JP2011150455A - 入力装置、入力機能付き装置付き電気光学装置、および入力装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】入力装置1において、入力装置用基板20の第1面20a側には、入力領域2aおよび周辺領域2bに形成された透光性導電膜4aをレーザー照射によりパターニングしてなる位置検出用電極21、および配線27の下層側部分を構成する第1配線層271が形成されている。また、入力装置用基板20の第1面20a側には、周辺領域2bに形成された低抵抗膜4bを第1配線層271と同時にパターニングすることにより、配線27において第1配線層271に重なって延在する第2配線層272が形成されている。
【選択図】図3
Description
(入力機能付き電気光学装置の全体構成)
図1は、本発明の実施の形態1に係る入力装置1を備えた入力機能付き電気光学装置の全体構成を模式的に示す説明図である。図2は、本発明の実施の形態1に係る入力機能付き電気光学装置の断面構成を模式的に示す説明図であり、図2(a)、(b)は各々、入力装置1の入力装置用基板20において、指タッチ入力による入力操作側に位置する面側に位置検出用電極21を設けた構成例の説明図、および入力装置用基板20において、指タッチによる入力操作側とは反対面側に位置検出用電極21を設けた構成例の説明図である。
図2(a)、(b)に示す入力装置1において、入力パネル2は、ガラス板やプラスチック板等からなる透光性の入力装置用基板20を備えており、本形態では、入力装置用基板20としてガラス基板が用いられている。また、本形態では、入力装置用基板20として化学強化ガラスが用いられており、かかる化学強化ガラスでは、ガラス表面のナトリウムをイオン半径の大きなカリウムで置換されている。このため、ガラスの表面には、圧縮応力が発生しているため、強度が大である。それ故、入力装置用基板20を薄板化しても、入力装置用基板20は十分な強度を有するので、入力装置1の薄型化を図ることができるとともに、入力装置1の耐衝撃性能を向上することができる。なお、入力装置用基板20をプラスチック材料から構成する場合、プラスチック材料としては、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PC(ポリカーボネート)、PES(ポリエーテルスルホン)、PI(ポリイミド)、ポリノルボルネン等の環状オレフィン樹脂等の耐熱性の透光性シートを用いることができる。以下、入力装置用基板20において、以下に説明する電極等が形成されている側を第1面20aとし、その反対側を第2面20bとして説明する。
図3は、本発明の実施の形態1に係る入力装置1に用いた入力装置用基板20の構成を示す説明図であり、図3(a)、(b)は、入力装置用基板20の平面構成を示す説明図、およびA1−A1′断面の構成を示す説明図である。
本形態の入力装置1は、静電容量方式であり、入力装置用基板20に形成された複数の入力位置検出用電極21に結合している静電容量を監視する。従って、複数の入力位置検出用電極21に指が近接すると、入力位置検出用電極21では、指との間に生じた静電容量分だけ、静電容量が増大するので、指が近接した座標を特定することができる。より具体的には、位置検出用電極21に結合する静電容量を監視し、その監視結果に基づいて、例えば、第1位置検出用電極211の容量変化の和と、第2位置検出用電極212の容量変化の和との比を算出する。そして、かかる比の算出結果に基づいて、X座標を算出する。また、第1位置検出用電極211と第2位置検出用電極212との電極対における静電容量の変化量を算出し、静電容量の変化の重心位置を算出し、かかる重心位置の算出結果に基づいてY座標を算出する。
図4〜図7を参照して、本発明の実施の形態1に係る入力装置1の製造方法を説明する。図4、図5、図6および図7は、本発明の実施の形態1に係る入力装置1の製造工程のうち、透光性導電膜形成工程を示す説明図、低抵抗膜形成工程において低抵抗膜をマスク成膜法で形成する様子を示す説明図、低抵抗膜形成工程において低抵抗膜をマスク成膜法で形成した後の様子を示す説明図、およびパターニング工程を示す説明図である。なお、図4、図5、図6および図7では、その平面的な様子を(a)に示し、断面的な様子を(b)に示してある。
以上説明したように、本形態の入力装置1において、入力装置用基板20の第1面20a側には、入力領域2aおよび周辺領域2bに形成された透光性導電膜4aをレーザー照射によりパターニングしてなる位置検出用電極21および第1配線層271(配線27の下層側部分)が形成されている。また、入力装置用基板20の第1面20a側には、周辺領域2bに形成された低抵抗膜4bを第1配線層271と同時にパターニングすることにより、配線27において第1配線層271に重なって延在する第2配線層272が形成されている。このため、透光性導電膜形成工程、低抵抗膜工程、およびレーザー照射を利用したパターニング工程からなる3つの工程という少ない工程で位置検出用電極21および配線27を形成することができる。
図8は、本発明の実施の形態2に係る入力装置1に用いた入力装置用基板20の構成を示す説明図であり、図8(a)、(b)は、入力装置用基板20の平面構成を示す説明図、および断面構成を示す説明図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態1と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付して図示し、それらの説明を省略する。
図9は、本発明の実施の形態1、2に係る入力装置1を製造するにあたって大型基板を用いた場合の説明図であり、図9(a)、(b)、(c)、(d)は、透光性導電膜形成工程を示す説明図、低抵抗膜形成工程において低抵抗膜をマスク成膜法で形成する様子を示す説明図、低抵抗膜形成工程において低抵抗膜をマスク成膜法で形成した後の様子を示す説明図、およびパターニング工程を示す説明図である。
