより、表裏判定用マーク11,12を撮像するカメラ50と、位置合わせ用マーク13、14を撮像するカメラ50とを共用することができるので、表裏判定用マーク11,12用のカメラ50を増設する必要がなく、設備コストを低減させることができる。 Thus, by providing the moving mechanism of the camera 50, the camera 50 that images the front and back determination marks 11 and 12 and the camera 50 that images the alignment marks 13 and 14 can be shared. It is not necessary to add a camera 50 for the determination marks 11 and 12, and the equipment cost can be reduced.

また、スライドレール51と支持体52との簡単な手動構造の移動機構によって、カメラ50の位置を変更できるので、カメラ50の位置を自動的に変更するためのアクチュエータや制御回路などの駆動機構を必要とせず、設備コストを低減させることができる。加えて、多くの部品を備える駆動機構から生じる塵によって製品品質に悪影響を与えることも防止できる。 Further, since the position of the camera 50 can be changed by a simple manual structure moving mechanism between the slide rail 51 and the support body 52, a drive mechanism such as an actuator or a control circuit for automatically changing the position of the camera 50 is provided. It is not necessary, and the equipment cost can be reduced. In addition, it is possible to prevent the product quality from being adversely affected by the dust generated from the drive mechanism having many parts.

図示はしないが、カメラ50には、カメラ50の位置を認識する位置センサが併設されている。カメラ50は、基板本体1の一方主面が処理面(撮像面)であるときのカメラ50の位置及び基板本体の他方主面が処理面(撮像面)であるときのカメラの位置を予め記憶している。本実施形態のカメラ50は、位置センサにより検出されたカメラ50の位置と、製造ラインの管理システムを介して入力された基板本体1の処理面の特定情報(一方主面又は他方主面の特定情報)に基づいて、予め記憶している処理面とカメラ位置との対応関係を参照して、カメラ50の位置の適否を判断する。カメラ50の位置が適当でない場合には、その旨の警報を図外のスピーカなどの出力装置を介して出力する。 Although not shown, the camera 50 is provided with a position sensor that recognizes the position of the camera 50. The camera 50 stores in advance the position of the camera 50 when one main surface of the substrate body 1 is a processing surface (imaging surface) and the position of the camera when the other main surface of the substrate body is a processing surface (imaging surface). is doing. The camera 50 according to the present embodiment includes the position of the camera 50 detected by the position sensor and the processing surface specification information (the specification of one main surface or the other main surface) input via the production line management system. Based on (information), the appropriateness of the position of the camera 50 is determined with reference to the correspondence relationship between the processing surface and the camera position stored in advance. If the position of the camera 50 is not appropriate, an alarm to that effect is output via an output device such as a speaker (not shown).

以上のように構成される本実施形態によれば、第1実施形態と同様の作用及び効果も奏することができる。 According to the present embodiment configured as described above, the same operations and effects as those of the first embodiment can be achieved.

<第3実施形態>
続いて、本発明の第3実施形態に係る露光装置1000、及びプリント配線基板の製造方法を説明する。本実施形態の露光装置1000及びプリント配線基板の製造方法は、基本的に第1実施形態と共通する。重複した説明を避けるため、ここでは異なる点を中心に説明し、共通する点については第1実施形態及び第2実施形態の詳細な説明及び図面を援用する。
<Third Embodiment>
Next, an exposure apparatus 1000 and a printed wiring board manufacturing method according to the third embodiment of the present invention will be described. The exposure apparatus 1000 and the printed wiring board manufacturing method of the present embodiment are basically the same as those of the first embodiment. In order to avoid redundant description, different points will be mainly described here, and for the common points, detailed descriptions and drawings of the first embodiment and the second embodiment will be cited.

第3実施形態において、基板本体1に形成される表裏判定用マーク11,12及び位置合わせ用マーク13,14は、貫通孔により形成されている。貫通孔は第1実施形態と同様の手法により形成することができる。表裏判定用マーク11,12及び位置合わせ用マーク13,14が形成される位置は、図4及び図5に示す第1実施形態と共通する。 In the third embodiment, the front / back determination marks 11 and 12 and the alignment marks 13 and 14 formed on the substrate body 1 are formed by through holes. The through hole can be formed by the same method as in the first embodiment. The positions at which the front and back determination marks 11 and 12 and the alignment marks 13 and 14 are formed are the same as those in the first embodiment shown in FIGS.

図18及び図19は、本実施形態に係る、フォトマスク20,30に形成される部材側表裏判定用マーク21,32及び部材側位置合わせ用マーク23,34の配置例を示す図である。図18はフォトマスク20,30の一方主面側を示し、図19はフォトマスク20,30の他方主面側を示す。図18及び図19は、図4及び図5のA領域を覆うフォトマスクの主面を示す図である。 18 and 19 are diagrams showing examples of arrangement of the member-side front / back determination marks 21 and 32 and the member-side alignment marks 23 and 34 formed on the photomasks 20 and 30 according to the present embodiment. 18 shows one main surface side of the photomasks 20 and 30, and FIG. 19 shows the other main surface side of the photomasks 20 and 30. 18 and 19 are views showing the main surface of the photomask covering the region A in FIGS. 4 and 5.

同図に示すように、本実施形態に係るフォトマスク20,30には、基板本体1の表裏判定用マーク11,12に応じた位置に透光性の部材側表裏判定用マーク21a,32aが形成されている。 As shown in the figure, the photomasks 20 and 30 according to the present embodiment have translucent member-side front and back determination marks 21 a and 32 a at positions corresponding to the front and back determination marks 11 and 12 of the substrate body 1. Is formed.

また、本実施形態に係るフォトマスク20,30には、透光性の部材側表裏判定用マーク21a,32aに対して、基板本体1と相対位置が設定されるフォトマスク20,30の処理領域の中心を対称点Qとする点対称、若しくは対称点Qと処理領域の対向する2辺の中点とを含む直線を対称軸Ra,Rbとする線対称の関係にある対称領域に、遮光性の部材側表裏判定用マーク21b,32bが形成されている。 Further, in the photomasks 20 and 30 according to the present embodiment, the processing regions of the photomasks 20 and 30 in which the relative positions with respect to the substrate main body 1 are set with respect to the translucent member side front / back determination marks 21a and 32a. Light shielding property in a symmetric region having a point symmetry with the center of the symmetry point Q or a line symmetry including a straight line including the symmetry point Q and the midpoint of two opposite sides of the processing region as symmetry axes Ra and Rb. The member side front / back determination marks 21b and 32b are formed.

つまり、透光性の部材側表裏判定用マーク21a,32aと遮光性の部材側表裏判定用マーク21b,32bとは、対称点Qに対して点対称、又は対称軸Ra,Rbに対して線対称の関係にある。なお、第1実施形態と同様に、透光性の部材側表裏判定用マーク21a,32a及び遮光性の部材側表裏判定用マーク21b,32bは、対称軸Ra,Rb上に配置しないことが好ましい。 That is, the translucent member-side front / back determination marks 21a, 32a and the light-shielding member-side front / back determination marks 21b, 32b are point-symmetric with respect to the symmetry point Q or lines with respect to the symmetry axes Ra, Rb. Symmetrical relationship. As in the first embodiment, the translucent member-side front / back determination marks 21a, 32a and the light-shielding member-side front / back determination marks 21b, 32b are preferably not arranged on the symmetry axes Ra, Rb. .

本実施形態においては、表裏判定用マーク11,12に応じた位置に設けられている部材側表裏判定用マーク21a,32aと、これらに対して対称領域に設けられている部材側表裏判定用マーク21b,32bと、を区別できればよいので、部材側表裏判定用マーク21a,32aと部材側表裏判定用マーク21b,32bとは、透光性/遮光性について反対の性質を備えていればよい。 In the present embodiment, the member side front / back determination marks 21a, 32a provided at positions corresponding to the front / back determination marks 11, 12 and the member side front / back determination marks provided in a symmetric area with respect to these. 21b and 32b may be distinguished from each other, the member-side front / back determination marks 21a and 32a and the member-side front / back determination marks 21b and 32b only have to have the opposite properties with respect to the translucency / light shielding properties.

具体的には、本実施形態に係るフォトマスク20,30には、基板本体1の表裏判定用マーク11,12に応じた位置に遮光性の部材側表裏判定用マーク21a,32aを形成し、この遮光性の部材側表裏判定用マーク21a,32aに対して、基板本体1と相対位置が設定されるフォトマスク20,30の処理領域の中心を対称点Qとする点対称、若しくは対称点Qと処理領域の対向する2辺の中点とを含む直線を対称軸Ra,Rbとする線対称の関係にある対称領域に、透光性の部材側表裏判定用マーク21b,32bを形成してもよい。 Specifically, on the photomasks 20 and 30 according to the present embodiment, light-shielding member-side front and back determination marks 21a and 32a are formed at positions corresponding to the front and back determination marks 11 and 12 of the substrate body 1, With respect to the light-shielding member-side front / back determination marks 21a and 32a, point symmetry with respect to the center of the processing region of the photomasks 20 and 30 where the relative position to the substrate body 1 is set, or symmetry point Q And translucent member-side front / back determination marks 21b and 32b are formed in a symmetric region having a line-symmetric relationship with a straight line including the midpoints of two opposite sides of the processing region as symmetry axes Ra and Rb. Also good.