上記実施の形態では、マスク成膜法により、周辺領域2bに低抵抗膜4bを選択的に形成したが、銀粒子などの導電粒子が分散する液状物や、ITO形成用液状組成物をスクリーン印刷、グラビア印刷、マスク印刷によって塗布、印刷して周辺領域2bに低抵抗膜4bを選択的に形成する方法を採用してもよい。
次に、上述した実施形態に係る入力機能付き電気光学装置100を適用した電子機器について説明する。図10は、本発明を適用した入力機能付き電気光学装置100を備えた電子機器の説明図である。図10(a)に、入力機能付き電気光学装置100を備えたモバイル型のパーソナルコンピューターの構成を示す。パーソナルコンピューター2000は、表示ユニットとしての入力機能付き電気光学装置100と本体部2010を備える。本体部2010には、電源スイッチ2001およびキーボード2002が設けられている。図10(b)に、入力機能付き電気光学装置100を備えた携帯電話機の構成を示す。携帯電話機3000は、複数の操作ボタン3001、スクロールボタン3002、および表示ユニットとしての入力機能付き電気光学装置100を備える。スクロールボタン3002を操作することによって、入力機能付き電気光学装置100に表示される画面がスクロールされる。図10(c)に、入力機能付き電気光学装置100を適用した情報携帯端末(PDA:Personal Digital Assistants)の構成を示す。情報携帯端末4000は、複数の操作ボタン4001、電源スイッチ4002、および表示ユニットとしての入力機能付き電気光学装置100を備える。電源スイッチ4002を操作すると、住所録やスケジュール帳といった各種の情報が入力機能付き電気光学装置100に表示される。
Claims (11)
- 入力領域の位置検出用電極と、入力領域より外側の周辺領域で延在する配線と、を入力装置用基板の一方面側に複数有する入力装置であって、
前記配線は、前記位置検出用電極から延在する第1配線層と、前記第1配線層に重なって延在する第2配線層と、を備え、
前記位置検出用電極および前記第1配線層は、前記入力領域および前記周辺領域に形成された透光性導電膜をレーザー照射によりパターニング形成してなり、
前記第2配線層は、前記透光性導電膜よりも低いシート抵抗をもって前記周辺領域に形成された低抵抗膜を前記第1配線層と同時にレーザー照射によりパターニング形成してなることを特徴とする入力装置。 - 前記位置検出用電極に結合する静電容量の変化に基づいて入力位置が検出されることを特徴とする請求項1に記載の入力装置。
- 前記低抵抗膜の外周端部のうち、前記透光性導電膜の外周端部以外で当該透光性導電膜と重なる部分では、前記周辺領域の側から前記入力領域の側に向けて前記低抵抗膜の膜厚が連続的に薄くなっていることを特徴とする請求項1または2に記載の入力装置。
- 前記位置検出用電極および前記第1配線層は、前記透光性導電膜の除去領域の反転パターンとして形成され、
前記第2配線層は、前記低抵抗膜の除去領域の反転パターンとしてパターニング形成されていることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の入力装置。 - 前記位置検出用電極および前記第1配線層は、前記透光性導電膜が前記位置検出用電極の外周縁および前記第1配線層の外周縁に沿って線状に除去されることによりパターニング形成され、
前記第2配線層は、前記低抵抗膜が前記第2配線層の外周縁に沿って線状に除去されることによりパターニング形成されていることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の入力装置。 - 前記入力装置用基板は、化学強化ガラスであることを特徴とする請求項1乃至5の何れか一項に記載の入力装置。
- 請求項1乃至6の何れか一項に記載の入力装置を備えた入力機能付き電気光学装置であって、
前記入力装置用基板の前記一方面側あるいは当該一方面側とは反対側に画像生成用の電気光学パネルが構成されていることを特徴とする入力機能付き電気光学装置。 - 入力領域の位置検出用電極と、入力領域より外側の周辺領域で延在する配線と、を入力装置用基板の一方面側に複数有する入力装置の製造方法であって、
前記入力装置用基板の一方面側全体に透光性導電膜を形成する透光性導電膜形成工程と、
該透光性導電膜形成工程の前あるいは後に、前記入力装置用基板の前記一方面側のうち、前記周辺領域に、前記透光性導電膜よりも低いシート抵抗の低抵抗膜を形成する低抵抗膜工程と、
前記透光性導電膜および前記低抵抗膜をレーザー照射によりパターニングし、前記透光性導電膜によって前記位置検出用電極と該位置検出用電極から延在して前記配線の上層側部分あるいは下層側部分を構成するする第1配線層とを形成するとともに、前記低抵抗膜によって前記第1配線層に重なって延在する第2配線層を形成するパターニング工程と、
を有することを特徴とする入力装置の製造方法。 - 前記位置検出用電極に結合する静電容量の変化に基づいて入力位置が検出されることを特徴とする請求項8に記載の入力装置の製造方法。
- 前記低抵抗膜工程では、前記入力装置用基板の前記一方面側のうち、前記入力領域をマスクで覆った状態で前記低抵抗膜を形成するマスク成膜を行うことを特徴とする請求項8または9に記載の入力装置の製造方法。
- 前記入力装置用基板を多数取りできる大型基板の状態で前記透光性導電膜形成工程、前記低抵抗膜工程、および前記パターニング工程を行い、
その後、前記大型基板にレーザー光を照射するレーザースクライブ工程あるいはレーザーカット工程を行なって前記大型基板から前記入力装置用基板に切り出すことを特徴とする請求項8乃至10の何れか一項に記載の入力装置の製造方法。
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