また、遮光性の部材側表裏判定用マーク21b,32bは、基板本体1に形成される貫通孔の開口部を覆うように貫通孔の直径よりも大きく形成されている。本実施形態では、遮光性の部材側表裏判定用マーク21b,32b及び部材側位置合わせ用マーク23b,34bを、透明なフォトマスク20,30の所定領域を遮光する黒色のインクを印刷することにより形成する。他方、透光性の部材側表裏判定用マーク21a,32a及び部材側位置合わせ用マーク23a,34aを形成するにあたっては、透明なフォトマスク20,30の所定領域を透光させるために、何も設けないことにより透光性の部材側表裏判定用マーク21a,32a及び部材側位置合わせ用マーク23a,34aを形成する。 Further, the light-shielding member side front / back determination marks 21 b and 32 b are formed larger than the diameter of the through hole so as to cover the opening of the through hole formed in the substrate body 1. In the present embodiment, black ink that shields a predetermined area of the transparent photomasks 20 and 30 is printed on the light-shielding member-side front / back determination marks 21b and 32b and the member-side alignment marks 23b and 34b. Form. On the other hand, in forming the translucent member-side front / back determination marks 21a, 32a and the member-side alignment marks 23a, 34a, nothing is required to transmit the predetermined areas of the transparent photomasks 20, 30. By not providing, the translucent member-side front / back determination marks 21a, 32a and the member-side alignment marks 23a, 34a are formed.

図20は、基板本体1の一方主面1Aに第1フォトマスク20が対向配置された状態の上面図、図21は基板本体1の他方主面1Bに第2フォトマスク30が対向配置された状態の上面図である。 FIG. 20 is a top view of a state in which the first photomask 20 is disposed opposite to the first main surface 1A of the substrate body 1, and FIG. 21 is a view illustrating the second photomask 30 disposed opposite to the other main surface 1B of the substrate body 1. It is a top view of a state.

図20及び図21に示すように、基板本体1の一方主面に対して第1フォトマスク20が正しい位置(図中XY座標上の位置)にセットされた場合は、第1実施形態と同様に、第1部材側位置合わせ用マーク23と基板本体1の第1位置合わせ用マーク13とが重畳する。 As shown in FIGS. 20 and 21, when the first photomask 20 is set at the correct position (position on the XY coordinates in the drawing) with respect to the one main surface of the substrate body 1, the same as in the first embodiment. In addition, the first member-side alignment mark 23 and the first alignment mark 13 of the substrate body 1 overlap each other.

また、図20に示すように、基板本体1の一方主面に対して第1フォトマスク20が正しい向き(表裏及び/又は上下左右の方向を含む)にセットされた場合は、透光性の第1部材側表裏判定用マーク21aと基板本体1の第1表裏判定用マーク11とが重畳するとともに、遮光性の第1部材側表裏判定用マーク21bと基板本体1の第1表裏判定用マーク11とは重畳しない。 In addition, as shown in FIG. 20, when the first photomask 20 is set in the correct orientation (including front and back and / or up / down / left / right directions) with respect to the one main surface of the substrate body 1, The first member side front / back determination mark 21a and the first front / back determination mark 11 of the substrate body 1 overlap each other, and the light-shielding first member side front / back determination mark 21b and the first front / back determination mark of the substrate body 1 are overlapped. 11 is not superimposed.

同様に、図21に示すように、基板本体1の他方主面に対して第2フォトマスク30が正しい向き(表裏及び/又は上下左右の方向を含む)にセットされた場合は、透光性の第2部材側表裏判定用マーク32aと基板本体1の第2表裏判定用マーク12が重畳するとともに、遮光性の第2部材側表裏判定用マーク32bと基板本体1の第2表裏判定用マーク12は重畳しない。 Similarly, as shown in FIG. 21, when the second photomask 30 is set in the correct orientation (including front and back and / or up / down / left / right directions) with respect to the other main surface of the substrate body 1, the translucency is obtained. The second member side front / back determination mark 32a and the second front / back determination mark 12 of the substrate main body 1 overlap each other, and the light-shielding second member side front / back determination mark 32b and the second front / back determination mark of the substrate main body 1 are overlapped. 12 does not overlap.

本状態の断面の状態を図22及び図23に示す。図22は図20のXXII-XXII線に沿う断面図であり、図23は図21のXXIII-XXIII線に沿う断面図である。図22及び図23に示す第1表裏判定用マーク11及び第2表裏判定用マーク12は、基板本体1の表裏を貫通する貫通孔で構成されている。この貫通孔を含む領域に光L1を照射すると、貫通孔に入射した光が透明なフォトマスク20の透光性の第1部材側表裏判定用マーク21aが透過するので、光源とは反対側で貫通孔を通過した光を検知することができる。光L1は、照光装置140により照射することができる。 The state of the cross section in this state is shown in FIGS. 22 is a cross-sectional view taken along line XXII-XXII in FIG. 20, and FIG. 23 is a cross-sectional view taken along line XXIII-XXIII in FIG. The first front / back determination mark 11 and the second front / back determination mark 12 shown in FIG. 22 and FIG. When the region including the through hole is irradiated with the light L1, the light incident on the through hole is transmitted through the translucent first member side front / back determination mark 21a of the transparent photomask 20, and therefore, on the side opposite to the light source. Light that has passed through the through hole can be detected. The light L1 can be irradiated by the illumination device 140.

本実施形態では、第1表裏判定用マーク11及び第2表裏判定用マーク12となる貫通孔の開口部に対向する位置に透光センサ60を設けているので、貫通孔を通過した光の有無を検出することができる。 In the present embodiment, since the translucent sensor 60 is provided at a position facing the opening portion of the through hole that becomes the first front / back determination mark 11 and the second front / back determination mark 12, the presence or absence of light that has passed through the through hole. Can be detected.

図22に示すように、基板本体1の一方主面に対して第1フォトマスク20が正しい向き(表裏及び/又は上下左右の方向を含む)にセットされた場合は、透光性の第1部材側表裏判定用マーク21aと基板本体1の第1表裏判定用マーク11とが重畳するため、光L1を照射すると、貫通孔を介して入射した光が、透光性の第1部材側表裏判定用マーク21aを透過し、透光センサ60が光を検知することができる。 As shown in FIG. 22, when the first photomask 20 is set in the correct orientation (including front and back and / or up / down / left / right directions) with respect to the one main surface of the substrate body 1, the first translucent first. Since the member-side front / back determination mark 21a and the first front / back determination mark 11 of the substrate body 1 overlap each other, when the light L1 is irradiated, the light incident through the through hole is transmitted through the first member-side front / back side. The light passing through the determination mark 21a can be detected by the translucent sensor 60.

同様に、図23に示すように、基板本体1の他方主面に対して第2フォトマスク30が正しい向き(表裏及び/又は上下左右の方向を含む)にセットされた場合は、透光性の第2部材側表裏判定用マーク32aと基板本体1の第2表裏判定用マーク12とが重畳するため、光L1を照射すると、貫通孔を介して入射した光が、透明なフォトマスク20の透光性の第2部材側表裏判定用マーク32aを透過し、透光センサ60が光を検知することができる。   Similarly, as shown in FIG. 23, when the second photomask 30 is set in the correct orientation (including front and back and / or up / down / left / right directions) with respect to the other main surface of the substrate body 1, translucency is obtained. Since the second member side front / back determination mark 32a and the second front / back determination mark 12 of the substrate body 1 overlap each other, when the light L1 is irradiated, the light incident through the through-hole is reflected on the transparent photomask 20 The translucent second member side front / back determination mark 32a is transmitted, and the translucent sensor 60 can detect light.

このように、透光センサ60が表裏判定用マーク11、12を透過する光を検知できた場合は、基板本体1の主面に対してフォトマスク20,30が正しい向きにセットされていると判定できる。基板本体1の主面に対してフォトマスク20,30が正しい位置にセットされているか否かは第1実施形態及び第2実施形態と同様の手法により判定できる。 As described above, when the light transmission sensor 60 can detect the light transmitted through the front and back determination marks 11 and 12, the photomasks 20 and 30 are set in the correct orientation with respect to the main surface of the substrate body 1. Can be judged. Whether or not the photomasks 20 and 30 are set at correct positions with respect to the main surface of the substrate body 1 can be determined by the same method as in the first and second embodiments.

他方、基板本体1の他方主面に対してフォトマスク20,30が正しい向き(表裏及び/又は上下左右の方向を含む)にセットされていない場合は、遮光性の第2部材側表裏判定用マーク32bと基板本体1の第2表裏判定用マーク12とが重畳するため、光L1を照射しても、貫通孔を介して入射した光が、遮光性の第2部材側表裏判定用マーク32bで遮光され、透光センサ60が光を検知することができない。 On the other hand, when the photomasks 20 and 30 are not set in the correct orientation (including front and back and / or up and down, left and right directions) with respect to the other main surface of the substrate body 1, the light-shielding second member side for front and back determination Since the mark 32b and the second front / back determination mark 12 of the substrate body 1 overlap, even if the light L1 is irradiated, the light incident through the through hole is light-shielding second member side front / back determination mark 32b. The light transmission sensor 60 cannot detect light.

具体的には、図24に示すように、基板本体1にフォトマスク20,30の表裏が誤ってセットされた場合は、位置合わせ用マーク13,14と部材側位置合わせ用マーク23,34との位置が合致するものの、光L1は遮光性の第2部材側表裏判定用マーク32bに遮られるので、透光センサ60が光を検知することができない。   Specifically, as shown in FIG. 24, when the front and back of the photomasks 20 and 30 are set on the substrate body 1 by mistake, the alignment marks 13 and 14 and the member-side alignment marks 23 and 34 However, since the light L1 is blocked by the light-shielding second member side front / back determination mark 32b, the translucent sensor 60 cannot detect the light.

本実施形態の露光装置1000は、透光センサ60の光の検出結果から第1表裏判定用マーク11と第1部材側表裏判定用マーク21aとの位置関係、及び第2表裏判定用マーク12と第2部材側表裏判定用マーク32aの位置関係に基づいて、基板本体1とフォトマスク20,30の相対向き(表裏及び/又は上下左右の方向を含む)の正誤を判定することができる。   The exposure apparatus 1000 according to the present embodiment determines the positional relationship between the first front / back determination mark 11 and the first member-side front / back determination mark 21a and the second front / back determination mark 12 from the light detection result of the translucent sensor 60. Based on the positional relationship between the second member side front / back determination marks 32a, it is possible to determine whether the relative orientation (including front / back and / or up / down / left / right directions) of the substrate body 1 and the photomasks 20 and 30 is correct.

加えて、第1実施形態と同様に、本実施形態の露光装置1000は、透光センサ60から得られた第1位置合わせ用マーク13と第1部材側位置合わせ用マーク23との位置関係、及び第2位置合わせ用マーク14と第2部材側位置合わせ用マーク34との位置関係に基づいて、基板本体1とフォトマスク20,30の相対位置(図20,21中XY座標上の位置)の正誤を判定することができる。   In addition, as in the first embodiment, the exposure apparatus 1000 of the present embodiment has a positional relationship between the first alignment mark 13 obtained from the translucent sensor 60 and the first member-side alignment mark 23, Based on the positional relationship between the second alignment mark 14 and the second member side alignment mark 34, the relative position of the substrate body 1 and the photomasks 20 and 30 (positions on the XY coordinates in FIGS. 20 and 21). It is possible to determine whether the error is correct.

以上のように構成される本実施形態によれば、第1実施形態と同様の作用及び効果をも奏することができる。 According to the present embodiment configured as described above, the same operations and effects as those of the first embodiment can be achieved.

以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記の実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。   The embodiment described above is described for facilitating understanding of the present invention, and is not described for limiting the present invention. Therefore, each element disclosed in the above embodiment is intended to include all design changes and equivalents belonging to the technical scope of the present invention.

1000…露光装置,プリント配線基板の製造装置
101…ベースプレート,102…筺体,102a…暗室
103…搬送装置,104…送り出しローラ,105…巻き取りローラ,
106a〜106l…ガイドローラ,107…駆動ローラ
110…基板用フレーム,第1保持手段
120…第2保持手段
121…マスク用フレーム
130…位置調節装置
140…照光装置
1…基板本体,帯状の基板本体
1A…基板本体の一方主面
1B…基板本体の他方主面
P…処理領域
Q…対称点
Ra,Rb…対称軸
11…第1表裏判定用マーク,貫通孔
12…第2表裏判定用マーク,貫通孔
13…第1位置合わせ用マーク
14…第2位置合わせ用マーク
20…第1部材,第1フォトマスク
21,21a,21b…第1部材側表裏判定用マーク
23…第1部材側位置合わせ用マーク
30…第2部材,第2フォトマスク
32…第2部材側表裏判定用マーク
34…第2部材側位置合わせ用マーク
50…カメラ
51…スライドレール
52…支持体
60…透光センサ
70…判定装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1000 ... Exposure apparatus, Printed wiring board manufacturing apparatus 101 ... Base plate, 102 ... Housing, 102a ... Dark room 103 ... Conveying device, 104 ... Delivery roller, 105 ... Winding roller,
106a to 106l ... guide roller, 107 ... drive roller 110 ... substrate frame, first holding means 120 ... second holding means 121 ... mask frame 130 ... position adjusting device 140 ... illuminating device 1 ... substrate body, belt-like substrate body DESCRIPTION OF SYMBOLS 1A ... One main surface 1B of a substrate body ... The other main surface P of a substrate body ... Processing area Q ... Symmetry point Ra, Rb ... Symmetry axis 11 ... First front / back determination mark, Through hole 12 ... Second front / back determination mark, Through hole 13 ... first alignment mark 14 ... second alignment mark 20 ... first member, first photomask 21, 21a, 21b ... first member side front / back determination mark 23 ... first member side alignment Mark 30 ... second member, second photomask 32 ... second member side front / back determination mark 34 ... second member side alignment mark 50 ... camera 51 ... slide rail 52 ... support
60 ... Light transmission sensor 70 ... Determination device

Claims (10)

プリント配線基板の基板本体の主面に部材を用いて処理が行われるプリント配線基板の製造方法であって、
前記部材と相対位置が設定される前記基板本体の主面の処理領域の中心を対称点とする点対称、又は前記対称点と前記処理領域の対向する2辺の中点とを含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に形成された複数の位置合わせ用マークと、前記位置合わせ用マークのいずれとも前記点対称の関係及び前記線対称の関係に無い非対称領域に一つ以上の表裏判定用マークとが形成された基板本体を所定の位置にセットする工程と、
前記基板本体の表裏判定用マークに応じた位置に部材側表裏判定用マークが形成された前記部材を、前記基板本体の対向位置にセットする工程と、
前記表裏判定用マークと前記部材側表裏判定用マークとの位置関係に基づいて、前記基板本体と部材の相対向きの正誤を判定する判定工程と、を有するプリント配線基板の製造方法。
A method of manufacturing a printed wiring board in which processing is performed using a member on the main surface of the substrate body of the printed wiring board,
Symmetrical point symmetry with the center of the processing area of the main surface of the substrate body, the relative position of which is set relative to the member, or a straight line including the symmetry point and the midpoint of two opposite sides of the processing area A plurality of alignment marks formed in a symmetric region having a line-symmetric relationship with respect to the axis, and at least one of the alignment marks in the point-symmetric relationship and the asymmetric region not in the line-symmetric relationship A step of setting the substrate body on which the front and back determination marks are formed at a predetermined position;
A step of setting the member on which the member side front / back determination mark is formed at a position corresponding to the front / back determination mark of the substrate body at a position opposed to the substrate body;
And a determination step of determining whether the relative direction of the substrate body and the member is relative based on a positional relationship between the front / back determination mark and the member-side front / back determination mark.
請求項1に記載のプリント配線基板の製造方法において、
前記表裏判定用マークは、前記基板本体に貫通孔を設けることにより形成され、
前記部材には、前記基板本体の表裏判定用マークに応じた位置に前記貫通孔の直径よりも小さい遮光性の部材側表裏判定用マークが形成されており、
前記判定工程は、前記基板本体の、前記表裏判定用マークの前記表裏判定用マークを含む領域を撮像する工程と、前記撮像された画像に含まれる前記表裏判定用マークの像と部材側表裏判定用マークの像に基づいて、前記基板本体と部材との相対向きの正誤を判定する工程と、を有するプリント配線基板の製造方法。
In the manufacturing method of the printed wiring board according to claim 1,
The front and back determination mark is formed by providing a through hole in the substrate body,
The member is formed with a light-shielding member side front / back determination mark smaller than the diameter of the through hole at a position corresponding to the front / back determination mark of the substrate body,
The determination step includes a step of imaging a region of the substrate body including the front / back determination mark of the front / back determination mark, and an image of the front / back determination mark included in the captured image and a member side front / back determination. And a step of determining whether the relative direction of the substrate body and the member is relative to each other based on the image of the mark for use.
請求項1に記載のプリント配線基板の製造方法において、
前記表裏判定用マークは、前記基板本体に貫通孔を設けることにより形成され、
前記部材には、前記基板本体の前記表裏判定用マークに応じた位置に透光性又は遮光性の部材側表裏判定用マークが形成されるとともに、当該透光性又は遮光性の部材側表裏判定用マークに対して、前記基板本体と相対位置が設定される前記部材の処理領域の中心を対称点とする点対称、若しくは前記対称点と前記処理領域の対向する2辺の中点とを含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に、前記表裏判定用マークに応じた位置の部材側表裏判定用マークとは逆の遮光性又は透光性の部材側表裏判定用マークが形成され、
前記判定工程は、前記基板本体の、前記表裏判定用マークに光を照射する工程と、前記表裏判定用マークに光を照射したときに、前記表裏判定用マークを通過する光を検出する工程と、前記光の検出結果に基づいて、前記基板本体と部材との相対向きの正誤を判定する工程と、を含むプリント配線基板の製造方法。
In the manufacturing method of the printed wiring board according to claim 1,
The front and back determination mark is formed by providing a through hole in the substrate body,
The member is formed with a translucent or light-shielding member side front / back judgment mark at a position corresponding to the front / back judgment mark of the substrate body, and the translucent or light-shielding member side front / back judgment. A point symmetry with respect to the mark for use as a symmetric point with respect to the center of the processing region of the member whose relative position is set with respect to the substrate body, or a midpoint between two opposite sides of the processing region. In the symmetrical area having a line symmetry relationship with a straight line as the symmetry axis, a member-side front / back determination mark having a light shielding property or translucency opposite to the member-side front / back determination mark at a position corresponding to the front / back determination mark is provided. Formed,
The determining step includes irradiating light on the front / back determination mark of the substrate body, and detecting light passing through the front / back determination mark when the front / back determination mark is irradiated with light. And a step of determining whether or not the relative orientation of the substrate body and the member is correct based on the detection result of the light.
請求項1〜3の何れか一項に記載のプリント配線基板の製造方法において、
前記部材には、前記基板本体の位置合わせ用マークに応じた位置に部材側位置合わせ用マークが形成されており、
前記部材を前記基板本体の対向位置にセットする工程の後に、前記位置合わせ用マークと前記部材側位置合わせ用マークとの位置関係に基づいて、前記基板本体と部材との相対位置の適否を判定する工程と、を有するプリント配線基板の製造方法。
In the manufacturing method of the printed wiring board as described in any one of Claims 1-3,
In the member, a member side alignment mark is formed at a position corresponding to the alignment mark of the substrate body,
After the step of setting the member at a position facing the substrate main body, whether or not the relative position between the substrate main body and the member is appropriate is determined based on the positional relationship between the alignment mark and the member-side alignment mark. A method of manufacturing a printed wiring board.
プリント配線基板の基板本体の主面に部材を用いた処理を行うプリント配線基板の製造装置において、
前記部材と相対位置が設定される前記基板本体の主面の処理領域の中心を対称点とする点対称、又は前記対称点と前記処理領域の対向する2辺の中点とを含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に形成された複数の位置合わせ用マークと、前記位置合わせ用マークのいずれとも前記点対称の関係及び前記線対称の関係に無い非対称領域に一つ以上の表裏判定用マークが形成された基板本体を、所定の位置に保持する第1保持手段と、
前記基板本体の表裏判定用マークに応じた位置に部材側表裏判定用マークが形成された前記部材を、前記基板本体の対向位置に保持する第2保持手段と、
前記表裏判定用マークと前記部材側表裏判定用マークとの位置関係に基づいて、前記基板本体と部材の相対向きの正誤を判定する表裏判定手段と、を有するプリント配線基板の製造装置。
In a printed wiring board manufacturing apparatus that performs processing using a member on the main surface of the substrate body of the printed wiring board,
Symmetrical point symmetry with the center of the processing area of the main surface of the substrate body, the relative position of which is set relative to the member, or a straight line including the symmetry point and the midpoint of two opposite sides of the processing area A plurality of alignment marks formed in a symmetric region having a line-symmetric relationship with respect to the axis, and at least one of the alignment marks in the point-symmetric relationship and the asymmetric region not in the line-symmetric relationship First holding means for holding the substrate body on which the front / back determination mark is formed at a predetermined position;
Second holding means for holding the member on which the member side front / back determination mark is formed at a position corresponding to the front / back determination mark of the substrate body at a position facing the substrate body;
An apparatus for manufacturing a printed wiring board, comprising: a front / back determination unit that determines whether the relative direction of the substrate body and the member is relative based on a positional relationship between the front / back determination mark and the member-side front / back determination mark.
請求項5に記載のプリント配線基板の製造装置において、
前記表裏判定用マークは、前記基板本体に貫通孔を設けることにより形成され、
前記部材には、前記基板本体の表裏判定用マークに応じた位置に前記貫通孔の直径よりも小さい遮光性の部材側表裏判定用マークが形成されており、
前記判定手段は、前記基板本体の、前記表裏判定用マークの前記表裏判定用マークを含む領域を撮像するカメラと、前記撮像された画像に含まれる前記表裏判定用マークの像と部材側表裏判定用マークの像に基づいて、前記基板本体と部材との相対向きの正誤を判定する表裏判定部と、を有するプリント配線基板の製造装置。
In the printed wiring board manufacturing apparatus according to claim 5,
The front and back determination mark is formed by providing a through hole in the substrate body,
The member is formed with a light-shielding member side front / back determination mark smaller than the diameter of the through hole at a position corresponding to the front / back determination mark of the substrate body,
The determination unit includes a camera that captures an area of the substrate body that includes the front / back determination mark of the front / back determination mark, and an image of the front / back determination mark included in the captured image and a member-side front / back determination. An apparatus for manufacturing a printed wiring board, comprising: a front / back determination unit that determines whether the relative direction of the substrate body and the member is relative to each other based on an image of the mark for use.
請求項6に記載のプリント配線基板の製造装置において、
前記表裏判定用マークと対向する第1の位置と、前記位置合わせ用マークと対向する第2の位置との間で、前記カメラを往復移動させる移動機構をさらに備えるプリント配線基板の製造装置。
In the manufacturing apparatus of the printed wiring board of Claim 6,
An apparatus for manufacturing a printed wiring board, further comprising a moving mechanism for reciprocating the camera between a first position facing the front / back determination mark and a second position facing the alignment mark.
請求項5に記載のプリント配線基板の製造装置において、
前記表裏判定用マークは、前記基板本体に貫通孔を設けることにより形成され、
前記部材には、前記基板本体の前記表裏判定用マークに応じた位置に透光性又は遮光性の部材側表裏判定用マークが形成されるとともに、当該透光性又は遮光性の部材側表裏判定用マークに対して、前記基板本体と相対位置が設定される前記部材の処理領域の中心を対称点とする点対称、若しくは前記対称点と前記処理領域の対向する2辺の中点とを含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に、前記表裏判定用マークに応じた位置の部材側表裏判定用マークとは逆の遮光性又は透光性の部材側表裏判定用マークが形成され、
前記判定手段は、前記基板本体の、前記表裏判定用マークに光を照射する照射装置と、前記表裏判定用マークに光を照射したときに、前記表裏判定用マークを通過する光を検出する透光センサと、前記光の検出結果に基づいて、前記基板本体と部材との相対向きの正誤を判定する表裏判定部と、を含むプリント配線基板の製造装置。
In the printed wiring board manufacturing apparatus according to claim 5,
The front and back determination mark is formed by providing a through hole in the substrate body,
The member is formed with a translucent or light-shielding member side front / back judgment mark at a position corresponding to the front / back judgment mark of the substrate body, and the translucent or light-shielding member side front / back judgment. A point symmetry with respect to the mark for use as a symmetric point with respect to the center of the processing region of the member whose relative position is set with respect to the substrate body, or a midpoint between two opposite sides of the processing region. In the symmetrical area having a line symmetry relationship with a straight line as the symmetry axis, a member-side front / back determination mark having a light shielding property or translucency opposite to the member-side front / back determination mark at a position corresponding to the front / back determination mark is provided. Formed,
The determination means includes an irradiation device that irradiates light to the front / back determination mark of the substrate body, and a light that detects light passing through the front / back determination mark when the front / back determination mark is irradiated with light. An apparatus for manufacturing a printed wiring board, comprising: an optical sensor; and a front / back determination unit that determines whether the relative direction of the substrate body and the member is relative to each other based on a detection result of the light.
請求項5〜8の何れか一項に記載のプリント配線基板の製造装置において、
前記部材には、前記基板本体の位置合わせ用マークに応じた位置に部材側位置合わせ用マークが形成されており、
前記判定手段は、前記部材を前記基板本体の対向位置にセットした状態における、前記位置合わせ用マークと前記部材側位置合わせ用マークとの位置関係に基づいて、前記基板本体と部材との相対位置の適否を判定する位置判定部をさらに有するプリント配線基板の製造装置。
In the manufacturing apparatus of the printed wiring board as described in any one of Claims 5-8,
In the member, a member side alignment mark is formed at a position corresponding to the alignment mark of the substrate body,
The determination unit is configured to determine a relative position between the substrate body and the member based on a positional relationship between the alignment mark and the member side alignment mark in a state where the member is set at a position facing the substrate body. An apparatus for manufacturing a printed wiring board, further comprising a position determination unit that determines the suitability of the printed circuit board.
基板本体を備え、
前記基板本体が、前記部材と相対位置が設定される前記基板本体の主面の処理領域の中心を対称点とする点対称、又は前記対称点と前記処理領域の対向する2辺の中点とを含む直線を対称軸とする線対称の関係にある対称領域に形成された複数の位置合わせ用マークと、前記位置合わせ用マークのいずれとも前記点対称の関係及び前記線対称の関係に無い非対称領域に一つ以上の表裏判定用マークと、を有することを特徴とするプリント配線基板。
Equipped with a substrate body,
The substrate body is point-symmetric with respect to the center of the processing area of the main surface of the substrate body, the position of which is set relative to the member, or the midpoint of two sides facing the processing area. A plurality of alignment marks formed in a symmetry region having a line symmetry relationship with a straight line including a symmetry axis, and any of the alignment marks asymmetry not in the point symmetry relationship or the line symmetry relationship A printed wiring board having one or more front / back determination marks in a region.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105278261A (en) * 2015-11-20 2016-01-27 合肥芯碁微电子装备有限公司 Method for measuring alignment accuracy of inner layer of laser direct-writing exposure machine
JP6093078B1 (en) * 2016-07-21 2017-03-08 ローランドディー.ジー.株式会社 Cutting device
JP6153682B1 (en) * 2017-02-09 2017-06-28 ローランドディー.ジー.株式会社 Cutting device
KR20190064472A (en) * 2017-11-30 2019-06-10 가부시키가이샤 아도텟쿠 엔지니아린구 Mask pair, double-sided exposure apparatus and mask exchange method
CN111881911A (en) * 2020-07-31 2020-11-03 珠海格力电器股份有限公司 Positioning method and device
CN117255488A (en) * 2023-10-25 2023-12-19 苏州博湃半导体技术有限公司 Method for distinguishing copper thickness of front and back sides of copper-clad ceramic substrate

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105278261A (en) * 2015-11-20 2016-01-27 合肥芯碁微电子装备有限公司 Method for measuring alignment accuracy of inner layer of laser direct-writing exposure machine
JP6093078B1 (en) * 2016-07-21 2017-03-08 ローランドディー.ジー.株式会社 Cutting device
US10500750B2 (en) 2016-07-21 2019-12-10 Roland Dg Corporation Cutting apparatus
JP6153682B1 (en) * 2017-02-09 2017-06-28 ローランドディー.ジー.株式会社 Cutting device
JP2018012186A (en) * 2017-02-09 2018-01-25 ローランドディー.ジー.株式会社 Cutting device
KR20190064472A (en) * 2017-11-30 2019-06-10 가부시키가이샤 아도텟쿠 엔지니아린구 Mask pair, double-sided exposure apparatus and mask exchange method
JP2019101198A (en) * 2017-11-30 2019-06-24 株式会社アドテックエンジニアリング Mask pair, double side exposure device, and mask exchange method
KR102652832B1 (en) 2017-11-30 2024-03-29 가부시키가이샤 아도텟쿠 엔지니아린구 Mask pair, double-sided exposure apparatus and mask exchange method
CN111881911A (en) * 2020-07-31 2020-11-03 珠海格力电器股份有限公司 Positioning method and device
CN111881911B (en) * 2020-07-31 2024-05-28 珠海格力电器股份有限公司 Positioning method and device
CN117255488A (en) * 2023-10-25 2023-12-19 苏州博湃半导体技术有限公司 Method for distinguishing copper thickness of front and back sides of copper-clad ceramic substrate

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